KR100851393B1 - Roll brush unit and apparatus for cleaning a substrate including the same - Google Patents

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KR100851393B1
KR100851393B1 KR1020070014246A KR20070014246A KR100851393B1 KR 100851393 B1 KR100851393 B1 KR 100851393B1 KR 1020070014246 A KR1020070014246 A KR 1020070014246A KR 20070014246 A KR20070014246 A KR 20070014246A KR 100851393 B1 KR100851393 B1 KR 100851393B1
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장경덕
신재윤
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세메스 주식회사
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Abstract

A roll brush unit and a substrate cleaning apparatus including the same are provided to perform a uniform cleaning process by forming a brush structure with a first brush and a second brush having an outside diameter larger than the outside diameter of the first brush. A rotary shaft(130) includes having a body(110) a center part(111) and a plurality of peripheral parts(113) connected to the center part, and a connective part(120) extended from the body. An outflow prevention member(150) is formed at the connective part to prevent outflow of a liquid. A brush structure(140) is formed to surround the body. The brush structure includes a first brush(141) for surround the center part and a second brush(143) for surrounding the periphery parts. The outside diameter of the second brush is larger than the outside of the first brush.

Description

롤 브러쉬 유닛 및 이를 포함하는 기판 세정 장치{ROLL BRUSH UNIT AND APPARATUS FOR CLEANING A SUBSTRATE INCLUDING THE SAME}ROLL BRUSH UNIT AND APPARATUS FOR CLEANING A SUBSTRATE INCLUDING THE SAME}

도 1은 종래의 기판 세정 장치 및 롤 브러쉬를 도시한 도면이다.1 is a view showing a conventional substrate cleaning apparatus and a roll brush.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.2 is a perspective view for explaining a roll brush unit according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 설명하기 위한 사시도이다.3 is a perspective view illustrating a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도3에 도시된 체결 부재를 도시한 사시도이다.4 is a perspective view illustrating the fastening member shown in FIG. 3.

도 5는 도 3에 도시된 기판 세정 장치를 도시한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating the substrate cleaning apparatus of FIG. 3.

*도면의 주요 부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *

100: 롤 브러쉬 유닛 110: 몸체100: roll brush unit 110: body

111: 중심부 113; 주변부 111: central 113; Peripheral

120: 연결부 130: 회전축120: connecting portion 130: rotation axis

140: 브러쉬 구조 150: 유출 방지 부재140: brush structure 150: spill prevention member

200: 기판 세정 장치 260: 체결 부재200: substrate cleaning device 260 fastening member

270: 베어링 280: 제1 구동부270: bearing 280: first drive portion

본 발명은 롤 브러쉬 유닛 및 이를 포함하는 기판 세정 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 회전하면서 기판을 세정하는 데 사용될 수 있는 롤 브러쉬 유닛 및 상기 롤 브러쉬 유닛을 포함하는 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a roll brush unit and a substrate cleaning apparatus including the same, and more particularly, to a roll brush unit that can be used to clean a substrate while rotating and a substrate cleaning apparatus including the roll brush unit.

세정 공정은 반도체 제조 공정을 비롯하여 미세한 가공을 필요로 하는 전자 장비에 매우 중요한 공정이다. 예를 들면 세정 공정에 있어서 기판을 중심으로 상부 및 하부에 배치된 두 개의 롤 브러쉬 유닛 사이로 기판이 이동한다. 기판이 이동하는 동안 세정액이 노즐(미도시)을 통해 분사되고 상기 롤 브러쉬 유닛이 기판을 브러싱 또는 스크러빙 하며 진행된다.The cleaning process is a very important process for electronic equipment requiring fine processing, including semiconductor manufacturing processes. For example, in the cleaning process, the substrate moves between two roll brush units disposed above and below the substrate. While the substrate is moving, the cleaning liquid is sprayed through a nozzle (not shown) and the roll brush unit proceeds by brushing or scrubbing the substrate.

도 1은 종래의 롤 브러쉬 유닛을 포함하는 기판 세정 장치를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing a substrate cleaning apparatus including a conventional roll brush unit.

도 1을 참조하면, 종래의 기판 세정 장치(10)는 세정 장치의 내측벽(11)에 위치하며 회전 운동을 하며 세정액의 유출을 방지하는 유출 방지 부재(13), 유출 방지 부재(13)와 연결되고 회전하는 회전축(15), 회전축(15)의 몸체 부분에 형성된 브러쉬(17)로 구성된다.Referring to FIG. 1, the substrate cleaning apparatus 10 of the related art is located on the inner wall 11 of the cleaning apparatus and rotates and prevents leakage of the cleaning liquid 13 and the leakage preventing member 13. The rotating shaft 15 is connected and rotated, it is composed of a brush 17 formed in the body portion of the rotating shaft 15.

회전축(15)이 회전함에 따라 회전축(15)의 몸체 부분에 형성된 브러쉬(17)가 회전함으로써, 회전축(15)들 사이에 위치한 기판이 세정된다. 이경우 회전축(15)의 양 단부들은 세정 장치의 내측벽(11)에 각각 고정된 상태에서 회전한다. 하지만, 회전축(15)이 가지는 하중에 의하여 회전축(15)의 중심부가 그 주변부에 대하여 상 대적으로 하강할 수 있다. 따라서, 회전축(15)을 감싸는 브러쉬(17)가 기판의 양면과 접촉할 경우 브러쉬(17)의 중심부가 주변부에 대하여 상대적으로 하강하게 된다. 그 결과, 기판에 대한 세정 공정이 기판에 대하여 전체적으로 균일하게 수행되지 않는 문제가 있다. As the rotating shaft 15 rotates, the brush 17 formed in the body portion of the rotating shaft 15 rotates, thereby cleaning the substrate located between the rotating shafts 15. In this case, both ends of the rotating shaft 15 rotate in a state of being fixed to the inner wall 11 of the cleaning device, respectively. However, due to the load of the rotary shaft 15, the central portion of the rotary shaft 15 can be lowered relative to the peripheral portion thereof. Therefore, when the brush 17 surrounding the rotating shaft 15 is in contact with both sides of the substrate, the central portion of the brush 17 is relatively lowered relative to the peripheral portion. As a result, there is a problem that the cleaning process for the substrate is not performed uniformly with respect to the substrate.

본 발명의 일 목적은 기판에 대하여 전체적으로 균일하게 세정할 수 있는 롤 브러쉬 유닛을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a roll brush unit capable of uniformly cleaning the entire substrate.

본 발명의 다른 목적은 기판에 대하여 전체적으로 균일하게 세정할 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus capable of uniformly cleaning the substrate as a whole.

본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛은 중심부 및 상기 중심부와 연결된 주변부들을 갖는 몸체 및 상기 몸체로부터 연장된 연결부를 구비하는 회전축 및 상기 몸체를 감싸며, 상기 중심부를 감싸는 제1 브러쉬 및 상기 주변부들을 감싸며 상기 제1 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제2 브러쉬를 구비하는 브러쉬 구조를 포함한다. 여기서, 상기 제1 브러쉬는 그 중심에서 상기 제2 브러쉬로 갈수록 넓어지는 외경을 가질 수 있다. In order to achieve the object of the present invention, the roll brush unit according to an embodiment of the present invention wraps around the body and the rotating shaft having a body having a central portion and peripheral portions connected to the central portion and the connection portion extending from the body, And a brush structure including a first brush surrounding a central portion and a second brush surrounding the peripheral portions and having a larger outer diameter than the first brush. Here, the first brush may have an outer diameter that increases toward the second brush from its center.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 롤 브러쉬 유닛은 상기 연결부에 형성되고 공급되는 액체의 유출을 방지하는 유출 방지 부재를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the roll brush unit may further include an outflow prevention member for preventing the outflow of the liquid is formed and supplied to the connecting portion.

본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 챔버, 상기 챔버의 내부에 배치되며, 제1 중심부 및 상기 제1 중심부와 연결된 제1 주변부들을 갖는 제1 몸체 및 상기 제1 몸체로부터 연장된 제1 연결부들을 구비하는 제1 회전축 및 상기 제1 몸체를 감싸는 제1 브러쉬 및 상기 제1 주변부들을 감싸며 상기 제1 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제2 브러쉬를 구비하는 제1 브러쉬 구조를 포함하는 제1 롤 브러쉬 유닛 및 상기 제1 회전축을 회전시키는 제1 구동부를 포함한다. 여기서, 상기 제1 브러쉬는 그 중심에서 제2 브러쉬로 갈수록 넓어지는 외경을 가질 수 있다. 또한, 제1 롤 브러쉬 유닛은 상기 제1 주변부들의 각 단부에 형성되고, 상기 기판으로 공급되는 액체가 상기 챔버 밖으로 유출되는 것을 억제하는 제1 유출 방지 부재를 더 포함할 수 있다.In order to achieve the object of the present invention, a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention is a chamber, a first body disposed inside the chamber, having a first central portion and a first peripheral portion connected to the first central portion And a first rotating shaft having first connecting portions extending from the first body, a first brush surrounding the first body, and a second brush surrounding the first peripheral portions and having a larger outer diameter than the first brush. And a first roll brush unit including a first brush structure and a first driving unit to rotate the first rotation shaft. Here, the first brush may have an outer diameter that increases from the center thereof to the second brush. In addition, the first roll brush unit may further include a first leakage preventing member formed at each end of the first peripheral portions, and suppressing the liquid supplied to the substrate from flowing out of the chamber.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 세정 장치는 상기 제1 브러쉬 유닛으로부터 이격되어 배치되며, 제2 중심부 및 상기 제2 중심부와 연결된 제2 주변부들을 갖는 제2 몸체 및 상기 제2 몸체로부터 연장된 제2 연결부들을 구비하는 제2 회전축 및 상기 제2 몸체를 감싸는 제3 브러쉬 및 상기 제2 주변부들을 감싸며 상기 제2 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제4 브러쉬를 구비하는 제2 브러쉬 구조를 포함하는 제2 롤 브러쉬 유닛을 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the substrate cleaning device is disposed spaced apart from the first brush unit, the second body having a second center portion and second peripheral portions connected to the second center portion and extending from the second body. A second brush structure including a second rotating shaft having second connecting portions, a third brush surrounding the second body, and a fourth brush surrounding the second peripheral portions and having a larger outer diameter than the second brush; It may further comprise a roll brush unit.

본 발명의 실시예들에 따른 롤 브러쉬 유닛 및 이를 포함하는 기판 세정 장치는 회전축의 몸체를 감싸고, 회전축의 주변부를 감싸는 제2 브러쉬보다 작은 외경을 갖는 제1 브러쉬를 포함하는 브러쉬 구조를 포함함으로써 중심부의 하중에 따른 회전축의 휨을 고려하여 브러쉬 구조를 형성함으로써 기판 전체에 대하여 균일한 세정을 할 수 있다.The roll brush unit and the substrate cleaning apparatus including the roll brush unit according to the embodiments of the present invention includes a brush structure including a first brush having an outer diameter smaller than a second brush surrounding the body of the rotating shaft and surrounding the periphery of the rotating shaft. By considering the bending of the rotating shaft according to the load of the brush structure to form a uniform cleaning can be performed for the entire substrate.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명 하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 될 것이다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다. 또한, 본 발명의 실시예에서는 반도체 기판을 대상으로 한정하고 있지만, 유리 기판, 인쇄 회로 기판 등에도 본 발명의 실시예를 확장시킬 수도 있다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the spirit of the present invention to those skilled in the art will fully convey. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component. When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it may be directly connected to or connected to that other component, but it may be understood that other components may be present in between. Should be. On the other hand, when a component is said to be "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in between. Other expressions describing the relationship between components, such as "between" and "immediately between," or "neighboring to," and "directly neighboring to" should be interpreted as well. In addition, although the Example of this invention limits a semiconductor substrate, the Example of this invention can also be extended also to a glass substrate, a printed circuit board, etc.

롤 브러쉬 유닛Roll brush unit

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛을 설명하기 위한 사시도이다.2 is a perspective view for explaining a roll brush unit according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛(100)은 회전축(130) 및 브러쉬 구조(140)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the roll brush unit 100 according to an embodiment of the present invention includes a rotation shaft 130 and a brush structure 140.

회전축(130)은, 예를 들면, 원 기둥 형상을 갖는다. 회전축(130)은, 예를 들면, SUS 재질로 형성될 수 있다.The rotating shaft 130 has a circular columnar shape, for example. The rotating shaft 130 may be formed of, for example, a SUS material.

회전축(130)은 중심부(111)와 중심부(111)와 연결된 주변부들(113)을 갖는 몸체(110) 및 몸체(110)로부터 연장된 연결부(120)를 포함한다. The rotating shaft 130 includes a body 110 having a central portion 111 and peripheral portions 113 connected to the central portion 111 and a connection portion 120 extending from the body 110.

브러쉬 구조(140)는 몸체(110)를 감싼다. 예를 들면, 브러쉬 구조(140)는 몸체(110)의 외주면 상에 배치될 수 있다. 브러쉬 구조(140)는 몸체(110)에 형성된 채널(미도시)의 내부에 위치할 수 있다. 상기 채널은 몸체(110)의 외주면을 따라 일정 간격으로 이격되어 형성될 수 있다. 상기 채널은 S자 형상 또는 톱니바퀴 형상을 가질 수 있다.Brush structure 140 wraps body 110. For example, the brush structure 140 may be disposed on the outer circumferential surface of the body 110. The brush structure 140 may be located inside a channel (not shown) formed in the body 110. The channels may be spaced apart at regular intervals along the outer circumferential surface of the body 110. The channel may have an S shape or a gear shape.

브러쉬 구조(140)는 제1 브러쉬(141) 및 제2 브러쉬(143)를 포함한다. The brush structure 140 includes a first brush 141 and a second brush 143.

제1 브러쉬(141)는 회전축(130)의 몸체(110) 중 중심부(111)를 감싼다. 제1 브러쉬(141)는 제1 외경(D1)을 갖는다.The first brush 141 surrounds the central portion 111 of the body 110 of the rotation shaft 130. The first brush 141 has a first outer diameter D1.

제2 브러쉬(143)는 회전축(130)의 몸체(110) 중 주변부들(113)을 감싼다. 제2 브러쉬(143)는 제1 브러쉬(141)의 제1 외경(D1)보다 큰 제2 외경(D2)을 가진다. 회전축(130)의 연결부들(120)이 챔버의 내측벽에 고정될 경우, 회전축(130)의 중심부(111)가 하방으로 처질 수 있다. 회전축(130)의 중심부(111)가 하방으로 처질 경 우를 고려하여 제1 브러쉬(141)가 제2 브러쉬(143)보다 작은 외경을 가지기 때문에 기판에 대하여 전체적으로 균일하게 브러쉬 구조(140)가 접하게 된다.The second brush 143 surrounds the peripheral parts 113 of the body 110 of the rotation shaft 130. The second brush 143 has a second outer diameter D2 greater than the first outer diameter D1 of the first brush 141. When the connection parts 120 of the rotation shaft 130 are fixed to the inner wall of the chamber, the central portion 111 of the rotation shaft 130 may sag downward. Since the first brush 141 has an outer diameter smaller than that of the second brush 143 in consideration of the case where the central portion 111 of the rotation shaft 130 sags downward, the brush structure 140 is in uniform contact with the substrate. do.

한편, 제1 외경(D1)과 제2 외경(D2)의 차이는 약 0.5 내지 약 1.0mm의 범위를 가지도록 함이 바람직하다. 제1 외경(D1)과 제2 외경(D2)이 0.5mm 미만의 차이를 가질 경우, 몸체(110)의 중심부(111)가 그 하중에 의하여 하방으로 휘어질 때 브러쉬 구조(140)가 전체적으로 균일하게 기판과 접촉하지 않을 수 있다. 또한, 제1 직경(D1)과 제2 직경(D2)이 1.0mm 초과의 차이를 가질 경우, 중심부(111)를 감싸는 제1 브러쉬(141)가 제2 브러쉬(143)에 대하여 돌출될 수 있다.On the other hand, the difference between the first outer diameter (D1) and the second outer diameter (D2) is preferably to have a range of about 0.5 to about 1.0mm. When the first outer diameter D1 and the second outer diameter D2 have a difference of less than 0.5 mm, the brush structure 140 is generally uniform when the central portion 111 of the body 110 is bent downward by the load. May not be in contact with the substrate. In addition, when the first diameter D1 and the second diameter D2 have a difference greater than 1.0 mm, the first brush 141 surrounding the central portion 111 may protrude with respect to the second brush 143. .

본 발명의 일 실시예에 있어서, 제1 브러쉬(141)는 그 중심에서 제2 브러쉬(143)로 갈수록 넓어지는 직경을 가질 수 있다. 따라서, 몸체(110)의 중심부(111)가 그 하중에 의하여 하방으로 휘어지는 형상에 대응되는 형상을 제1 브러쉬(141)가 가진다.In one embodiment of the present invention, the first brush 141 may have a diameter widening from the center thereof to the second brush 143. Therefore, the first brush 141 has a shape corresponding to the shape in which the central portion 111 of the body 110 is bent downward by the load.

본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛(100)은 유출 방지 부재(150)를 더 포함할 수 있다. 유출 방지 부재(150)는 연결부(120)에 형성된다. 세정액을 이용하여 기판에 대한 세정 공정을 수행하는 동안, 유출 방지 부재(150)는 상기 세정액이 기판으로부터 리바운드 되어 챔버의 외부로 유출되는 것을 억제한다.Roll brush unit 100 according to an embodiment of the present invention may further include a spill prevention member 150. The leakage preventing member 150 is formed in the connection part 120. During the cleaning process for the substrate using the cleaning liquid, the leakage preventing member 150 suppresses the cleaning liquid from rebounding from the substrate and flowing out of the chamber.

유출 방지 부재(150)는, 예를 들면, 원형의 바텀부(미도시) 및 상기 바텀부의 에지에서 상기 바텀부에 대하여 수직하게 연장된 측부를 포함할 수 있다. 한편, 상기 바텀부에는 회전축(130)의 주변부(113)가 관통할 수 있도록 관통홀(미도시)이 형성된다.The leakage preventing member 150 may include, for example, a circular bottom portion (not shown) and a side portion extending perpendicular to the bottom portion at an edge of the bottom portion. On the other hand, the bottom portion is formed with a through hole (not shown) so that the peripheral portion 113 of the rotating shaft 130 can pass through.

본 발명의 일 실시예에 따른 롤 브러쉬 유닛(100)은 회전축(130)이 회전할 수 있도록 회전력을 제공하는 구동부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 구동부는, 예를 들면, 모터(미도시) 및 상기 모터와 기계적으로 연결된 구동축(미도시)을 포함한다. 상기 모터가 회전력을 발생하고, 상기 모터와 연결된 상기 구동축을 통하여 회전축(130)을 회전시킨다.Roll brush unit 100 according to an embodiment of the present invention may further include a driving unit (not shown) for providing a rotational force so that the rotating shaft 130 can rotate. The drive unit includes, for example, a motor (not shown) and a drive shaft (not shown) mechanically connected to the motor. The motor generates a rotational force, and rotates the rotary shaft 130 through the drive shaft connected to the motor.

기판 세정 장치Substrate Cleaning Device

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 설명하기 위한 사시도이다. 도 4는 도3에 도시된 체결 부재를 도시한 사시도이다. 도 5는 도 3에 도시된 기판 세정 장치를 도시한 평면도이다.3 is a perspective view illustrating a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. 4 is a perspective view illustrating the fastening member shown in FIG. 3. FIG. 5 is a plan view illustrating the substrate cleaning apparatus of FIG. 3.

도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(200)는 챔버(205), 제1 롤 브러쉬 유닛(201a), 제1 체결 부재(260a) 및 제1 구동부(280)를 포함한다.3 to 5, the substrate cleaning apparatus 200 according to an embodiment of the present invention may include a chamber 205, a first roll brush unit 201a, a first fastening member 260a, and a first driving unit ( 280).

챔버(205)는 기판 세정 공정을 수행하는 공간을 제공한다.The chamber 205 provides a space for performing a substrate cleaning process.

제1 롤 브러쉬 유닛(201a)은 챔버(205)의 일 측벽에 체결된다. 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)은 기판과 접촉하여 기판에 잔류하는 이물질을 제거한다.The first roll brush unit 201a is fastened to one side wall of the chamber 205. The first roll brush unit 201a removes foreign substances remaining on the substrate in contact with the substrate.

제1 롤 브러쉬 유닛(201a)은 제1 회전축(230a) 및 제1 브러쉬(240a)를 포함한다. The first roll brush unit 201a includes a first rotation shaft 230a and a first brush 240a.

제1 회전축(230a)은, 예를 들면, 원 기둥 형상을 갖는다. 제1 회전축(230a)은, 예를 들면, SUS 재질로 형성될 수 있다.The first rotating shaft 230a has a circular columnar shape, for example. The first rotation shaft 230a may be formed of, for example, a SUS material.

제1 회전축(230a)은 제1 중심부(211a)와 제1 중심부(211a)와 연결된 제1 주변부들(213a)을 갖는 제1 몸체(210a) 및 제1 몸체(210a)로부터 연장된 제1 연결부(220a)를 포함한다.The first rotation shaft 230a has a first body 210a having a first center portion 211a and first peripheral portions 213a connected to the first center portion 211a and a first connection portion extending from the first body 210a. 220a.

제1 브러쉬 구조(240a)는 제1 몸체(210a)를 감싼다. 예를 들면, 제1 브러쉬(240a)는 제1 몸체(210a)의 외주면 상에 배치될 수 있다. 제1 브러쉬(240a)는 제1 몸체(210a)에 형성된 제1 채널(미도시)의 내부에 위치할 수 있다. 상기 제1 채널은 제1 몸체(210a)의 외주면을 따라 일정 간격으로 이격되어 형성될 수 있다. 상기 채널은 S자 형상 또는 톱니바퀴 형상을 가질 수 있다.The first brush structure 240a surrounds the first body 210a. For example, the first brush 240a may be disposed on an outer circumferential surface of the first body 210a. The first brush 240a may be located inside a first channel (not shown) formed in the first body 210a. The first channel may be spaced apart at regular intervals along the outer circumferential surface of the first body 210a. The channel may have an S shape or a gear shape.

제1 브러쉬 구조(240a)는 제1 브러쉬(241a) 및 제2 브러쉬(143a)를 포함한다. The first brush structure 240a includes a first brush 241a and a second brush 143a.

제1 브러쉬(241a)는 제1 회전축(230a)의 제1 몸체(210a) 중 제1 중심부(211a)를 감싼다. 제1 브러쉬(241a)는 제1 외경(D1)을 갖는다.The first brush 241a surrounds the first central portion 211a of the first body 210a of the first rotation shaft 230a. The first brush 241a has a first outer diameter D1.

제2 브러쉬(243a)는 제1 회전축(230a)의 제1 몸체(210a) 중 제1 주변부들(213a)을 감싼다. 제2 브러쉬(243a)는 제1 브러쉬(241a)의 제1 외경(D1)보다 큰 제2 외경(D2)을 가진다. 제1 회전축(230a)의 제1 연결부들(220a)이 챔버(205)의 내측벽에 고정될 경우, 제1 회전축(230a)의 제1 중심부(211a)가 하방으로 처질 수 있다. 제1 회전축(230a)의 제1 중심부(211a)가 하방으로 처질 경우를 고려하여 제1 브러쉬(241a)가 제2 브러쉬(243a)보다 작은 외경을 가지기 때문에 기판에 대하여 전체적으로 균일하게 제1 브러쉬 구조(240a)가 접하게 된다.The second brush 243a surrounds the first peripheral portions 213a of the first body 210a of the first rotation shaft 230a. The second brush 243a has a second outer diameter D2 greater than the first outer diameter D1 of the first brush 241a. When the first connecting portions 220a of the first rotating shaft 230a are fixed to the inner wall of the chamber 205, the first central portion 211a of the first rotating shaft 230a may sag downward. In consideration of the case where the first central portion 211a of the first rotation shaft 230a sags downward, the first brush 241a has a smaller outer diameter than the second brush 243a, so that the first brush structure is uniformly uniform with respect to the substrate. 240a comes into contact.

한편, 제1 외경(D1)과 제2 외경(D2)의 차이는 약 0.5 내지 약 1.0mm의 범위 를 가지도록 함이 바람직하다. 제1 외경(D1)과 제2 외경(D2)이 0.5mm 미만의 차이를 가질 경우, 제1 몸체(210a)의 제1 중심부(211a)가 그 하중에 의하여 하방으로 휘어질 때 제1 브러쉬 구조(240a)가 전체적으로 균일하게 기판과 접촉하지 않을 수 있다. 또한, 제1 직경(D1)과 제2 직경(D2)이 1.0mm 초과의 차이를 가질 경우, 제1 중심부(211a)를 감싸는 제1 브러쉬(241a)가 제2 브러쉬(243a)에 대하여 돌출될 수 있다.On the other hand, the difference between the first outer diameter (D1) and the second outer diameter (D2) is preferably to have a range of about 0.5 to about 1.0mm. When the first outer diameter D1 and the second outer diameter D2 have a difference of less than 0.5 mm, the first brush structure when the first central portion 211a of the first body 210a is bent downward by the load thereof 240a may not contact the substrate as a whole. In addition, when the first diameter D1 and the second diameter D2 have a difference of more than 1.0 mm, the first brush 241a surrounding the first central portion 211a may protrude from the second brush 243a. Can be.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 제1 브러쉬(241a)는 그 중심에서 제2 브러쉬(243a)로 갈수록 넓어지는 직경을 가질 수 있다. 따라서, 제1 몸체(210a)의 제1 중심부(211a)가 그 하중에 의하여 하방으로 휘어지는 형상에 대응되는 형상을 제1 브러쉬(241a)가 가진다.In one embodiment of the present invention, the first brush 241a may have a diameter widening from the center thereof to the second brush 243a. Therefore, the first brush 241a has a shape corresponding to the shape in which the first central portion 211a of the first body 210a is bent downward by the load.

본 발명의 일 실시예에 따른 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)은 제1 유출 방지 부재(250a)를 더 포함할 수 있다. 제1 유출 방지 부재(250a)는 제1 연결부(220a)에 형성된다. 세정액을 이용하여 기판에 대한 세정 공정을 수행하는 동안, 제1 유출 방지 부재(250a)는 상기 세정액이 기판으로부터 리바운드 되어 챔버(205)의 외부로 유출되는 것을 억제한다.The first roll brush unit 201a according to an embodiment of the present invention may further include a first leakage preventing member 250a. The first leakage preventing member 250a is formed at the first connection portion 220a. During the cleaning process for the substrate using the cleaning liquid, the first leakage preventing member 250a suppresses the cleaning liquid from rebounding from the substrate and flowing out of the chamber 205.

제1 유출 방지 부재(250a)는, 예를 들면, 원형의 제1 바텀부(미도시) 및 상기 제1 바텀부의 에지에서 상기 제1 바텀부에 대하여 수직하게 연장된 제1 측부를 포함할 수 있다. 한편, 상기 제1 바텀부에는 제1 회전축(230a)의 제1 주변부(213a)가 관통할 수 있도록 제1 관통홀(미도시)이 형성된다.The first leakage preventing member 250a may include, for example, a circular first bottom portion (not shown) and a first side portion extending perpendicular to the first bottom portion at an edge of the first bottom portion. have. Meanwhile, a first through hole (not shown) is formed in the first bottom portion so that the first peripheral portion 213a of the first rotation shaft 230a can pass therethrough.

본 발명의 일 실시예에 따른 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)은 제1 회전축(230a) 이 회전할 수 있도록 회전력을 제공하는 제1 구동부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 구동부는, 예를 들면, 제1 모터(미도시) 및 상기 제1 모터와 기계적으로 연결된 제1 구동축(미도시)을 포함한다. 상기 제1 모터가 회전력을 발생하고, 상기 제1 모터와 연결된 상기 제1 구동축을 통하여 제1 회전축(230a)을 회전시킨다.The first roll brush unit 201a according to an embodiment of the present invention may further include a first driving unit (not shown) that provides a rotational force so that the first rotation shaft 230a can rotate. The first drive unit includes, for example, a first motor (not shown) and a first drive shaft (not shown) that is mechanically connected to the first motor. The first motor generates a rotational force and rotates the first rotation shaft 230a through the first drive shaft connected to the first motor.

제1 체결 부재(260a)는 챔버(205)의 내측벽 및 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)의 제1 연결부(220a) 사이에 개재된다. 제1 체결 부재(260a)는 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)을 챔버(205)에 체결시킨다. The first fastening member 260a is interposed between the inner wall of the chamber 205 and the first connection portion 220a of the first roll brush unit 201a. The first fastening member 260a fastens the first roll brush unit 201a to the chamber 205.

제1 체결 부재(260a)는 제1 플레이트(266a) 및 제1 회전축(230)의 제1 연결부(220a)가 통과할 수 있는 제1 원통부(257a)를 포함한다. 제1 플레이트(216)는 챔버(205)의 내측벽과 접촉하여 스크루, 리벳, 못 등과 같은 체결구(268)를 이용하여 고정될 수다. 이와 다르게, 제1 플레이트(216)는 챔버(205)의 내측벽에 접착제 등을 이용하거나 용접 등의 방법으로 고정될 수도 있다. The first fastening member 260a includes a first cylindrical portion 257a through which the first plate 266a and the first connecting portion 220a of the first rotating shaft 230 can pass. The first plate 216 may be fixed by using a fastener 268 such as a screw, rivet, nail, etc. in contact with the inner wall of the chamber 205. Alternatively, the first plate 216 may be fixed to the inner wall of the chamber 205 using an adhesive or the like by welding or the like.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(200)는 제2 롤 브러쉬 유닛(201b)을 더 포함할 수 있다. 제2 롤 브러쉬 유닛(201b)은 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)으로부터 이격되어 배치된다. 예를 들면, 제1 및 제2 롤 브러쉬 유닛들(201a, 201b)은 상호 평행하게 수직으로 배치될 수 있다.The substrate cleaning apparatus 200 according to the exemplary embodiment of the present invention may further include a second roll brush unit 201b. The second roll brush unit 201b is disposed to be spaced apart from the first roll brush unit 201a. For example, the first and second roll brush units 201a and 201b may be vertically disposed in parallel to each other.

제2 롤 브러쉬 유닛(201b)은 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)과 실질적으로 동일한 부재를 가지므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Since the second roll brush unit 201b has a member substantially the same as the first roll brush unit 201a, a detailed description thereof will be omitted.

제1 및 제2 롤 브러쉬 유닛(201a, 201b)은 상하, 즉 지면에 수직한 방향으로 이동이 가능하다. 지면에 수직한 방향으로 상하 이동이 가능한 이유는 1쌍의 롤 브 러쉬 유닛들(201a, 201b) 사이로 기판이 개재되기 때문이며, 최대 이동 거리는 제1 및 제2 롤 브러쉬 유닛들(201a, 201b)이 세정하는 기판의 두께만큼 상하로 이동할 수 있다. 또한, 정렬 상의 오차를 줄이기 위하여 1쌍의 롤 브러쉬 유닛들(201a, 201b) 중 하나는 고정형으로 운용될 수 있다. 예를 들어, 제2 롤 브러쉬 유닛(201b)을 고정하여 이동하지 않도록 하고 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)만 상하로 이동되도록 할 수 있다. 그러나 그 반대로 제1 롤 브러쉬 유닛(201a)을 고정하고 제2 롤 브러쉬 유닛(201b)만 상하로 이동되도록 운용할 수도 있다.The first and second roll brush units 201a and 201b are movable up and down, that is, in a direction perpendicular to the ground. The reason why the vertical movement is possible in the direction perpendicular to the ground is that the substrate is interposed between the pair of roll brush units 201a and 201b, and the maximum moving distance is the first and second roll brush units 201a and 201b. It can be moved up and down by the thickness of the substrate to be cleaned. In addition, one of the pair of roll brush units 201a and 201b may be fixedly operated in order to reduce an error in alignment. For example, the second roll brush unit 201b may be fixed so as not to move, and only the first roll brush unit 201a may be moved up and down. However, on the contrary, the first roll brush unit 201a may be fixed and the second roll brush unit 201b may be operated to move up and down.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 세정 장치(200)는 제1 체결 부재(260a)의 상기 제1 원통부와 제1 회전축(230a)의 제1 주변부(220a) 사이에 제1 베어링(270)을 더 포함할 수 있다. 따라서, 제1 체결 부재(260a) 및 제1 회전축(230a)간의 마모가 억제된다.In one embodiment of the present invention, the substrate cleaning apparatus 200 includes a first bearing 270 between the first cylindrical portion of the first fastening member 260a and the first peripheral portion 220a of the first rotating shaft 230a. ) May be further included. Therefore, wear between the first fastening member 260a and the first rotation shaft 230a is suppressed.

본 발명의 실시예들에 따른 롤 브러쉬 유닛 및 이를 포함하는 기판 세정 장치는 회전축의 몸체를 감싸고, 회전축의 주변부를 감싸는 제2 브러쉬보다 작은 외경을 갖는 제1 브러쉬를 포함하는 브러쉬 구조를 포함함으로써 중심부의 하중에 따른 회전축의 휨을 고려하여 브러쉬 구조를 형성함으로써 기판 전체에 대하여 균일한 세정을 할 수 있다.The roll brush unit and the substrate cleaning apparatus including the roll brush unit according to the embodiments of the present invention includes a brush structure including a first brush having an outer diameter smaller than a second brush surrounding the body of the rotating shaft and surrounding the periphery of the rotating shaft. By considering the bending of the rotating shaft according to the load of the brush structure to form a uniform cleaning can be performed for the entire substrate.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있 음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. I can understand that you can.

Claims (7)

중심부 및 상기 중심부와 연결된 주변부들을 갖는 몸체 및 상기 몸체로부터 연장된 연결부를 구비하는 회전축; A rotating shaft having a central portion and a body having peripheral portions connected to the central portion and a connecting portion extending from the body; 상기 연결부에 형성되고 공급되는 액체의 유출을 방지하는 유출 방지 부재; 및An outflow prevention member that prevents the outflow of the liquid formed and supplied to the connection portion; And 상기 몸체를 감싸며, 상기 중심부를 감싸는 제1 브러쉬 및 상기 주변부들을 감싸며 상기 제1 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제2 브러쉬를 구비하는 브러쉬 구조를 포함하는 롤 브러쉬 유닛.And a brush structure surrounding the body, the brush structure including a first brush surrounding the central portion and a second brush surrounding the peripheral portions and having a larger outer diameter than the first brush. 제1항에 있어서, 상기 제1 브러쉬는 그 중심에서 상기 제2 브러쉬로 갈수록 넓어지는 외경을 갖는 것을 특징으로 하는 롤 브러쉬 유닛.The roll brush unit of claim 1, wherein the first brush has an outer diameter that increases from its center to the second brush. 삭제delete 기판을 세정하기 위한 공간을 제공하는 챔버;A chamber providing a space for cleaning the substrate; 상기 챔버의 내부에 배치되며, 제1 중심부 및 상기 제1 중심부와 연결된 제1 주변부들을 갖는 제1 몸체 및 상기 제1 몸체로부터 연장된 제1 연결부들을 구비하는 제1 회전축, 상기 제1 주변부들의 각 단부에 형성되고, 상기 기판으로 공급되는 액체가 상기 챔버 밖으로 유출되는 것을 억제하는 제1 유출 방지 부재, 및 상기 제1 몸체를 감싸는 제1 브러쉬 및 상기 제1 주변부들을 감싸며 상기 제1 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제2 브러쉬를 구비하는 제1 브러쉬 구조를 포함하는 제1 롤 브러쉬 유닛; 및A first rotating shaft disposed in the chamber, the first rotating shaft including a first body having a first center portion and first peripheral portions connected to the first central portion, and first connecting portions extending from the first body, each of the first peripheral portions; A first outflow prevention member formed at an end and preventing liquid from being supplied to the substrate from leaking out of the chamber, a first brush surrounding the first body and an outer diameter larger than the first brush surrounding the first periphery; A first roll brush unit including a first brush structure having a second brush having a; And 상기 제1 회전축을 회전시키는 제1 구동부를 포함하는 기판 세정 장치.And a first driving part for rotating the first rotation shaft. 제4항에 있어서, 상기 제1 브러쉬 유닛으로부터 이격되어 배치되며, 제2 중심부 및 상기 제2 중심부와 연결된 제2 주변부들을 갖는 제2 몸체 및 상기 제2 몸체로부터 연장된 제2 연결부들을 구비하는 제2 회전축 및 상기 제2 몸체를 감싸는 제3 브러쉬 및 상기 제2 주변부들을 감싸며 상기 제2 브러쉬보다 큰 외경을 갖는 제4 브러쉬를 구비하는 제2 브러쉬 구조를 포함하는 제2 롤 브러쉬 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.5. The apparatus of claim 4, further comprising: a second body disposed spaced from the first brush unit, the second body having a second center portion and second peripheral portions connected to the second center portion, and second connecting portions extending from the second body. And a second roll brush unit including a second brush structure including a second rotating shaft and a third brush surrounding the second body and a fourth brush surrounding the second peripheral portions and having a larger outer diameter than the second brush. Substrate cleaning apparatus, characterized in that. 제4항에 있어서, 상기 제1 브러쉬는 그 중심에서 제2 브러쉬로 갈수록 넓어지는 외경을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.The substrate cleaning apparatus of claim 4, wherein the first brush has an outer diameter that increases from its center to the second brush. 삭제delete
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