KR100849445B1

KR100849445B1 - Ｒｆ 전력 발생기용 구동 신호를 발생하기 위한 방법

Info

Publication number: KR100849445B1
Application number: KR1020060075704A
Authority: KR
Inventors: 만프레드 블라트너; 마쿠스 빈터할터; 에케하르트 만
Original assignee: 헛팅거 일렉트로닉 게엠베하 + 코 카게
Priority date: 2005-08-13
Filing date: 2006-08-10
Publication date: 2008-07-31
Also published as: US20070044715A1; JP2007053088A; KR20070019931A; US7981306B2; EP1753011A1; EP1753011B1

Abstract

본 발명은 플라즈마 공정에 RF 전력을 공급하는 2개 이상의 RF 전력 발생기들(3, 4)의 구동 신호들(C, D)을 발생하기 위한 방법에 관한 것이다. 여기서, 각각 하나의 RF 전력 발생기(3, 4)를 구동하는 2개 이상의 구동 신호들(C, S)은 RF 발생기 구동 수단(2)에서 발생되고, 각각의 구동 신호(C, D)는 하나의 함수 발생기(13, 14), 특히, 디지털 함수 발생기, 양호하게는 사인 발생기에 의해 발생된다. 이로 인해 플라즈마 공정의 최적화가 허용된다.

플라즈마 공정, RF 전력, 구동 수단, 구동 신호

Description

ＲＦ 전력 발생기용 구동 신호를 발생하기 위한 방법{METHOD FOR GENERATING DRIVE SIGNALS FOR RF POWER GENERATORS}

도 1은 RF 플라즈마 여기 구성의 개략도.

도 2는 RF 발생기 구동 수단을 도시하는 도면.

도 3은 도 2의 위치 A, B, C에서의 신호의 동작을 도시한 도면.

도 4a 내지 4c는 구동 신호들의 몇개의 조합예를 도시한 도면.

본 발명은 플라즈마 공정에 RF 전력을 공급하는 2개 이상의 RF 전력 발생기용 구동 신호를 발생하기 위한 방법에 관한 것이다. 여기서, 2개 이상의 구동 신호들은 RF 발생기 구동 수단들에서 발생되고, 이들 각각은 하나의 RF 전력 발생기를 제어한다. 본 발명은 RF 발생기 구동 수단에도 역시 관련되어 있다.

RF 플라즈마 공정들은 예를 들어 에칭, 코팅, 및 애싱 공정에 이용된다. 이와 같은 공정들은 현재까지는 비교적 작은 표면을 처리하는데 이용되어 왔다. 그러나, 플라즈마 공정에서 처리될 표면들은 갈수록 커지고 있다. 예를 들어, 반도체 산업에서 웨이퍼들도 계속 커지고 있고, 평판 디스플레이도 역시 계속 커지고 있다. 현재까지는 처리될 표면 위에 균일한 플라즈마를 발생하는 것이 용이하였으나, 오늘날은 에칭되거나 코팅될 표면의 크기가 플라즈마 여기 신호 또는 여기 신호의 조화신호(harmonics)의 파장 범위에까지 이르고 있어, 플라즈마 내에 파장 구조가 생성되어 균일한 플라즈마 처리가 어렵다.

이러한 상황을 타개하기 위해, 종래에는 상이하거나 동일한 주파수에서 동작하는 몇개의 플라즈마 발생기들이 사용되었다. US 5,698,062호에는 예를 들어 저-전압원 및 주파수 분할기를 갖는 RF 발생기 구동 수단이 개시되어 있다. 주파수 분할기는 RF 발생기로 간주될 수도 있는 2개의 RF 증폭기를 구동한다. 이들은 상이한 위치에서 플라즈마 공정에 대해 RF 전력을 공급한다.

US 5,824,606호에는, 동일한 주파수를 갖는 2개의 RF 발생기들을 구동하고, 이들 RF 발생기들을 통해 상이한 위치에서 플라즈마 공정에 대해 RF 전력을 공급하는 기술이 개시되어 있다. RF 발생기들에 의해 방출된 RF 신호들의 위상 위치는 위상 이동기를 사용하여 서로 상대적으로 조절된다.

FPD 생산 실험에서, MF(10kHZ 내지 1MHz)로 플라즈마를 여기시키는 것이 현재 시도되고 있다. 몇개의 전극쌍들이 다른 전극쌍들의 부근에 직접 배치된다. 각각의 전극쌍은 MF 발생기에 의해 공급을 받는다. MF 발생기들은 동기적으로 동작되지 않으며, 반드시 동일한 주파수일 필요도 없다. 이것은 2개의 인접한 전극 쌍들 사이에 고전압과 맥동(beating)을 생성할 수 있다. 이 고전압은 인접한 전극 쌍들 사이에 원치않는 아크를 생성할 수 있다. 발생기들의 동기화 및 개개의 발생기들의 위상 조절은 매우 유익할 것이다.

본 발명의 기저 목적은, RF 전력 발생기를 구동하기 위한 방법으로서, 보다 유연한 조절과 RF 전력 발생기 또는 플라즈마 공정의 전력 출력의 제어를 허용하는 방법과, 대응하는 RF 발생기 구동 수단을 제공하는 것이다.

이러한 목적은, 전술한 유형의 방법에 의해 본 발명에 따라 달성된다. 여기서, 각각의 구동 신호는 단일의 함수 발생기, 특히, 사인 발생기와 같은 디지털 함수 발생기에 의해 발생된다. 구동 신호의 발생을 위해 하나의 개별적으로 조절가능한 디지털 함수 발생기를 이용함으로써, 거의 어떠한 신호라도 발생될 수 있다. 특히, 상이한 구동 신호들의 서로간의 상이한 관계뿐만 아니라 각 개개의 구동 신호의 주파수 및 위상 위치를 조절하는 것이 가능하다. 그 결과, 플라즈마 공정으로의 RF 전력 공급이 정확하게 조절되고 변동된다. 그에 따라 구동 신호들은 상이한 RF 전력 발생기들에 대해 적절하게 결합될 수 있고, 차례로, 큰 면적이 코팅되거나 에칭될 때에도 플라즈마의 균일화를 허용한다. 본 발명에 따른 무선 주파수는 10 kHZ 내지 200 MHz 범위 내의 주파수를 의미한다.

플라즈마 챔버 내에서 전력 분포가 검출되거나 측정될 때, 수신된 값들은 균일한 플라즈마를 발생하기 위해 구동 신호들을 적절하게 선택하는데 이용될 수 있다. 플라즈마 챔버 내에서의 전력 분포는 특히 대응하는 구동 신호 조작을 통해 조절되거나 제어될 수 있다. 디지털 함수 발생기를 이용하면, 아날로그 구동 신호 발생에 비해 훨씬 넓은 범위의 조절을 행할 수 있다.

양호한 한 변형 방법은, 구동 신호들간 위상 및/또는 주파수 관계의 조절을 포함한다. 응용에 따라 상이한 시나리오도 역시 가능하다. 구동 신호들은 예를 들어 동일한 주파수로 발생될 수도 있지만, 위상은 어긋날 수 있다. 2개 이상의 구동 신호가 상이한 주파수를 가질 수 있다. 이들 주파수들은 임의로 선택되거나 소정의 상호 수학적 관계를 가질 수도 있다. 주파수들은 예를 들어 기본 주파수의 배수로서 선택될 수 있다.

구동 신호들은 앙호하게는 RF 발생기 구동 수단의 하나 이상의 디지털 인터페이스를 통해 조절될 수 있다. 따라서 몇개의 함수 발생기가 하나의 단일 인터페이스에 의해 제어될 수 있다. 각각의 함수 발생기가 그 고유의 인터페이스를 가질 수 있다는 것은 명백하다.

구동 신호들은 유익하게도, 특히 FPGA 또는 프로세서와 같은 프로그래머블 로직 컴포넌트를 경유하여 설정된다.

플라즈마 공정의 퍼포먼스에 따라, 구동 신호들 사이에서 위상 위치들을 변경하는 것이 필요할 것이다. 이것은, 예를 들어, 하나 이상의 구동 신호들의 위상 위치를 변경함으로써 이루어질 수도 있다. 그리하여 구동 신호의 위상 위치는 양호하게는 1㎲ 내지 10s의 시간 동안, 양호하게는 1㎳ 내지 2s, 더욱 양호하게는 10 ms 내지 1s의 시간 동안에 변경된다. 이것은 구동 신호의 위상 위치가 제1 위치로부터 제2 위치로 지속적 또는 연속적 방식으로 변하거나, 또는 점진적으로 또는 램프(ramp)적으로 변한다는 것을 의미한다. 이것은, RF 발생기에 손상을 주거나 플라즈마 공정을 교란시킬 수 있는 갑작스런 위상 변경, 즉, 위상 점프를 방지한다.

위상 변경이 초기 및 최종 위상 위치와는 관계없이 항상 동일한 램프로 이루 어지도록 보장하기 위해, 한 양호한 변형 방법에서는, 위상 위치가 변하는 속도가, %/s 또는˚/s 단위로 조절되거나 사전설정된다.

디지털 함수 발생기의 이용은 또 다른 변형 방법을 제공하는데, 여기서, 하나 이상의 구동 신호는 주파수-변조 또는 위상-변조된다. 주파수-변조 또는 위상-변조는, RF 발생기 구동 수단에 공급되는 외부 신호를 통해, 또는 디지털 함수 발생기(들)이 주파수 또는 위상 변조된 구동 신호를 내놓도록 대응적으로 구동하는 소프트웨어와 같은 대응하는 프로그래밍을 통해 이루어질 수 있다.

한 변형된 방법은, 사전설정가능한 이벤트의 경우, 특히 플라즈마 공정에서 아크 검출의 경우, 2개 이상의 구동 신호들의 위상 관계가 갑작스럽게 변한다. 이 방법에서, 플라즈마 공정에 대한 전력 공급은 즉시 변하여, 아크에 대한 RF 전력 공급이 정지되어 아크가 제거된다. 단 하나의 구동 신호의 위상 위치의 변경은 2개 구동 신호간의 위상 관계도 역시 변경하는 것이 명백하다. 이 때문에, 2개 이상의 구동 신호들의 위상 관계를 변경시키기 위해 단 하나의 구동 신호의 위상 위치를 변경하는 것으로 충분할 것이다.

사전설정가능한 이벤트의 경우, 특히 플라즈마 공정에서 아크 검출의 경우, 하나 이상의 구동 신호, 양호하게는 모든 구동 신호들이 교대로 또는 추가적으로 일시적으로 인터럽트되고, 이것이 아크를 제거할 것이다. 이러한 아크 제거는 유익하게도 RF 발생기와 동기화된다.

이 방법은, 구동 신호들의 주파수들이 1 내지 6 MHz 범위의 고정된 주파수의 정수배, 예를 들어 3.39 MHz의 정수배로 선택될 때, 에칭 공정에서 특히 유익하게 이용될 수 있다. 3.39 MHz 주파수를 4로 곱하면 양호한 ISM(산업, 과학, 및 의학) 주파수 13.56 MHz를 생성하고, 8로 곱하면, ISM 주파수 27.12 MHz를 생성한다. 본 발명의 방법은 ISM 주파수의 구동 신호의 발생과, 주파수 3.39 MHz의 또 다른 정수배의 다른 구동 신호의 발생을 허용한다. 클럭 주파수는 특히 양호한 ISM 주파수 13.56 MHz의 정수배이고, 이것은 특히 양호한 ISM 주파수들의 조절을 대단히 용이하게 해준다.

디지털 주파수 발생기들은 유익하게도 공통의 클럭 주파수에 의해 구동된다. 이 방법은 2개의 구동 신호들간의 주파수 및 위상 관계의 조절을 실질적으로 용이하게 해준다. 또 다른 가능성은, 함수 발생기들을 구동하는 프로세서에게 공통의 클럭 주파수를 공급하여, 프로세서로부터 함수 발생기들로의 데이터의 동기 전송을 보장한다.

본 발명은 RF 전력을 플라즈마 공정에 공급하는 2개 이상의 RF 발생기들을 구동하기 위한 RF 발생기 구동 수단을 역시 포함한다. 여기서, 구동 수단은 2개 이상의 구동 신호들을 발생하며, 구동 수단은 각각의 구동 신호에 대하여, 사인파 발생기와 같은 디지털 함수 발생기를 포함하는 하나의 신호 발생 구성을 포함한다. 이러한 구성은 다양한 구동 신호의 발생을 허용한다. 특히, 개개의 구동 신호의 위상 위치 및 주파수는 자유롭게 조절될 수 있어, RF 전력 발생기들 및 이에 따른 플라즈마 공정의 많은 제어가능성을 제공한다. 4개의 집적 디지털 함수 발생기들을 갖는 Analog Devices사의 AD9959가 특히 양호하다.

특정한 선호사항과 더불어, 함수 발생기는 DDS(Direct Digital Synthesizer)로서 설계된다. DDS는 특히 계단형 사인 신호(stepped sine signal)를 발생할 수 있다. 그 주파수는 DDS의 성능에 따라 넓은 범위 내에서 조절될 수 있다. RF 플라즈마 응용에 대해 아날로그 디바이스사의 AD9952가 특히 양호하다.

신호 발생 구성은 디지털 신호 발생기의 아래쪽에 배치된 필터 수단을 우선적으로 포함한다. 디지털 함수 발생기의 출력 신호는 계단화, 특히, 계단화된 사인 형상을 가질 수 있다. 이 신호는, 아날로그 사인 신호를 생성하기 위해 곡선을 평활화하는 필터 수단에 공급될 수 있다. 이 사인 신호는 소정의 RF 발생기들을 구동할 수 있다.

보다 최근의 RF 발생기들에 대해 구동 신호를 생성하기 위해, 신호 발생 구성은 유익하게도 각각의 구동 신호를 발생하는 비교기를 포함한다. 비교기는 예를 들어 RF 발생기의 구동을 위해, 평활화된 사인 신호를 직사각형 신호로 변환할 수 있다. 그리하여, 함수 발생기 그 자체는 비교기를 가질 수 있어, 디지털화된 사인 신호가 초기에 필터 수단에 입력되어, 여기서 평활화되고, 그 결과의 신호가 함수 발생기에 리턴되어 함수 발생기의 비교기에 공급된다.

특정한 선호사항과 더불어, 신호 발생 구성을 구동하기 위한 프로세서가 제공된다. 이 프로세서는 신호 발생 구성의 신호 발생기들의 정밀한 프로그래밍을 가능케한다. 프로세서는 하나 이상의 인터페이스를 통해 제어 및/또는 프로그래밍될 수 있다.

동기화는 클럭 신호를 발생하기 위한 발진기에 의해 실현된다. 이 발진기는 신호 발생 구성 및/또는 프로세서에 접속된다.

본 발명의 특정의 양호한 실시예에서, 하나 이상의 인터페이스, 특히 디지털 인터페이스 및/또는 사용자 인터페이스(작동 패널)가 제공되어, 특히 프로세서를 통해 함수 발생기들로의 액세스를 제공한다. 그리하여, 사용자는 예를 들어 사전설정된 범위 내에서 주파수 또는 위상을 변경할 수 있다. 또한 이와 같은 인터페이스들은 구동 신호들의 자동 조정, 특히 구동 신호들의 주파수 및 위상 위치의 자동 조정을 허용한다. 2개 이상의 신호 발생기 구성이 하나의 인터페이스에 의해 제어될 수 있다. 그리하여 양쪽 모두의 신호 발생기 구성들이 제어될 수 있고, 그들의 주파수 및 위상이, 서로에 의존하여, 또는 서로 독립적으로, 조절될 수 있다.

프로세서에 대한 대안으로서 또는 이에 추가하여, RF 발생기 구동 수단은 특히 FPGA의 프로그래머블 디지털 로직 컴포넌트를 포함할 수 있다. 이 컴포넌트는 인터페이스에도 접속되고 신호 발생기 구성에도 접속된다. 여기서 디지털 로직 컴포넌트는 프로세서로서 설계될 수 있다.

본 발명은 또한 전술한 바와 같이 RF 발생기 구동 수단에 의해 구동되는 2개 이상의 RF 발생기들을 갖는 RF 플라즈마 여기 구성(excitation configuration)을 포함한다. RF 플라즈마 여기 구성은 예를 들어 FPD 제조에서 3.39 MHz 및 그 배수의 주파수에서 사용될 수 있다. 이들 RF 플라즈마 여기 구성은 10 kHz 내지 1 MHz 범위의 코팅 시스템일 수도 있다. 여기서, 몇개의 전극쌍들이 서로 근접하여 배치되고, 인접한 발생기들의 출력 신호들은 동기화되고 그들의 위상 위치는 서로 조절된다.

본 발명의 다른 특징들 및 잇점들은, 본 발명의 실시예에 대한 이하의 상세한 설명과 본 발명에 필수적인 세부사항을 도시하는 도면들과 특허청구범위로부터 이해할 수 있을 것이다.

도면들은 본 발명의 양호한 실시예들을 개략적으로 도시하고 있다.

도 1은, 이하에서 상세히 설명되는 RF 발생기 구동 수단(2)을 포함한다. RF 발생기 구동 수단(2)은 이 실시예에서 제1 및 제2 RF 전력 발생기(3, 4)에 대한 2개의 구동 신호를 발생한다. 각각의 RF 전력 발생기(3, 4)는 정합 네트워크(5, 6)를 경유해 플라즈마 챔버(7)에 접속된다. 플라즈마 공정은 2개의 RF 전력 발생기(3, 4)를 경유해 RF 전력을 공급함으로써 플라즈마 챔버(7)에서 수행된다.

도 2는 구동 신호들을 발생하기 위한 2개의 신호 발생기 구성(10, 11)을 포함한다. 프로세서(12)는 신호 발생기 구성(10, 11)에 의해 발생되는 신호의 유형을 미리 결정한다. 특히, 구동 신호의 주파수 및 위상이 미리 결정된다. 예를 들어, 신호 A에 의해 도시된 바와 같이, 소정의 정보에 기초하여 디지털 함수 발생기(13, 14)에서 신호가 발생된다(도 3의 신호 A는 도 3의 위치 A에서의 신호에 대응함). 신호 A는 디지털적으로 발생되기 때문에 계단화된다. 이 신호는 필터 수단(15, 16)에 공급되어 예를 들어 사인 신호 B를 발생하도록 평활화된다. 이 신호는, 신호 C에 따라 직사각형 신호로 변경시키는 비교기(17, 18)에 공급될 수 있다.

RF 발생기 구동 수단(2)은 공통 클럭을 프리셋하는 발진기(19)를 포함한다. 발진기(19)는 특히 본 실시예에서 소위 DDS로서 설계되는 디지털 함수 발생기(13, 14) 및 프로세서(12)를 클러킹한다. 구동 신호의 발생을 제어하기 위해 인터페이스(20)가 제공될 수 있으며, 그 중 하나만이 도 2에 도시되어 있다. 사용자는 구동 신호들의 위상 위치 및/또는 주파수를 조절 또는 변경할 수 있다. 0V 내지 5V 범위로 인터페이스(20)를 통해 입력된 신호는 프로세서(12)에서 0 내지 360°범위의 위상으로 맵핑될 수 있다. 그러나, 사전설정된 전압을, 10 kHz 내지 300 MHz 범위의 주파수 또는 예컨대 3.39 MHz의 기본 주파수에 곱해지는 배수들의 범위 상에 맵핑하는 것도 가능하다. 대안으로서 사전설정된 전압 범위는 예컨대 27.12 MHz의 사전설정된 기본 주파수를 분할하는 정수 젯수들 상에 맵핑될 수도 있다.

도 4a 내지 도 4c는 상이한 구동 신호들(C, D)의 행동을 도시한다. 도 4a의 신호들(C, D)은 동기화되어 있다. 여기서, 구동 신호(C)는 구동 신호(D)의 2배 주파수를 가진다.

도 4b의 신호들(C, D)은 동일한 주파수 관계를 가진다. 즉, 신호(C)는 신호(D)의 2배 주파수를 가지지만, 신호(D)는 신호(C)에 관해 위상-이동되어 있다.

도 4c의 신호들(C, D)은 상이한 주파수를 가지며, 어떠한 정의된 위상 관계도 갖지 않는다. 특히, 신호(D)의 주파수는 신호(C)의 주파수와는 상이하다. 신호들(C, D)중 어떤 것도 각각의 다른 신호(C, D)의 정수배가 아니다.

본 발명이 2개의 RF 전력 발생기 및 2개의 구동 신호(C, D)에 기초하여 설명되었다. 상호 주파수 및 위상 관계가 변동할 수 있는 더 많은 수의 구동 신호들(C, D)을 발생하기 위해, RF 발생기 구동 수단(2)에는 2개 이상의 신호 발생 구성(10, 11)이 제공될 수 있다는 것은 명백하다.

RF 전력 발생기를 구동하기 위한 방법으로서, 보다 유연한 조절과 RF 전력 발생기 또는 플라즈마 공정의 전력 출력의 제어를 허용하는 방법과, 대응하는 RF 발생기 구동 수단을 제공된다.

Claims

플라즈마 공정에 RF 전력을 공급하는 2개 이상의 RF 전력 발생기(3, 4)의 구동 신호들(C, D)을 발생하기 위한 방법으로서, 각각이 하나의 RF 전력 발생기(3, 4)를 구동하는 2개 이상의 구동 신호들(C, D)은 RF 발생기 구동 수단(2)에서 발생되는 것인, 상기 구동 신호들(C, D)을 발생하기 위한 방법에 있어서,

각각의 구동 신호(C, D)는 각각의 함수 발생기(13, 14)에 의해 발생되고, 상기 구동 신호들(C, D)의 위상 및 주파수 중 하나 이상이 각 구동 신호 서로에 대해 상대적으로 조절되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항에 있어서, 상기 함수 발생기(13, 14)는 디지털 함수 발생기를 포함하는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 2개 이상의 상기 구동 신호들(C, D)은 상이한 주파수를 갖는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동 신호들(C, D)은 상기 RF 발생기 구동 수단(2)의 하나 이상의 디지털 인터페이스를 통해 조절되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동 신호들(C, D)은 프로그래머블 로직 컴포넌트를 통해 조절되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동 신호들(C, D)의 위상 위치는 1㎲ 내지 10s의 기간에 걸쳐 변경되는 것인, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동 신호들(C, D)의 위상 위치는 상기 위상 위치 변경의 속도를 조절함으로써 변경되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 하나 이상의 상기 구동 신호(C, D)는 주파수-변조 또는 위상-변조되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 미리 결정된 이벤트의 경우에, 2개 이상의 상기 구동 신호들(C, D)의 위상 관계가 변경되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 미리 결정된 이벤트의 경우에, 하나 이상의 상기 구동 신호(C, D)는 일시적으로 인터럽트되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 구동 신호들(C, D)의 주파수들은 1 내지 6 MHz의 주파수의 정수배로 선택되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 디지털 주파수 발생기들(13, 14)은 공통의 클럭 주파수에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
플라즈마 공정에 RF 전력을 공급하는 2개 이상의 RF 발생기들(3, 4)을 구동하기 위한 RF 발생기 구동 수단(2)으로서, 상기 RF 발생기 구동 수단(2)은 2개 이상의 구동 신호들(C, D)을 발생하는 것인, 상기 RF 발생기 구동 수단(2)에 있어서,

상기 구동 수단(2)은, 각각의 구동 신호(C, D)에 대해 함수 발생기(13, 14)를 포함하는 각각의 신호 발생 구성(10, 11)을 포함하고, 상기 구동 신호들(C, D)의 위상 및 주파수 중 하나 이상이 각 구동 신호 서로에 대해 상대적으로 조절되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항에 있어서, 상기 함수 발생기(13, 14)는 DDS(Direct Digital Synthesizer)로서 설계되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 신호 발생 구성(10, 11)은 상기 함수 발생기(13, 14)의 하류(downstream)에 배치된 필터 수단(15, 16)을 포함하는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 신호 발생 구성(10, 11)은 각각의 상기 구동 신호(C, D)를 발생하는 비교기(17, 18)를 포함하는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 신호 발생 구성(10, 11)을 구동하기 위해 프로세서(12)가 제공되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 신호 발생 구성(10, 11) 및 프로세서(12) 중 하나 이상에 접속된, 클럭 신호를 발생하기 위한 발진기(19)가 제공되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 하나 이상의 인터페이스(20)가 제공되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 있어서, 프로그래머블 로직 컴포넌트가 제공되는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제13항 또는 제14항에 기재된 RF 발생기 구동 수단(2)에 의해 구동되는 2개 이상의 RF 발생기(3, 4)를 포함하는 RF 플라즈마 여기 장치(1).
제5항에 있어서, 상기 프로그래머블 로직 컴포넌트는 FPGA 또는 프로세서인 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제6항에 있어서, 상기 기간은 1ms 내지 2s 사이인 것인, 구동 신호 발생 방법.
제6항에 있어서, 상기 기간은 100 ms 내지 1s 사이인 것인, 구동 신호 발생 방법.
제7항에 있어서, 상기 위상 위치 변경의 속도는 %/s 로 조절되는 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제9항에 있어서, 상기 미리 결정된 이벤트는 플라즈마 공정에서 아크의 검출인 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제10항에 있어서, 상기 미리 결정된 이벤트는 플라즈마 공정에서 아크의 검출인 것을 특징으로 하는, 구동 신호 발생 방법.
제13항에 있어서, 상기 함수 발생기(13,14)는 디지털 함수 발생기를 포함하는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.
제28항에 있어서, 상기 디지털 함수 발생기는 디지털 사인 발생기인 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단
제19항에 있어서, 상기 하나 이상의 인터페이스(20)는 시리얼 인터페이스 및 사용자 인터페이스 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는, RF 발생기 구동 수단.