KR100834455B1 - 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판, 릴리프 인쇄판의 제조방법및 이를 수행하기 위한 차광성 잉크 - Google Patents

릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판, 릴리프 인쇄판의 제조방법및 이를 수행하기 위한 차광성 잉크 Download PDF

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Abstract

본 발명은 공지 기술인 네거티브 필름 또는 그 대체기술들의 문제점들 및 감광성 수지층의 표면에 잉크 조성물로 직접 마스크 패턴을 형성한 것의 문제점들을 모두 해결해주는 릴리프 인쇄용 인쇄원판뿐만 아니라, 이를 이용한 릴리프 인쇄판의 제조방법을 제공한다. 본 발명은 지지기판(A); 그 위에 제공되며 소정의 파장대의 빛에 대하여 감광성을 가지는 감광성 수지층(B); 그 위에 제공되는 잉크 함유층(C)을 포함하는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판을 채택하고 있으며, 상기 층(C)은 차광성 잉크를 함유할 수 있고, 그 내부에 차광 패턴을 구성할 수 있으며, 상기 차광 패턴은 차광성 잉크를 패턴에 따라 상기 층(C)에 제공함으로써 형성되고, 상기 층(C)의 차광성 잉크가 제공되지 않은 부분은 상기 소정 파장대의 빛에 대하여 실질적으로 투과성이다.
릴리프 인쇄, 인쇄원판, 차광성 잉크, 릴리프 인쇄판, 플렉소 인쇄판

Description

릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판, 릴리프 인쇄판의 제조방법 및 이를 수행하기 위한 차광성 잉크{PHOTOSENSITIVE ORIGINAL PRINTING PLATE FOR RELIEF PRINTING, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PRINTING PLATE, AND LIGHT-SHIELDING INK FOR PERFORMING THE METHOD}
본 발명은 플렉소 인쇄판(flexographic plate)과 같은 릴리프 인쇄판을 형성하기 위한 감광성 원판(original plate) 및 릴리프 인쇄판을 제조하기 위한 방법뿐만 아니라 상기 제작법을 수행하기 위한 차광성 잉크에 관한 것이다.
널리 알려진 바와 같이, 최근 플렉소 인쇄판에 감광성 수지가 사용되어 왔고, 이러한 감광성 수지는 일반적으로 엘라스토머성 바인더(elastomeric binder), 적어도 하나의 모노머(monomer) 및 광중합반응 개시제로 구성된다. 이러한 감광성 수지를 이용한 인쇄원판은 지지기판상에 감광성 수지층이 제공된다.
이러한 인쇄원판(印刷原板)을 사용한 플렉소 인쇄판의 생산에 있어서는 우선 인쇄될 문구 및 그림과 같은 이미지의 네거티브 패턴(negative pattern)을 가진 필름(마스크)이 이러한 인쇄원판의 감광성 수지층 위에 놓여지고, 감광성 수지는 이 마스크를 통해 화학선(chemical ray)에 노출된다. 화학선에 노출된 부분은 광중합반응의 결과로 경화된다. 그리하여 경화되지 않은 부분은 현상액으로 씻겨나가고, 상기 이미지에 따른 릴리프 패턴(relief pattern)이 남게된다. 그 결과, 플렉소 인쇄판이 제작된다. 플렉소 인쇄술에 있어, 잉크가 릴리프 패턴 위에 칠해지고 인쇄를 수행하기 위해 종이와 같은 인쇄물에 압착된다.
네거티브 마스크로 쓰이는 네거티브 필름은 통상적으로 사용되는 사진술, 즉, 염화은을 사용한 광화학기술에 의해 제작되고, 따라서 제작비용이 비싸고 그 공정들이 복잡하다. 사진술의 필름을 대신하여 더 간단하고 저렴하게 제작될 수 있는 네거티브 마스크가 특허문헌 1(JP-P-2003-330158A)에 제공되었다. 이러한 네거티브 마스크는 다음 공정에 따라 제작된다: 잉크흡수층이라 할 수 있는 잉크를 머금기 위한 층이 폴리에스테르와 같은 투명한 지지기판 위에 제공되고, 이 잉크 흡수층 상에 자외선 흡수성 잉크와 잉크젯 프린터를 이용해 네거티브 패턴을 인쇄한다.
이러한 네거티브 패턴은 간단하고 저렴하게 제작될 수 있고, 종래의 네거티브 필름의 대안으로서 충분히 사용될 수 있다. 하지만, 이러한 네거티브 마스크도 역시 종래의 네거티브 필름과 같이 개선되어야할 유사한 문제점들을 갖고 있는바, 다음과 같다:
(i) 네거티브 마스크가 플라스틱 필름으로 구성되기 때문에 온도 및 습도의 변화에 따라 네거티브 마스크의 크기가 쉽게 변형될 수 있다. 그리하여, 동일한 네거티브 마스크가 사용되는 경우라도 노광(露光) 및 감광성 수지의 현상을 포함하는 각각의 패턴 형성 공정에서 공정을 수행하는 시간 및 주위 환경에 따라 정밀도가 다른 인쇄판 제품들이 생산되게 된다.
(ii) 패턴 형성 단계에서, 빛의 입사를 방해하는 먼지와 같은 물질이 네거티브 마스크와 감광성 수지 사이에 끼어드는 경향이 있다. 이러한 물질이 끼어들게 되면 노광 및 현상 후에 얻어지는 패턴 이미지가 왜곡될 수 있고, 이는 인쇄판의 인쇄품질에 오점이 될 수 있다.
이러한 문제점들을 해결하기 위하여 특허문헌 2 및 3(JP-P-H5-11445A 및 JP-P-H10-10709A)에는 UV흡수 잉크조성물을 이용하여 잉크젯 프린터나 레이저 프린터와 같은 인쇄기기를 통해 감광성 수지층의 표면에 직접 인쇄하여 네거티브 패턴을 인쇄하는 것이 개시되어 있다.
특허문헌 2 및 3에 개시된 릴리프 인쇄용 원판은 감광성 수지의 표면 위에 인쇄기기를 통해 직접 인쇄되는 잉크 조성물의 인쇄패턴을 가지고 있다. 상기 인쇄패턴은 감광성 수지층의 노출 패턴용 마스크로 사용된다. 그 결과, 종래 또는 대안의 네거티브 필름 마스크에 따른 문제점들이 극복될 수 있다.
하지만, 잉크조성물이 감광성 수지층의 표면에 직접 인쇄되기 때문에 이 방법은 인쇄영역에, 잉크의 흘림 또는 튐 등 또다른 문제를 야기시키는데, 이는 인쇄패턴을 망친다.
상기 방법으로, 감광성 수지층이 대기중에 노출되고, 층의 형성, 노광 및 현상의 공정들에 걸쳐 부분적으로 잉크 조성물로 덮여진다. 잉크 조성물은 산소를 충분히 차단할 목적으로 제작된 것이 아니어서, 잉크 조성물로 덮이지 않은 노출된 부분은 대기중에 함유된 산소에 직접 접촉하게 된다. 산소가 노광 및 현상도중 감광성 수지에 직접 접촉하게 되면 노광 및 현상에 결함이 발생한다. 즉, 노광 감도 가 떨어지게 되고, 현상 후 패턴 외관의 저해상도를 야기한다.
본 발명의 목적은 종래 또는 대안의 네거티브 필름에 의한 문제점뿐만 아니라 마스크 패턴을 형성하기 위해 감광성 수지 표면에 잉크를 직접 도포하는 것에 따른 기타 문제점들까지 해결할 수 있는 릴리프 인쇄용 원판을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 릴리프 인쇄용 원판을 사용하여 릴리프 인쇄판을 제작하는 방법을 제공하는 것이다.
전술한 문제점들을 해결하기 위해 본 발명에 따른 릴리프 인쇄용 원판은 지지기판(A); 상기 지지기판(A) 위에 제공되며 소정의 파장대에서 감광성인 감광성 수지층(B); 상기 감광성 수지층(B) 위에 제공되며 차광성 잉크를 함유하고, 층 내부에 차광 패턴을 구성할 수 있으며, 상기 차광 패턴은 차광성 잉크를 상기 패턴에 따라 도포함으로써 형성되는 잉크 함유층(C)을 포함하며, 상기 차광성 잉크가 도포되지 않은 영역에서 상기 잉크 함유층(C)은 실질적으로 상기 소정의 파장대의 상기 빛에 대해 투명하다.
본 발명에 따른 릴리프 인쇄판 제작법은 릴리프 인쇄용 원판으로서 감광성 박판을 제공하는 것을 특징으로 하고 있으며, 상기 박판은 지지기판(A), 소정의 파장대의 빛에 대하여 감광성인 감광성 수지층(B), 상기 감광성 수지층(B) 위에 제공되는 잉크 함유층(C)을 가지며; 상기 잉크 함유층(C) 위에 차광성 잉크를 도포하고, 상기 차광성 잉크는 상기 잉크 함유층(C) 내에서 소정의 파장대의 빛을 흡수하는 특성을 보이며, 릴리프 인쇄용 이미지 패턴에 따라 차광 패턴을 형성하여 이러한 패턴 형성의 결과로 상기 이미지 패턴에 상응하는 부분은 상기 소정의 파장대의 빛을 차단하는 마스크 이미지 층으로 변화되며; 상기 마스크 이미지 층을 마스크로 사용하여 상기 소정 파장대의 상기 빛을 상기 감광성 수지층(B)에 조사하고; 현상 용액을 이용하여 상기 소정 파장대의 상기 빛이 조사되지 않음으로써 경화되지 않은 채로 남은 상기 감광성 수지의 비조사 영역을 제거하여 상기 인쇄용 지지기판 위에 볼록한 패턴을 가지는 수지층을 형성한다.
본 발명에 따른 릴리프 인쇄판을 제작하기 위한 차광성 잉크는 본 발명의 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 채용된 잉크이며, 수용성 염료를 포함하는데, 상기 수용성 염료의 수용액은 300내지 450 nm 파장 영역의 빛을 흡수한다.
전술한 특징에 따라, 차광성 잉크는 흘림 또는 잉크의 튐 없이 감광성 수지층의 표면에 형성된 잉크 함유층 내에 함유될 수 있고 따라서 명확한 가장자리를 가지는 집적된 마스크 패턴이 감광성 수지층 위에 형성될 수 있다. 잉크함유층은 감광성 수지 위에서 산소에 의한 감광성 저하 효과를 방지할 수 있고, 추가로 감광성 수지 표면으로의 산소 전달 속도(산소 투과 계수: oxygen permeation coefficient)를 적절하게 조절할 수도 있다. 이러한 특성으로 노광(exposure)/현상(developement)에 의해 얻어진 감광성 수지층은 소정 형상의 패턴으로 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 릴리프 인쇄용 원판의 구성요건들은 다음의 플렉소 인쇄원판의 실시예들을 참조하여 구체적으로 설명될 것이다.
[지지기판층(A)]
본 발명에 따른 릴리프 인쇄용 원판을 구성하는 플렉소 인쇄원판은 플렉소 인쇄의 인쇄조건이 요구하는 기계적 강도와 같은 물리적 성능을 충족하는 어떠한 기판도 될 수 있으며, 그 예로는 금속류, 플라스틱 필름류, 종이류 및 이들의 혼합물 등과 같은 통상의 플렉소 인쇄용 기판으로 널리 공지된 것은 어느 것이나 될 수 있다. 이들은 첨가 중합체와 선형 축합중합체로부터 형성된 중합체 필름류, 투명한 발포체류 및 섬유류, 유리섬유와 같은 비직조 섬유류 및 강철(steel)과 알루미늄 같은 금속류를 포함한다. 지지기판은 바람직하게는 비-적외선에 투명하여 뒷면 노광(back exposure)이 유용하다. 더욱 바람직한 지지기판은 폴리에틸렌 또는 폴리에스테르 필름을 포함할 수 있으며, 구체적으로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate) 필름이 바람직하다. 상기 필름으로서, 두께가 50 내지 300㎛인 필름, 바람직하게는 75 내지 200㎛인 필름이 사용된다. 이러한 지지기판층은 필요하다면 지지기판과 감광성 수지층 사이에 얇은 접착성 촉진층으로 덮는다. 예를 들면, 이러한 접착성 촉진층은 폴리카보네이트, 페녹시 수지 및 다원자가 이소시아네이트(polyvalent isocyanate)의 혼합물이 사용된다.
[감광성 수지층(B)]
본 발명의 플렉소 인쇄용 원판에 사용되는 감광성 수지는 엘라스토머성 바인더, 한 종류 이상의 모노머들 및 광중합반응 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물로부터 형성되며, 플렉소 인쇄에 적합한 모든 감광성 수지 조성물들이 일반적으로 쓰일 수 있다. 엘라스토머성 바인더의 예에는 단일중합체, 공중합체 및 이들의 혼합물과 같은 중합체류가 포함되며, 현상액, 수용액 및 유기 용액에 녹거나 분산되거나 부풀려지고, 씻겨나갈 수 있다. 상기 바인더들의 예로는 폴리부타디엔, 폴리이소프렌(polyisoprene), 폴리디올레핀(polydiolefin), 비닐 방향성 화합물/디올레핀의 공중합체 및 블럭 공중합체(block copolymer), 스티렌/부타디엔의 공중합체, 스티렌/이소프렌의 공중합체, 디올레핀/아크릴로니트릴의 공중합체, 에틸렌/프로필렌의 공중합체, 에틸렌/프로필렌/디올레핀의 공중합체, 에틸렌/아크릴산(acrylic acid)의 공중합체, 디올레핀/아크릴산의 공중합체, 디올레핀/아크릴레이트/아크릴산의 공중합체, 에틸렌/(메타)크릴산/(메타)크릴레이트의 공중합체, 폴리아마이드, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 알코올/폴리에틸렌 글리콜의 공중합체의 조직, 양쪽성 이합-고분자(inter-polymer), 알킬 셀룰로오스, 하이드록시알킬 셀룰로오스 및 니트로 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스류, 에틸렌/비닐 아세테이트의 공중합체, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트(butyrate), 폴리부티랄(polybutyral), 고리형 고무(cyclic rubber), 스티렌/아크릴산의 공중합체, 폴리비닐 피롤리돈(pyrrolidone), 폴리비닐 피롤리돈과 비닐 아세테이트의 공중합체, 클로로프렌(chloroprene) 중합체, 스티렌-클로로프렌의 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔의 공중합체, 아크릴로니트릴-이소프렌의 공중합체, 아크릴로니트릴-클로로프렌의 공중합체, 메틸 메타크릴레이트-부타디엔의 공중합체, 메틸 메타크릴레이트-이소프렌의 공중합체, 메틸 메타크릴레이트-클로로프렌의 공중합체, 메틸 아크릴레이트-부타디엔의 공중합체, 메틸 아크릴레이트-이소프렌의 공중합체, 메틸 아크릴레이트-클로로프렌의 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌의 공중합체, 아크릴로니트릴-이소프렌-스티렌의 공중합체, 아크릴로니트릴-클로로프렌-스티렌의 공중합체, 에피클로로하이드린(epichlorohydrin) 공중합체, 에피클로로하이드린-에틸렌 산화물의 공중합체, 에피클로로하이드린-프로필렌 산화물의 공중합체, 에피클로로하이드린 고무, 염화 폴리에틸렌, 염화비닐 공중합체, 비닐리덴 클로라이드 공중합체, 염화 폴리프로필렌, 염화에틸렌-프로필렌 고무, 에틸 아크릴레이트-아크릴로니트릴의 공중합체, 부틸 아크릴레이트-아크릴로니트릴의 공중합체, 메틸 메타크릴레이트-아크릴로니트릴의 공중합체, 부틸 아크릴레이트-스티렌-아크릴로니트릴의 공중합체가 포함될 수 있다. 상기 중합체들은 단독으로 또는 조합하여 사용된다. 바인더의 추가적인 예로는 수성 현상액에 가용성 혹은 분산성이고 미국특허 3,458,311, 4,442,302, 4,361,640, 3,794,494, 4,117,074, 4,431,723 및 4,517,279호에 기재된 수지들 및 유기용매의 현상액에 가용성, 팽창성 또는 분산성이고 미국특허 4,323,636, 4,430,417 및 4,045,231호에 기재된 수지들이 또한 포함될 수 있다.
본 발명에 쓰인 감광성 수지층에 포함된 한 종류 이상의 모노머들은 흐릿함이 없는 투명한 감광성 수지층을 형성할 수 있도록 바인더와 친화적일 것이 요구된다.
모노머들의 예로는 α-메틸스티렌, m-메틸스티렌 및 p-메톡시스티렌 등의 방향성 비닐 모노머류; 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴 등의 α,β-에틸렌성 불포화 니트릴 화합물; 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 프로필 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트 및 상응하는 메타크릴레이트류와 같은 1 내지 23개의 탄소를 가지는 알킬 알코올류의 아크릴레이트류; 2-하이드록시에틸 아크릴레이트 및 2-하이드록시프로필 아크릴레이트 및 상응하는 메타크릴레이트류 등의 하이드록시알킬 알코올류의 아크릴레이트류; 메톡시 에틸렌 글리콜 및 메톡시 프로필렌 글리콜 등의 알콕시 알킬렌 글리콜류의 아크릴레이트류 및 메타크릴레이트류;모노에틸 말레인산(maleate), 모노메틸 푸마레이트(fumarate) 및 모노에틸 이타코네이트(itaconate)등의 불포화 다원자가 카복시산의 모노에스테르류; 디메틸 말레인산, 디에틸 말레인산, 디부틸 말레인산, 디옥틸 말레인산, 디에틸 푸마레이트, 디부틸 푸마레이트, 디옥틸 푸마레이트, 디메틸 이타코네이트, 디에틸 이타코네이트, 디부틸 이타코네이트 및 디옥틸 이타코네이트 등의 디에스테르류; 아크릴아마이드, 메타크릴아마이드, N,N'-메틸렌비스아크릴아마이드 및 N,N'-헥사메틸렌비스아크릴아마이드 및 상응하는 메타크릴아마이드류 등의 아크릴아마이드류; 폴리알킬렌 글리콜의 디아크릴레이트(2 내지 23개의 알킬렌 글리콜 유닛을 가지는) 및 상응하는 메타크릴레이트류 등의 글리콜류의 디아크릴레이트류 및 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트; 글리세린, 펜타에리스리톨(pentaerythritol), 트리메틸올 알칸 및 테트라메틸올 알칸(알칸: 메탄, 에탄 및 프로판) 및 상응하는 메타크릴레이트류 등의 3가 또는 그 이상의 다가 알코올류의 디아크릴레이트류, 트리아크릴레이트류, 테트라아크릴레이트류 및 올리고 아크릴레이트류; 2-아크릴로일옥시에틸 숙시네이트(2-acryloyloxyethyl succinate), 2-아크릴로일옥시에틸 헥사하이드로프탈레이트(2-acryloyloxyethyl hexahydrophthlate) 및 2-아크릴로일옥시에틸산 포스페이트(2-acryloyloxyethyl acid phosphate) 및 상응하는 메타크릴레이트류 등의 산 작용기를 가지는 아크릴레이트류; 및 이와 유사한 것들이 포함된다. 이러한 광중합성 에틸렌성 불포화 모노머들은 단독으로 또는 둘 이상 조합하여 사용될 수 있다. 상기 모노머들의 추가적인 예들은 미국특허 4,323,636, 4,753,865, 4,726,877 및 4,894,315 등에 개시된 모노머들에 포함된다.
감광성 수지층은 감광성 수지층 내의 바인더 100중량부에 대해 5 내지 30중량부, 바람직하게는 10 내지 20중량부의 모노머들을 함유한다. 플렉소 인쇄판에 전술한 범위보다 적은 양의 모노머는 비-자외선의 조사에 대한 노출로 경화된 후 코팅 필름의 내마모성 및 내화학성이 저하될 수 있기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 플렉소 인쇄판에 전술한 범위보다 많은 양의 모노머는 감광성 수지층의 엘라스토머성 특성이 저하될 수 있기 때문에 바람직하지 않다.
광중합반응 개시제로서, 공지의 어떤 개시제도 사용될 수 있다. 이러한 광중합반응 개시제의 예로는 벤조페논 등의 방향성 케톤류; 벤조인 메틸 에테르(benzoin methyl ether), 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 프로필 에테르, α-메틸올벤조인 메틸 에테르, α-메톡시벤조인 메틸 에테르 및 2,2-디에톡시페닐 아세토페논 등과 같은 벤조인 에테르류; 치환된 및 치환되지 않은 폴리뉴클리어(polynuclear) 퀴논류; 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온(2-methyl-1-[4-(methylthio) phenyl]-2-molpholinopropane-1-one), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butane-1-one), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2,4,6-트리에틸벤조일디페닐포스핀 산화물, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2,4-디에틸티오크산톤(2,4-diethylthioxanthone), 2-클로로티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤조페논, 1-클로로-4-프로폭시크산톤, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-벤조일-4'-메틸디메틸설파이드, 4-디메틸아미노벤조산, 메틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 에틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 부틸 4-디메틸아미노벤조에이트, 2-에틸헥실 4-디메틸아미노벤조에이트, 2-이소아밀 4-디메틸아미노벤조에이트, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈(benzyldimethylketal), 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 메틸 o-벤조일벤조에이트, 비스(4-디메틸아미노페닐) 케톤, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 벤질(benzyl), 벤조인, 벤조인 n-부틸 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 이합체, 티오크산톤(thioxanthone), 2-메틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 디벤조스베론(dibenzosuberone), α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘(9-phenylacridine), 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판 및 이와 유사한 것들이 포함된다. 상기 개시제들의 추가적인 예들은 미국특허 4,460,675 및 4,894,315에 개시된 것들이 될 수 있다. 개시제들은 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있다.
개시제는 감광성 수지의 총 중량에 대해 0.001 내지 10중량% 함유하는 게 바람직하다.
나아가, 감광제(sensitizer), 열 중합반응 개시제, 가소제(plasticizer) 및 착색제 등의 첨가제가 요구되는 특성에 따라 감광성 수지층을 구성하는 감광성 수지 조성물에 사용될 수 있다. 상기 감광성 수지 조성물을 제조하는 방법으로서 다양한 방법들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 클로로포름 및 테트라클로로에틸렌 등의 탄화수소류, 디부틸 에테르, 이소프로필 에테르, 디옥산(dioxane) 및 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran) 등의 에테르류, 아세톤, 디에틸케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸프로필케톤 및 사이클로헥사논 등의 케톤류, 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트 및 n-부틸 아세테이트 등의 에스테르류 및 벤젠, 톨루엔 및 크실렌(이러한 유기용매들은 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있다) 등의 방향성 탄화수소류와 같은 적절한 용매 내에서 용해되고 혼합될 수 있으며, 용액은 주형 내에 부어져 펼쳐질 수 있다. 상기 용매를 증발시키면 판상이 얻어진다. 선택적으로 상기 용매를 사용하지 않고, 상기 구성성분들은 반죽기 또는 롤밀(roll mill) 내에서 반죽되어 압출기, 분사 주조기 또는 프레스 장치(press machine)에 의해 소정의 두께를 가지는 판으로 주조될 수도 있다.
본 발명에 사용된 잉크 함유층(C)은 감광성 수지층(B) 위에 직접 얇게 입혀져 기능하는 코팅층이다. 그러므로, 감광성 수지층(B)과 친화적이거나 반응하지 않는 성분들로 구성될 것이 요구된다.
상기 잉크 함유층(C)은 적어도 두가지 특성들, 즉, 잉크의 흘림이나 튐 없이 이미지패턴에 따라 차광 패턴을 형성하는 잉크를 머금는 기능 및 산소의 투과를 막아 산소가 감광성 수지층과 불필요하게 반응하지 못하도록 하는 기능을 가진다.
잉크를 흘림이나 튐 없이 함유하기 위한 하나의 요건으로서 적절한 두께를 가지는 것이 중요하다. 두께는 바람직하게는 0.5 내지 15㎛, 더욱 바람직하게는 1 내지 10㎛로 한다. 두께가 0.5㎛ 이하이면 함유된 잉크의 양이 차광 효과를 발휘하기에 충분하지 못하므로 바람직하지 않다. 두께가 15㎛를 넘으면 차광 효과가 충분하다 하더라도 노광 후 현상과정에서 이들의 제거가 어려우므로 역시 바람직하지 않다.
잉크 함유층(C)의 바람직한 구성은 잉크 함유능력을 가지고, 수용성 용매 또는 수용성 유기용매에 용해, 분산, 팽창 가능한 것이 적절하다. 이러한 수용성 수지의 예로는 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 하이드록시에틸메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시부틸메틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 소듐 카복시메틸셀룰로오스, 소듐 카복시메틸하이드록시에틸셀룰로오스, 수용성 에틸하이드록시에틸셀룰로오스, 셀룰로오스 설페이트, 폴리비닐 알코올, 비닐 알코올의 공중합체, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리아크릴아마이드, 아크릴아마이드/아크릴 산의 공중합체, 스티렌/아크릴 산의 공중합체, 에틸렌-비닐아세테이트의 공중합체, 비닐 메틸 에테르/말레산의 공중합체, 폴리(2-아크릴아마이드-2-메틸프로판술폰산), 폴리(디에틸렌트리아민-아디프산 공중합체), 폴리비닐 피리딘, 폴리비닐 이미다졸, 폴리에틸렌 산화물, 폴리우레탄, 멜라민 수지, 젤라틴, 카라기난(카라기닌), 덱스트란, 아라비아고무, 카세인(casein), 펙틴, 알부민, 스타치(starch), 콜라겐 유도체, 콜로디온 및 아가(agar) 등이 포함된다. 이들 가운데, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리아크릴아마이드 폴리우레탄 및 폴리비닐 알코올 등의 폴리비닐 아세탈이 바람직하다.
본 발명의 잉크 함유층(C)의 산소 투과 계수는 감광성 수지층(B)의 패턴 외관이 산소에 의해 손상되는 것을 피하기만 하면 특히 제한되지 않는다. 이러한 산소 투과 계수의 적절한 범위는 1×10-17 내지 9×10-5(cm3·cm/cm2·sec·cmHg) 이다. 산소 투과 계수는 산소의 투과를 거의 차단할 정도로 낮아질 수 있는데, 소량의 산소가 투과되도록 산소 투과 계수를 조절함으로써 노광/현상에 의한 감광성 수지층의 패턴 외관을 제어하는 것이 가능하다. 예를 들면, 1×10-14 내지 9×10-10(cm3·cm/cm2·sec·cmHg) 에 설정된 산소 투과 계수는 감광성 수지층(B)이 빛에 노출될 때 감광성 수지층(B) 위에 소량의 산소가 존재하도록 한다. 그 결과, 노광/현상 후의 감광성 수지층(B)의 패턴 외관이 점점 가늘어지며, 인쇄시에 점이 되는 패턴의 정점이 뾰족하게 된다. 결과적으로, 인쇄면(잉크가 묻는 영역) 위의 패턴 정점 영역은 감소되고, 그리하여 인쇄물의 선명함이 향상된다.
잉크 함유층을 형성하는 수지 조성물의 바람직한 제조에서, 층을 형성하는 성분들이 유기 용매에 용해될 수 있고, 용액이 감광성 수지층에 도포될 수 있다. 유기용매의 잇따른 증발은 마스킹 물질층을 제공하게 된다. 유기용매의 예로는, 디부틸 에테르, 이소프로필 에테르, 디옥산(dioxane) 및 테트라하이드로퓨란 등과 같은 에테르류, 아세톤, 디에틸케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸프로필케톤 및 사이클로헥사논 등과 같은 케톤류, 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트 및 n-부틸 아세테이트 등과 같은 에스테르류, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등과 같은 방향성 탄화수소류 및 이와 유사한 것들이 포함된다. 이러한 유기 용매들은 단독으로 또는 조합하여 사용될 수 있다.
본 발명의 플렉소 인쇄원판에는 잉크 함유층(C) 위에 이 층(C)을 보호하기 위한 커버 시트가 제공될 수 있다. 커버 시트는 공지되고 플렉소 인쇄판에 일반적으로 사용되는 금속류, 플라스틱 필름류, 종이류 및 이들의 혼합물 형태 중 어떤 것도 될 수 있다. 이들은 첨가중합체, 선형 축합중합체에 의해 형성되는 중합체 필름류, 투명한 발포체류 및 섬유류, 유리섬유와 같은 비직조 섬유류 및 강철과 알루미늄 같은 금속류를 포함한다. 바람직하게는, 폴리에틸렌 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌 필름 또는 이들의 박판이 사용된다. 필름이 이러한 커버 시트로서 적절하며, 그 두께는 20 내지 200㎛이다. 커버 시트는 박리층이 커버 시트와 마스킹 물질층 사이에 위치하도록 박리층으로 코팅될 수 있다.
본 발명의 잉크 함유층(C) 내에서 잉크 인쇄 패턴을 형성하기에 적합한 차광성 잉크는 감광성 수지층(B)의 패턴 형성 중에 빛의 투과가 차단되도록 노출된 빛을 흡수하는 능력을 가지고, 잉크 함유층(C)에 바람직하게 고정될 수만 있다면 특별히 제한을 받지 않는다. 적당한 특정 실시예로는 300 내지 450nm 파장대의 빛에 대하여 높은 흡수를 보이는 수용성 염료를 함유하는 잉크가 포함된다.
수용성 염료는 물속에 있을 때 300 내지 450nm의 흡수스펙트럼에서 강한 흡수를 보이고 물에 대해 통상 5중량%, 바람직하게는 7중량%의 용해도를 가지는 것들 중에서 적절하게 선택될 수 있다. 이러한 염료들의 구체적인 사례로는 수용성 구리 프탈로시아닌(phthalocyanine) 염료, 황색염료(yellow dye), 갈색염료 및 이와 유사한 것들이 포함되며, 이러한 수용성 염료들은 둘 이상이 조합되어 사용될 수 있다.
수용성 구리 프탈로시아닌 염료의 예로는 C.I.다이렉트 블루 86, 87, 199, C.I.애시드 블루249를 포함할 수 있으며, C.I.다이렉트 블루 86과 199가 바람직하다.
수용성 황색염료의 예로는 C.I.애시드 옐로우 17, 19, 23, 25, 39, 40, 42, 44, 49, 50, 61, 64, 76, 79, 110, 127, 135, 143, 151, 159, 169, 174, 190, 195, 196, 197, 199, 218, 219, 220, 227, C.I.다이렉트 옐로우 1, 8, 11, 12, 24, 26, 27, 33, 39, 44, 50, 58, 85, 86, 87, 88, 89, 98, 110, 132, 142, 144 등이 포함될 수 있으며, 다이렉트 옐로우 132와 142가 바람직하다.
갈색염료의 예로는 C.I.다이렉트 브라운 1, 2, 6, 25, 27, 33, 37, 39, 59, 60, 62, 95, 99, 100, 104, 106, 112, 113, 115, 167, 169, 175, 195, 210 등이 포함될 수 있으며, C.I.다이렉트 브라운 195가 바람직하다.
수용성 구리 프탈로시아닌 염료는 보통 550 내지 650nm와 300 내지 400nm에서 최대 흡수를 보이며, 수용성 황색염료 또는 갈색염료는 보통 350 내지 450nm에서 최대 흡수를 보인다.
본 발명의 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 사용 가능한 광원의 파장은 보통 300 내지 400nm이다. 그리하여, 조사된 빛을 효과적으로 흡수하고 차단하기 위해 수용성 구리 프탈로시아닌 염료와 수용성 황색염료 및/또는 갈색 염료를 조합하는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 차광성 잉크는 수용성 염료를 함유하고, 물을 매개체로 하여 제작된다. 바람직하게는 수용성 염료 내의 Cl- 및 SO4 2 -와 같은 음이온의 함량은 낮다. 대략적인 표준함량은 수용성 구리 프탈로시아닌 염료 내의 Cl- 및 SO4 2 - 의 총 함량에 대해 5중량% 이하, 바람직하게는 3중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1중량% 이하이며, 잉크 내에서는 1중량% 이하이다. 소량의 Cl- 및 SO4 2 -를 함유하는 수용성 염료를 생산하기 위해 수용성 염료의 건조된 제품 또는 젖은 상태의 덩어리에 역삼투막을 이용하는 통상의 방법이나 물과 알코올의 혼합용매 내에서 저어주고 거른다음 건조시킴으로써 탈염처리가 가해진다. 사용되는 알코올은 탄소수가 1 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 메탄올, 에탄올 또는 2-프로판올의 저급 알코올이다. 알코올의 탈염 처리에는 사용된 알코올의 끓는점에 가까운 온도로 가열한 후 냉각시키는 탈염 방법이 또한 채택될 수 있다. Cl- 및 SO4 2 -의 함량은 예를 들면 이온 크로마토그래피법으로 측정될 수 있다.
본 발명에 사용된 차광성 잉크는 바람직하게는 사용된 수용성 염료 내에 아연 및 철과 같은 중금속(이온)류와 칼슘 및 실리카와 같은 금속(양이온)류의 함량(염료 구조의 골격에 포함된 금속, 예를 들면 프탈로시아닌 골격에 포함된 구리 등은 제외)이 낮다. 정제/건조된 염료 제품 내의 아연 및 철과 같은 중금속(이온)류와 칼슘 및 실리카와 같은 금속(양이온)류의 대략적인 표준 함량은 각각 500ppm 이하이다. 중금속(이온)류 및 금속(양이온)류의 함량은 이온크로마토그래피법, 원자흡수법(atomic absorbance) 또는 유도결합 플라스마 발광 분석법(inductively coupled plasma emission analysis)에 의해 측정된다.
차광성 잉크 내에 수용성 염료는 5 내지 20중량%, 바람직하게는 5 내지 15중량% 함유된다.
본 발명에 사용된 차광성 잉크는 물을 매체로 하여 제작된다. 상기 방법으로 얻어진 전술한 특성을 지닌 수용성 염료는 상기 차광성 잉크 내에 5 내지 20중량% 포함된다. 수용성 유기용매는 필요하다면 차광성 잉크에서 본 발명의 효과가 저하되지 않는 범위에서 더 포함된다. 상기 수용성 유기용매는 염료 용해제, 건조방지제(습윤제), 점도 조절제, 투과 촉진제, 표면장력 조절제 및 소포제로서 사용된다. 이에 더하여, 잉크 제조용 제제의 예로는 방부제/항균제, pH 조절제, 킬레이트제, 부식방지제, 자외선 흡수제, 점도 조절제, 염료 용해제, 표면장력 조절제, 소포제 및 분산제와 같은 널리 공지된 첨가제들이 포함될 수 있다. 이러한 수용성 유기용매의 함량은 잉크 전체에 대해 0 내지 60중량%, 바람직하게는 10 내지 50중량%이며, 잉크 제조용 제제는 잉크 전체에 대해 0 내지 25중량%, 바람직하게는 0 내지 20중량% 사용된다. 전술한 성분 이외에 남은 부분은 물이다.
차광성 잉크에 사용되는 수용성 유기용매의 예로는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, 이차 및 삼차 부탄올과 같은 탄소수 1 내지 4개인 알칸올; N,N'-디메틸포름아마이드 또는 N,N'-디메틸아세토아마이드와 같은 카복시산 아마이드; 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈, 1,3-디메틸이미다졸리진-2-온(1,3-dimethylimidazolizine-2-one) 또는 1,3-디메틸헥사하이드로피리미도-2-온(1,3-dimethylhexahydropyrimido-2-one)과 같은 헤테로고리형 케톤; 아세톤, 메틸에틸케톤 또는 2-메틸-2-하이드록시펜탄-4-온과 같은 케톤 또는 케토알코올; 테트라하이드로퓨란 또는 디옥산과 같은 고리형 에테르; 에틸렌 글리콜, 1,2- 또는1,3-프로필렌 글리콜, 1,2- 또는 1,4-부틸렌 글리콜, 1,6-헥실렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 티오디글리콜, 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜과 같은 (C2 내지 C6)알킬렌 유닛 또는 올리고머를 지닌 모노머, 폴리알킬렌 글리콜 또는 이들의 티오글리콜; 글리세린 및 헥산-1,2,6-트리올과 같은 폴리올(트리올); 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 또는 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 또는 트리에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 또는 트리에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르와 같은 다원자가 알코올의 (C1 내지 C4)알킬 에테르; γ-부티롤락톤; 또는 디메틸 설폭사이드 및 이와 유사한 것들이 포함된다.
차광성 잉크에 사용되는 바람직한 수용성 유기용매로는 탄소수 3 내지 8개인 1가 또는 다원자가 알코올 및 탄소수 1 내지 3개인 알킬 치환체를 가지는 2-피롤리돈 및 2 내지 3개의 수산기를 가지는 다원자가 알코올이 바람직하다. 특히, 이소프로판올, 글리세린, 모노-, 디- 또는 트리 에틸렌 글리콜, 모노-, 디- 또는 트리 프로필렌 글리콜, 평균 분자량이 200 내지 1000인 폴리에틸렌 글리콜, 평균 분자량이 200 내지 700인 폴리프로필렌 글리콜, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈 또는 부탄올 등이 쓰인다. 더욱 바람직하게는, 이소프로판올, 글리세린, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 평균 분자량이 200 내지 600인 폴리에틸렌 글리콜, 평균 분자량이 200 내지 400인 폴리프로필렌 글리콜 또는 2-피롤리돈이 사용된다. 이러한 수용성 유기용매들은 단독으로 또는 혼합하여 사용된다.
방부제/항균제의 예로는 유기황, 유기질소황, 유기할로겐, 할로알릴설폰(haloallylsulfone), 요오드 프로파길(propargyl), N-할로알킬티오, 나이트릴, 피리딘, 8-옥시퀴놀린, 벤조티아졸, 이소티아졸린, 디티올(dithiol), 피리딘 옥사이드, 나이트로프로판, 유기주석, 페놀, 4차 암모늄염, 트리아진(trizine), 티아디아진(thiadiazine), 아닐리드(anilide), 아다만탄(adamantane), 디티오카바메이트(dithiocarbamate), 브롬화 인다논(indanon), 벤질브로모아세테이트 및 무기염 등에 기반한 화합물이 포함될 수 있다. 유기할로겐 기반 화합물의 예로는 소듐 펜타클로로페놀이 포함될 수 있다. 피리딘 옥사이드 화합물의 예로는 소듐 2-피리딘티올-1-옥사이드가 포함될 수 있으며, 무기염에 기반한 화합물의 예로는 소듐 아세테이트 안하이드레이트(anhydrate)가 포함될 수 있고, 이소티아졸린 화합물의 예로는 1,2-벤조이소티아졸린-3-온, 2-n-옥틸-4-이소티아졸린-3-온, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온 마그네슘 염화물, 5-클로로-2-메틸-4-이소티아졸린-3-온 칼슘 염화물 및 2-메틸-4-이소티아졸린-3-온 칼슘 염화물이 포함될 수 있다. 이밖에, 방부제/항균제는 소듐 피루브산염 소듐 벤조산염(즉, Avecia 사의 Proxel GXL(S), Proxel XL-2(S))을 포함할 수 있다.
pH 조절제로서, 잉크의 저장성을 향상시키기 위해 잉크의 pH를 6.0 내지 11.0의 범위로 조절할 수 있는 것이라면 어떠한 물질도 사용될 수 있다. 이들의 예로는 디에탄올아민, 트리에탄올아민 및 트리스(하이드록시메틸) 아미노메탄과 같은 알칸올아민; 수산화 리튬, 수산화 나트륨 및 수산화 칼륨과 같은 알칼리 금속의 수산화물; 수산화 암모늄; 탄산 리튬, 탄산 나트륨 및 탄산 칼륨과 같은 알칼리 금속의 탄산염이 포함될 수 있다.
킬레이트제의 예로는 소듐 에틸렌디아민테트라아세테이트, 소듐 니트로트리아세테이트, 소듐 하이드록시에틸에틸렌디아민트리아세테이트, 소듐 디에틸렌트리아민펜타아세테이트 및 소듐 우라밀디아세테이트(uramildiacetate)가 포함될 수 있다. 부식방지제의 예로는 산성 아황산염, 소듐 티오설페이트, 암모늄 티오글리콜레이트(thioglycolate), 디이소프로필암모늄 나이트라이트(diisopropylammonium nitrite), 펜타에리스리톨 테트라나이트레이트(pentaerythritol tetranitrate), 디사이클로헥실암모늄 나이트라이트 및 톨릴트리아졸(tolyltriazole)이 포함될 수 있다.
자외선 흡수제의 예로는 자외선을 흡수하여 형광을 내는 화합물, 즉, 벤조페논 기반 화합물들, 벤조트리아졸 기반 화합물들, 시나메이트(cinnamate) 기반 화합물들, 트리아진 기반 화합물들, 스틸벤(stilbene) 기반 화합물들 또는 벤즈옥사졸(benzoxazole) 기반 화합물들과 같은 형광 발광제(fluorescent brightener)가 포함될 수 있다.
점도 조절제는 수용성 유기용매에 더하여 수용성 폴리머 화합물이 포함될 수 있는데, 그 예로는 폴리비닐 알코올, 셀룰로오스 유도체, 폴리아민 및 폴리이민등이 포함될 수 있다.
염료 용해제의 예로는 요소, ε-카프롤락탐(caprolactam) 및 에틸렌 카보네이트가 포함될 수 있다.
표면장력 조절제는 계면활성제류를 포함할 수 있는데, 그 예로는 음이온성 계면활성제류, 양쪽성 계면활성제류, 양이온성 계면활성제류 및 비이온성 계면활성제류가 포함될 수 있다. 음이온성 계면활성제류는 알킬설포닐카보네이트 염류(alkylsulfonylcarbonate salts), α-올레핀 설포네이트 염류(α-olefin sulfonate salts), 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 아세테이트 염류(polyoxyethylene alkyl ether acetate salts), N-아실아미노산 및 그 염류, N-아실메틸 타우린 염류, 알킬술포네이트 염 폴리옥시알킬 에테르 설페이트 염류(alkylsulfonate salt polyoxyalkyl ether sulfate salts), 알킬술포네이트 염 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 포스페이트 염류(alkylsulfonate salt polyoxyethylene alkyl ether phosphate salts), 로진 산성 비누(rosin acid soap), 피마자유 술폰산 에스테르 염류, 라우릴 알코올 설페이트 에스테르 염류, 알킬페놀 타입의 인산염 에스테르, 알킬 타입의 인산염 에스테르, 알킬알릴 술포네이트 염산, 디에틸 설포석시네이트 염류(diethyl sulfosuccinate salts) 및 디에틸헥실 설포석시네이트 디옥틸 설포석시네이트 염류(diethylhexyl sulfosuccinate dioctyl sulfosuccinate salts)가 포함될 수 있다. 양이온성 계면활성제류로는 2-비닐피리딘 유도체들 및 폴리 4-비닐피리딘 유도체들이 있다. 양쪽성 계면활성제류로는 베타인(betaine) 라우릴디메틸아미노 아세테이트, 베타인 2-알킬-N-카복시메틸-N-하이드록시에틸 이미다졸리움(imidazolium), 베타인 팜유 지방산 아마이드프로필디메틸아미노 아세테이트, 폴리옥틸폴리아미노에틸 글리신 및 이미다졸린(imidazoline) 유도체들이 있다. 비이온성 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌 노닐페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 도데실페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 올레일 에테르, 폴리옥시에틸렌 라우릴 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시아릴알킬 알킬 에테르와 같은 에테르 기반 물질들; 폴리옥시에틸렌 올레산, 폴리옥시에틸렌 올레이트(oleate) 에스테르, 폴리옥시에틸렌 디스테아르산염(distearate) 에스테르, 소르비탄 라우레이트(sorbitan laurate), 소르비탄 모노스테아르산염, 소르비탄 모노올레이트, 소르비탄 세스퀴올레이트(sesquioleate), 폴리옥시에틸렌 모노올레이트, 및 폴리옥시에틸렌 스테아르산염과 같은 에스테르 기반 물질들; 및 2,4,7,9-테트라메틸-5-데신-4,7-디올, 3,6-디메틸-4-옥틴-3,6-디올 및 3,5-디메틸-1-헥신-3-올(즉, 니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd. 제공의 Surfynol 104, 82, 465, Olfin STG)과 같은 아세틸렌 글리콜 기반 물질들이 포함될 수 있다. 이러한 잉크 제조용 제제들은 단독으로 또는 혼합하여 사용된다.
본 발명에 사용된 차광성 잉크의 표면장력은 보통 25 내지 70mN/m, 더욱 바람직하게는 25 내지 50mN/m이다. 상기 차광성 잉크의 점도는 바람직하게는 30mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 20mPa·s 이하이다.
소포제로서, 필요하다면 불소 기반 또는 실리콘 기반 화합물이 사용된다.
상기 차광성 잉크가 제조되면, 각각의 화학물질들을 용해시키는 순서는 특별히 제한되지 않는다. 잉크를 제조할 때, 불순물이 적게 함유된 이온교환수 또는 증류수를 사용하는 것이 바람직하다. 나아가, 필요하다면 불순물은 멤브레인 필터(membrane filter)를 이용한 미세여과를 통해 제거될 수 있다. 잉크젯 프린터용 잉크를 사용할 때 미세여과를 수행하는 것이 바람직하다. 미세여과용 필터의 공극의 크기는 보통 1 내지 0.1㎛, 바람직하게는 0.8 내지 0.2㎛이다.
상기 차광성 잉크를 사용하여 잉크 함유층(C) 위에 이미지 패턴을 기록하기 위해 상기 차광성 잉크를 담은 용기를 잉크젯 프린터의 소정의 위치에 세팅하고, 패턴은 잉크젯 프린터를 이용하는 보통의 방법으로 잉크 함유층(C)에 인쇄될 수 있다. 잉크젯 프린터의 예로는 기계적 진동을 활용한 피에조 모드(piezo mode)의 프린터 및 가열에 의해 잉크 내에 버블이 생성될 때의 압력을 활용한 버블 젯 모드(상표로 등록됨)의 프린터가 포함될 수 있다.
상기 차광성 잉크를 보관하는 도중 침전 및 분리가 발생하지 않았다. 따라서, 상기 차광성 잉크가 잉크젯 프린터에 사용될 경우 잉크젯 인쇄부의 분사구가 막히지 않는다. 본 발명에 사용된 차광성 잉크에서, 잉크젯의 연속모드로 어떤 순환작업을 비교적 장시간 하거나 또는 잉크젯 프린터의 온-디멘드(on-demand) 모드로 간헐적으로 사용될 때 조차 물리적 품질의 변화가 일어나지 않는다.
차광성 잉크는 350nm를 중심으로 넓은 범위의 빛에 대해 높은 흡수를 보이기 때문에 릴리프 인쇄판 제작중 노출광을 차단할 수 있다. 상기 차광성 잉크에 적절하게 사용된 염료들은 수성 용매에 높은 용해도를 가지며, 따라서 염료 농도가 높게 제조될 수 있고, 그리하여 잉크 함유층(C) 내에서 높은 차광성을 지닌 마스크 패턴을 형성하게 된다. 염료의 결정이 침전되지 않고, 분사경로가 굽어있지 않으며 분사구의 막힘(clogging)이 발생하지 않으므로 잉크젯 시스템을 사용함으로써 고분해능의 마스크 패턴을 형성할 수 있다.
이어서, 본 발명의 플렉소 인쇄원판을 제작하는 방법의 실시예를 설명하도록 한다. 우선, 엘라스토머성 바인더, 모노머, 광중합반응 개시제 및 기타 첨가물들을 혼합하여 제조된 감광성 수지 조성물이 고온의 용해물로 형성되고, 소정의 두께를 형성하기 위해 광택처리(calendared)되거나, 감광성 수지 조성물을 용해, 혼합, 기포제거 및 여과한 후 이어서 압출기를 이용하여 지지기판과 임시 커버 시트 사이에 압출하는데, 소정의 두께로 만들기 위해 광택처리된다. 선택적으로는, 기판과 커버 시트(D)가 금형에 놓여지고 감광성 수지 조성물이 그 사이에 압출되는 방법에 의해 지지기판층(A) 위에 감광성 수지층(B)이 형성된다. 그리고는 전술한 잉크 함유층을 형성하는 첨가물들로 구성된 조성물이 직접 도포되고 건조되어 잉크 함유층(C)이 얻어진다. 선택적으로는, 상기 조성물(잉크 함유층의 재료)이 잉크 함유층을 만들기 위해 커버 시트(D) 위에 도포되고 건조되며, 상기 잉크 함유층은 상기 감광성 수지층(B) 위에 압력으로 고정된다. 임시 커버 시트(D)를 제거하거나 제거하지 않고, 지지기판 위에 형성된 감광성 수지층(B)이 열 또는 압력을 통해 고정된 잉크 함유층(C)에 얇게 입혀져 플렉소 인쇄원판이 만들어진다. 전술한 제조과정 중에 잉크 함유층(C), 감광성 수지층(B) 및 지지기판(A)을 커버 시트(D) 위에 순서대로 얇게 입힘으로써 제작하는 것도 가능하다.
차광성 잉크 및 잉크젯 프린터를 사용하는 방법에 의해 얻어진 플렉소 인쇄원판의 잉크 함유층(C)에 마스크 패턴이 기록된다. 이 경우, 차광성 잉크에 의한 마스크 패턴은 잉크 함유층(C)의 포면 위에 형성되는 것이 아니고 잉크 함유층(C) 내의 차광성 잉크를 통과함으로써 층 내에 형성된다. 그리하여, 잉크 함유층(C)이마스크 층이 된다.
플렉소 인쇄판은 마스크 층이 감광성 수지층(B) 위에 형성된 인쇄원판에 300 내지 700nm 파장대의 빛을 조사하고, 상기 빛이 인쇄판 이미지를 형성하는 잉크 패턴에 의해 차단되어 조사되지 않아 경화되지 않은 감광성 수지층(B)의 조사되지 않은 부분을 현상액으로 씻어냄으로써 제조된다.
상기 감광성 수지층에 조사된 화학선(chemical radiation)은 적외선보다 파장이 짧은 전자기파, 바람직하게는 300 내지 700nm의 전자기파, 더욱 바람직하게는 300 내지 400nm의 전자기파이다. 상기 화학선의 광원의 예로는, 저압 수은램프, 고압 수은램프, UV 형광, 탄소 방전 램프, 중수소 램프, 텅스텐 램프(텅스텐 요오드 램프, WI 램프, WI2 램프), 제논 램프 및 엑시머 레이저가 포함될 수 있다. 상기 현상처리에 사용되는 현상액은 감광성 수지층을 용해시키기만 하면 어떤 유기용액, 물, 수성 또는 반(semi)-수성 용액도 될 수 있으며, 현상액의 선택은 제거될 수지의 화학 특성에 의존한다. 적절한 유기용매 현상액은 방향족 또는 지방족 탄화수소 및 지방족 또는 방향족 할로하이드로카본(halohydrocarbon) 용액 또는 이들과 적절한 알코올과의 혼합물이다. 반-수성 현상액은 물 또는 물과 혼합될 수 있는 유기용매들 및 알칼리 금속들을 포함한다. 이러한 수성 현상액들의 예로는 물과 헵틸 아세테이트 및 3-메톡시 부틸 아세테이트 등의 에스테르와 같은 물질; 광유류(petroleum fraction), 톨루엔 및 데칼린과 같은 탄화수소류; 테트라클로로에틸렌과 같은 염소 기반 용매; 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민과 같은 아민류; 수산화나트륨; 수산화칼륨; 탄산 나트륨; 및 암모니아 등과 같은 기타 물질들을 함유하는 수성 용액이 포함될 수 있다. 또한, 프로판올, 부탄올 및 펜탄올과 같은 알코올이 상기 용매들에 첨가된 혼합물도 사용가능하다. 침지, 노즐 분사, 브러시로 문지르기 등의 어떠한 방법도 세척용으로 채택될 수 있다.
본 발명의 릴리프 인쇄판 제작법에 적절하게 사용될 수 있는 인쇄기기로 잉크젯 프린터가 적당하다. 잉크젯 프린터에 의한 인쇄는 노즐로부터 종이와 같은 인쇄매체에 잉크를 분사함으로써 문자 및 그림이 형성된다. 잉크를 분사하는 방법에 따라 인쇄방법은 크게 압전기(壓電氣) 성분을 사용하여 기계적 진동이 분사잉크에 부여되는 피에조법과 가열에 의해 버블을 생성함으로써 발생되는 압력을 활용하는 잉크 분사법으로 분류된다.
전술한 바와 같이, 본 발명에서 잉크 함유층(C)에 차광성 잉크를 부여하는 방법은 바람직하게는 잉크젯 기록법이며, 상기 방법은 잉크가 노즐로부터 기록매체의 목표지점에 효과적으로 방출되기만 하면 어떤 방법도 될 수 있다. 특히, JP-54-59936-A호에 개시된, 열에너지를 공급받은 잉크가 기포형성 부피로 변화하고 이러한 변화에 따른 작용력에 의해 노즐로부터 잉크가 분사되는 잉크젯 모드가 효과적으로 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명에서 적절하게 사용된 차광 잉크의 흡수곡선을 도시한 그래프 이다.
실시예
볼 발명은 다음 실시예들을 통해 더욱 구체적으로 설명되어지나, 다음 실시예들은 본 발명의 적절한 설명을 위해 예시된 것일 뿐, 본 발명을 제한하지 않는다.
다음 설명에서, "부" 및 "%"는 별도의 설명이 없으면 중량에 기초한 것이다. 차광성 잉크 1 내지 6의 제조를 위한 실시예에 사용된 수용성 염료들은 역삼투막에 의한 탈염처리한 후에 80℃에서 건조된 것들이 사용되었다.
차광성 잉크 1의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 199(제품명: Kayafect Turquoise RN liquid 150, 니폰 카야쿠 Co.,Ltd.), 5부의 C.I.다이렉트 옐로우 132(제품명: Cartazol Yellow 3GF 리퀴드, Clariant AG사(社)), 15부의 에틸렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 74.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(1)를 얻었다.
차광성 잉크 2의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 199, 5부의 C.I.다이렉트 옐로우 142(제품명: Kayarus Yellow PG, 니폰 카야쿠 Co.,Ltd.), 15부의 에틸렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 74.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(2)를 얻었다.
차광성 잉크 3의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 199, 8부의 C.I.다이렉트 브라운 195(제품명: Kayarus Supra Brown GL125, 니폰 카야쿠 Co.,Ltd.), 15부의 에틸렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 71.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(3)를 얻었다.
차광성 잉크 4의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 86(제품명: Kayarus Turquoise Blue GL, 니폰 카야쿠 Co.,Ltd.), 5부의 C.I.다이렉트 옐로우 132, 15부의 에틸렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 74.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(4)를 얻었다.
차광성 잉크 5의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 86, 5부의 C.I.다이렉트 옐로우 142, 15부의 에틸 렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 74.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(5)를 얻었다.
차광성 잉크 6의 제조 실시예
5부의 C.I.다이렉트 블루 86, 8부의 C.I.다이렉트 브라운 195, 15부의 에틸렌 글리콜, 0.05부의 Surfynol 104PG50(니신 케미컬 인더스트리 Co.,Ltd.) 및 71.95부의 이온교환수를 섞고, 가성 소다를 첨가하여 잉크의 pH를 8.0 내지 9.5로 만들었다. 추가로, 상기 용액은 0.45㎛의 멤브레인 필터를 통해 여과하여 본 발명에 적절하게 사용되는 차광성 잉크(6)를 얻었다.
차광성 잉크 1의 제조 실시예에서 얻어진 차광성 잉크(1)의 흡수곡선에 대한 도표가 표 1에 도시되어있다. 흡수곡선의 적분값을 ΣOD 또는 영역값(area value)이라 하는데, 특정 파장대에서의 흡수의 적분값이다. 상기 도표에서, 빗금친 부분이 300 내지 400nm 사이의 흡수에 대한 적분값이다. 300 내지 400nm 사이의 흡수에 대한 적분값은 다음과 같이 측정될 수 있다.
(측정법)
1.0g의 잉크를 이온교환수로 5000배 희석시킨 용액의 흡수가 25℃, 광원(200 내지 360nm의 중수소[D2]램프와 300 내지 400nm의 텅스텐(WI) 램프), 폭이 2.0nm인 슬릿 및 10mm의 광전달경로를 가지는 분광광도계(spectrophotometer)에 의해 측정 되었다. 300 내지 400nm의 흡수곡선의 적분값(nm×Abs.)이 계산되었다.
차광성 잉크 1의 제조 실시예에서 얻어진 차광성 잉크(1) 2.0g을 500mL 플라스크에서 이온교환수로 500mL로 희석시켰다. 홀 피펫(hole oioette)으로 5mL의 희석용액을 취해 100mL 플라스크에서 이온교환수로 100mL로 희석시켜 5000배 희석된 잉크를 준비하였다. 도 1은 상기 5000배 희석된 잉크를 25℃, 광원(200 내지 360nm의 중수소[D2]램프와 300 내지 400nm의 텅스텐(WI) 램프), 폭이 2.0nm인 슬릿 및 10mm의 광전달경로를 가지는 분광광도계(UV-2550, Shimadzu Corporation)로 측정한 700nm 및 250nm에서의 흡수를 나타낸다. 이 때, 300 내지 400nm의 흡수곡선의 적분값(nm×Abs.)은 55.3475이다.
실시예1
다음 실시예들에서 보이는 광학밀도(optical density)는 분광광도계(제품명: U-2000, 히타치 Ltd.)로 측정되었다.
5% 폴리비닐 부티랄(제품명: S-Lec KW-3, Sekisui 케미컬 Co.,Ltd.)의 수성 용액이 100℃에서 5분간 건조 후의 두께가 2㎛가 되도록 100㎛의 두께를 가지는 커버 시트(D)로서 PET필름 위에 바 코팅기(bar coater)로 도포되었고, 이어서 차광성 잉크(1)에 의해 우수한 이미지가 기록될 수 있는 잉크 함유층(C)이 형성되었다. 상기 잉크 함유층(C)의 370nm에서의 광밀도가 측정되었는데, 이는 0.0이었다.
평균 분자량이 240,000인 스티렌 부타디엔 공중합체(제품명: D-1155, JSR Shell Elastomer KK사(社)) 100중량부, 평균 분자량이 1,000인 액상 1,2-폴리부타 디엔(제품명: Nisso PB-100, 니폰 소다 Co.,Ltd.) 70중량부, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 10중량부, 메톡시페닐 아세토페논 3중량부, 2,6-디-tert-부틸-4-하이드록시톨루엔 0.05중량부 및 오일 블루 #503(오리엔트 케미컬 인더스트리사(社)) 0.002중량부를 0.2중량부의 테트라하이드로퓨란으로 구성된 용액 내에서 용해시켜 감광성 수지 조성물을 준비하였다. 상기 조성물은 고점도용 펌프를 사용하여 압출기에 밀어 넣어지고, 압출기 내에서 반죽되어지며 폴리에틸렌 테레프탈레이트 시트로 구성된 층(A) 위에 2.84mm의 두께로 압출되어 감광성 수지층(B)이 얻어졌다.
감광성 수지층(B)의 면과 위에서 얻어진 잉크 함유층(C)이 접촉되고 압축 롤러를 사용하여 기판층(A)-감광성 수지층(B)-잉크 함유층(C)-커버 시트(D)가 순서대로 층층이 집적된 다층 감광성 제품(플렉소 인쇄판)이 얻어지도록 얇게 도포되었다.
이렇게 얻어진 플렉소 인쇄판용 감광성 제품의 커버 시트(D)는 벗겨지고, 300 내지 400nm의 파장대에서 흡수특성을 가지는 염료를 함유한 수용성 염색잉크(c차광성 잉크(1))가 롤랜드 D.G사의 플랫 베드 잉크젯(flat bed inkfet) 프린터를 이용해 잉크 함유층(C) 내에 소정의 마스크 패턴을 형성하도록 소정의 패턴을 따라 잉크 함유층(C)에 분사되었다. 잉크 함유층(C) 내에 형성된 마스크 패턴은 문자 또는 그림의 이미지가 될 수 있는데, 본 실시예에서는 문자패턴이 형성되었다. 차광성 잉크에 의해 형성된 마스크 패턴 영역 내의 파장이 370nm인 빛의 광학밀도가 측정되었는데, 3.0이었다.
이어서, 층(A)의 측면으로부터 중심파장이 370nm인 자외선을 조사함으로써 75mJ/cm2의 뒷면 노광이 수행되고, 이어서 이미지 층의 측면으로부터 2500mJ/cm2의 주 노광이 수행되었다. 다음으로, 방향족 탄화수소 기반 현상액(제품명: FDO-S2, Tokyo Ohka Kogyo Co.,Ltd.)을 현상액으로 사용하여 용액온도 25℃에서 4분간 현상하였다. 이렇게 얻어진 판의 면에서 현상 찌꺼기는 발견되지 않았다. 현상 후에, 상기 판을 55℃에서 50분간 건조하였고, 이어서 중심파장이 250nm인 자외선 형광램프를 이용해 후처리 하였으며, 추가로 중심파장이 370nm인 자외선램프를 이용해 3000mJ/cm2의 사후 노광을 행하여 플렉소 인쇄판을 얻었다. 상기 플렉소 인쇄판을 사용하여 인쇄를 행하였고, 이어서 선명한 문자를 가지는 인쇄물이 얻어졌다.
실시예2
잉크 함유층(C)의 두께가 8㎛가 되도록 5%의 폴리비닐 부티랄(제품명: S-Lec KS-3, Sekisui 케미컬 Co.,Ltd., 산소 투과 계수: 4×10-11)이 도포된 것을 제외하고는 실시예1을 따라 플렉소 인쇄판이 제작되었다. 이렇게 얻어진 플렉소 인쇄판을 사용하여 인쇄를 행하였고, 이어서 선명한 문자를 가지는 인쇄물이 얻어졌다.
실시예3
잉크 함유층(C)으로 폴리비닐 피롤리돈(제품명: Luviskol K90, BASF 재팬社)이 사용된 것을 제외하고는 실시예1을 따라 플렉소 인쇄판이 제작되었다. 이렇게 얻어진 플렉소 인쇄판을 사용하여 인쇄를 행하였고, 이어서 선명한 문자를 가지는 인쇄물이 얻어졌다.
실시예4
잉크 함유층의 두께가 0.8㎛가 되도록 한 것을 제외하고는 실시예1을 따라 플렉소 인쇄판이 제작되었다. 이렇게 얻어진 플렉소 인쇄판을 사용하여 인쇄를 행하였고, 이어서 선명한 문자를 가지는 인쇄물이 얻어졌다.
비교실시예
잉크 함유층의 두께가 변화 하도록(0㎛, 0.3㎛, 17㎛) 한 것을 제외하고는 실시예1을 따라 플렉소 인쇄판이 제작되었다. 이렇게 얻어진 결과물은 다음 평가기준에 따라 순위가 매겨졌고, 포 1에 나타내었다.
A. 인쇄하기에 적합한 볼록형상을 가진 플렉소 인쇄판이 얻어졌고, 인쇄물은 선명한 문자가 인쇄되었다.
B. 인쇄하기에 적합하지 않은 볼록형상을 가진 플렉소 인쇄판이 얻어졌고, 문자는 선명하지 않았지만, 질적으로 그리고 실용적으로 사용가능한 범위의 인쇄물이 인쇄되었다.
C. 인쇄하기에 적합한 볼록형상을 가진 플렉소 인쇄판이 얻어졌으나, 감광성 수지층(B)의 필름 물리적 특성의 감소로 인해 약간 주름이 발생했으며, 판은 인쇄하기 적당하지 못했다.
D. 인쇄하기에 적합한 볼록형상을 가진 플렉소 인쇄판이 얻어지지 못하였고, 실용적으로 사용가능한 범위 밖의 뭉개진 문자가 인쇄되었다.
층(C) 두께(㎛) 0 (층(C)없음) 0.3 0.8 2 8 17
인쇄 결과물 D D B A A C
두께 8㎛ 이상인 잉크 함유층(C)은 차광효과에서 변화가 관찰되지 않았고, 필름 두께에 따른 효과가 얻어지지 않았다.
전술한 바와 같이, 본 발명은 릴리프 인쇄용 감광성 박층 인쇄원판으로서 소정의 파장대의 빛에 대해 감광성을 가지는 감광성 수지층(B) 및 차광성 잉크에 의해 패턴이 내부에 형성되는 잉크 함유층(C)이 적어도 지지기판(A) 위에 얇게 입혀지며, 차광층(C)이 실질적으로 소정의 파장대의 빛에 대해 투과성이고 차광성 잉크를 내부에 보유할 수 있는 것을 특징으로 하는 감광성 박층을 이용하는 것에 특징이 있다.
상기 특징들 및 구성을 가지는 본 발명에 있어서, 잉크 함유층은 감광성 수지층 위에 직접 형성되며, 마스크 패턴은 차광성 잉크를 이용해 상기 잉크 함유층 내에 형성된다. 따라서, 종래의 마스크 필름 또는 그 대용품을 사용할 때 발생되는 문제점들과, 마스크 패턴이 감광성 수지층에 잉크 조성물에 의해 직접 형성될 때 발생되는 잉크의 흘림 및 튐에 의한 패턴의 왜곡을 방지하는 것이 가능하다. 그 결과, 본 발명에 의해, 마스크층이 그 아래에 있는 감광성 수지층의 표면에 손상을 가하지 않고 훌륭한 대비(contrast)로 형성될 수 있는 릴리프 인쇄원판 및 상기 릴리프 인쇄원판을 사용한 릴리프 인쇄판 제조방법을 제공할 수 있다.

Claims (22)

  1. 지지기판(A);
    소정의 파장대의 빛에 대해 감광성을 가지며 상기 지지기판(A) 위에 제공되는 감광성 수지층(B); 및
    상기 감광성 수지층(B) 위에 제공되는 잉크 함유층(C)을 포함하며;
    상기 잉크 함유층은 차광성 잉크를 보유할 수 있고, 상기 층(C)에 차광 패턴을 구성할 수 있으며, 상기 차광 패턴은 상기 차광성 잉크를 상기 패턴에 따라 상기 잉크 함유층(C)에 제공함으로써 형성되고, 상기 차광성 잉크가 제공되지 않은 영역에서 상기 잉크 함유층(C)이 상기 빛의 상기 소정의 파장대에 대해 실질적으로 투명하며, 상기 잉크 함유층(C)의 산소 투과 계수는 1×10-17 내지 9×10-5(cm3·cm/cm2·sec·cmHg)인 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 잉크 함유층(C)이 0.5 내지 15㎛의 두께로 형성되는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 잉크 함유층(C)이 수용성 조성물로부터 형성되는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 수용성 조성물이 수용성 용매 또는 수용성 유기용매에 용해, 팽창 또는 분산 가능한 수지를 포함하는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 상기 빛의 상기 소정의 파장대에 대하여 흡수특성을 가지는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 소정의 파장대가 300 내지 450nm인 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 수용성 염료를 포함하며, 상기 수용성 염료의 수성 용액이 300 내지 450nm 파장대의 상기 빛을 흡수하는 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 수용성 염료의 물에 대한 용해도가 상기 물의 pH가 중성 내지 알칼리성일 때 7중량% 이상인 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 5000배 희석 되었을 때, 상기 차광성 잉크의 300 내지 450nm 파장대의 광 흡수의 적분값이 45nm×Abs. 이상인 릴리프 인쇄용 감광성 인쇄원판.
  10. 릴리프 인쇄용 인쇄원판으로서, 지지기판(A), 상기 지지기판(A) 위에 제공되며 소정의 파장대에서 빛에 감광성을 가지는 감광성 수지층(B) 및 상기 감광성 수지층(B) 위에 제공되고 산소 투과 계수가 1×10-17 내지 9×10-5(cm3·cm/cm2·sec·cmHg)인 잉크 함유층(C)을 함유하는 감광성 박층을 제공하는 단계;
    차광성 잉크는 상기 잉크 함유층(C)에 상기 빛을 상기 소정의 파장대에서 흡수하는 특성을 부여하며, 릴리프 인쇄용 이미지 패턴을 따라 차광성 패턴을 형성하고, 그로 인해 상기 패턴 형성의 결과로 상기 이미지 패턴에 상응하는 부분을 상기 빛의 상기 소정의 파장대를 차단하는 마스크 이미지 층으로 변화시키는 차광성 잉크를 상기 잉크 함유층에 제공하는 단계;
    상기 감광성 수지층(B)에 상기 마스크 이미지 층을 마스크로서 이용하여 상기 소정의 파장대의 상기 빛을 조사하는 단계; 및
    인쇄를 위해 상기 지지기판상에 볼록한 패턴을 가지는 수지층을 형성하도록 현상 용액을 사용하여 상기 소정의 파장대의 상기 빛이 조사되지 않아 경화되지 않은 채로 남은 상기 감광성 수지층의 조사되지 않은 부분을 제거하는 단계를 포함하는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 잉크 함유층(C)이 0.5 내지 15㎛의 두께로 형성되는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 잉크 함유층(C)이 수용성 조성물로부터 형성되는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 수용성 조성물이 수용성 용매 또는 수용성 유기용매에 용해, 팽창 또는 분산 가능한 수지를 포함하는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  14. 제 10항에 있어서,
    상기 소정의 파장대가 300 내지 450nm인 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  15. 제 10항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 수용성 염료를 포함하며, 상기 수용성 염료의 수성 용액이 300 내지 450nm 파장대의 상기 빛을 흡수하는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 수용성 염료의 물에 대한 용해도가 상기 물의 pH가 중성 내지 알칼리성 일 때 7중량% 이상인 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  17. 제 15항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 5000배 희석 되었을 때, 상기 차광성 잉크의 300 내지 450nm 파장대의 광 흡수의 적분값이 45nm×Abs. 이상인 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  18. 제 10항에 있어서,
    상기 차광성 잉크를 사용하여 잉크 함유층(C) 위에 패턴 인쇄가 잉크젯 인쇄기기에 의해 수행되는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법.
  19. 수용액이 300 내지 450nm의 파장대의 빛을 흡수하는 수용성 염료를 포함하며 제 10항에 따른 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 사용되는 차광성 잉크.
  20. 제 19항에 있어서,
    상기 수용성 염료의 물에 대한 용해도가 상기 물의 pH가 중성 내지 알칼리성일 때 7중량% 이상인 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 사용되는 차광성 잉크.
  21. 제 19항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 5000배 희석 되었을 때, 상기 차광성 잉크의 300 내지 450nm 파장대의 광 흡수의 적분값이 45nm×Abs. 이상인 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 사용되는 차광성 잉크.
  22. 제 19항 내지 제 21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 차광성 잉크가 잉크젯 인쇄 기기에 채용되는 릴리프 인쇄판을 제조하는 방법에 사용되는 차광성 잉크.
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