KR100831341B1 - 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인공치관(crown)과 결합되는 어버트먼트(Abutment) 바디에 아노다이징(Anodizing) 기법을 이용하고, 상기 어버트먼트의 바디에 산화티타늄(Tio2) 산화층을 형성함으로써 어버트먼트의 표면 거칠기를 증가시키고, 인공치관(Crown)과의 접착성(Bonding)을 강화시키도록 고정체의 상부에 결합되며 티타늄으로 이루어진 어버트먼트의 외측에 산화층이 형성되어 인공치관(crown)과 결합되는 것을 특징으로 하는 산화층이 형성된 어버트먼트를 제공한다.
어버트먼트(Abutment), 인공치관(Crown), 아노다이징(Anodizing), 산화층

Description

산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법{The abutment in which the oxidation layer is formed and the manufacturing method}
도 1은 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트를 도시한 도면.
도 2는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 단면도.
도 3은 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법을 도시한 순서도.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법을 도시한 도면.
도 5는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 다른 실시예를 도시한 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1 : 어버트먼트 10 : 지그
100 : 산화층
본 발명은 인공치관(crown)과 결합되는 어버트먼트(Abutment) 바디에 아노다이징(Anodizing) 기법을 이용하고, 상기 어버트먼트의 바디에 산화티타늄(Tio2) 산화층을 형성함으로써 어버트먼트의 표면 거칠기를 증가시키고, 인공치관(Crown)과의 접착성(Bonding)을 강화시켜 메탈 캡(Metal Cap)을 사용하지 않고 인공치관(Crown)과의 직접적인 결합이 가능한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 아노다이징은 전기, 화학반응을 이용하여 금속표면에 인위적인 산화물 도장을 입히는 것이다. 이때의 전기-화학반응은 전해액 또는 산용액을 이용하여 자동차의 배터리와 비슷하게 전기를 통하도록 하여 금속표면에 아노다이징 과정을 진행시킨다. 상기한 아노다이징은 금속표면에 표면처리를 함으로서, 표면 마모를 막아 주고, 부식방지 또는 표면의 전기 전도성을 줄여주는 역할을 한다.
상기와 같은 아노다이징 처리를 하는 어버트먼트는 티타늄으로 구성되며 상기한 티타늄의 열팽창계수는 인공치관(Crown)이 갖고 있는 열팽창계수와 상이하여 상기 인공치관(Crown)의 내측에 메탈(Metal)을 삽입하여 어버트먼트의 열팽창계수와 맞춰주어야 했다. 상기한 인공치관(Crown)의 열팽창계수는 14의 제품이 보편적이다.
상기와 같이 티타늄으로 이루어진 어버트먼트와 메탈(Metal)간에는 시멘트(Cement)로 접착을 시키게 되며, 상기한 메탈(Metal)은 샌드블래스팅(Sandblasting)을 실시한 후에 노(Furance)에서 산화필름(Oxide Film)을 형성시켜 접착성(Bonding)이 유지되도록 하였다.
그러나, 상기와 같은 메탈을 이용한 인공치관과 어버트먼트의 결합은 위에서 설명한 바와 같은 번거로운 성형과정이 필요하며 여전히 메탈 캡(Metal Cap)을 사용해야하는 번거로움이 발생되었다.
또한, 어버트먼트상에 결합된 메탈캡의 어두운 색깔이 크라운 외부로 비춰지는 현상이 발생 되었으며, 상기한 현상을 방지하기 위해 오펙(opaque) 처리를 실시하여 메탈 색깔이 크라운 외부로 투시되는 것을 방지하기 위한 번거로운 작업을 필요로 했다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 어버트먼트의 외측에 산화티타늄(Tio2) 산화층을 형성함으로써 인공치관(Crown)과의 접착성(Bonding)을 강화시키고, 메탈 캡(Metal Cap)을 사용하지 않고도 인공치관(Crown)과의 결합이 가능한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트는 고정체의 상부에 결합되며 티타늄으로 이루어진 어버트먼트의 외측에 산화층이 형성되어 인공치관(crown)과 결합되도록 구성된다.
상기 산화층은 아노다이징(Anodizing) 기법에 의해 형성된다.
상기 산화층은 0.5 ~ 2.0㎛의 두께를 갖도록 형성된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법은 어버트먼트가 침수될 마이크로아크 산화용 전해액을 제조하는 전해액 제조 단계와; 제조된 전해액을 전해조에 부은 상태에서 별도로 구비된 아노다이징 지그에 다수의 어버트먼트를 설치하는 지그 결합 단계와; 상기 아노다이징 지그에 어버트먼트가 결합된 상태에서 전해조에 침수시키고, 250 ~ 290V의 직류전압을 인가하여 산화층을 형성하는 산화층 형성단계; 및 산화층이 형성된 어버트먼트를 전해조에서 꺼낸 후에 증류수에 담가 세척을 실시한 후에 건조하는 세척 및 건조 단계를 포함하여 구성된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 단면도이며, 도 3은 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법을 도시한 순서도이고, 도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법을 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 다른 실시예를 도시한 도면이다.
첨부된 도 1 내지 도 3을 참조하면, 고정체의 상부에 결합되며 티타늄으로 이루어진 어버트먼트의 외측에 산화층(100)이 형성되어 인공치관(crown)과 결합되도록 구성된다.
상기 산화층(100)은 아노다이징(Anodizing) 기법에 의해 형성된다.
상기 산화층(100)은 0.5 ~ 2.0㎛의 두께를 갖도록 형성된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 의한 산화층(100)이 형성된 어버트먼트(1)의 제조방법은 어버트먼트(1)가 침수될 마이크로아크 산화용 전해액을 제조하는 전해액 제조 단계(ST100)와; 제조된 전해액을 전해조(20)에 부은 상태에서 별도로 구비된 아노다이징 지그(10)에 다수의 어버트먼트(1)를 설치하는 지그 결합 단계(ST200)와; 상기 아노다이징 지그(10)에 어버트먼트(1)가 결합된 상태에서 전해조(20)에 침수시키고, 250 ~ 290V의 직류전압을 인가하여 산화층(100)을 형성하는 산화층 형성단계(ST300); 및 산화층(100)이 형성된 어버트먼트(1)를 전해조(20)에서 꺼낸 후에 증류수에 담가 세척을 실시한 후에 건조하는 세척 및 건조 단계(ST400)를 포함하여 구성된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법의 실시에를 도면을 참조하여 설명한다.
첨부된 도 2 내지 도 4d를 참조하면, 어버트먼트(Abutment)(1)의 외측면상에 산화층(100)을 형성하기 위해서는 상기 어버트먼트(1)가 침수될 전해액을 우선적으로 제조하여야 한다.
상기한 어버트먼트(1)가 침수될 전해액은 칼슘 글리세로 인산(Calcuim glycerophosphate)과 칼슘 아세테이트 모노하이드레이트(Calcuim accetate monohydrate) 분말을 각각 일정 비율로 덜어서 증류수에 혼합한 후에 자석 교반기(magnetic stirrer)에 입자가 사라질 때까지 용해하여 전해액을 제조한다(ST100).
상기와 같이 제조된 전해액을 전해조(20)에 부은 다음에 별도로 구비된 아노다이징 지그(10)에 다수의 어버트먼트(1)를 설치한다(ST200). 상기와 같이 어버트먼트(1)가 아노다이징 지그(10)에 설치된 상태에서 전해액속에 침수시키고, 상기 전해액에 펄스화된 직류전압을 인가한다. 상기 전해조(20)에 인가되는 직류전압은 약 190V일 때 마이크로아크 방전이 시작된다.
상기 전해조(20)에 인가되는 직류전압은 어버트먼트(1)에 형성되는 산화층(100)이 최적의 상태로 형성되도록 인가하는 것이 바람직하며, 상기와 같이 190V의 직류전압이 인가될 경우에는 상기 어버트먼트(1)와 산화층(100)과의 접합강도는 양호하나 산화층(100)과 뼈와의 접착 강도가 상대적으로 낮았다. 또한, 약 650V 이상에서는 산화층(100)과 뼈와의 접착강도는 양호하나 상기 산화층(100)과 어버트먼트(1)와의 접합강도가 저하되기 때문에 바람직하게는 250 ~ 290V의 범위내에서 전압을 인가하여 상기 어버트먼트(1)에 산화층(100)을 형성한다(ST300).
상기와 같이 250 ~ 290V의 전압 범위에서 산화층(100)을 형성하게 되면 상기 어버트먼트(1)와 산화티타늄(Tio2)으로 이루어진 산화층(100) 사이의 접합강도와 뼈와의 접착강도 모두 우수한 어버트먼트를 얻을 수 있으며 산화층(100)의 두께는 0.5 ~ 2.0㎛의 두께로 형성된다. 참고로 마이크로아크 산화의 초기 전류 밀도는 통상 1 ~ 100A/M2 내에서 적절하게 선택 가능하다.
산화층(100)이 형성된 이후에 전해조에서 어버트먼트(1)를 꺼낸 후에 증류수에 담궈 초음파 세척을 실시한다. 초음파 세척이 완료된 어버트먼트(1)는 고압 세 척을 실시한 후에 클린룸으로 이동하여 건조(ST400)하게 되면 작업이 완료된다.
첨부된 도 5를 참조하여 본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트의 다른 실시예를 설명한다.
본 발명에 의한 산화층이 형성된 어버트먼트는 위에서 설명한 바와 같이 어버트먼트(1)에 산화층(100)을 형성하여 사용할 수 있으며, 산화층이 형성되지 않은 어버트먼트(1',1'') 사이에 연결 설치되는 브리지(Bridge)(2)의 외주면상에 아노다이징 처리를 한 산화층을 형성하여 표면 마모를 막아 주고, 부식방지 또는 표면의 전기 전도성을 감소시켜 사용할 수 있다. 또한, 메탈캡(Metal cap)에 아노다이징 처리를 한 산화층을 형성한 후에 도재를 씌워 사용하는 것도 가능함을 밝혀둔다.
한편, 본 발명은 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법은 아노다이징 처리를 실시함으로서 어버트먼트의 표면 거칠기를 증가시키고, 인공치관(Crown)과의 접착성(Bonding)을 강화시켜 인공치관(Crown)과의 직접적인 결합이 가능한 효과가 있다.
또한, 어버트먼트에 아노다이징 처리를 함으로써 상기 아노다이징 자체의 휘색에 의해 오펙(opaque) 처리 없이 심미성이 향상되며, 어버트먼트 이외의 브리지 또는 메탈캡에도 아노다이징 처리를 하여 사용함으로써 기존에 금을 사용하던 방식에서 탈피하게 되어 가격이 저하되는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 어버트먼트가 침수될 마이크로아크 산화용 전해액을 제조하는 전해액 제조 단계;
    제조된 전해액을 전해조에 부은 상태에서 별도로 구비된 아노다이징 지그에 다수의 어버트먼트를 설치하는 지그 결합 단계;
    상기 아노다이징 지그에 어버트먼트가 결합된 상태에서 전해조에 침수시키고, 250 ~ 290V의 직류전압을 인가하여 산화층을 형성하는 산화층 형성단계; 및
    산화층이 형성된 어버트먼트를 전해조에서 꺼낸 후에 증류수에 담가 세척을 실시한 후에 건조하는 세척 및 건조 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 산화층이 형성된 어버트먼트의 제조방법.
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