KR100826386B1 - 스팀식 미용기 - Google Patents

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KR100826386B1 KR1020070029748A KR20070029748A KR100826386B1 KR 100826386 B1 KR100826386 B1 KR 100826386B1 KR 1020070029748 A KR1020070029748 A KR 1020070029748A KR 20070029748 A KR20070029748 A KR 20070029748A KR 100826386 B1 KR100826386 B1 KR 100826386B1
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미츠루 후지와라
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마츠시다 덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 스팀식 미용기에서는, 저수탱크에서 비등실까지의 급수경로에, 상기 비등실에 공급되는 물을 미리 가열하는 예비가열기구가 설치된다. 이 구성에 의하면, 스팀토출구에서 스팀이 보다 안정하게 도출되고, 사용시의 쾌적성이 향상된다.

Description

스팀식 미용기{STEAM BEAUTY APPLIANCE}
도 1은 실시형태에 있어서 스팀식 미용기의 전체 구성을 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 스팀식 미용기의 정면도이다.
도 3은 도 2 중의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 단면도이다.
도 4는 도 3에 나타낸 스팀식 미용기의 기기 본체에서 저수탱크를 제거한 상태를 나타낸 단면도이다.
도 5는 도 3에 나타낸 스팀식 미용기의 히터 및 비등실의 개략 평면도이다.
도 6은 도 3에 나타낸 스팀식 미용기의 연통공 출구 근방의 구성을 나타낸 확대 단면도이다.
도 7은 도 6의 A방향 화살 투시도이다.
도 8은 변형예 1에서 스팀식 미용기의 구성을 부분적으로 나타낸 단면도이다.
도 9는 변형예 2에서 스팀식 미용기의 구성을 부분적으로 나타낸 단면도이다.
도 10은 변형예 3에서 연통공 출구 근방의 구성을 나타낸 단면도이다.
도 11은 도 10의 B방향 화살 투시도이다.
본 발명은, 피부에 스팀을 맞닿게 하여 살갗 표면을 손질하는 스팀식 미용기에 관한 것이다.
종래, 피부에 스팀을 맞닿게 하여 살갗 표면을 손질하는 스팀식 미용기가 알려져 있다.
예컨대, 일본국 특개 2005-349132호 공보에는, 저수탱크에서 비등실에 공급된 물을, 비등실에 대향 배치한 히터의 열로 비등시킴으로써 스팀을 발생시켜, 그 스팀을 기기 본체의 상부에 설치된 스팀토출구에서 외부로 토출하도록 구성된 스팀식 미용기가 개시되어 있다.
이 스팀식 미용기에 있어서, 스팀화에 의한 비등실의 수량의 감소에 수반하여 저수탱크에서 비등실로 온도가 낮은 물이 공급되므로, 급수시에 비등실 주변의 온도가 급격히 저하하여 기기 내의 스팀압이 급격히 저하한다. 이 때문에, 스팀토출구에서 토출되는 스팀에 맥동이 발생하게 된다.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은, 스팀을 보다 안정하게 토출시켜, 사용시의 쾌적성을 보다 향상시키는 것이 가능한 스팀식 미용기를 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 스팀식 미용기에서는, 저수탱크에서 비등실까지의 급수경로에, 상기 비등실에 공급되는 물을 미리 가열하는 예비가열기구가 설치된다. 이 스 팀식 미용기에 의하면, 스팀토출구에서 스팀이 보다 안정하게 토출되고, 사용시의 쾌적성이 향상된다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 기초로 설명한다. 우선, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 일 실시형태에 따른 스팀식 미용기(1) 전체 구성에 관해서 설명한다. 또, 설명의 편의상, 도면 중에 있어서, +X방향을 스팀식 미용기(1)의 전방이라 호칭하고, -X방향을 스팀식 미용기(1)의 후방이라 호칭한다.
본 실시형태의 스팀식 미용기(1)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 기기 본체(1a)의 상부에 전방을 향해 돌출하여 배치된 후술의 노즐(44)에서 분출하는 스팀을 사용자의 얼굴이나 손 등에 맞닿게 함으로써 살갗표면의 손질을 행하도록 구성되어 있다.
이 스팀식 미용기(1)는, 도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이, 급수기구(2)와, 가열기구(3)와, 스팀토출기구(4)를 구비하고 있다.
급수기구(2)는, 저수탱크(21)와, 급수저류부(22)와, 급수경로부(23)를 포함하고 있다.
저수탱크(21)는, 가열기구(3)와 소정 간격을 둔 위치에서 기기 본체(1a)의 상부 후방에 착탈가능하게 장착되어 있고, 가열기구(3)에 공급하는 물을 저류가능하도록 구성되어 있다. 또, 저수탱크(21)에는, 약 25℃ 내지 약 30℃의 물이 수용된다. 또, 저수탱크(21)에 수용되는 물은, 일반적인 물(H2O) 뿐만 아니라, 예컨대 치료효과를 갖는 아로마수 등을 포함하여도 좋다. 이 저수탱크(21)는, 기기 본체(1a)로의 장착시에 급수저류부(22)에 연결되도록 되어 있다.
또, 저수탱크(21)는, 덮개(21a)와, 팩킹(21b)과, 원추 팩킹(21c)과, 지수(止水) 핀(21d)과, 압축코일스프링(21e)을 갖고 있다. 덮개(21a)는, 저수탱크(21)의 개구에 장착되어 있고, 저수탱크(21)를 개폐시키는 기능을 갖고 있다. 팩킹(21b)은, 저수탱크(21)의 개구와 덮개(21a) 사이에 개재하여 덮개가 닫힌 경우에 저수탱크(21)를 수밀(水密) 상태로 하기 위해 설치된다.
원추 팩킹(21c)은, 지수 핀(21d)에 고정적으로 장착된다. 지수 핀(21d)은, 압축코일스프링(21e)에 의해 저수탱크(21)에서 빠져 나가는 방향으로 상시 탄성가압된 상태로 덮개(21a)에 장착되어 있다. 이에 의해, 저수탱크(21)의 기기 본체(1a)로부터의 이탈 상태에서는, 원추 팩킹(21c)이 덮개(21a)에 꽉 눌려진 형태로 되기 때문에, 저수탱크(21)의 수밀성이 확보되도록 되어 있다.
또, 스팀식 미용기(1)는, 기기 본체(1a)의 소정 개소에 설치되어 저수탱크(21)와 맞물리는 래치(11)를 구비하고 있다. 이에 의해, 스팀식 미용기(1)는, 저수탱크(21)의 기기 본체(1a)에 대한 착탈동작을 원터치의 푸시 조작으로 행하는 것이 가능하게 되어 있다.
즉, 저수탱크(21)를 장착하는 경우에는, 저수탱크(21)의 돌기부(21f)가 래치버튼(11a)을 누름으로써 래치후크(11b)가 돌출하고, 저수탱크(21)가 유지된다. 한편, 저수탱크(21)를 분리한 경우에는, 저수탱크(21)의 돌기부(21f)가 래치버튼(11a)을 다시 누름으로써 래치후크(11b)가 들어가, 저수탱크(21)의 유지가 해제되 도록 되어 있다. 이에 의해, 저수탱크(21)가 기기 본체(1a)에 대해 용이하게 착탈가능하게 되기 때문에, 착탈의 경우에 저수탱크(21)에서 기기 본체(1a)로의 물 넘침이 발생하는 것이 억제가능하게 된다.
급수저류부(22)는, 기기 본체(1a)에 장착된 저수탱크(21)의 하부에 인접하도록 배치된다. 급수저류부(22)는, 저수탱크(21)에서 공급된 물을 일시적으로 저류하면서 급수경로부(23)에 안내하기 위한 기능을 갖고 있다. 또, 급수저류부(22)는, 해당 급수저류부(22) 내의 물(W1)의 수위, 즉 스팀식 미용기(1)의 사용시 표준 수위가 도 3 중의 Y라인에 대략 일치하는 높이 위치에 설치되어 있다. 또, 본 실시형태에서는, 급수저류부(22) 내의 물(W1)과, 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)과, 복수로(33) 내의 물(W4)과, 비등실(32) 내의 물(W3)이, 상기 Y라인에 조화를 이루고 있다.
급수저류부(22)는, 상방향으로 돌출하는 돌출 핀(22a)을 갖고 있다. 이 돌출 핀(22a)은, 저수탱크(21)의 기기 본체(1a)로 장착하는 경우에, 지수 핀(21d)을 저수탱크(21)의 내측으로 밀어 넣어 원추 팩킹(21c)에 의한 저수탱크(21)의 수밀상태를 해제함으로써, 저수탱크(21) 내의 물을 급수저류부(22)에 공급시키기 위해서 설치된다.
급수경로부(23)는, 급수저류부(22) 및 가열기구(3)에 이들 하방에 위치하는 상태로 접속된다. 즉, 이 급수경로부(23)는, 급수저류부(22)의 하부에서 연직 하방으로 연장하는 제1 급수경로(23a)와, 제1 급수경로(23a)의 하단에서 전방을 향해 내려가면서 연장하는 제2 급수경로(23b)와, 제2 급수경로(23b)의 전단부에서 연직 상향으로 연장하여 가열기구(3)에 접속되는 제3 급수경로(23c)에 의해 구성된다. 이들 제1 내지 제3 급수경로(23a)(23b)(23c)는, 예컨대, 원통의 부재(예컨대 원통관 등)로 구성된다.
여기서, 본 실시형태에서는, 급수기구(2)는, 가열기구(3)에 공급하는 물을 미리가열가능한 예비가열경로부(24)를 추가로 포함하고 있다. 이 예비가열경로부(24)는, 연직방향으로 연장하는 동시에, 그 하단부가 제2 급수경로(23b)의 전후방향 대략 중간위치에 연결된다. 또, 제2 급수경로(23b)와 예비가열경로부(24)와의 연결부위가, 비등실(32)의 비교적 근처에 위치하도록 구성된다. 예비가열경로부(24)는, 예컨대, 원통의 부재(예컨대 원통관 등)로 구성된다. 이에 의해, 비등실(32)과 상기 연결부위 사이의 급수경로부(23)에 존재하는 저온인 물의 양을 감소시킬 수 있다.
가열기구(3)는, 열원으로서 히터(31)와, 비등실(32)과, 복수로(33)와, 연통공(34)과, 부직포(35)(도 6 및 도 7 참조)를 포함하고 있다.
히터(31)는, 연직면을 따라 배치되는 가열면(31a)과, 가열면(31a)의 배면측에 위치하는 방열면(31b)을 갖고 있다. 히터(31)는, 예컨대, 일방의 주면이 가열면(31a)이 되고, 이 주면에 대향하는 배면이 방열면(31b)으로 되어 판형상의 부재로 구성된다. 또, 히터(31)는, PTC(positive temperature coefficient) 소자를 사용하고 있고, 소정의 포화온도(예컨대, 약 190℃)에서 히터 온도를 안정시키도록 되어 있다.
비등실(32)은, 히터(31)의 가열면(31a)에 임해 배치되어 있고, 히터(31)의 열에 의해 비등실(32) 내의 물(W3)을 비등(가열기화)시켜 스팀을 발생시키도록 구성되어 있다.
이 비등실(32)은, 도 5에 도시한 바와 같이, 수면의 면적이 작고, 또 히터(31)의 가열면(31a)과의 접촉 면적이 커지도록, 연직면을 따라 넓어지는 박형 평판형상을 갖고 있다. 또, 도 5의 사선의 해칭은, 비등실(32)에 급수된 물을 나타내고 있다. 이에 의해, 히터(31)에 의한 물(W3)의 가열효율을 향상시키면서, 물(W3)의 감소량에 대응하는 수위의 저하정도를 크게 할 수 있기 때문에, 비등실(32) 내의 수위의 저하에 연동하여 저수탱크(21)에서 물이 공급되는 구성의 본 실시형태의 스팀식 미용기(1)에 있어서, 물(W3)의 감소량이 비교적 적은 상태에서의 급수가 가능하게 된다. 이에 의해, 비등실(32)로의 1회마다의 급수량을 적게 하는 것이 가능하기 때문에, 비등실(32) 주변의 급수에 의해 급격한 온도저하가 억제가능하게 된다. 비등실(32)은, 예컨대, 주면을 형성하는 제1 부재와, 이 주면에 대향하는 대향면을 형성하는 제2 부재와, 제1 부재 및 제2 부재를 연결하는 양측면을 형성하는 제3 및 제4 부재와, 저면을 형성하는 제5 부재를 구비하고, 이들 제1 내지 제5 부재로 상기 박형 평판형상의 공간을 형성하고 있고, 이 제1 부재가 히터(31)로 된다.
또, 본 실시형태에서는, 상술의 예비가열경로부(24)는, 그 경로의 거의 전체 길이를 히터(31)의 방열면(31b)에 접촉시킨 상태에서 방열면(31b)에 대향하여 배치되어 있고, 히터(31)의 여열을 이용하여 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)을 가열가능하도록 구성되어 있다. 또, 예비가열경로부(24) 및 방열면(31b)은, 「예비가열 기구」의 일례에 상당한다. 본 실시형태의 스팀식 미용기(1)에서는, 히터(31)의 가열능력을 조정하거나, 혹은 예비가열경로부(24)와 방열면(31b) 사이에 간섭부재를 배치하거나 함으로써, 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)을 비등시키지 않고 가열하는 것이 가능하고, 물(W2)의 온도가 상시 약 80℃ 내지 약 90℃로 되어 있다. 또, 저수탱크(21)로부터의 급수시에 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)과 제2 급수경로(23b) 내의 물이 서로 혼합되어 형성되는 혼합수의 온도가 약 60℃ 내지 약 70℃로 되도록, 예비가열경로부(24) 및 제2 급수경로(23b)의 유로단면적 등의 값이 설정된다.
복수로(33)는, 제3 급수경로(23c)의 상단부와 스팀토출기구(4)에 접속되어 있고, 스팀토출기구(4)에서 발생한 자중으로 유하하는 결로수를 제3 급수경로(23c)로 되돌려 보냄으로써 재이용하기 위해서 설치되어 있다. 이에 의해, 스팀화 효율(급수량에 대한 스팀 발생량의 비)을 향상시키고 있다. 복수로(33)는, 예컨대, 원통의 부재(예컨대 원통관 등)로 구성된다. 또, 복수로(33) 내의 물(W4)은, 스팀토출기구(4)에 충만하는 고온의 스팀에 상시 접촉함으로써, 비교적 고온상태로 되어 있다.
연통공(34)은, 제3 급수경로(23c)와 비등실(32)을 연결하기 위해서 설치되고, 예컨대, 그 일단이 제3 급수경로(23c)에 연통하는 동시에 타단이 비등실(32)에 연통하는 원통의 부재(예컨대 원통관 등)로 구성된다. 이 연통공(34)은, 그 단면적이 길이에 대해 비교적 작게(예컨대, 직경이 약 2.5mm, 길이가 약 18.0mm) 되도록 구성되어 있고, 제3 급수경로(23c)에서 비등실(32)로의 급수량을 규제하고 있 다. 이에 의해, 히터(31)의 가열능력에 적합한 양의 물이 비등실(32)에 공급가능하게 되어 있다.
또, 연통공(34)은, 도 6 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 비등실(32)측의 단부에 연직 하방으로 연장하도록 형성된 세로홈(34a)을 갖고 있다. 이 세로홈(34a)은, 홈폭이 연통공(34)의 직경(약 2.5mm)에 대략 일치하고, 홈 깊이(d)가 약 1.25mm가 되도록 구성되어 있다. 이에 의해, 연통공(34) 내의 물에, 모세관 현상에 의해 비등실(32)측으로 잡아 당기는 인력을 작용시킬 수 있으므로, 연통공(34)에서 물이 정체하는 것을 방지할 수 있다.
부직포(35)는, 우수한 흡수성을 갖고 있고, 도 6에 나타낸 바와 같이, 그 일부를 히터(31)의 가열면(31a)에 접속시킨 상태에서 비등실(32)의 내부 저면 전역에 걸쳐 배치된다. 이에 의해, 스팀식 미용기(1)의 사용후에, 예컨대 비등실(32)의 벽면(32a)을 따라 유하하여 온 스팀토출기구(4) 내의 결로수가, 부직포(35)에 흡수된 상태에서 히터(31)에 접촉하여 부직포(35)의 히터(31)와의 접촉부분에 있어서 서서히 증발하기 때문에, 결로수가 히터(31)에 직접 접촉하는 것에 기인하는 스팀압의 급격한 상승이 억제가능하게 된다.
또, 부직포(35)는, 히터(31)로 상시 가열되어 있기 때문에, 흡수포화가 생기기 어렵고 흡수가능한 상태를 용이하게 유지할 수 있도록 되어 있다. 이러한 부직포(35)의 포화흡수량은, 히터(31)에 유하(流下)접촉할 가능성이 있는 결로수의 총량 이상으로 설정되는 것이 바람직하다.
스팀토출기구(4)는, 스팀발생부(41)와, 스팀경로부(42)와, 굴곡탄성체(43) 와, 노출(44)을 포함하고 있다.
스팀발생부(41)는, 비등실(32)의 상부에 연결 설치되어 있고, 비등실(32) 내에서 물(W3)을 비등시킴으로써 얻어진 스팀을 일시적으로 수용하도록 구성된다. 이 스팀발생부(41)는, 도시 생략의 연결로를 통해 스팀경로부(42)에 연결되어 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상술의 예비가열경로부(24)의 상부는, 엘보우(50)를 통해 스팀발생부(41)에 연결된다. 엘보우(50)는, 예컨대, 그 일단이 예비가열경로부(24)의 상부에 연통하여 수평으로 연장하는 동시에 연직 하방으로 굴곡하여 그 타단이 스팀발생부(41)에 연통하는 원통의 부재로 구성된다. 또, 스팀발생부(41)는, 「스팀경로」의 일례이다. 이처럼, 예비가열경로부(24)의 상부를, 스팀압의 발생원이고 스팀 응축 등에 의한 압력 변동이 비교적 일어나기 어려운 스팀발생부(41)에 접속함으로써, 용이하게 예비가열경로부(24)와 스팀토출기구(4)와의 내압 평형화가 가능하게 된다. 또, 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)은, 스팀토출기구(4)에 충만하는 고온의 스팀에 상시 접촉함으로써, 비교적 고온상태로 되어 있다.
이러한 스팀발생부(41)는, 예컨대, 높이가 짧고 바닥과 덮개를 갖는 단면 사각형의 원통부재이고, 저면의 일부에 슬릿 형상의 제1 개구부가 형성되어 있고, 비등실(32)이 제1 개구부로 연통되어, 상면의 일부에 제2 및 제3 개구부가 형성되어 있고, 상기 연결로가 이 제2 개구부로 연통되고, 그리고, 엘보우(50)가 제3 개구부로 연통되어 있다.
스팀경로부(42)는, 굴곡탄성체(43)를 통해 노즐(44)에 접속되어 있고, 높이 가 다른 구조의 돌비(突沸)방어벽(45)과, 스팀을 미세화하는 고압방전장치(46)를 갖고 있다. 굴곡탄성체(43)는, 노즐(44)의 회동(상하이동)지점으로 기능하도록 구성되어 있다. 굴곡탄성체(43)는, 예컨대 탄성재료제가 굴곡한 원통형상부재로 구성된다.
노즐(44)은, 굴곡탄성체(43)에 접속되는 노즐 내통(47)과, 노즐 내통(47)에 동축인 노즐 외통(48)을 구비한 2중벽 구조를 갖고 있다. 노즐 내통(47)의 선단에는, 스팀토출구(49)가 설치된다. 예컨대, 노즐 내통(47) 및 노즐 외통(48)의 선단에 설치된 덮개부재에, 노즐통이 삽입되어 배치되는 원형의 구멍이 천공되고, 스팀토출구(49)로 된다. 이 스팀토출구(49)는, 기기 본체(1a)에서 이간하는 방향으로 연출하여 형성된다. 이러한 구성에 의하면, 사용자의 시술부위에 스팀토출구(49)를 근접시킬 수 있기 때문에, 목표로 하는 시술부위에 용이하게 스팀을 맞닿게 할 수 있는 동시에, 사용자가 기기 본체(1a)로 접근하는 동작이 불필요하게 되기 때문에, 사용자는, 편안한 자세에서 스팀식 미용기(1)를 사용할 수 있다. 또한, 노즐(44)이 신축가능하게 광범위로 가동한 구성으로 됨으로써, 스팀토출가능한 범위가 넓어지기 때문에, 사용성의 향상이 더 가능하게 된다.
또, 노즐 내통(47)과 노즐 외통(48) 사이에는, 예컨대 약 5.0mm의 두께를 갖는 발포고무 등의 단열재(H)가 설치되어 있고, 노즐(44)의 단열효과를 향상시키고 있다. 또, 단열재(H) 대신에 공기층이 설치되어도 좋고, 단열재(H)와 공기층과의 적층 구조로 됨으로써 노즐(44)의 단열효과가 더 향상가능하게 된다.
또, 스팀식 미용기(1)는, 해당 스팀식 미용기(1)의 동작을 제어하는 제어회 로(12)를 기기 본체(1a) 내의 전방에 구비하고 있다. 이 제어회로(12)는, 가열기구(3)의 히터(31)와, 전원 ON/OFF 조작용의 전원버튼(13)에 연결된 전환스위치(14)와, 스팀토출기구(4)의 고압방전장치(46)와, 전력공급용 전원코드(15)에 전기적으로 접속된다.
또, 스팀식 미용기(1)는, 기기 본체(1a)의 후방에 설치된 배수구(16)를 구비하고 있다. 이 배수구(16)는, 기기 본체(1a)에서 저수탱크(21)를 이탈시킴으로써 외부로 노출하도록 구성된다. 즉, 스팀식 미용기(1)의 사용후에 저수탱크(21)를 기기 본체(1a)로부터 이탈시킨 상태에서, 급수저장부(22)가 하방이 되도록 기기 본체(1a)를 기울임으로써, 기기 본체(1a) 내의 잔류수가 배수구(16)로부터 배수되도록 되어 있다.
또, 배수구(16)는, 스팀식 미용기(1)의 사용시 표준수위인 Y라인(도 3 참조)보다 상방에서, 또, 비등실(32) 내의 물(W3)에 의해 돌비가 생기기 쉬운 소정의 높이 위치보다 하방에 배치되어 있다. 이에 의해, 예컨대 전용의 저수탱크(21) 이외의 급수수단을 이용하여 급수가 행해진다고 해도, 규정의 수위를 상회해 급수된 물이, 배수구(16)에서 기기 본체(1a) 외부로 배출되기 때문에, 과잉급수분이 기기 본체(1a) 내부에 급수되는 것에 기인하여 스팀토출구(49)에서 뜨거운 탕적(湯滴)이 튀는 것과 같은 문제점의 발생이 방지된다. 또, 사용시 표준수위의 Y라인의 바로 위 위치에 배수구(16)를 배치함으로써, 배수가능하게 되는 기기 본체(1a)의 경사각도를 작게 할 수 있기 때문에, 배수에 대한 취급성이 향상가능하게 된다.
또, 스팀식 미용기(1)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 기기 본체(1a)의 측방에 설치된 시온(示溫)부재(17)를 구비하고 있다. 이 시온부재(17)는, 양면 테이프로 기기 본체(1a)에 접착 고정되어 있고, 예컨대 약 40℃에서 변색하도록 되어 있다. 즉, 시온부재(17)의 색이, 시온부재(17)를 부착한 부위의 온도가 40℃를 초과한 경우에, 예컨대 청색에서 핑크색으로 변화하고, 상기 부위의 온도가 40℃ 이하로 내려간 경우에, 다시 청색으로 변화하도록 설정되어 있다. 또, 시온부재(17)는, 히터(31)의 온도와 상관이 있는 기기 본체(1a)의 소정 개소에 부착되는 것이 바람직하다.
이처럼 구성하면, 스팀식 미용기(1)의 사용후에, 기기 본체(1a)가 고온상태에 있는 경우, 시온부재(17)의 색이 핑크색으로 변화하고 있기 때문에, 사용자는, 기기 본체(1a)가 고온상태에 있는 것을 확실하고 또 용이하게 시인할 수 있다. 이에 의해, 예기치 못한 돌비(突沸) 등을 방지할 수 있고, 안정성을 향상시킬 수 있다.
다음에, 본 실시형태의 스팀식 미용기(1)의 사용 순서에 관해서 설명한다.
우선, 기기 본체(1a)에서 분리한 저수탱크(21)에 규정량의 물이 주입되고, 뚜껑이 덮혀진다. 그리고, 저수탱크(21)가 기기 본체(1a)에 부착됨으로써 급수저류부(22)에 연결된다. 이 경우에, 급수저류부(22)의 돌출 핀(22a)에 의해 지수 핀(21d)이 저수탱크(21)의 내측에 밀어 넣어져, 원추 팩킹(21c)의 수밀성이 해제됨으로써, 저수탱크(21) 내의 물이 급수저류부(22)에 공급된다.
급수저류부(22)에 공급된 물은, 급수경로부(23)를 통해 예비가열경로부(24), 비등실(32) 및 복수로(33)에 공급된다. 여기서, 비등실(32)에는 연통공(34)을 경 유하여 물이 공급된다. 또, 급수저류부(22) 내의 물(W1)과, 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)과, 복수로(33) 내의 물(W4)과, 비등실(32) 내의 물(W3)은, 도 3 중의 Y라인에서 조화를 이루고 있다.
다음에, 전원버튼(13)이 눌려져 전환스위치(14)가 ON상태로 되어, 히터(31) 및 고압방전장치(46)에 전력이 공급된다. 그리고, 히터(31)의 열로 비등한 비등실(32) 내의 물(W3)에서 발생한 스팀은, 비등실(32)의 상부에 설치된 스팀발생부(41)를 거쳐 스팀경로부(42)를 통과할 때에, 고압방전장치(46)에 의해 미세화된다. 그리고, 노즐(44)을 통해 스팀토출구(49)에서 기기 본체(1a) 외부로 토출된다.
그 후, 비등실(32) 내의 물(W3)은, 스팀화에 수반하여 차례로 감소하고, 예비가열경로부(24) 내의 물(W2) 및 복수로(33) 내의 물(W4)과 함께 그 수위가 저하한다. 그러나, 물(W2), 물(W3) 및 물(W4)의 수면에는 스팀토출기구(4)의 스팀압이 가해져 있고, 대기압에 개방된 상태의 급수저류부(22) 내의 물(W1)과, 물(W2)~물(W4) 사이에 수위차가 발생하고 있다. 이 상태에서, 물(W1)의 수위가 상기 Y라인을 하회한 경우에, 저수탱크(21) 내에 공기가 진입하고, 저수탱크(21) 내의 물이 급수저류부(22)에 적량 공급된다.
이 때, 저수탱크(21)에서 공급된 물이 급수경로부(23)를 비등실(32)을 향해 진행하지만, 히터(31)의 방열면(31b)에서 가열된 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)과 제2 급수경로(23b)에 있어서 서로 혼합되기 때문에, 저수탱크(21)에서 공급된 물은, 그 수온이 상승한 상태에서 비등실(32)에 공급된다. 이에 의해, 비등실(32) 주변의 급수에 의한 급격한 온도 저하가 억제되기 때문에, 급수에 의한 스팀토출기 구(4)의 스팀압의 급격한 저하가 억제가능하게 된다.
그리고, 물(W1)~물(W4)의 수위가, 연통공(34)의 최하점에 있는 도 3 중의 Z라인으로 평형상태가 됨으로써, 비등실(32) 내의 물(W3)의 스팀화가 정지하고, 스팀토출구(49)에서의 스팀의 토출이 행해지지 않게 된다.
스팀식 미용기(1)의 사용후에는, 저수탱크(21)를 기기 본체(1a)에서 이탈시켜, 급수저류부(22)가 하방이 되도록 기기 본체(1a)가 기울어져 기기 본체(1a) 내의 잔류수가 배수구(16)에서 배수된다.
본 실시형태에서는, 상기와 같이, 저수탱크(21)에서 비등실(32)에 공급되는 물을 미리 가열하는 예비가열경로부(24)를 설치함으로써, 비등실(32)의 수량의 감소에 수반하여 저수탱크(21)에서 비등실(32)에 공급되는 물의 온도를 높게 할 수 있으므로, 급수에 의해 비등실(32) 주변의 온도가 급격히 저하하는 것을 억제할 수 있다. 이 때문에, 급수시에 스팀발생부(41)의 스팀압이 급격히 저하하는 것을 억제할 수 있으므로, 스팀토출구(49)에서 토출되는 스팀량이 급수시 마다 크게 감소하는 것에 기인하여 스팀토출구(49)에서 토출되는 스팀에 맥동이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 본 실시형태에서는, 스팀토출구(49)에서 스팀을 상시 안정하게 토출할 수 있으므로, 사용시의 쾌적성을 충분히 향상시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 히터(31)의 여열을 이용하여 물을 가열하는 예비가열경로부(24)를 설치함으로써, 저수탱크(21)로부터 비등실(32)에 공급되는 물을 미리 가열하기 위한 히터를 별도 설치할 필요가 없으므로, 부품 수의 증가, 및 기기 본체(1a)의 대형화를 억제할 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 히터(31)에 대향 배치한 예비가열경로부(24)를 제2 급수경로(23b)에 연결함으로써, 저수탱크(21)로부터의 급수시에, 예비가열경로부(24) 내의 비교적 고온의 물을 제2 급수경로(23b) 내의 비교적 저온의 물에 혼합시킬 수 있으므로, 비등실(32)의 수량의 감소에 수반하여 저수탱크(21)에서 비등실(32)에 공급되는 물의 온도를 높게 할 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 예비가열경로부(24)를 히터(31)의 방열면(31b)에 대향하여 배치함으로써, 히터(31)의 비등실(32)에 대한 가열효율을 저하시키지 않고, 히터(31)의 여열만을 이용하여 물을 가열할 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 예비가열경로부(24)의 상부를 스팀발생부(41)에 연결시킴으로써, 예비가열경로부(24)가 막다른 골목 형상이 되는 것을 방지할 수 있으므로, 예비가열경로부(24)에 대해 용이하게 물을 출입시킬 수 있다. 이에 의해, 저수탱크(21)로부터의 급수시에 예비가열경로부(24) 내의 비교적 고온의 물을 제2 급수경로(23b) 내의 비교적 저온의 물에 용이하게 혼합시킬 수 있으므로, 비등실(32)에 공급되는 물의 온도를 용이하게 높게 할 수 있다. 또, 예비가열경로부(24)의 상부에 스팀을 충만시킬 수 있으므로, 예비가열경로부(24)의 물을 고온의 스팀에 접촉시킬 수 있다. 이에 의해, 예비가열경로부(24) 내의 물을 스팀에 의해서도 가열할 수 있으므로, 예비가열경로부(24)의 가열 효율을 향상시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 물을 비등시키지 않고 가열하도록 구성된 예비가열경로부(24)를 설치함으로써, 예비가열경로부(24)에서 돌비가 발생하 는 것을 억제할 수 있으므로, 해당 스팀식 미용기(1)의 안전성을 향상시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 저수탱크(21)를 기기 본체(1a)에 대해 착탈가능하게 구성함으로써, 기기 본체(1a)로부터 이탈시킨 상태의 저수탱크(21)에 대해 물을 교체할 수 있으므로, 저수탱크(21)에 대한 물의 교체작업성을 향상시킬 수 있다. 또, 저수탱크(21)를 히터(31)에서 떨어진 위치에 배치함으로써, 저수탱크(21)가 히터(31)에서의 여열로 고온이 되는 것을 억제할 수 있으므로, 상기의 물 교체작업에 있어서 안전성을 향상시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 예비가열경로부(24)의 하단부를 제2 급수경로(23b)에 접속함으로써, 급수저류부(22) 내의 물(W1)이 예비가열경로부(24) 내의 물(W2)의 온도의 영향을 받기 어렵게 됨으로써, 물(W1)의 수온상승을 억제할 수 있다. 이에 의해, 안전성을 향상시킬 수 있다.
또, 본 실시형태에서는, 상기와 같이, 급수경로부(23)를 비등실(32)의 하방에 위치하도록 배치함으로써, 급수경로부(23) 내에 상시 물이 존재하는 상태가 되므로, 사용시에 가열기구(3)로부터 스팀이 역류하는 것을 방지할 수 있다.
또, 상기 실시형태에서는, 제2 급수경로(23b)에 하단부가 연결되는 예비가열경로부(24)를 히터(3)의 방열면(31b)에 대향하여 배치하는 구성의 예비가열기구를 설치하는 예에 관해서 나타내었지만, 이에 한하지 않고, 도 8에 도시한 바와 같이, 제2 급수경로(23b)에 상단부가 연결되는 예비가열경로(124)와, 예비가열경로(124)의 하단부에 배치되는 예비비등실(132)과, 예비비등실(132)에 대향 배치되는 예비 히터(131)에 의해 구성되는 변형예 1에 의한 예비가열기구를 설치해도 좋다. 이 변형예 1에 의한 예비가열기구는, 예컨대, 높이가 짧고 바닥과 덮개를 갖는 원통형상 부재이고, 저면을 구성하는 부재가 상기 예비히터(131)로 되어, 상면의 일부에 개구부가 형성되어 있고, 원통관의 상기 예비가열경로(124)가 이 개구부로 연통되어 있다. 이 변형예 1에 의한 예비가열기구에 있어서도, 상기 실시예와 거의 동일한 효과를 얻는 것이 가능하다.
또, 도 9에 나타낸 바와 같이, 가열면(231a)이 수평이 되도록 히터(231)를 배치하는 동시에, 가열면(231a) 상방에 비등실(232)을 설치하고, 제3 급수경로(23c)를, 히터(231)를 수직방향으로 관통하는 연통공(234)에 접속함으로써, 급수저류부(22)에서의 물을 비등실(232)에 공급하도록 구성된 변형예 2에 의한 예비가열기구를 설치하여도 좋다. 이 변형예 2에 의한 비등실(232)은, 예컨대, 바닥과 덮개를 갖는 원통형상부재이고, 저면을 구성하는 부재가 상기 히터(231)로 되어, 상면의 일부에 제1 및 제2 개구부가 형성되어 있고, 상기 연결로가 이 제1 개구부에서 연통되어, 상기 엘보우(50)가 제2 개구부에서 연통되고, 그리고, 히터(231)에 원통형상의 연통공(234)이 천공되어 있다. 이 변형예 2에 의한 예비가열기구에 있어서도, 상기 실시형태와 거의 동일한 효과를 얻는 것이 가능하다.
또, 상기 실시형태에서는, 연통공(34)의 비등실(32)측의 단부에 연직 하방으로 연장하도록 세로홈(34a)을 형성하는 예에 관해서 나타내었지만, 이에 한하지 않고, 도 10 및 도 11의 변형예 3에 나타내는 바와 같이, 연통공(34)의 비등실(32)측의 단부 근방에, 연통공(34)의 출구로부터 하방으로 아래로 늘어뜨려지는 도수부재 (34b)(예컨대, 금속사슬 등)를 설치하여도 좋다. 이와 같이 구성하여도, 상기 실시형태와 거의 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또, 상기 실시형태에서는, 예비가열경로부(24)를 히터(31)의 방열면(31b)에 접촉배치하는 예에 관해서 나타내었지만, 이에 한하지 않고, 예비가열경로부(24)를 히터(31)의 가열면(31a)에 접촉 배치하여도 좋다. 이 경우, 예비가열경로부(24)를 가열하는 분만큼 히터 면적을 확대함으로써 스팀 발생량의 저하를 방지하는 것이 바람직하다.
또, 상기 실시형태에서는, 예비가열경로부(24)의 상부를, 엘보우(50)를 통해 스팀발생부(41)에 연결하는 예에 관해서 나타내었지만, 이에 한하지 않고, 예비가열경로부(24)의 상부를, 예컨대 스팀경로부(42)의 돌비 방어벽(45)의 하부 근방 등에 연결하여도 좋다.
또, 상기 실시형태에서는, 본 발명을, 기기 본체(1a)에 대해 착탈가능하게 구성된 저수탱크(21)를 구비하는 스팀식 미용기(1)에 적용하는 예에 관해서 나타내었지만, 이에 한하지 않고, 저수탱크가 기기 본체에 일체로 설치된 스팀식 미용기에도 본 발명을 적용가능하다.
본 명세서는, 상기와 같이 다앙한 발명을 개시하고 있지만, 그 중 주요한 발명을 이하에 정리한다.
제1 양태에 따른 스팀식 미용기는, 물을 저류가능한 저수탱크와, 상기 저수탱크에서 공급된 물을 히터의 열로 비등시켜 스팀을 발생시키는 비등실과, 상기 비 등실에서 발생한 스팀을 기기 본체의 외부로 토출하는 스팀토출구를 구비하고, 피부에 상기 스팀을 맞닿게 하여 살갗 표면을 손질하는 스팀식 미용기로서, 상기 저수탱크에서 상기 비등실까지의 급수경로에 설치되고, 상기 비등실에 공급된 물을 미리 가열하는 예비가열기구를 더 구비한다.
이 구성에 의하면, 저수탱크에서 비등실에 공급되는 물을 미리 가열하는 예비가열기구를 설치함으로써, 비등실의 수량의 감소에 수반하여 저수탱크로부터 비등실에 공급되는 물의 온도를 높게 할 수 있으므로, 급수에 의해 비등실 주변의 온도가 급격히 저하하는 것이 억제가능하게 된다. 이 때문에, 급수시에 기기 내의 스팀압이 급격히 저하하는 것이 억제가능하게 되므로, 스팀토출구에서 토출되는 스팀량이 급수시마다 크게 감소하는 것에 기인하여, 스팀토출구에서 토출되는 스팀에 맥동이 발생하는 것이 억제될 수 있다. 이에 의해, 스팀토출구에서 스팀을 보다 안정하게 토출할 수 있으므로, 사용시의 쾌적성이 보다 향상가능하게 된다.
제2 양태에 따른 스팀식 미용기는, 상술의 제1 양태에 따른 스팀식 미용기에 있어서, 상기 예비가열기구는, 상기 히터의 여열(余熱)을 이용하여 물을 가열하는 것이다. 이 구성에 의하면, 부품 수의 증가, 및, 기기 본체의 대형화가 억제가능하게 된다.
제3 양태에 따른 스팀식 미용기는, 이들 상술의 제1 또는 제2 양태에 따른 스팀식 미용기에 있어서, 상기 히터는, 대략 연직면을 따라 배치되는 가열면을 갖는 동시에, 상기 비등실은, 상기 가열면에 대향하여 배치되어 있고, 상기 급수경로는, 대략 연직방향으로 연장하여 상기 저수탱크의 하부에 접속되는 제1 급수경로 와, 상기 제1 급수경로의 하단에서 대략 수평으로 연장하는 제2 급수경로와, 상기 제2 급수경로의 단부에서 대략 연직 상향으로 연장해 상기 비등실에 접속되는 제3 급수경로를 포함하고, 상기 예비가열기구는, 대략 연직방향으로 연장해 상기 제2 급수경로에 하부가 연결되는 예비가열경로를 포함하고, 상기 예비가열기구는, 상기 히터의 가열면의 배면측에 위치하는 방열면에 대향하여 배치되는 것이다. 이 구성에 의하면, 히터의 여열만을 이용하여 저수탱크에서 비등실에 공급되는 물의 온도를 높게 하는 것이 가능하게 된다.
제4 양태에 따른 스팀식 미용기는, 상술의 제3 양태에 따른 스팀식 미용기에 있어서, 상기 예비가열경로의 상부가, 상기 비등실 이후의 스팀 경로에 연결되어 있는 것이다. 이 구성에 의하면, 예비가열경로의 가열효율을 향상시키면서 비등실에 공급되는 물의 온도를 용이하게 높게 하는 것이 가능하게 된다.
제5 양태에 따른 스팀식 미용기는, 이들 상술의 제1 내지 제4 양태 중 어느 하나에 따른 스팀식 미용기에 있어서, 상기 예비가열기구는, 물을 비등시키지 않고 가열하는 것이다. 이 구성에 의하면, 예비가열기구에서 돌비의 발생이 억제되어, 안정성이 향상된다.
제6 양태에 따른 스팀식 미용기는, 이들 상술의 제1 내지 제5 양태 중 어느 하나에 따른 스팀식 미용기에 있어서, 상기 저수탱크는, 상기 기기 본체에 대해 착탈가능한 것이다. 이 구성에 의하면, 저수탱크에 대한 물의 교체작업성이 향상가능하게 된다.
본 발명을 표현하기 위해서, 상술에 있어서 도면을 참조하면서 실시형태를 통해 본 발명을 적절히 충분하게 설명하였지만, 당업자라면 상술의 실시형태를 변경 및/또는 개량하는 것은 용이하게 이룰 수 있다는 것을 인식해야 할 것이다. 따라서, 당업자가 실시하는 변경형태 또는 개량형태가, 청구의 범위에 기재된 청구항의 권리범위를 이탈하는 레벨의 것이 아니한, 해당 변경형태 또는 해당 개량형태는, 해당 청구항의 권리범위에 포괄되는 것으로 해석된다.

Claims (6)

  1. 물을 저류가능한 저수탱크와, 상기 저수탱크로부터 급수경로를 거쳐 공급된 물을 히터의 열로 비등시켜 스팀을 발생시키는 비등실과, 상기 비등실에서 발생한 스팀을 기기 본체의 외부로 토출하는 스팀토출구를 구비하고, 피부에 상기 스팀을 맞닿게 하여 살갗 표면을 손질하는 스팀식 미용기에 있어서,
    상기 급수경로의 도중에 상기 급수경로와 연결된 예비가열경로를 가지고,
    상기 비등실로 공급되는 도중의 물을 상기 예비가열경로에서 가열된 물과 혼합시킴으로써 미리 가열하는 예비가열기구를 더 구비한 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 예비가열기구는, 상기 히터의 여열(余熱)을 이용하여 물을 가열하는 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 히터는, 대략 연직면을 따라 배치되는 가열면을 갖는 동시에,
    상기 비등실은, 상기 가열면에 대향하여 배치되어 있고,
    상기 급수경로는, 대략 연직방향으로 연장하여 상기 저수탱크의 하부에 접속되는 제1 급수경로와, 상기 제1 급수경로의 하단으로부터 대략 수평으로 연장하는 제2 급수경로와, 상기 제2 급수경로의 단부로부터 대략 연직 상향으로 연장해 상기 비등실에 접속되는 제3 급수경로를 포함하고,
    상기 예비가열기구는, 대략 연직방향으로 연장해 상기 제2 급수경로에 하부가 연결되는 예비가열경로를 포함하고,
    상기 예비가열경로는, 상기 히터의 가열면의 배면측에 위치하는 방열면에 대향하여 배치되는 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 예비가열경로의 상부가, 상기 비등실 이후의 스팀 경로에 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 예비가열기구는, 물을 비등시키지 않고 가열하는 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 저수탱크는, 상기 기기 본체에 대해 착탈가능한 것을 특징으로 하는 스팀식 미용기.
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