KR100825860B1 - Menufacturing apparatus for flat panel disply panel and menufacturing method using the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1 및 도 2는 종래 연마테이블을 도시한 것이다. 1 and 2 show a conventional polishing table.
도 3은 종래 연마장치를 도시한 것이다. 3 shows a conventional polishing apparatus.
도 4는 본 발명에 따른 테이블의 제 1 실시예를 도시한 것이다. 4 shows a first embodiment of a table according to the invention.
도 5는 상기 제 1 실시예의 회전부재를 도시한 것이다. 5 shows the rotating member of the first embodiment.
도 6는 도 4에 도시된 테이블을 구비한 연마장치를 나타낸 것이다. FIG. 6 shows a polishing apparatus having the table shown in FIG. 4.
도 7a 및 도 7b는 도 5에 도시된 연마장치를 이용한 연마방법을 도시한 것이다. 7A and 7B illustrate a polishing method using the polishing apparatus shown in FIG.
도 8a 및 도 8b는 본 발명에 따른 다른 연마방법을 도시한 것이다. 8A and 8B show another polishing method according to the present invention.
도 9는 본 발명에 따른 테이블의 제 2 실시예 및 이를 구비한 연마장치를 나타낸 것이다. 9 shows a second embodiment of a table according to the present invention and a polishing apparatus having the same.
**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **
100: 테이블 110: 'ㄱ'형태 테이블100: table 110: 'ㄱ' type table
111: 진공홀 121,122,123: 보조테이블111: vacuum hole 121,122,123: auxiliary table
200: 연마장치 210: 제 1 연마모듈200: polishing apparatus 210: first polishing module
220: 제 2 연마모듈 230: 제 1 연마부220: second polishing module 230: first polishing portion
231: 스핀들 232: 연마지석231: spindle 232: grinding wheel
240: 제 2 연마부 250: 제 3 연마부240: second polishing portion 250: third polishing portion
260: 수평이송수단 270: 수직이송수단 260: horizontal transfer means 270: vertical transfer means
A: 제 1 장변 B: 제 1 단변 A: first long side B: first short side
C: 제 2 장변 D: 제 2 단변 C: 2nd long side D: 2nd short side
본 발명은 평판 디스플레이의 연마장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 패널 또는 패널을 흡착한 테이블의 회전없이 패널의 4변을 연속하여 연마할 수 있는 연마장치 및 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE
일반적으로 평판 디스플레이 패널은 원판유리에서 필요한 크기로 절단하여 사용한다. 이렇게 절단된 패널은 모서리가 날카롭기 때문에 연마지석을 이용하여 네 변을 연마하는 공정을 거치게 된다. In general, a flat panel display panel is cut to the required size from the original glass. Since the cut panel has sharp edges, the panel is polished to four sides using abrasive grinds.
도 1을 참조하면, 종래의 연마장치는 패널(p')을 흡착하는 사각형상의 테이블(10)과 연마지석(20)을 포함하여 이루어진다. 상기 테이블(10)은 베이스(12)와 상판(11)으로 구성된다. 또한 상기 연마지석(20)은 상하 한쌍(21,22)의 구비되어 패널(p')의 모서리 상,하부를 동시에 연마한다. Referring to FIG. 1, a conventional polishing apparatus includes a rectangular table 10 and an
그러나 이와 같이 구성된 종래의 테이블(10)은 흡착할 수 있는 패널의 면적이 정해져 있기 때문에 면적이 달라질 경우에는 상판을 교체해야 하는 번거로움이 있었다(도 2 참조). However, since the conventional table 10 configured as described above has a fixed area of the panel that can be adsorbed, when the area is different, there is a need to replace the top plate (see FIG. 2).
도 3을 참조하면, 종래의 연마장치(30)는 제 1 연마모듈(31)로 패널(p)을 로딩하여 테이블이 흡착하면, 상기 테이블이 수평이동하면서 고정설치된 단변연마용 연마부(20a, 20b)를 지나면서 제 1 단변(B) 및 제 2 단변(D)이 동시에 연마된다. 물론, 이 때 단변(B,D)의 상하부 모서리를 동시에 연마하는 것이다. Referring to FIG. 3, the
이와 같이 양 단변(B,D)이 연마되면, 상기 패널(p)은 회전모듈(32)로 이송되어 상기 패널을 90°회전한다. As such, when both short sides B and D are polished, the panel p is transferred to the
회전된 상기 패널은 제 2 연마모듈(33)로 이송되어 마찬가지 방법으로 테이블이 수평이동하면서 고정설치된 장변연마용 연마부(20c, 20d)를 지나면서 제 1 장변(A) 및 제 2 장변(C)을 동시에 연마하는 것이다. The rotated panel is transferred to the
그러나 이러한 종래의 연마장치(30)는 패널의 4변을 연마하기 위하여는 반드시 90°회전을 해야 하는데, 이러한 패널의 회전 때문에 패널 회전반경이 필요하여 장비 폭이 지나치게 넓다는 문제점이 있었다. 패널은 갈수록 대형화되는 추세인데, 예를 들어 100인치 패널의 경우 회전반경을 감안한 장비의 폭은 3m 가까이 되어 제작비용 상승 뿐만 아니라 장비를 운반하는데 매우 곤란한 실정이다. However, the
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목 적은 패널 또는 패널을 흡착한 테이블의 회전없이 패널의 4변을 연속하여 연마할 수 있는 연마장치 및 방법을 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a polishing apparatus and method capable of continuously polishing four sides of a panel without rotation of a table or panel adsorbing the panel.
본 발명의 다른 목적은 패널의 면적에 대응하여 테이블을 교체할 필요가 없는 연마장치 및 방법을 제공함에 있다. It is another object of the present invention to provide a polishing apparatus and method which does not require replacing the table corresponding to the area of the panel.
위와 같은 기술적 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 의한 평판 디스플레이의 연마장치는 상기 패널을 제 1 장변과 제 1 단변 연마가 가능한 상태로 흡착하는 제 1 테이블;상기 제 1 장변과 제 1 단변이 연마된 패널을 수평방향으로 이송하는 수평이송수단; 이송된 상기 패널을 제 2 장변과 제 2 단변 연마가 가능한 상태로 흡착하는 제 2 테이블;상기 제 1 테이블에 흡착된 패널의 제 1 장변을 연마하는 제 1 연마부;상기 제 1 테이블에 흡착된 패널의 제 1 단변과, 상기 제 2 테이블에 흡착된 패널의 제 2 단변을 연마하는 제 2 연마부; 및 상기 제 2 테이블에 흡착된 패널의 제 2 장변을 연마하는 제 3 연마부를 포함하여 이루어진다. 즉, 패널의 제 1 장변과 제 1 단변을 연마하는 모듈과, 패널의 제 2 장변과 제 2 단변을 연마하는 모듈을 분리한 것이다. 따라서 패널의 회전 없이 4변을 모두 연마할 수 있게 된다. In order to solve the above technical problem, the polishing apparatus of the flat panel display according to the present invention includes a first table for adsorbing the panel in a state capable of polishing the first long side and the first short side; Horizontal conveying means for conveying the panel in a horizontal direction; A second table for adsorbing the transferred panel in a state capable of polishing the second long side and the second short side; a first polishing unit for polishing the first long side of the panel adsorbed to the first table; adsorbed to the first table A second polishing portion for polishing the first short side of the panel and the second short side of the panel adsorbed to the second table; And a third polishing portion for polishing the second long side of the panel adsorbed to the second table. In other words, the module for polishing the first long side and the first short side of the panel and the module for polishing the second long side and the second short side of the panel are separated. Therefore, all four sides can be polished without rotating the panel.
이 경우, 상기 패널은 각 테이블에 고정된 상태에서, 상기 제 1, 2, 3 연마부가 각각 연마하는 변을 따라 이동하도록 구동되는 것이 바람직하다. In this case, it is preferable that the panel is driven to move along the sides of the first, second, and third polishing units, respectively, fixed to each table.
또한 패널의 면적에 따라, 또는 동일 패널이라 하더라고 장변인지 단변인지에 따라 흡착면적이 달라지므로, 이들 모두에 적용 가능하도록 각 테이블을 충분히 크게 하는 것이 바람직하다. 이 때, 진공소실을 방지하기 위하여 상기 제 1 테이블 또는 제 2 테이블은 복수의 진공홀이 형성되되, 복수의 진공홀들은 복수의 밸브에 의해 진공제어되는 것이 더욱 바람직하다. In addition, since the adsorption area varies depending on the area of the panel or on the long side or the short side of the same panel, it is preferable to make each table sufficiently large so as to be applicable to all of them. At this time, the first table or the second table is formed with a plurality of vacuum holes in order to prevent the vacuum disappearing, it is more preferable that the plurality of vacuum holes are vacuum controlled by a plurality of valves.
또한 상기 제 1 테이블 또는 제 2 테이블은 'ㄱ'자 형태로 형성될 수 있는데, 상기 제 1 테이블과 제 2 테이블은 흡착하지 않는 면을 지지하는 보조테이블이 구비되는 것이 바람직하다. 상기 보조테이블은 이동가능하게 설치될 수 있고, 역시 패널을 흡착하기 위해 진공홀이 형성될 수도 있다. In addition, the first table or the second table may be formed in a 'b' shape, the first table and the second table is preferably provided with an auxiliary table for supporting the surface that does not adsorb. The auxiliary table may be installed to be movable, and a vacuum hole may also be formed to suck the panel.
또한 상기 제 1 테이블 또는 제 2 테이블은 'ㅁ'자 형태로 형성되는 것도 가능하다. In addition, the first table or the second table may be formed in a 'ㅁ' shape.
특히, 상기 제 2 테이블이 수평이송된 패널을 제 2 장변 및 제 2 단변의 연마가 가능한 상태로 흡착하도록 패널의 위치를 조정하는 정렬수단이 더 구비되는 것이 바람직한데, 이러한 정렬수단은 상기 수평이동수단에 의한 패널의 이송방향과 직교방향으로 패널을 이송시키는 수직이송수단일 수 있다. In particular, the second table is preferably provided with an alignment means for adjusting the position of the panel so as to suck the horizontally transported panel in the state capable of polishing the second long side and the second short side, the alignment means is the horizontal movement It may be a vertical conveying means for conveying the panel in a direction orthogonal to the conveying direction of the panel by the means.
본 발명에 의한 평판 디스플레이 패널의 모서리를 연마하는 방법은 1) 상기 패널의 제 1 장변과, 상기 제 1 장변에 이웃하는 제 1 단변을 각각 제 1 연마부와 제 2 연마부를 이용하여 연마하는 단계; 2) 상기 제 1 장변과 제 1 단변이 연마된 패널을 수평이송하는 단계; 및 3) 수평이송된 패널의 제 2 장변과, 상기 제 2 장변에 이웃하는 제 2 단변을 각각 제 3 연마부와 상기 제 2 연마부를 이용하여 연마하는 단계;를 포함하여 이루어진다. According to an exemplary embodiment of the present invention, a method of grinding an edge of a flat panel display panel includes: 1) polishing a first long side of the panel and a first short side adjacent to the first long side by using a first polishing unit and a second polishing unit, respectively. ; 2) horizontally moving the panel of which the first long side and the first short side are polished; And 3) polishing a second long side of the horizontally transferred panel and a second short side adjacent to the second long side by using a third polishing unit and the second polishing unit, respectively.
본 발명에 의한 평판 디스플레이 패널의 모서리를 연마하는 다른 방법은 1) 제 1 테이블에 제 1 패널을 로딩하는 단계; 2) 상기 제 1 패널의 제 1 장변과, 상기 제 1 장변에 이웃하는 제 1 단변을 각각 제 1 연마부와 제 2 연마부를 이용하여 연마하는 단계; 3) 상기 제 1 장변과 제 1 단변이 연마된 제 1 패널을 제 2 테이블로 이송하고, 상기 제 1 테이블에 제 2 패널을 로딩하는 단계; 4) 상기 제 1 연마부를 이용하여 상기 제 2 패널의 제 1 장변을 연마하는 단계; 5) 상기 제 2 연마부를 이용하여 상기 제 2 패널의 제 1 단변 및 상기 제 1 패널의 제 2 단변을 동시에 연마하는 단계; 6) 제 3 연마부를 이용하여 상기 제 1 패널의 제 2 장변을 연마하는 단계;를 포함하여 이루어지며, 특히 상기 4)단계 내지 6)단계는 동시에 수행되는 것이 바람직하다. Another method of grinding the edges of a flat panel display panel according to the present invention comprises the steps of: 1) loading a first panel on a first table; 2) polishing a first long side of the first panel and a first short side adjacent to the first long side using a first polishing unit and a second polishing unit, respectively; 3) transferring the first panel of which the first long side and the first short side are polished to a second table, and loading a second panel on the first table; 4) polishing the first long side of the second panel using the first polishing unit; 5) simultaneously polishing the first short side of the second panel and the second short side of the first panel using the second polishing unit; 6) polishing the second long side of the first panel by using a third polishing unit. In particular, the steps 4) to 6) are preferably performed simultaneously.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation of the present invention.
도 4는 본 발명에 의한 연마장치의 구성요소인 테이블(100)의 일 실시예를 도시한 것이다. Figure 4 shows one embodiment of a table 100 which is a component of the polishing apparatus according to the present invention.
이를 참조하면, 패널(P)을 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B) 연마가 가능하도록 흡착하는 'ㄱ'자 형태의 테이블(110)이 구비되어 있다. '제 1 장변(A)과 제 1 단변(B) 연마가 가능하도록 흡착한다' 함은 연마지석의 동작에 테이블(111)이 간섭하지 않도록 패널을 흡착한 상태에서 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 테이블(110)의 외측으로 돌출되도록 흡착한다는 것이다. 다시 말하면, 연마지석이 어떤 변을 연마하기 위하여는 패널, 특히, 연마되는 변부가 유동되지 않도록 고정하여야 하는 것 이지만, 한편으로는 연마지석의 동작에 테이블이 간섭하지 않아야 하는 것은 당연하다. Referring to this, a table 110 having an 'a' shape for adsorbing the panel P to allow the first long side A and the first short side B to be polished is provided. 'Adsorb so that the first long side (A) and the first short side (B) can be polished' means that the first long side (A) and the first long side (A) One short side B is adsorbed so as to protrude out of the table 110. In other words, in order for the abrasive grind to polish a side, it is necessary to fix the panel, especially the edge to be polished, so that the table does not interfere with the operation of the abrasive grind.
따라서 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 테이블(110)의 외측방향으로 돌출되도록 'ㄱ'자 형태의 테이블(110)을 제 1 장변(A)의 소정거리 내측과 제 1 단변(B)의 소정거리 내측을 흡착하여 고정하는 것이다. Therefore, the '110' shaped table 110 has a predetermined distance inside the first long side A and the first short side such that the first long side A and the first short side B protrude outwardly of the table 110. It adsorb | sucks and fixes inside the predetermined distance of (B).
물론, 패널을 진공흡착하기 위하여 상기 테이블(110)상에는 복수의 진공홀(111)이 형성되어 있다. 상기 복수의 진공홀(111)은 또한 다양한 면적의 패널에 적응할 수 있도록 복수의 진공 차단/공급밸브에 의해 제어된다. 즉, 복수의 진공홀들을 2개 이상의 블럭으로 분할하여 진공소실이 없도록 패널의 면적에 따라 진공제어하는 것이다. Of course, a plurality of
한편, 상기 테이블(100)은 흡착하지 않는 부분에서 패널이 처짐을 방지하기 위하여 보조테이블(121, 122, 123)을 구비한다. 상기 보조테이블(121, 122, 123)은 단순히 패널을 하방에서 지지할 수 있는 구조이면 충분하지만, 이 또한 테이블(110)과 같이 진공홀(111)을 형성할 수도 있다. 상기 진공홀 또한 복수의 밸브에 의해 진공제어될 수도 있다. On the other hand, the table 100 is provided with auxiliary tables 121, 122, 123 to prevent the panel from sagging in the portion that does not suck. The auxiliary tables 121, 122, and 123 may have a structure capable of simply supporting the panel from below, but may also form a
다만, 보조테이블(121, 122, 123)이 지지하는 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D)은 연마되는 변이 아니기 때문에, 반드시 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D)이 외측방향으로 돌출되도록 지지할 필요는 없는 것이다. 즉, 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D)을 지지하도록 설치될 수 있고, 이들의 내측을 지지할 수도 있는 것이다. 또한 상기 보조테이블(121, 122, 123)은 고정설치되는 테이블(110)과 달리 이동식으로 구비하 여 패널의 면적에 따라 적절한 위치에 배치하는 것으로도 충분하다. However, since the second long side C and the second short side D supported by the auxiliary tables 121, 122, and 123 are not polished sides, the second long side C and the second short side D must be outside. It does not have to be supported to protrude in the direction. That is, it may be provided to support the second long side C and the second short side D, and may support the inside thereof. In addition, unlike the table 110, which is fixedly installed, the auxiliary tables 121, 122, and 123 are provided to be movable and disposed at appropriate positions according to the area of the panel.
한편, 상기 패널(p)이 테이블(110)의 정위치에 흡착되어야 정확한 연마를 할 수 있는 것이다. 이러한 패널(p)의 미세정렬을 위해 상기 테이블(110)에는 회전부재(130)가 구비된다. 즉, 패널(p)을 테이블(110)에 로딩한 후, 상부에 구비된 비전카메라(미도시)로 패널의 위치를 검출하여, 패널의 중심을 지지하고 있는 회전부재(130)를 회전하여 상기 패널을 미세정렬하는 것이다. 상기 회전부재(130)에는 복수의 진공홀이 형성되어 상기 패널(p)을 흡착한 상태에서 회전한다. 물론, 상기 패널을 회전할 때는 테이블(110) 및 보조테이블(121,122,123)에 진공을 인가하지 않아야 한다. On the other hand, the panel (p) is to be adsorbed in the correct position of the table 110 to be accurate polishing. The table 110 is provided with a rotating
도 5를 참조하면, 상기 회전부재(130)는 회전구동력을 제공하는 구동부(133)와, 상기 패널을 흡착한 상태에서 승강구동하는 승강부(132)와, 상기 패널을 흡착하는 상부플레이트(131)로 구성된다. 상기 승강부(132)는 패널을 회전하기 전에 패널을 상승한 후, 회전시키는 것이다. 이것은 상기 패널의 회전시, 테이블에 의한 간섭이나 손상을 방지하기 위한 것이다. Referring to FIG. 5, the rotating
도 6을 참조하면, 본 발명에 의한 연마장치(200)는 패널(p)의 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)을 연마하는 제 1 연마모듈(210)과, 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D)을 연마하는 제 2 연마모듈(220)로 구분되어 있다. Referring to FIG. 6, the polishing
상기 제 1 연마모듈(210)은 'ㄱ'자 형태의 제 1 테이블(110a)과, 제 1 보조테이블(121a, 122a, 123a)이 구비되고, 상기 제 1 장변(A)을 따라 이동하면서 연마하는 제 1 연마부(230)와, 제 1 단변(B)을 따라 이동하면서 연마하는 제 2 연마 부(240)로 구성된다. The
또한 상기 제 2 연마모듈(220)은 'ㄴ(보는 방향에 따라 다를 뿐, 실질적으로는 제 1 연마테이블과 동일한 형태임)'자 형태의 제 2 테이블(110b)과, 제 2 보조테이블(121b, 122b, 123b)이 구비되고, 상기 제 2 장변(A)을 따라 이동하면서 연마하는 제 3 연마부(230)가 구비된다. 다만, 제 2 단변(B)은 상기 제 2 연마부(240)가 연마한다. In addition, the
여기서 상기 연마부(230,240,250)는 연마지석(232)과, 상기 연마지석(232)을 고속회전시키는 스핀들(231)로 구성된다. 또한 각 연마부(230,240,250)는 도 1과 같이 상하로 배치되는 한 쌍으로 구성되어 각 변의 상부모서리와 하부모서리를 동시에 연마할 수 있다. Here, the polishing
또한 상기 제 1 테이블(110a)에 흡착된 패널(p)을 제 2 테이블(110b)로 수평이송하는 수평이송수단(260)이 구비된다. In addition, a horizontal transfer means 260 for horizontally transferring the panel p adsorbed on the first table 110a to the second table 110b is provided.
이와 같이 구성된 연마장치의 작동상태 및 연마방법을 설명한다. 먼저, 패널(p)을 제 1 테이블(110a)에 흡착하는데, 이 때 연마되는 변인 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 제 1 테이블(110a)의 외측방향으로 돌출되도록 흡착한다. 즉, 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)의 소정거리 내측을 흡착하도록 패널(p)을 로딩하는 것이다. 물론, 제 1 보조테이블(121a, 122a, 123a)에 의해 패널의 처짐은 방지된다. The operation state and polishing method of the polishing apparatus configured as described above will be described. First, the panel p is adsorbed to the first table 110a. At this time, the first long side A and the first short side B, which are polished sides, are adsorbed so as to protrude outward of the first table 110a. . That is, the panel p is loaded to adsorb the inside of the predetermined distance between the first long side A and the first short side B. FIG. Of course, sagging of the panel is prevented by the first auxiliary tables 121a, 122a, 123a.
이와 같이 패널(p)을 로딩하면, 제 1 연마부(230)를 이동하면서 제 1 장변(A)을 연마하고, 제 2 연마부(240)를 이동하면서 제 1 단변(B)을 연마한다. When the panel p is loaded as described above, the first long side A is polished while the
이러한 공정으로 패널의 제 1 장변(A) 및 제 1 단변(B)이 연마되면, 수평이동수단(260)으로 패널을 제 2 테이블(110b)로 이송한다. When the first long side A and the first short side B of the panel are polished by this process, the panel is transferred to the second table 110b by the horizontal moving means 260.
이송된 패널은 마찬가지 방법으로 제 2 장변(C) 및 제 2 단변(D)이 제 2 테이블(110b)의 외측방향으로 돌출되도록 흡착한다. In the same manner, the conveyed panel adsorbs the second long side C and the second short side D to protrude outward of the second table 110b.
이 상태에서 제 3 연마부(250)를 이동하면서 제 2 장변(C)을 연마한다. 또한 상기 제 2 단변(D)은 상기 제 2 연마부(240)을 도면상 우측으로 위치이동시켜 연마한다. In this state, the second long side C is polished while the
이로써, 패널의 회전없이 4변을 모두 연마할 수 있는 것이다. Thus, all four sides can be polished without rotating the panel.
도 7a 및 도 7b는 도 6의 장치를 이용하여 소면적 패널(p')을 연마하는 방법을 도시한 것이다. 7A and 7B illustrate a method of polishing a small area panel p 'using the apparatus of FIG. 6.
제 1 연마모듈(210)에서 패널의 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)을 연마하는 것은 위와 동일하므로 여기서는 생략한다. Polishing the first long side (A) and the first short side (B) of the panel in the
도 7a를 참조하면, 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 연마된 패널을 수평이송수단(260)에 의해 제 2 연마모듈(220)의 제 2 테이블(110b)로 이송한다. 그런데 패널의 면적이 작은 경우, 수평이송만으로는 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D) 연마가 가능한 상태로 흡착할 수가 없다. 즉, 도 7a의 상태에서는 제 2 단변(D)은 연마가능한 상태이지만, 제 2 장변(C)은 연마가능한 상태가 아닌 것이다. Referring to FIG. 7A, the panel on which the first long side A and the first short side B are polished is transferred to the second table 110b of the
따라서 제 2 테이블(110b)이 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D) 연마가 가능한 상태로 흡착할 수 있도록 위치를 조정해야 한다. 이러한 위치정렬은 도 7b와 같이, 상기 수평이동수단(260)에 의한 패널의 이송방향과 직교방향으로 패널을 이송시키는 것으로 가능하다. 이를 위하여 정렬수단으로서 패널을 수직방향으로 이송시키는 수직이송수단(270)이 이용될 수 있다. Therefore, the position must be adjusted so that the second table 110b can be adsorbed in a state where the second long side C and the second short side D can be polished. This position alignment can be carried out by transferring the panel in a direction orthogonal to the conveying direction of the panel by the horizontal moving means 260, as shown in FIG. For this purpose, a vertical transfer means 270 for transferring the panel in the vertical direction may be used as the alignment means.
여기서 수평이송수단(260)이나 수직이송수단(270)은 공지의 수단을 모두 적용할 수 있은 것이므로, 별도의 구성을 설명하지는 않았다. Here, the horizontal transfer means 260 or the vertical transfer means 270 may be applied to all known means, and thus, no separate configuration has been described.
도 8a 및 도 8b는 본 발명에 의한 다른 연마방법을 도시한 것이다. 도 8a는 제 1 패널(p1)의 제 1 장변(A)을 제 1 연마부(230)로 연마하고, 제 1 단변(B)을 제 2 연마부(240)로 연마한다. 이러한 내용은 앞선 실시예와 동일하다. 8A and 8B show another polishing method according to the present invention. 8A, the first long side A of the first panel p1 is polished by the
도 8b를 참조하면, 위와 같이 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 연마된 제 1 패널(p1)을 수평이동수단(260)을 이용하여 제 2 테이블(110b)로 이송한다. 이와 동시에 제 2 패널(p2)을 제 1 테이블(110a)로 로딩한다. Referring to FIG. 8B, the first panel p1 of which the first long side A and the first short side B are polished as described above is transferred to the second table 110b using the horizontal moving
이 상태에서 상기 제 1 연마부(230)를 이용하여 상기 제 2 패널(p2)의 제 1 장변(A)을 연마하고, 제 2 연마부(240)를 이용하여 상기 제 2 패널(p2)의 제 1 단변(B)과 상기 제 1 패널(p1)의 제 2 단변(D)을 동시에 연마하며, 제 3 연마부(250)를 이용하여 상기 제 1 패널(p1)의 제 2 장변(C)을 연마하는 것이다. 다시 말하면, 제 2 패널(p2)의 제 1 단변(B)과 상기 제 1 패널(p1)의 제 2 단변(D)은 제 2 연마부(240)의 이동에 따라 동시에 연마되는 것이다. 이를 위해 도 5에 도시된 연마장치에 비하여 제 1 연마모듈(210)과 제 2 연마모듈(220)이 더욱 근접한 위치에 배치된다. In this state, the first long side A of the second panel p2 is polished using the
도 9는 본 발명에 의한 다른 연마장치를 도시한 것으로서, 도 6에 도시된 실시예와 비교하면, 테이블이 다른 것을 알 수 있다. FIG. 9 shows another polishing apparatus according to the present invention. Compared with the embodiment shown in FIG. 6, it can be seen that the table is different.
보다 구체적으로 설명하면, 테이블(110c, 110d)은 'ㅁ'자 형태로 형성되어 있음을 알 수 있다. 이것은 도 1에 도시된 종래의 테이블과 구성상 차이가 없으나, 사용상태는 다른 것이다. 즉, 사각형상의 제 1 테이블(110c)을 구비하되, 제 1 테이블(110c)상에 패널의 제 1 장변(A)과 제 1 단변(B)이 외측방향으로 돌출형성되도록 흡착한다. 마찬가지로 사각형상의 제 2 테이블(110d)을 구비하되, 제 2 테이블(110d)상에 패널의 제 2 장변(C)과 제 2 단변(D)이 외측방향으로 돌출형성되도록 흡착한다. In more detail, it can be seen that the tables 110c and 110d are formed in the shape of 'ㅁ'. This is no configuration difference from the conventional table shown in Fig. 1, but the use state is different. That is, the first table 110c having a rectangular shape is provided, and the first long side A and the first short side B of the panel are adsorbed so as to protrude outwardly on the first table 110c. Similarly, a quadrangular second table 110d is provided, and the second long side C and the second short side D of the panel are adsorbed so as to protrude outwardly on the second table 110d.
이러한 테이블(110c, 110d)을 제외하고는 기타의 구성은 도 6의 연마장치와 구성상 동일하다. 따라서 도시되지는 않았으나, 소면적 패널(p')의 적용을 위하여 수직이송수단도 구비된다. Except for the tables 110c and 110d, other configurations are the same as those of the polishing apparatus of FIG. Therefore, although not shown, a vertical transfer means is also provided for the application of the small area panel p '.
본 발명에 따르면, 패널 또는 패널을 흡착한 테이블의 회전없이 패널의 4변을 연속하여 연마할 수 있는 효과가 있다. According to the present invention, there is an effect that the four sides of the panel can be continuously polished without rotating the panel or the table on which the panel is adsorbed.
또한 테이블의 교체없이 면적이 다른 패널 또는 하나의 패널에서 장변과 단변을 연마할 수 있다는 효과가 있다. 따라서 다양한 패널 면적에 대한 호환성이 뛰어나 설비 및 공정이 매우 간편하다. 더욱이, 대형 패널 또는 장변일지라도 양 변 부의 길이방향 전체를 하부에서 지지하고 고정하기 때문에 연마품질을 높일 수 있다. In addition, the long side and the short side can be polished in one panel with different areas or without changing the table. Therefore, it is very easy to install and process because of its compatibility with various panel areas. Moreover, even in large panels or long sides, the polishing quality can be improved because the entire longitudinal direction of both sides is supported and fixed at the bottom.
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