JP3319782B2 - Glass polishing equipment - Google Patents

Glass polishing equipment

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JP3319782B2
JP3319782B2 JP20495092A JP20495092A JP3319782B2 JP 3319782 B2 JP3319782 B2 JP 3319782B2 JP 20495092 A JP20495092 A JP 20495092A JP 20495092 A JP20495092 A JP 20495092A JP 3319782 B2 JP3319782 B2 JP 3319782B2
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宏樹 上山
泰明 三宅
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Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示器に用いるガ
ラス板を研磨する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for polishing a glass plate used for a liquid crystal display.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にカラー液晶表示器は、図13及び
図14に示すように、所定のギャップ(セルギャップ)G
を隔ててマトリクス基板51とカラーフィルタ基板52
とを対向させ、そのセルギャップGに液晶を封入しもの
であり、通常、両基板はガラス板で形成される。その
際、図13のごとく3端子タイプのものであれば、マト
リクス基板51の3つの辺縁を残すようにしてマトリク
ス基板51及びカラーフィルタ基板52が所定の寸法に
切断され、そのマトリクス基板51の辺縁に両基板より
の複数個の電極53が形成される。これらの電極53に
対する接続配線としてフィルム状の電極が接合される
が、この種のフィルム電極は極めて細くかつ薄いため
に、マトリクス基板51の尖ったエッジ部で断線しやす
い。そこで従来より、マトリクス基板51等における辺
縁の面取(R1で示す)のための研磨が行われている。
2. Description of the Related Art Generally, a color liquid crystal display has a predetermined gap (cell gap) G as shown in FIGS.
Matrix substrate 51 and color filter substrate 52
Are opposed to each other, and liquid crystal is sealed in the cell gap G. Usually, both substrates are formed of glass plates. At this time, if it is a three-terminal type as shown in FIG. 13, the matrix substrate 51 and the color filter substrate 52 are cut to predetermined dimensions so as to leave three edges of the matrix substrate 51, and A plurality of electrodes 53 from both substrates are formed on the periphery. A film-like electrode is joined as a connection wiring to these electrodes 53. However, since this kind of film electrode is extremely thin and thin, it is easily broken at a sharp edge portion of the matrix substrate 51. Therefore conventionally, the polishing for chamfering the edge of the matrix substrate 51 or the like (shown by R 1) is being performed.

【0003】3端子タイプのガラス板を研磨する方法と
しては、例えば特開昭62−246463号及び同63
−16960号公報に開示された研磨装置がある。前者
の研磨装置は、被研磨物をX軸方向に移動するテーブル
に固定し、研磨ヘッドを、Y軸方向に移動可能にかつ、
研磨ヘッドの支持点を軸として首振り可能に設けてい
る。X軸に平行な辺縁を研磨するときは、研磨ヘッドを
Y軸上の所定位置に固定した上でテーブルをX軸方向に
移動させ、又、Y軸方向に平行な辺縁を研磨するとき
は、テーブルをX軸上の所定位置に固定した上で研磨ヘ
ッドをY軸方向に移動させるようになっており、そのと
き、研磨ヘッドの研磨部位が研磨する辺縁に対向するよ
う研磨ヘッドを所定の向きに首を振らせる。又、後者の
研磨装置は、テーブルを固定とし、研磨ヘッドをX軸及
びY軸方向に移動可能としたものであり、被研磨物の周
縁を追随するようにして研磨ヘッドを移動させ辺縁の研
磨を行う。
As a method of polishing a three-terminal type glass plate, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
There is a polishing apparatus disclosed in Japanese Patent No. 16960. The former polishing apparatus fixes the object to be polished to a table that moves in the X-axis direction, and allows the polishing head to move in the Y-axis direction.
The polishing head is swingable about a support point of the polishing head. When polishing the edge parallel to the X axis, the table is moved in the X axis direction after fixing the polishing head at a predetermined position on the Y axis, and when polishing the edge parallel to the Y axis direction. Is configured to move the polishing head in the Y-axis direction after fixing the table at a predetermined position on the X-axis. At this time, the polishing head is moved so that the polishing portion of the polishing head faces the edge to be polished. Shake your head in the prescribed direction. In the latter polishing apparatus, the table is fixed, and the polishing head is movable in the X-axis and Y-axis directions. The polishing head is moved so as to follow the periphery of the object to be polished, and Perform polishing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記二
つの研磨装置による研磨は以下に述べるような課題があ
った。 (1)研磨する辺縁に応じて研磨ヘッドを2次元的に移
動させるには正確な制御が必要であり、その上、研磨砥
石の交換や摩耗等により研磨ヘッドの位置を逐一調整す
る必要があるためにその位置調整には更に困難を伴う。 (2)一辺を研磨するのに要する時間をxとすると、3
辺縁の研磨が必要な3端子タイプでは最低でも3x時
間、4端子タイプであれば4x時間必要となり、処理速
度に難がある。 (3)LCDガラスの研磨の際にはダメージを与えるこ
とがないように純水しか使用できず、水溶性のクーラン
トさえ使用できない。一方、上記のテーブルや研磨ヘッ
ドの下方には、それらを駆動するための駆動機構やガイ
ドレールが設けられており、この種の装置は通常、クリ
ーンルームで使用されるために給油は出来ず、従って、
精密機構が錆びついて研磨精度を低下させる恐れがある
ために、駆動機構やガイドレールに対して防水を施す必
要がある。しかしながら、上述した装置では研磨ヘッド
が複雑な動きを行い、それに追随して完全な防水を得よ
うとすれば収縮自在の弾性部材やジャバラ機構が必要と
なるが、そのような部材は一般に高価であり寿命も短
い。本発明は、上述した課題を解決するためになされた
ものであり、簡単な機構でありながら、研磨処理時間を
短くし、かつ、完全な防水が得られるガラス研磨装置を
提供することを目的とする。
However, polishing by the above two polishing apparatuses has the following problems. (1) Accurate control is required to move the polishing head two-dimensionally according to the edge to be polished, and furthermore, it is necessary to adjust the position of the polishing head one by one by exchanging or wearing a polishing grindstone. Because of this, its position adjustment is even more difficult. (2) When the time required for polishing one side is x, 3
In the case of the three-terminal type that requires polishing of the periphery, at least 3x time is required, and in the case of the four-terminal type, 4x time is required. (3) When polishing LCD glass, only pure water can be used so as not to cause damage, and even a water-soluble coolant cannot be used. On the other hand, below the table and the polishing head, a drive mechanism and a guide rail for driving them are provided, and since this type of device is usually used in a clean room, lubrication cannot be performed, and therefore, ,
Since the precision mechanism may rust and reduce the polishing accuracy, it is necessary to waterproof the drive mechanism and the guide rail. However, in the above-described apparatus, the polishing head performs complicated movements, and in order to follow the movement, complete elasticity is required, which requires a contractible elastic member and a bellows mechanism, but such members are generally expensive. It has a short life. The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and has an object to provide a glass polishing apparatus that can shorten a polishing processing time while being a simple mechanism, and that can obtain complete waterproofing. I do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】第1発明のガラス板の辺
縁を研磨するためのガラス研磨装置は、研磨するガラス
板が載置されるテーブル、テーブル上の載置されたガラ
ス板を所定の基準位置に合わせる位置決め手段、位置決
めされた前記ガラス板を研磨台に固定するための固定手
段、をそれぞれ具備する複数個のユニットと;複数個の
各ユニットを、直線状に一定の間隔Lでもって相互に連
結する連結部材と;各ユニットを、元のホーム位置から
下流方向へLだけ隔たったシフト位置へ移動させると共
に、ホーム位置へ復帰させる移動手段と;各ユニットを
ホーム位置からシフト位置へ移動させた時、各ユニット
のテーブル上のガラス板の1辺縁を同時に研磨するよう
設けられた複数個の研磨手段と;シフト位置の各ユニッ
トをホーム位置へ戻す前に、シフト位置の各ユニットに
あるガラス板を持ち上げ、ホーム位置へ復帰した各ユニ
ットのテーブル上に、前記ガラス板を90°回転した状
態で載置するガラス板回転手段と;を備えたことを特徴
とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising: a table on which a glass plate to be polished is mounted; A plurality of units each having positioning means for adjusting to the reference position of (1) and fixing means for fixing the positioned glass plate to the polishing table; and a plurality of units being linearly spaced at a constant interval L. A connecting member for connecting the units to each other; moving means for moving each unit to a shift position separated by L in the downstream direction from the original home position and returning to the home position; and moving each unit from the home position to the shift position. A plurality of polishing means provided to simultaneously polish one edge of a glass plate on a table of each unit when moved; and each unit at a shift position to a home position. Glass plate rotating means for lifting the glass plate in each unit at the shift position and mounting the glass plate on the table of each unit returned to the home position while rotating the glass plate by 90 °. It is characterized by the following.

【0006】第2発明のガラス板の辺縁を研磨するため
のガラス研磨装置は、それぞれ所定間隔を隔てて直線状
に設けられた複数個の固定テーブルと、各テーブルに載
置されたガラス板を基準位置に合わせる位置決め手段
と、位置決めされたガラス板をテーブルに固定する固定
手段と、上流方向へ移動することで、各テーブル上の固
定された各ガラス板の1辺縁を同時に研磨する研磨手段
と、各テーブル上の研磨された各ガラス板を90°回転
させた状態でそれぞれ後段のテーブルへ移動させる搬送
手段と、を備えたことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising a plurality of fixed tables provided linearly at predetermined intervals, and a glass plate mounted on each table. Positioning means for adjusting the position of the glass plate to the reference position, fixing means for fixing the positioned glass plate to the table, and polishing for simultaneously polishing one edge of each fixed glass plate on each table by moving in the upstream direction. Means and transport means for moving each polished glass plate on each table to a subsequent table in a state rotated by 90 °.

【0007】第3発明のガラス板の辺縁を研磨するため
のガラス研磨装置は、それぞれ所定間隔を隔てて直線状
に設けられた複数個の固定テーブルと、各テーブルに載
置されたガラス板を基準位置に合わせる位置決め手段
と、位置決めされたガラス板をテーブルに固定する固定
手段と、上流方向へ移動することで、各テーブル上の固
定された各ガラス板の1辺縁を同時に研磨する研磨手段
と、研磨手段と一体的に移動し、研磨手段の下流方向へ
の移動時に、各テーブル上の研磨された各ガラス板を9
0°回転させた状態でそれぞれ後段のテーブルへ移動さ
せる搬送手段と、を備えたことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising a plurality of fixed tables linearly provided at predetermined intervals, and a glass plate placed on each table. Positioning means for adjusting the position of the glass plate to the reference position, fixing means for fixing the positioned glass plate to the table, and polishing for simultaneously polishing one edge of each fixed glass plate on each table by moving in the upstream direction. Means and the polishing means are moved together, and when the polishing means moves in the downstream direction, each polished glass plate on each table is moved to 9
Transport means for moving to a subsequent table in a state of being rotated by 0 °.

【0008】[0008]

【作用】第1発明の研磨装置では、必要個数のユニット
を連結部材を用いて相互に連結しており、移動手段によ
って一つのユニットを移動させれば、全数のユニットが
一体となって移動する。各ユニットを元のホーム位置か
らシフト位置へ移動させた時、その移動の間に研磨手段
により、各テーブル上で位置決めされた各ガラス板の一
つの辺縁を同時に研磨する。シフト位置では、各ユニッ
トは1段下流の各ユニットの箇所に位置する。このシフ
ト位置で、ガラス板回転手段によってガラス板が持ち上
げている間に、各ユニットはそれぞれの元のホーム位置
に戻り、その後、持ち上げていたガラス板は、90°回
転した状態でホーム位置にある各ユニットのテーブル上
に載置される。このように、研磨機にて、各ガラス板の
一辺縁が同時に研磨されると、各ガラス板が90°回転
して後段へ送給されるので、その研磨機にて次々と未研
磨の辺縁に対して研磨することができる。本装置では、
辺縁の研磨数に等しい個数のユニットを備えることで、
1辺縁を研磨する時間xでもって、3辺縁あるいは4辺
縁を研磨したガラス板を得ることができ、研磨する辺縁
の数に係わらずタクトタイムをxにできる。
In the polishing apparatus of the first invention, a required number of units are connected to each other using a connecting member, and if one unit is moved by the moving means, all the units move together. . When each unit is moved from the original home position to the shift position, one edge of each glass plate positioned on each table is simultaneously polished by the polishing means during the movement. In the shift position, each unit is located at the position of each unit one stage downstream. In this shift position, each unit returns to its original home position while the glass plate is being lifted by the glass plate rotating means, and then the lifted glass plate is at the home position after being rotated 90 °. It is placed on the table of each unit. As described above, when one edge of each glass plate is polished at the same time by the polishing machine, each glass plate is rotated by 90 ° and is fed to the subsequent stage. The edges can be polished. In this device,
By having the number of units equal to the number of polishing of the margin,
With the time x for polishing one edge, a glass plate having three or four edges polished can be obtained, and the tact time can be x regardless of the number of edges to be polished.

【0009】請求項2によれば、ガラス板がテーブルに
セットされると、その時点で直ちにガラス板に対して、
研磨すべき辺縁の両コーナーがコーナー研磨手段によっ
て研磨することができ、その後に、各ユニットを移動さ
せることでガラス板の辺縁が研磨される。この研磨方法
によればコーナー研磨の工程を別に設けるのと比較して
処理時間を大幅に短縮できる。
According to the second aspect, when the glass plate is set on the table, the glass plate is immediately placed on the table at that time.
Both corners of the edge to be polished can be polished by the corner polishing means, and thereafter, the edge of the glass plate is polished by moving each unit. According to this polishing method, the processing time can be greatly reduced as compared with the case where a separate corner polishing step is provided.

【0010】第2発明では、テーブルを固定とし、研磨
機がホーム位置から上流方向のシフト位置へ移動する時
に、各テーブルにセットしたガラス板の1辺縁が同時に
研磨され、研磨した各ガラス板は、搬送機によって90
°回転させた状態で1段下流の各テーブルにセットさ
れ、再び研磨機がホーム位置からシフト位置へ移動する
時に各ガラス板に対して次の辺縁が研磨される。
In the second invention, the table is fixed, and when the polishing machine moves from the home position to the shift position in the upstream direction, one edge of the glass plate set on each table is simultaneously polished, so that each polished glass plate is polished. Is 90
It is set on each table one stage downstream while being rotated, and the next edge is polished on each glass sheet when the polishing machine moves from the home position to the shift position again.

【0011】上記の装置において、請求項4のごとく、
研磨機がシフト位置からホーム位置へ戻る際にも研磨を
行うようにすれば、研磨した後、研磨機をホーム位置へ
復帰させるステップを省け、所要タクトタイムを短縮で
きる。
[0011] In the above device, as in claim 4,
If the polishing is performed even when the polishing machine returns from the shift position to the home position, the step of returning the polishing machine to the home position after polishing can be omitted, and the required tact time can be reduced.

【0012】第3発明は、第2発明の装置において、研
磨機と搬送機とを個別に制御していたのを、双方を一体
的に設け、研磨機と搬送機とを同時に駆動するものであ
り、駆動ステップを少なくすることにより、同様に所要
タクトタイムを短縮できる。
A third invention is different from the apparatus of the second invention in that the polishing machine and the transfer machine are individually controlled, but both are integrally provided and the polishing machine and the transfer machine are simultaneously driven. In addition, the required tact time can be similarly reduced by reducing the number of drive steps.

【0013】請求項6の防水カバーは、収縮自在の弾性
部材やジャバラ機構を必要としたない単なる板材でよい
ので安価かつ寿命も長い。この防水カバーは請求項1ま
たは2記載の装置における連結部材そのものであっても
よい。
The waterproof cover according to the sixth aspect may be a simple plate material that does not require a contractible elastic member or a bellows mechanism. This waterproof cover may be the connecting member itself in the device according to the first or second aspect.

【0014】[0014]

【実施例】図1は、第1発明の装置の一実施例を示す正
面図であり、図2に側面図、図3に平面図を示してい
る。架台1上に適当な部材2(図2に図示)を介してガイ
ドレール3が2本平行に設けられている。このガイドレ
ール3に沿って、ユニット4(親ユニットと呼ぶ)の移動
台5が移動可能に設けられ、又、ユニット6,7(子ユ
ニットと呼ぶ)の移動台8,9もガイドレール3上を移
動可能に設けられ、そして、移動台8は、連結板10に
より、移動台5より下流方向(図中右方向)にL隔てた位
置に移動台5と従属的に結合され、同様に、移動台9
は、連結板11により、移動台8より下流方向へL隔て
た位置に移動台8と結合されている。これらの連結板1
0,11に、ガイドレール3等に対して防水カバーの役
目を持たせるために、図2に示すごとく両側に適当な水
切り12を設けている。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the apparatus of the first invention, FIG. 2 is a side view, and FIG. 3 is a plan view. Two guide rails 3 are provided on the gantry 1 in parallel via appropriate members 2 (shown in FIG. 2). Along the guide rail 3, a movable base 5 of the unit 4 (referred to as a parent unit) is provided so as to be movable, and movable bases 8 and 9 of the units 6 and 7 (referred to as a child unit) are also provided on the guide rail 3. And the moving table 8 is subordinately coupled to the moving table 5 by a connecting plate 10 at a position L away from the moving table 5 in the downstream direction (right direction in the drawing). Mobile platform 9
Is connected to the moving table 8 at a position L away from the moving table 8 by a connecting plate 11. These connecting plates 1
As shown in FIG. 2, appropriate drainers 12 are provided on both sides of the guide rails 0 and 11 in order to provide the guide rails 3 and the like with a waterproof cover.

【0015】又、架台1上には、各移動台の移動方向に
ボールネジ14が軸回転自在に設けられ、15はこのボ
ールネジ14を回転させるためのモータである。ボール
ネジ14に螺合しているボールナット16は、移動台5
の下面に固定された部材17により、回転を拘束するよ
うにして保持されているので、ボールネジ14が回転す
ると、ボールナット16が図中左右方向へ移動し、これ
により、移動台5および移動台8,9が一体となってガ
イドレール3上を移動する。移動台5および移動台9の
他端には折曲自在の防水カバー18が設けられ、その防
水カバー18の他端にはウエイト19が取り付けられ
る。
A ball screw 14 is provided on the gantry 1 so that the ball screw 14 is rotatable in the moving direction of each moving table. Reference numeral 15 denotes a motor for rotating the ball screw 14. The ball nut 16 screwed into the ball screw 14 is
When the ball screw 14 rotates, the ball nut 16 moves in the left-right direction in the figure, thereby holding the moving table 5 and the moving table 5. 8 and 9 move together on the guide rail 3. A bendable waterproof cover 18 is provided at the other end of the movable base 5 and the movable base 9, and a weight 19 is attached to the other end of the waterproof cover 18.

【0016】各移動台5,8,9上にはガラス板Qを載
置するためのテーブル21,22,23をそれぞれ有す
る。又、図1では、親ユニット4、子ユニット6,7が
それぞれのホーム位置にあり、ホーム位置にある子ユニ
ット6,7のテーブル直上にはガラス板Qを吸引して持
ち上げ、90°回転させた後、降下してガラス板Qを解
放するために、吸板24、回転軸25を有するガラス板
回転装置26が設けられ、このガラス板回転装置26
は、ガラス板Qの中心部でもって回転できるように、図
3で示されるように、エアシリンダ27により図中上下
方向(図1では紙面に対して上下方向)に移動可能となっ
ている。
Tables 21, 22, and 23 for mounting the glass plate Q are provided on the movable tables 5, 8, and 9, respectively. In FIG. 1, the parent unit 4 and the child units 6 and 7 are at their respective home positions. The glass plate Q is sucked and lifted just above the table of the child units 6 and 7 at the home position, and rotated 90 degrees. After that, in order to descend and release the glass plate Q, a glass plate rotating device 26 having a suction plate 24 and a rotating shaft 25 is provided.
As shown in FIG. 3, the air cylinder 27 can be moved up and down in the figure (in FIG. 1, up and down with respect to the plane of the paper) so that it can rotate around the center of the glass plate Q.

【0017】各テーブル21,22,23上に載置され
たガラス板Qを基準位置に合わせるための位置決め手段
として、図3で示すように、ガラス板Qの研磨される辺
縁q1を研磨ラインに係止するための2個の係止ピン2
8,29、およびガラス板Qの反時計方向の90°回転
により次に研磨される辺縁q2を規定ラインにて係止す
るための係止ピン30を備えると共に、ガラス板Qの前
記二つの辺縁q1,q2を前記二つのラインに押し当てる
ための押付ピン31,32を備える。尚、ピン32を係
止ピン、ピン30を押付ピンとしてもよく、又、同一駆
動源にリンクさせたセンターよせ方式(両側より等寸法
押し付ける方式)としてもよい。更に、これらのピンに
より位置決めされたガラス板Qを各テーブルに固定でき
るよう、各テーブルにはガラス板Qを吸引するための吸
引固定手段(不図示)を備える。この吸引固定手段により
ガラス板Qがテーブルに固定されると、各ピンは斜め下
方へ逃げる構造となっているが、本装置では、研磨の際
に係止ピン28,29のみが逃げ、他のピン30,31,
32は研磨終了まで逃げない構成としている。かかる構
成とすることにより、前記吸引固定手段による、ガラス
板Qの吸着固定を更に確実なものとする(特にガラス板
Qが小さいときには吸着面積が少なくなくので有用とな
る)。尚、係止ピン28ないし29は、各テーブル21
ないし23に載置されるガラス板Q1ないしQ3の大きさ
に対応して的確な位置で係止できるよう、各テーブル毎
に手動によりそれらの設置位置を変更出来るようになっ
ている。
[0017] as a positioning means for aligning the reference position of the glass plate Q placed on each table 21, 22, 23, as shown in FIG. 3, grinding the edge q 1 is polished glass plate Q Two locking pins 2 for locking to the line
8 and 29, and by 90 ° counterclockwise rotation of the glass plate Q provided with a locking pin 30 for locking at specified lines limbic q 2 to be polished to the next, the two glass plates Q There are provided pressing pins 31 and 32 for pressing the two edges q 1 and q 2 against the two lines. The pin 32 may be a locking pin, the pin 30 may be a pressing pin, or a center alignment method (a method of pressing the same dimension from both sides) linked to the same drive source may be used. Further, each table is provided with suction fixing means (not shown) for sucking the glass plate Q so that the glass plate Q positioned by these pins can be fixed to each table. When the glass plate Q is fixed to the table by this suction fixing means, each pin escapes obliquely downward. In this apparatus, only the locking pins 28 and 29 escape during polishing, and other pins escape. Pins 30, 31,
Reference numeral 32 denotes a configuration that does not escape until the polishing is completed. With such a configuration, the suction and fixing of the glass plate Q by the suction and fixing means is further ensured (especially when the glass plate Q is small, the suction area is not so small, which is useful). The locking pins 28 to 29 are attached to each table 21.
To to be locked in a precise position corresponding to the size of the to Q 3 with no glass plate Q 1 is placed on 23, so that can change their installation positions manually for each table.

【0018】又、図3に示すように、テーブル上のガラ
ス板Qが下流方向へ送給される時に、係止ピン28,2
9で係止されたこのガラス板Qの辺縁q1を研磨できる
よう、各ユニット間のほぼ中央に、といし33Aおよび
これを駆動するためのスピンドルモータ33Bからなる
研磨機34、35、36を備える。これらの研磨機34な
いし36は、所定量の研磨が行えるように、前記の研磨
ラインに対応して研磨機を図中上下方向に移動可能とな
っている。
As shown in FIG. 3, when the glass plate Q on the table is fed downstream, the locking pins 28, 2
9 so that it can polish the edge q 1 of locked and the glass plate Q in, approximately in the middle between the units, grinding machine consists of a spindle motor 33B for driving the grinding wheel 33A and this 34,35,36 Is provided. These polishers 34 to 36 can move the polishers vertically in the drawing in correspondence with the above-mentioned polishing line so that a predetermined amount of polishing can be performed.

【0019】又、ホーム位置にある親ユニット4および
2番目の子ユニット7のテーブル21,23上に載置さ
れたガラス板Q1,Q3の辺縁q1における両コーナーを
研磨するためのコーナー研磨機37,38(図1、図2
では不図示)を備える。
[0019] Also, for polishing both corners in edge q 1 parent unit 4 and the second child unit 7 glass plate Q 1 which is placed on the table 21, 23, Q 3 in the home position Corner polishing machines 37, 38 (FIGS. 1 and 2)
(Not shown).

【0020】図4は、図1の各ユニット4,6,7がホ
ーム位置からシフト位置へ移動したところを示してお
り、この状態では、親ユニット4と1番目の子ユニット
6のテーブル21,22上にガラス板回転装置26が位
置することになる。
FIG. 4 shows the units 4, 6, and 7 of FIG. 1 having moved from the home position to the shift position. In this state, the table 21 of the parent unit 4 and the first child unit 6 are moved. The glass plate rotating device 26 will be located on 22.

【0021】次に上記構成になる装置の動作を図5を用
いて説明する。尚、図5において、ガラス板Qに対し、
未研磨の辺縁を2重の破線で示し、研磨済みの辺縁を実
線で示した。 図5の(A):ホーム位置にある親ユニット4のテーブル
21にガラス板Q3が供給される。供給されたガラス板
(この場合はガラス板Q3のみ)が係止ピンにより位置合
わせされ、その位置に固定される。この時点で必要なら
ば、コーナー研磨機37により、ガラス板Q3の辺縁q1
のコーナーが研磨される。 図5の(B):各ユニットがホーム位置からシフト位置へ
移動され、この移動の間に、ガラス板Q3の辺縁が研磨
される。 図5の(C):シフトされた各研磨台上のガラス板Q
3が、テーブルへの固定を解いた後、ガラス板回転手段
により持ち上げられて90°回転され、この動作の間
に、各ユニットがシフト位置からホーム位置へ戻され
る。 図5の(D):ホーム位置へ戻った各子ユニットのテーブ
ル22上に、ガラス板回転手段で持ち上げていたガラス
板Q3が載置されると共に、親ユニット4のテーブル2
1上に次に研磨するガラス板Q2が載置され、ガラス板
3,Q2が位置合わせされ固定される。この時点で必要
ならばコーナー研磨機37によりガラス板Q2のコーナ
ーが研磨される。 図5の(E):各ユニットがホーム位置からシフト位置へ
移動され、この移動の間に、ガラス板Q3、Q2の辺縁が
研磨される。 図5の(F):シフトされた各研磨台上のガラス板Q3、Q
2がガラス板回転手段により持ち上げられて90°回転
され、この動作の間に、各ユニットがシフト位置からホ
ーム位置へ戻される。 図5の(G):ホーム位置へ戻った各子ユニットのテーブ
ル22,23上に、ガラス板回転手段で持ち上げていた
ガラス板Q3,Q2が載置されると共に、親ユニット4の
テーブル21上に次に研磨するガラス板Q1が載置さ
れ、これらのガラス板Q1ないしQ3が位置合わせの後固
定される。この時点で必要ならば、ガラス板Q1のコー
ナーがコーナー研磨機37により研磨され、又、ガラス
板Q3のコーナーがコーナー研磨機38により研磨さ
れ、これにより、ガラス板Q3は四方のコーナーが研磨
されたことになる。 図5の(H):各ユニットがホーム位置からシフト位置へ
移動され、この移動の間に、ガラス板Q1ないしQ3の辺
縁が研磨される。 この時点でガラス板Q3は3辺縁が研磨され、このガラ
ス板Q3は搬出装置等により次工程へ搬送され、この後
は、図5の(F)ないし(H)が繰替えされることにより、
1辺縁の研磨工程の間に、3辺縁を研磨したガラス板が
一枚づつ搬出されるので、処理時間を従来機と比べて1
/3倍にできる。
Next, the operation of the apparatus having the above configuration will be described with reference to FIG. In addition, in FIG. 5, with respect to the glass plate Q,
The unpolished margin is indicated by a double broken line, and the polished margin is indicated by a solid line. (A) in FIG. 5: is a glass plate Q 3 in the table 21 of the parent unit 4 at the home position are supplied. Supplied glass plate
(In this case, the glass plate Q 3 only) is aligned with the locking pin, it is fixed in its position. At this time, if necessary, the corner polisher 37 causes the edge q 1 of the glass plate Q 3.
Corners are polished. In FIG. 5 (B): each unit is moved from the home position to the shift position, during this movement, the edge of the glass sheet Q 3 is polished. FIG. 5C: The glass plate Q on each of the shifted polishing tables
After the table 3 is released from being fixed to the table, it is lifted and rotated 90 ° by the glass plate rotating means, and during this operation, each unit is returned from the shift position to the home position. Figure 5 (D): on the table 22 for each child unit that has returned to the home position, the glass plate Q 3 which has lifted a glass plate rotating means is mounted, the parent unit 4 Table 2
Glass plate Q 2 to which then polished on 1 is placed, a glass plate Q 3, Q 2 is aligned and fixed. Corner of the glass plate Q 2 is polished by the corner sander 37 if necessary at this point. FIG. 5E: Each unit is moved from the home position to the shift position, and during this movement, the edges of the glass plates Q 3 and Q 2 are polished. FIG. 5F: Glass plates Q 3 and Q on each of the shifted polishing tables.
2 is lifted and rotated 90 ° by the glass plate rotating means, and during this operation, each unit is returned from the shift position to the home position. FIG. 5 (G): The glass plates Q 3 and Q 2 lifted by the glass plate rotating means are placed on the tables 22 and 23 of the respective child units returned to the home position, and the table of the parent unit 4 is placed. glass plate Q 1 which then polished on 21 is placed, to those without the glass plate Q 1 Q 3 is fixed after alignment. If necessary at this time, a corner of the glass plate Q 1 is polished by a corner polisher 37, also corner of the glass plate Q 3 is polished by corner polisher 38, thereby, the glass plate Q 3 are square corners Has been polished. FIG. 5H: Each unit is moved from the home position to the shift position, and during this movement, the edges of the glass plates Q 1 to Q 3 are polished. At this point, three edges of the glass plate Q 3 are polished, and the glass plate Q 3 is conveyed to the next step by an unloading device or the like, and thereafter, (F) to (H) of FIG. 5 are repeated. By doing
During the polishing process for one edge, the glass plates having the three edges polished are carried out one by one, so that the processing time is reduced by one in comparison with the conventional machine.
/ 3 times.

【0022】図6は、第2発明に係わる装置の一実施例
を示す正面図であり、図7に側面図、図8に平面図を示
している。架台51上に適当な部材52を介して4個の
テーブル53,54,55,56がそれぞれ一定の間隔
を隔てて固定的に設けられる。一方、これらのテーブル
53ないし56にガラス板Qをセットし、かつセットし
た各ガラス板Qをそれぞれ下流(図中右側)方向のテーブ
ルへ転送できるように、カイドレール57に沿って一体
的に移動可能とした3個の搬送機58,59,60が設
けられる。図8で示した搬送機58,59,60の位置
をホーム位置と呼び、58'は、各搬送機が上流(図中左
側)方向へシフトしたときの搬送機58の位置を示して
おり、この位置をシフト位置と呼ぶ。各搬送機58ない
し60は、テーブルにセットしたガラス板Qを吸着する
ための4個のパッド61、このパッド61で吸着したガ
ラス板Qを上方に持ち上げると共に、その持ち上げたガ
ラス板Qを矢印(図8)方向へ90°旋回させるためのガ
ラス板回転装置62をそれぞれ備え、かつ、テーブル5
3ないし55にセットした各ガラス板Qに対して研磨す
べき辺縁が、後記の研磨機に常に当接するように、水平
方向(図8では図中の上下方向)にスライド可能となって
いる。
FIG. 6 is a front view showing an embodiment of the apparatus according to the second invention, FIG. 7 is a side view, and FIG. 8 is a plan view. Four tables 53, 54, 55, 56 are fixedly provided on the gantry 51 via a suitable member 52 at regular intervals. On the other hand, the glass plates Q are set on these tables 53 to 56, and can be integrally moved along the guide rails 57 so that each set glass plate Q can be transferred to a table in the downstream (right side in the figure) direction. The three transfer devices 58, 59, and 60 are provided. The positions of the transporters 58, 59, and 60 shown in FIG. 8 are called home positions, and 58 'indicates the position of the transporter 58 when each transporter is shifted in the upstream (left side in the figure) direction. This position is called a shift position. Each of the transporters 58 to 60 lifts the glass plate Q sucked by the pads 61 by four pads 61 for sucking the glass plate Q set on the table, and moves the lifted glass plate Q by an arrow ( FIG. 8) A glass plate rotating device 62 for turning 90 ° in the direction is provided, and the table 5
The glass plate Q set at 3 to 55 can be slid in the horizontal direction (up and down direction in FIG. 8) so that the edge to be polished always touches the polishing machine described later. .

【0023】テーブル53ないし55にセットした各ガ
ラス板Qの1辺縁を同時に研磨できるように、3個の研
磨機63,64,65が所定の間隔を隔てた状態でガイ
ドレール66に沿って一体的に移動可能に設けられる。
これらの3個の研磨機63ないし65の研磨位置が一直
線に並ぶように、図8の矢印で示した移動調節できる機
構になっている。又、これらの研磨機63ないし65
は、待機状態では図8に示したホーム位置にあり、これ
らの研磨機63ないし65が上流方向のシフト位置へ移
動する過程でテーブル53ないし55上のガラス板Qの
1辺縁を研磨する。67は、テーブル上でガラス板Qの
研磨すべき辺縁の位置決め用の係止ピンであり、このピ
ン67は、研磨時には下方向へ逃げる機構になってい
る。68(図7)は、防水カバーである。
Three polishers 63, 64, 65 are arranged along a guide rail 66 at predetermined intervals so that one edge of each glass plate Q set on the tables 53 to 55 can be simultaneously polished. It is provided so as to be integrally movable.
The three polishing machines 63 to 65 have a mechanism capable of adjusting the movement indicated by the arrow in FIG. 8 so that the polishing positions are aligned. In addition, these polishing machines 63 to 65
Is in the home position shown in FIG. 8 in the standby state, and grinds one edge of the glass plate Q on the tables 53 to 55 in the process of moving these polishing machines 63 to 65 to the shift position in the upstream direction. Reference numeral 67 denotes a locking pin for positioning the edge of the glass plate Q to be polished on the table, and this pin 67 has a mechanism to escape downward during polishing. 68 (FIG. 7) is a waterproof cover.

【0024】次に上記構成になる装置の研磨動作を図9
を用いて説明する。尚、図9においてガラス板Qは、未
研磨の辺縁を破線で示し、研磨済みの辺縁を実線で示し
た。
Next, the polishing operation of the apparatus having the above configuration will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. In FIG. 9, the unpolished edge of the glass plate Q is indicated by a broken line, and the polished edge is indicated by a solid line.

【0025】最初、搬送機58ないし60および研磨機
63ないし65は共にホーム位置にあり、この状態で最
上流の1番目のテーブル53にガラス板Q4が供給さ
れ、係止ピン67により所定位置にセットされると、テ
ーブル53にある吸引穴(不図示)によりの吸引により、
ガラス板Q4はテーブル53に固定される。図9の(A)
は、その後、搬送機58ないし60がシフト位置へ移動
した状態を示す。
First, the transporters 58 to 60 and the polishers 63 to 65 are both at their home positions. In this state, the glass plate Q 4 is supplied to the first table 53 at the most upstream position, When set to, by suction through a suction hole (not shown) in the table 53,
Glass plate Q 4 are fixed to the table 53. FIG. 9 (A)
Shows a state in which the transporters 58 to 60 have been moved to the shift position thereafter.

【0026】次に図9の(B)に示すように、研磨機63
ないし65がホーム位置からシフト位置へ移動し、その
過程でテーブル53上のガラス板Q4の第1の辺縁が研
磨される。
Next, as shown in FIG.
To 65 moves from the home position to the shift position, the first side edge of the glass plate Q 4 on the table 53 is polished in the process.

【0027】次に、テーブル53へのガラス板Q4の固
定が解かれた後、そのガラス板Q4は搬送機58に吸引
されて上方に持ち上げられる。そして図9の(C)で示す
ように、搬送機58ないし60がホーム位置へ移動する
ことで、持ち上げられていたガラス板Q4は図示した矢
印方向に90°回転しながら移送され、2番目のテーブ
ル54にセットされると同時に、1番目のテーブル53
に次の研磨するガラス板Q3がセットされる。
Next, after the fixing of the glass plate Q 4 to the table 53 is released, the glass plate Q 4 is sucked by the transfer device 58 and lifted upward. Then, as shown in (C) of FIG. 9, the conveyer 58 to 60 by moving to the home position, the glass plate Q 4 which has been lifted is transported while being rotated 90 ° in the direction of the arrow shown, second At the same time as the first table 53
Glass plate Q 3 to the next polishing is set to.

【0028】この状態から研磨機58ないし60が再び
シフト位置へ移動することで、図9の(D)で示すよう
に、ガラス板Q4に対しては第2の辺縁が研磨され、ガ
ラスQ3に対しては第1の辺縁が研磨され、その後、搬
送機58ないし60はシフト位置へ移動する。
[0028] The to no polishing machine 58 from a state that 60 moves again to the shift position, as shown by (D) in FIG. 9, the second side edges are polished for the glass plate Q 4, glass for Q 3 is polished first side edge, then, to not transfer machine 58 60 is moved to the shift position.

【0029】以下、同様に、90°づつ回転されながら
後段へ送給された各ガラス板Qは、研磨機58ないし6
0のシフト位置への移動の際に1辺縁が研磨され、図9
の(F)では、最初に供給したガラス板Q4は3番目のテ
ーブル55上で第3の辺縁が研磨され、そのガラス板Q
4は、図9の(G)、(H)で示すように、4番目のテーブ
ル56から不図示の搬出装置により、他の処理工程へ移
送される。
In the same manner, each of the glass plates Q fed to the subsequent stage while being rotated by 90.degree.
9 is polished at the time of moving to the shift position of 0, and FIG.
In (F), the glass sheet Q 4 supplied first is polished at the third edge on the third table 55, and the glass sheet Q 4
4 is transferred from the fourth table 56 to another processing step by a carrying-out device (not shown), as shown in FIGS.

【0030】第2発明の装置では、3辺縁の研磨とした
が4辺縁研磨を行う場合には、研磨機およびテーブルを
それぞれ1個追加すればよい。その場合、第4番目のテ
ーブルには、係止ピンやガラス板の回転機構は不要であ
る。尚、この装置では、図9に関して述べたように、全
工程をシーケンス制御としたが、例えば研磨機だけを個
別に駆動するといった個別制御を行うこともでき、又、
すべてマニュアル制御を行うこともできる。また、この
装置では、研磨機がホーム位置からシフト位置へ移動す
る際にガラス板を研磨したが(片道研磨)、シフト位置か
らホーム位置へ戻る際にも研磨することもでき(往復研
磨)、その場合の研磨動作を図10を用いて説明する。
In the apparatus according to the second aspect of the invention, three edges are polished. However, when four edges are polished, one polishing machine and one table may be added. In this case, the fourth table does not require a locking pin or a glass plate rotating mechanism. In this apparatus, as described with reference to FIG. 9, all the processes are sequence controlled. However, individual control such as individually driving only the polishing machine can be performed.
All can be controlled manually. In addition, in this apparatus, the glass plate is polished when the polishing machine moves from the home position to the shift position (one-way polishing), but can also be polished when returning from the shift position to the home position (reciprocating polishing), The polishing operation in that case will be described with reference to FIG.

【0031】図10の(A)に示すように、搬送機58な
いし60および研磨機63ないし65は共にホーム位置
にあり、この状態で1番目のテーブル53にガラス板Q
4がセットされる。
As shown in FIG. 10A, the transporters 58 to 60 and the polishers 63 to 65 are both at their home positions, and in this state, the glass plate Q is placed on the first table 53.
4 is set.

【0032】次に図10の(B)で示すように、研磨機6
3ないし65がシフト位置へ移動する際にガラス板Q4
の第1の辺縁が研磨され、その後、搬送機58ないし6
0もシフト位置へ移動する。
Next, as shown in FIG.
When 3 to 65 move to the shift position, the glass plate Q 4
Are polished on the first edge of the conveyors 58 to 6
0 also moves to the shift position.

【0033】次に図10の(C)で示すように、搬送機5
8により、ガラス板Q4が90°旋回しながら2番目の
テーブル54へセットされる同時に、テーブル53に次
に研磨するガラス板Q3がセットされる。
Next, as shown in FIG.
According to 8, the glass plate Q 4 is set on the second table 54 while turning 90 °, and at the same time, the glass plate Q 3 to be polished next is set on the table 53.

【0034】次に図10の(D)で示すように、研磨機6
3ないし65がホーム位置へ戻る際に、ガラス板Q4
対しては第2の辺縁が研磨され、ガラス板Q3に対して
は第1の辺縁が研磨される。そして、搬送機58ないし
60がシフト位置へ移動する。
Next, as shown in FIG.
When returning from 3 to 65 to the home position, relative to the glass plate Q 4 is polished second side edge, a first side edge are polished for the glass plate Q 3. Then, the transporters 58 to 60 move to the shift position.

【0035】以下、同様に、90°づつ回転されながら
後段へ送給された各ガラス板は、研磨機63ないし65
のホーム位置からシフト位置への移動、又はシフト位置
からホーム位置への移動の際にガラス板Qの辺縁が研磨
され、図9で述べたように、研磨機がホーム位置からシ
フト位置へ移動してガラス板Qを研磨すればホーム位置
へ復帰するステップが省略されるので所要の工程時間を
更に短縮できる。
Similarly, each of the glass plates fed to the subsequent stage while being rotated by 90 ° is polished by a grinder 63 to 65.
When moving from the home position to the shift position or from the shift position to the home position, the edge of the glass plate Q is polished, and the polishing machine moves from the home position to the shift position as described in FIG. If the glass plate Q is polished, the step of returning to the home position is omitted, so that the required process time can be further reduced.

【0036】図12に第3発明に係わる装置の一実施例
を示す平面図を示している。第2発明では、搬送機と研
磨機とを個別に設け、個別に移動可能としたが、図12
では、3台の搬送機58ないし60と研磨機63ないし
65とを交互に連結し、ガイドレール66に沿って一体
的に移動可能としている。この場合の研磨動作を図12
を用いて説明する。
FIG. 12 is a plan view showing an embodiment of the device according to the third invention. In the second invention, the transporter and the polishing machine are separately provided and can be moved individually.
In this case, three transporters 58 to 60 and polishers 63 to 65 are alternately connected to each other so as to be integrally movable along a guide rail 66. The polishing operation in this case is shown in FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0037】最初は、図12の(A)で示すように、搬送
機58ないしおよび研磨機63ないし65は、ホーム位
置にあり、この状態で1番目のテーブル53にガラス板
4がセットされる。
[0037] First, as shown in FIG. 12 (A), conveyor 58 through and polisher 63 to 65 is in the home position, the glass plate Q 4 is set in this state in the first table 53 You.

【0038】次に図12の(B)で示すように、搬送機お
よび研磨機がシフト位置へ移動することでテーブル53
上のガラス板Q4の第1の辺縁が研磨される。次に搬送
機および研磨機がホーム位置に戻る際、この搬送機によ
り、ガラス板Q4が90°回転しながら2番目のテーブ
ル54へ移送される。
Next, as shown in FIG. 12 (B), when the transporter and the polishing machine move to the shift position, the table 53 is moved.
First side edge of the glass plate Q 4 above is polished. The next time the transport machine and polishing machine returns to the home position, by this conveyor, the glass sheet Q 4 is transferred to the second table 54 while rotating 90 °.

【0039】次に図12の(D)に示すように、搬送機お
よび研磨機が再びシフト位置へ移動する時に、ガラス板
4に対しては第2の辺縁が研磨され、ガラス板Q3に対
しては第1の辺縁が研磨される。
[0039] Then, as shown in (D) in FIG. 12, when the conveying machine and polishing machine is moved back to the shift position, the second side edges are polished for the glass plate Q 4, a glass plate Q For 3 , the first edge is polished.

【0040】この場合も以下同様に各テーブルで1つの
辺縁が同時に研磨されるようになっており、本装置は、
図9の片道研磨において、搬送機と研磨機とを同時に移
動させた場合に相当する。
In this case as well, one edge of each table is polished at the same time in the same manner.
In the one-way polishing shown in FIG. 9, this corresponds to a case where the transporter and the polishing machine are simultaneously moved.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の研磨装置
では、複数のテーブルにセットした各ガラス板を1辺縁
を研磨機によって同時に研磨し、又、研磨されたガラス
板を搬送機によって90°回転させて後段へ同時に送給
するようにしたので、1辺縁を研磨するのに要する時間
で、3辺縁(テーブル数が3個の場合)または4辺縁(テ
ーブル数が4個の場合)の研磨が可能となり研磨速度を
大幅に向上できる。また、研磨する辺縁数に応じてテー
ブル数を容易に増減できるので、被研磨材料に応じて的
確なシステムを構築でき、自動化ラインに容易に適用可
能である。更には、本装置では、各ユニットまたはテー
ブル間の距離が不変なので、それらの間の隙間に必要と
なる防水カバーの設置が容易であり、かつ、安価な板材
を用いることができる。
As described above, in the polishing apparatus of the present invention, one edge of each glass plate set on a plurality of tables is simultaneously polished by the polishing machine, and the polished glass plate is transported by the transfer machine. Since it is rotated 90 ° and fed simultaneously to the subsequent stage, the time required to polish one edge is 3 edges (when the number of tables is 3) or 4 edges (when the number of tables is 4) Can be polished, and the polishing rate can be greatly improved. In addition, since the number of tables can be easily increased or decreased according to the number of edges to be polished, an accurate system can be constructed according to the material to be polished, and can be easily applied to an automated line. Further, in the present apparatus, since the distance between the units or the tables is invariable, it is easy to install a waterproof cover necessary for a gap between them, and an inexpensive plate can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 第1発明のガラス研磨装置の一実施例を示す
正面図
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a glass polishing apparatus according to the first invention.

【図2】 図1の装置を側方から見た側面図FIG. 2 is a side view of the apparatus of FIG. 1 as viewed from the side.

【図3】 図1の装置の平面図FIG. 3 is a plan view of the apparatus of FIG. 1;

【図4】 図1の装置においてテーブルが右方へ移動し
たときの正面図
FIG. 4 is a front view of the apparatus shown in FIG. 1 when the table is moved rightward;

【図5】 図1の装置における一連の研磨動作を示した
FIG. 5 is a view showing a series of polishing operations in the apparatus of FIG. 1;

【図6】 第2発明のガラス研磨装置の一実施例を示す
正面図
FIG. 6 is a front view showing an embodiment of the glass polishing apparatus of the second invention.

【図7】 図6の装置を側方から見た側面図7 is a side view of the device of FIG. 6 as viewed from the side.

【図8】 図6の装置の平面図8 is a plan view of the apparatus of FIG.

【図9】 図6の装置における一連の研磨動作を示した
FIG. 9 is a view showing a series of polishing operations in the apparatus of FIG. 6;

【図10】 図6の装置において往復研磨とした時の一
連の研磨動作を示した図
FIG. 10 is a diagram showing a series of polishing operations when reciprocating polishing is performed in the apparatus of FIG. 6;

【図11】 第3発明のガラス研磨装置の一実施例を示
す平面図
FIG. 11 is a plan view showing one embodiment of the glass polishing apparatus of the third invention.

【図12】 図11の装置における一連の研磨動作を示
した図
FIG. 12 is a view showing a series of polishing operations in the apparatus shown in FIG. 11;

【図13】 3端子構造の液晶表示器を示す平面図FIG. 13 is a plan view showing a liquid crystal display having a three-terminal structure.

【図14】 図13の液晶表示器のA−A’ラインにお
ける断面図
14 is a cross-sectional view of the liquid crystal display of FIG. 13 taken along line AA ′.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 架台 3 ガイドレール 4 親ユニット 5 移動台 6 子ユニット 7 子ユニット 8 移動台 9 移動台 10 連結板 12 水切り 14 ボールネジ 16 ボールナット 18 防水カバー 21 テーブル 26 ガラス板回転装置 28 係止ピン 30 係止ピン 31 押付ピン 34 研磨機 37 コーナー研磨機 51 架台 52 部材 53 テーブル 57 ガイドレール 58 搬送機 61 パッド 62 ガラス板回転装置 63 研磨機 67 係止ピン 68 防水カバー Q ガラス板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stand 3 Guide rail 4 Parent unit 5 Moving table 6 Child unit 7 Child unit 8 Moving table 9 Moving table 10 Connecting plate 12 Drainer 14 Ball screw 16 Ball nut 18 Waterproof cover 21 Table 26 Glass plate rotating device 28 Locking pin 30 Lock Pin 31 pressing pin 34 polishing machine 37 corner polishing machine 51 gantry 52 member 53 table 57 guide rail 58 transfer device 61 pad 62 glass plate rotating device 63 polishing machine 67 locking pin 68 waterproof cover Q glass plate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−188661(JP,A) 特開 昭59−47152(JP,A) 特開 昭53−124395(JP,A) 実開 平1−81265(JP,U) 実開 昭60−142058(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 9/00 601 B24B 9/10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-62-188661 (JP, A) JP-A-59-47152 (JP, A) JP-A-53-124395 (JP, A) 81265 (JP, U) Japanese Utility Model Showa 60-142058 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B24B 9/00 601 B24B 9/10

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ガラス板の辺縁を研磨するためのガラス
研磨装置であって、研磨するガラス板が載置されるテー
ブル、テーブル上の載置されたガラス板を所定の基準位
置に合わせる位置決め手段、位置決めされた前記ガラス
板を研磨台に固定するための固定手段、をそれぞれ具備
する複数個のユニットと;複数個の各ユニットを、直線
状に一定の間隔Lでもって相互に連結する連結部材と;
各ユニットを、元のホーム位置から下流方向へLだけ隔
たったシフト位置へ移動させると共に、ホーム位置へ復
帰させる移動手段と;各ユニットをホーム位置からシフ
ト位置へ移動させた時、各ユニットのテーブル上のガラ
ス板の1辺縁を同時に研磨するよう設けられた複数個の
研磨手段と;シフト位置の各ユニットをホーム位置へ戻
す前に、シフト位置の各ユニットにあるガラス板を持ち
上げ、ホーム位置へ復帰した各ユニットのテーブル上
に、前記ガラス板を90°回転した状態で載置するガラ
ス板回転手段と;を備えたことを特徴とするガラス研磨
装置。
1. A glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising: a table on which the glass plate to be polished is mounted; and a positioning for positioning the glass plate mounted on the table to a predetermined reference position. A plurality of units each comprising: means, fixing means for fixing the positioned glass plate to the polishing table; and a connection for mutually connecting the plurality of units linearly at a constant interval L. Components;
Moving means for moving each unit to a shift position separated by L in the downstream direction from the original home position and returning to the home position; and a table for each unit when each unit is moved from the home position to the shift position. A plurality of polishing means provided to polish one edge of the upper glass plate at the same time; before returning each unit at the shift position to the home position, lifting the glass plate at each unit at the shift position, A glass plate rotating means for mounting the glass plate on the table of each unit which has been returned to a state rotated by 90 °.
【請求項2】 各テーブルにセットされたガラス板の研
磨すべき辺縁におけるコーナーを研磨するためのコーナ
ー研磨手段を更に備えた請求項1記載のガラス研磨装
置。
2. The glass polishing apparatus according to claim 1, further comprising a corner polishing means for polishing a corner at an edge to be polished of the glass plate set on each table.
【請求項3】 ガラス板の辺縁を研磨するためのガラス
研磨装置であって、 それぞれ所定間隔を隔てて直線状に設けられた複数個の
固定テーブルと、 各テーブルに載置されたガラス板を基準位置に合わせる
位置決め手段と、 位置決めされたガラス板をテーブルに固定する固定手段
と、 上流方向へ移動することで、各テーブル上の固定された
各ガラス板の1辺縁を同時に研磨する研磨手段と、 各テーブル上の研磨された各ガラス板を90°回転させ
た状態でそれぞれ後段のテーブルへ移動させる搬送手段
と、 を備えたことを特徴とするガラス研磨装置。
3. A glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising: a plurality of fixed tables provided linearly at predetermined intervals; and a glass plate mounted on each table Positioning means for adjusting the position of the glass plate to the reference position; fixing means for fixing the positioned glass plate to the table; and polishing for simultaneously polishing one edge of each fixed glass plate on each table by moving in the upstream direction. A glass polishing apparatus comprising: means for transporting each polished glass plate on each table to a subsequent table while rotating each glass plate by 90 °.
【請求項4】 上記研磨手段は、下流方向へ移動する時
にも研磨を行う請求項3記載のガラス研磨装置。
4. The glass polishing apparatus according to claim 3, wherein said polishing means performs polishing when moving in a downstream direction.
【請求項5】 ガラス板の辺縁を研磨するためのガラス
研磨装置であって、 それぞれ所定間隔を隔てて直線状に設けられた複数個の
固定テーブルと、 各テーブルに載置されたガラス板を基準位置に合わせる
位置決め手段と、 位置決めされたガラス板をテーブルに固定する固定手段
と、 上流方向へ移動することで、各テーブル上の固定された
各ガラス板の1辺縁を同時に研磨する研磨手段と、 研磨手段と一体的に移動し、研磨手段の下流方向への移
動時に、各テーブル上の研磨された各ガラス板を90°
回転させた状態でそれぞれ後段のテーブルへ移動させる
搬送手段と、 を備えたことを特徴とするガラス研磨装置。
5. A glass polishing apparatus for polishing an edge of a glass plate, comprising: a plurality of fixed tables provided linearly at predetermined intervals; and a glass plate placed on each table Positioning means for adjusting the position of the glass plate to the reference position; fixing means for fixing the positioned glass plate to the table; and polishing for simultaneously polishing one edge of each fixed glass plate on each table by moving in the upstream direction. Means, move integrally with the polishing means, and when the polishing means moves in the downstream direction, each polished glass plate on each table is rotated by 90 °.
A glass polishing apparatus, comprising: transport means for moving each of the rotating tables to a subsequent table.
【請求項6】 各テーブル間におよび/又は各研磨機間
に防水カバーを備えた請求項1ないし5のいずれかに記
載のガラス研磨装置。
6. The glass polishing apparatus according to claim 1, further comprising a waterproof cover between the tables and / or between the polishing machines.
【請求項7】 上記連結部材が防水カバーを兼ねる請求
項1または2記載のガラス研磨装置。
7. The glass polishing apparatus according to claim 1, wherein the connecting member also serves as a waterproof cover.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101264406B1 (en) * 2011-03-24 2013-05-14 주식회사 케이엔제이 Work edge grinding apparatus and method using the same
KR101283558B1 (en) * 2011-03-25 2013-07-15 (주)미래컴퍼니 Substrate grinding apparatus and grinding method

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3654361B2 (en) * 1993-09-21 2005-06-02 株式会社東芝 Polishing apparatus and method
JP3628307B2 (en) * 1993-09-21 2005-03-09 株式会社東芝 Polishing apparatus and method
JP3623220B2 (en) * 1993-09-21 2005-02-23 株式会社東芝 Polishing apparatus and method
JP4604319B2 (en) * 2000-08-07 2011-01-05 坂東機工株式会社 Glass plate processing method and apparatus
KR100832293B1 (en) * 2002-03-20 2008-05-26 엘지디스플레이 주식회사 Grind table of liquid crystal display panel and grinder using it
KR100798322B1 (en) * 2002-03-21 2008-01-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Apparatus and method for correcting grind amount of liquid crystal display panel
KR100841623B1 (en) * 2002-03-21 2008-06-27 엘지디스플레이 주식회사 Grinder of liquid crystal display panel
KR101136792B1 (en) * 2004-12-30 2012-04-19 엘지디스플레이 주식회사 Grinder for LCD fabrication and the method for the same
KR100900262B1 (en) * 2007-06-28 2009-05-29 반도키코 가부시키가이샤 Apparatus for grinding glass plate
KR100988014B1 (en) * 2008-04-14 2010-10-18 (주)미래컴퍼니 Apparatus and method for grinding glass plate
CN102596501B (en) * 2010-01-27 2015-07-01 坂东机工株式会社 Glass plate machining method and glass plate machining apparatus
WO2011121640A1 (en) * 2010-03-29 2011-10-06 坂東機工株式会社 Method for processing plate glass and apparatus for processing plate glass
US8713968B2 (en) * 2010-05-03 2014-05-06 Corning Incorporated Method and apparatus for making a 3D glass article
JP5874393B2 (en) 2011-12-28 2016-03-02 日本電気硝子株式会社 Glass plate processing apparatus and processing method thereof
CN111015403B (en) * 2020-01-20 2020-12-29 群升集团有限公司 Polishing equipment for household fireproof wooden door
CN111055181B (en) * 2020-01-20 2020-12-29 群升门窗股份有限公司 Thermal-insulated domestic door plant production facility
CN112429345A (en) * 2020-12-22 2021-03-02 周开永 Intelligent processing equipment for trimming

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101264406B1 (en) * 2011-03-24 2013-05-14 주식회사 케이엔제이 Work edge grinding apparatus and method using the same
KR101283558B1 (en) * 2011-03-25 2013-07-15 (주)미래컴퍼니 Substrate grinding apparatus and grinding method

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