KR100806752B1 - 배치식 열처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 노내(爐內)의 온도 및 대기의 균일성을 평면적 및 상하 방향으로 모두 향상시킴으로써, 고품질의 적층 세라믹 부품 등의 다품종 소량 생산에 적합한 배치식 세라믹 열처리 장치를 제공한다. 상기한 배치식 세라믹 열처리 장치는, 내부에 피열처리물을 열처리하기 위한 대략 원통형의 닫혀진 열처리 공간을 가지며, 노(爐)의 저부에 마련된 원형 개구에 노(爐) 바닥부가 끼워 맞추어져 회전하고, 상기 노(爐) 바닥부 상에 재치된 피열처리물이 열처리 공간내에서 회전하면서 열처리되는 배치식 열처리 장치에 있어서, 상기 노(爐) 바닥부는 원형 개구의 중심을 지나는 축의 주위를 회전하는 원판상의 메인 노(爐) 바닥부와, 상기 메인 노(爐) 바닥부의 회전축을 중심으로 하는 동심원상에 등간격으로 배치되어 설치된 복수의 삽통공내에 회전하도록 끼워 맞추어져 피열처리물을 재치하는 복수의 소형 원판상의 보조 노(爐) 바닥부로 구성되며, 상기 보조 노(爐) 바닥부는 자전함과 동시에 상기 메인 노(爐) 바닥부와 함께 공전함으로써 상부, 중간부 및 하부 히터군의 개별 온도 제어에 의해 노(爐) 바닥부 상의 피열처리물이 자전 및 공전하면서 열처리된다.

노(爐), 히터, 전자부품, 피열처리물, 자공전, 온도, 대기, 배치식

Description

배치식 열처리 장치{Batch type heat treatment apparatus}

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 노(爐) 상부의 평면도이다.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 종단면도이다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 전동 기구를 나타내는 도면이다.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 설명도이다.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 설명도이다.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 전동 기구를 나타내는 도면이다.

도 7의 (a)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 형태이고, (b)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 가스 분출구멍의 형태이다.

도 8의 (a)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 형태이고, (b)는 본 발명의 다른 실시예에 따른 배치식 열처리 장치의 가스 도입관의 가스 분출구멍의 형태이다.

〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉

1: 상부 히터 2: 중간부 히터

3: 하부 히터 4: 메인(main) 노(爐) 바닥부

4a: 삽통공 5: 메인 노(爐) 바닥부 회전축

6: 보조 노(爐) 바닥부 7:　보조 노(爐) 바닥부 회전축

8: 노(爐) 바닥부 9: 피열처리물

10: 히터 11, 21: 노(爐) 틀

12: 단열재 13: 선반용 판자

13a: 지주 14: 개구부

15: 노(爐) 16: 노(爐) 본체

16a: 동체부(胴體部) 16b: 저부(底部)

16c: 천장부 17: 메인 노(爐) 바닥부 회전방향

18: 보조 노(爐) 바닥부 회전방향 19: 전동(傳動) 기구

19 a, 19 b: 도르래 19c:　벨트

20: 메인 노(爐) 바닥부 회전축 선단부 22:　보조 노(爐) 바닥부 지지판

23: 노(爐) 바닥부 틀 23a:　내열 봉지 수단

31: 상부 가스 도입관 31a, 32a, 33a: 수평관

31b, 32b, 33b: 가스 헤더 31c: 가스 분출공(작은 구멍)

31d: 가스 분출공 32: 중앙부 가스 도입관

33: 하부 가스 도입관

본 발명은 배치식 열처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 적층 세라믹 콘덴서, 세라믹 압전소자, 또는 세라믹 저항 등의 소형 적층 세라믹 전자 부품 등의 적층 세라믹 부품의 탈지(脫脂), 가소 및 소성(燒成) 등의 열처리를 포함하는 제조 공정에 이용되는 배치식 열처리 장치에 관한 것이다.

근래, 적층 세라믹 전자 부품 등 적층 세라믹 부품의 특성에 대한 요구가 엄격해지고 있으며, 특히, 특성의 균일성이 강력히 요구되어지고 있다. 따라서, 각 제조 공정의 처리 조건의 안정과 균일화가 필요하며, 열처리 장치에 있어, 온도나 대기 등의 고정밀도 제어가 요구되고 있다.

세라믹 전자 부품의 제조에 있어서의 열처리 공정에는, 통상 피열처리물을 받침판상에 탑재시키던가 또는, 반송 벨트에 탑재시키는 등으로 해서 상기 터널 모양의 노(爐)를 통과시키는 연속 노(爐), 또는 피열처리물을 배치(batch)마다 열처리하는 배치 노(爐)가 사용된다. 일반적으로, 소량 품종 대량 생산에 대해서는, 상기 연속 노(爐)쪽이 생산 효율이 보다 유리하다. 그러나, 최근에는 여러가지특성의 다양한 세라믹 전자 부품이 필요하고, 그 생산 형태는 다품종 소량 생산의 경향이 강함으로, 열처리 장치로서는 열처리 조건의 변경이 용이한 배치 노(爐)가 사용되는 경우가 증가하고 있는 추세이다.

세라믹 전자 부품의 생산에 이용하는 일반적인 배치 노(爐)는, 막대 모양의 히터를 대략 사각형의 노(爐)의 내벽을 따라 상하 방향으로 일렬로 배치시키든지, 또는 우물 정(井)자 모양으로 수평하게 배치하여 가열시키는 구조로 되어 있다. 따라서, 평면적으로는 히터로부터 떨어진 노(爐)의 중심부 쪽이, 주변부보다 온도가 낮고 온도 추종성도 나쁘다. 또한, 상하 방향에서는, 가열된 가스의 대류에 의해 하부 쪽이 상부보다 낮아지는 온도의 불균일성을 가지고 있다.

상기 피열처리물이 전자 부품과 같이 소형의 경우에는, 피열처리물을 용기 또는 선반용 판자 위에 늘어놓고, 이들 용기 또는 선반용 판자를 다단으로 적층하여 다수의 피열처리물을 동시에 배치(batch)처리 하지만, 전술한 바와 같은 종래의 배치 노(爐)에서는, 피열처리물의 노내에서의 위치가 고정되어 있기 때문에, 노내의 온도의 불균일성이 그대로 피열처리물의 열처리 온도의 불균일과 열이력(履歷)에 기인하는 특성 불균형으로 이어진다. 또한, 비금속 적층 콘덴서 등과 같은 정밀한 노(爐) 내부의 대기 제어를 필요로 하는 경우에는, 상기 노(爐) 내부의 대기의 불균일에 인한 특성 불균형도 유발한다. 이로 인하여 하나의 배치(batch)에서 대량의 피열처리물을 처리하고자 하는 경우, 품질의 불균일성 초래하고, 품질의 불균일성을 감소시키려면, 피열처리물의 적재 영역이 한정되어 생산성이 저하되는 문제점이 발생된다.

상기 문제점을 해결하기 위해서, 일본 특허 공개 공보 제 평 2－219979 호( 이하, 종래 기술 1 이라함)에서는, 상기 노(爐) 내부의 온도와 대기의 평면적인 균일성과 상하 방향의 균일성을 모두 확보할 필요가 있다. 평면적인 균일성의 확보에 대해서는, 노내에서 피열처리물을 평면적으로 이동시켜 위치 의존성을 작게 하는 방법이 알려져 있다. 이와 같이 하면, 노(爐) 내부에 온도, 대기 등의 불균일성이 있더라도, 피열처리물이 받는 열은 균일화되어 특성 불균형도 작아진다. 예를 들면, 원형의 회전할 수 있는 노(爐) 바닥부를 가져, 이 노(爐) 바닥부에 놓인 피열처리물이, 노(爐) 몸체내에서 회전하면서 열처리되는 방법이 제안되고 있다.

또한, 일본 특허 공개 공보 제 평 4－306485 호(이하, 종래 기술 2)에서는, 대략 정방형의 노(爐) 바닥부를 4등분하여 각각의 영역에 피열처리물을 적재하는 사각 회전대를 서로 접촉하지 않게 회전시켜, 열이력의 균일성을 향상시키는 방법이 제안되고 있다.

또한, 일본 특허 공개 공보 제 소 63－54587 호(이하, 종래 기술 3)에서는, 피열처리물이 스스로 공전(公轉)하는 배치 노(爐)로서, 회전하는 원형의 노(爐) 바닥부의 회전중심으로부터 떨어진 위치에 노(爐) 바닥부를 관통하는 샤프트를 갖추고 있어 이 샤프트는 기어(齒車)를 개재하여 노(爐) 바닥부의 회전축에 접속되어 노(爐) 바닥부가 회전함과 동시에 샤프트도 회전하여 피열처리물이 상기 샤프트에 접속된 탑재판에 배치되어 스스로 공전하면서 열처리되는 것이 개재되어 있다.

한편, 일본 특허 공개 공보 제 평 5－141875 호(이하, 종래 기술 4)에서는, 상하 방향 온도의 균일성을 향상시키기 위해 발열부가 길이 방향으로 다른 U자형 히터를 이용해 노(爐) 몸체의 상부에 발열부를 갖는 히터와, 노 몸체의 중앙부에 발열부를 갖는 히터와, 노 몸체의 하부에 발열부를 갖는 히터를 차례로 배치하여 노 몸체의 상하 방향의 온도가 균일하게 되도록 상부, 중앙부 및 하부에 발열부를 갖는 히터군을 각각 제어하는 방법이 개시되어 있다.

또한, 일본 특허 공개 공보 제 평 5－172471 호(이하, 종래 기술 5)에서는 대기의 균일화에 대해서는 세라믹 그린 시트의 탈지 공정(바인더 날림) 등, 대량의 가스를 도입, 배출해야 하는 용도로는 특수한 구조의 노 몸체가 제안되고 있지만, 일반적으로는, 피열처리물을 상기 노 내부를 이동시킴으로써, 온도와 함께 대기도 균일화되는 것으로 기대되고 있다. 특히, 적극적으로 대기의 균일화를 도모하는 목적으로, 회전하는 노(爐) 바닥부에 배치된 피열처리물 위에 대기 교반용의 블레이드가 부착된 치구를 배치하여 노(爐) 바닥부의 회전에 의해 블레이드도 회전하여 노내의 가스를 교반하는 기술이 개시되어 있다.

그러나, 상기 종래 기술 1의 방법에서는, 원형의 노(爐) 바닥부의 직경 방향의 불균일성은 해소되지 않는다.

　 또한, 상기 종래 기술 2의 방법에서는, 회전대의 회전하는 영역에 있어서는 균일화되지만, 노 전체로는 균일화가 되지 않는 문제점이 있다.

또한, 상기 종래 기술 3의 방법에서는, 피열처리물이 스스로 공전하면서 열처리됨으로, 평면적인 열처리 조건의 균일성은 향상하나, 샤프트에 지지된 회전대에 피열처리물을 배치하기 때문에, 피열처리물을 균일하게 배치하지 못하면 샤프트가 기울어져, 피열처리물이 회전대로부터 낙하하는 등의 문제점이 있고, 피열처리물을 중량이 큰 용기에 넣고 다단 적층해 처리하는 세라믹 제품의 열처리 공정 등 에는 부적합하다. 또한, 노의 중심부에도 히터를 가지기 때문에 복수의 피열처리물의 적재 영역이 좁아지게 된다.

또한, 상기 종래 기술의 어느 방법에 있어서도 평면적인 열이력의 균일성의 향상을 목적으로 한 것으로서 상하 방향의 균일성은 함께 고려하고 있지는 않다.

　 한편, 상기 종래 기술 4의 방법에서는, 상하 방향의 온도의 균일성이 향상되더라도 노 내부 전체의 균일성이 향상하지 않는 것은 말할 필요도 없다. 게다가 노 중심부에 발열근원을 가지기 때문에 설비 구조상의 복잡화와 코스트 업을 가져옴과 동시에, 피열처리물의 적재 영역을 좁게 하고 있다.

또한, 상기 종래 기술 5의 방법에서는, 블레이드에 의해 노 내 가스를 교반하더라도, 가스의 흐름이 피열처리 물자체에 차단되어져 충분한 교반 효과를 얻을 수 없다.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은, 피열처리물의 열이력의 재치(載置) 위치 의존성을 평면적 및 상하 방향으로 모두 작게 하여 고품질의 적층 세라믹 부품등의 다품종 소량 생산의 열처리에도 대응 가능한 배치식 세라믹 열처리 장치를 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 청구항 1의 발명에서 주장하는 배치식 세라믹 열처리 장치는, 내부에서 피열처리물을 열처리하기 위해서, 내면이 단열재로 형성된 노(爐) 몸체와, 상기 노(爐)의 저부에 마련된 원형(圓形) 개구에 회전 가능하게 끼워 맞추어진 노(爐) 바닥부와, 거의 원통 형태의 열처리 공간으로 구성되어, 상기 노(爐) 바닥부 상에 재치된 피열처리물이 상기 열처리 공간내에서 회전하면서 열처리 되는 배치식 열처리 장치에 있어서, 상기 노(爐) 바닥부는 상기 원형 개구의 중심을 지나는 축의 주위를 회전하는 원판상의 메인 노(爐) 바닥부와, 상기 메인 노(爐) 바닥부의 회전축을 중심으로 하는 동심원상에 등간격으로 배치되어 천설(穿設)된 복수의 삽통공(揷通孔)내에 회전할 수 있도록 끼워 맞추어지며, 상기 피열처리물을 재치하는 복수의 소형 원판상의 보조 노(爐) 바닥부로 구성되며, 상기 보조 노(爐) 바닥부 상의 상기 피열처리물이 자전 및 공전하면서 열처리 되도록 상기 보조 노(爐) 바닥부를 자전함과 동시에 상기 메인 노(爐) 바닥부와 함께 공전하는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

청구항 2의 발명은, 청구항 1의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 보조 노(爐) 바닥부를 자전하기 위하여, 상기 구동 수단은 상기 메인 노(爐) 바닥부의 회전 구동력을 전동(傳動) 기구를 개재하여 상기 보조 노(爐) 바닥부의 회전축에 전달시켜 구성되는 것을 특징으로 한다.

청구항 3의 발명은, 청구항 1 또는 청구항 2의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 보조 노(爐) 바닥부 상에는 상기 피열처리물을 재치 하기 위한 복수단으로 적층한 내열성의 금속 또는 세라믹제의 용기 또는 선반용 판자가 구비되며, 상기 노(爐)에는 상기 열처리 공간을 가열하는 가열원과 상기 열처리 공간에 대기 가스를 도입하는 가스 도입관이 구비되어 있으며, 상기 용기 또는 선반용 판자상에 재치된 피열처리물은 상기 가열원과 가스 도입관에 의해 얻어진 소망 온도 및 노내 (爐內) 대기 프로 파일에 의해 열처리되는 것을 특징으로 한다.

청구항 4의 발명은, 청구항 3의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 가열원은, 상기 다단으로 적층된 용기 또는 선반용 판자와 상기 대략 원통형의 열처리 공간을 갖는 노(爐)의 동체부(胴體部) 내벽의 단열재 사이에서 동심원(同心圓) 형태로 수직으로 매달아 고정되거나 또는 상기 노(爐)의 동체부의 노측벽에 고정되는 복수의 히터로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

청구항 5의 발명은, 청구항 4의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 복수의 히터는, 상기 노(爐)의 상부를 가열하는 상부 히터군과, 상기 노(爐)의 중간부를 가열하는 중간부 히터군과, 상기 노(爐)의 하부를 가열하는 하부 히터군으로 이루어지며, 상기 각각의 히터군을 독립하여 온도 제어하는 온도 제어 수단을 구비하고, 이것에 의해 상기 소망 온도 프로 파일을 얻는 것을 특징으로 한다.

청구항 6의 발명은, 청구항 3의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 가스 도입관은, 상기 노(爐)의 외부에서 상기 노측벽(爐側壁)을 관통해 상기 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 도달하는 수평관과, 상기 수평관의 선단부에 설치되거나 또는 상기 수평관의 선단부에 접속됨과 함께 상기 내벽면을 따라 수직 방향으로 관(管) 형태로 연장되며, 상기 노(爐)의 내부 방향을 향해서 개구된 복수의 가스 분출공 또는 슬릿 형상의 가스 분출공을 갖는 가스 헤드로 이루어지는 특징으로 한다.

청구항 7의 발명은, 청구항 5의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 가스 도입관은, 상기 노(爐)의 외부에서 상기 노측벽(爐側壁)을 관통해 상기 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 도달하는 수평관과, 상기 수평관의 선단부에 설치되거나 또 는 상기 수평관의 선단부에 접속됨과 함께 상기 내벽면을 따라 수직 방향으로 관(管) 형태로 연장되며, 상기 노(爐)의 내부 방향을 향해서 개구된 복수의 가스 분출공 또는 슬릿 형상의 가스 분출공을 갖는 가스 헤드로 이루어지며, 상기 가스 분출공이 상기 상부 히터, 중간부 히터 및 하부 히터 각각과 상기 노(爐)의 내벽면과의 사이에 위치하도록 설치되어 상기 가스 분출공으로부터의 대기 가스가 가열되면서 상기 열처리 공간에 분산되도록 한 것을 특징으로 한다.

청구항 8의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 3 항 중 어느 한 항의 배치식 세라믹 열처리 장치에 있어서, 상기 노(爐) 바닥부는 상기 노(爐) 하부의 원형 개구에 대해서 상대적으로 상하 방향으로 이동할 수 있도록 구성되며, 상기 피열처리물을 적재 또는 분리하는 경우에는 상기 노(爐) 내부가 냉각된 상태에서 상기 원형 개구로부터 하강하여 상기 피열처리물의 적재 또는 분리를 가능하게 하며, 상기 피열처리물의 열처리시에는 상기 피열처리물을 재치한 상태로 상승하여 상기 노(爐)를 밀폐하는 것을 특징으로 한다.

청구항 1의 발명에 의하면, 피열처리물이 보조 노(爐) 바닥부 상에 재치되어 상기 메인 노(爐) 바닥부에 의해 노내(爐內)를 공전하면서 자전하기 때문에, 노내(爐內) 전체의 온도 분포에 어느 정도 격차가 있더라도, 자전 및 공전에 의해 보조 노(爐) 바닥부 상의 피열처리물 자체는, 온도의 위치 의존성에 의한 불균일성이 저감된다. 예를 들면, 노내(爐內) 온도 1200∼1300℃에 대해서, ±2℃ 이내에서 열처리 한 것과 실행적으로 같은 온도 이력이 충분히 달성되는 것과 동시에, 노내(爐內) 대기의 교반과 균일화도 가능해진다.

청구항 2의 발명에 의하면, 청구항 1의 발명과 같은 효과에 부가하여 피열처리물이 재치된 보조 노(爐) 바닥부는, 상기 구동 수단의 전동 기구에 의해 메인 노(爐) 바닥부의 구동력을 전동시켜 자전할 수가 있음으로, 노(爐) 내벽부와 노내(爐內) 중심부를 반복 왕복해 열처리됨으로써, 보조 노(爐) 바닥부상에 재치된 피열처리물의 온도 분포의 균일화와 노내(爐內) 대기의 교반의 균일화가 한층 향상되어 진다.

청구항 3의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 청구항 2의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 보조 노(爐) 바닥부 상에 다단으로 적층된 내열 금속 또는 세라믹제의 용기 또는 선반용 판자 위에 재치된 피열처리물은, 자전 및 공전하면서 상기 열처리 공간내에 설치된 가열원 및 가스 도입관에 의해 상기 열처리 공간에 도입되는 대기 가스를 조정해 소망 온도 및 노내(爐內) 대기(大氣) 프로 파일에 의해 열처리 할 수가 있음으로, 다양한 세라믹 부품의 열처리가 가능해진다.

청구항 4의 발명에 의하면, 청구항 3의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 히터를 노내(爐內)의 측벽에만 동심원 형태로 수직으로 매달아 노벽(爐壁)에 고정함으로써, 종래와 같은 노내(爐內)의 중앙부의 히터를 필요로 하지 않고, 처리양의 증대, 노(爐) 구조의 간소화 및 설비비용의 저감이 가능해진다.

청구항 5의 발명에 의하면, 청구항 4의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 상부 히터군, 중간부 히터군 및 하부 히터군의 히터군은, 온도 제어 수단에 의해 독립하여 온도가 제어됨으로, 노내(爐內) 상하의 온도 분포의 저감이 가능함과 동시에, 요구되는 다양한 세라믹 부품의 특성에 부합된 소망 온도에 의해 한층 세밀 하게 열처리하는 것이 가능하다.

청구항 6의 발명에 의하면, 청구항 3의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 가스 도입관에 의해 열처리 공간에 도입되는 대기 가스가 헤더의 가스 분출공으로부터 열처리 공간에 균일하게 분출하게 되어, 열처리 대기의 균일성이 향상된다.

청구항 7의 발명에 의하면, 청구항 5의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 복수의 가스 도입관에 의해 노내(爐內)의 상부 히터, 중간부 히터, 하부 히터의 가열부에 도입되는 대기 가스가, 가열되면서 노내(爐內)에 분산됨으로, 열처리 대기와 온도의 균일화가 한층 촉진되어 진다.

청구항 8의 발명에 의하면, 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의 발명과 같은 효과에 부가하여, 상기 노(爐) 바닥부가 노(爐) 하부의 원형 개구에 대해서 상대적으로 상하 방향으로 이동할 수 있도록 구성됨으로서, 상기 피열처리물의 재치 및 분리를 용이하게 할 수가 있어 배치식의 세라믹 부품의 열처리 조작을 효율적으로 할 수가 있다.

이하, 본 발명에 따른 실시예를 첨부 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.

본 발명의 배치식 열처리 장치의 실시예에 대해서, 도면을 참조하면서 구체적으로 설명한다.

도 1은 본 발명에 따른 배치식 열처리 장치의 노(爐) 바닥부의 평면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 배치식 열처리 장치의 종단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 메인 노(爐) 바닥부의 회전 구동력을 보조 노(爐) 바닥부로 전동(傳動)하는 전동 기구이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 도입관부의 설명도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 도입관부의 설명도이고, 도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 메인 노(爐) 바닥부의 회전 구동력을 보조 노(爐) 바닥부에 전동하는 전동(傳動) 기구이고, 도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 도입관부의 설명도이다.

본 발명의 배치식 열처리 장치(15)(이하, 노(爐)로 약칭한다)는, 저부 (16b)에 원형의 개구부(14)를 가짐과 동시에 대략 원통형의 동체부(胴體部)(16a)의 정상을 밀폐하는 천장부(16c)를 갖춘 노(爐) 본체(16)와 상기 개구부(14)에 회전할 수 있도록 끼워 맞추어진 대략 원판상의 노(爐) 바닥부(8)로 구성된다. 개구부(14)와 노(爐) 바닥부(8)과의 틈새는 노(爐) 바닥부(8)의 회전에 지장이 없고, 또 노내의 열이 밖으로 새는 것을 최소로 하기 위해서 예를 들면, 3∼10 mm에 설정된다. 노(爐) 본체(16) 및 노(爐) 바닥부(8)는 모두 두께 50∼200 mm정도의 세라믹 섬유 등의 단열재로 형성된다. 노실(爐室)의 치수의 일례를 들면, 내경(內徑)은 800mm, 높이 600mm의 원통형태이다. 노(爐) 본체는 그 외측을 노내(爐內)의 기밀성을 높이기 위하여 노(爐) 금속틀(11)로 덮여져 있다. 또한, 노(爐) 본체(16) 외벽에는 노(爐)의 열변형을 방지하기 위해서, 팬(도시하지 않음)을 설치하여 공냉(空冷)함이 바람직하다.

노(爐) 바닥부(8)는 도 2에 도시된 바와 같이, 메인 노(爐) 바닥부(4)와 보조 노(爐) 바닥부(6)로 구성된다. 메인 노(爐) 바닥부(4)는 노(爐) 바닥부 틀(23) 에 의해 보관 유지된다.

메인 노(爐) 바닥부(4)는 대략 원판상이지만, 상세하게는 도 2에 도시된 바와 같이, 그 단면이 돌출한 형태(凸型)로, 대소(大小)의 원판을 상하로 2개 겹친 형상이다. 작은 쪽의 원판 직경은 노(爐) 본체(16)의 개구부(14)에 끼워 맞추어지는 치수이다. 하부의 큰 원판은, 개구부(14)와 상기 메인 노(爐) 바닥부의 틈으로부터 복사열이 새는 것을 차단하기 위해서 마련된 것으로, 그 직경은 노(爐) 바닥부 틀(23)에 수용되는 치수이면 특별히 제한하는 것은 아니다.

메인 노(爐) 바닥부의 내부에는 예를 들면, 메인 노(爐) 바닥부(4)와 동심원상에 중심을 가지는 복수의 소형 원판상의 보조 노(爐)바닥부(6)를 회전할 수 있도록 끼워 맞추기 원형 단면의 삽통공(揷通孔)(4a)이 복수 천설(穿設)되어 있다. 또한, 메인 노(爐) 바닥부(4)의 저부에는 보조 노(爐) 바닥부를 지지하기 위한 보조 노(爐) 바닥부 지지판(22)이 설치된다.

메인 노(爐) 바닥부(4)는 구동 수단으로 회전되지만, 본 실시예에서는 메인 노(爐) 바닥부(4)는 그 중심에 고정되어 하부로 연장되는 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5)을 구비하고 있어 이 회전축(5)을 모터 등의 동력원(도시하지 않음)에 접속하는 것에 의해 회전한다. 또한, 메인 노(爐) 바닥부(4)는 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5)의 선단부(20)를 개재하여 노(爐) 바닥부(8)의 하방부에 덮어 설치된 노(爐) 바닥부 틀(23)로 지지된다.

보조 노(爐) 바닥부(6)는 메인 노(爐) 바닥부(4)의 삽통공(4a)에 회전할 수 있도록 끼워 맞추어져 그 중심에 고정되어 하방으로 연장되는 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)을 가지고 있다. 이 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)에 전동 기구(傳動機構)(19)를 개재하여 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5)의 회전 구동력이 전동되고, 이것에 의해 보조 노(爐) 바닥부(6)는 회전(자전)한다. 또한, 보조 노(爐) 바닥부(6)는, 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)을 개재하여 보조 노(爐) 바닥부 지지판(22)에 지지된다. 즉, 보조 노(爐) 바닥부(6)는 메인 노(爐) 바닥부(4)와 함께 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5)의 주위를 공전하고, 또, 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)의 주위를 자전한다. 메인 노(爐) 바닥부(4)와 보조 노(爐) 바닥부(6)의 틈새도, 개구부(14)와 노(爐) 바닥부(8)의 틈새와 마찬가지로 예를 들면 3∼10 mm에 설정된다.

본 실시예의 도 1 및 2 에 있어서, 보조 노(爐) 바닥부(4)는 동일 직경으로 4개 배치되어 있다. 또한, 그 회전 중심은 메인 노(爐) 바닥부의 회전 중심과 중심이 일치하는 동심원상에 등간격으로 배치되어 있다. 메인 노(爐) 바닥부 및 보조 노(爐) 바닥부의 직경의 일례를 들면, 각각 580 mm, 230 mm이다.

또한, 보조 노(爐) 바닥부(6)의 배치는, 도 1 및 도 2에 나타낸 구성 이외도 가능하며, 또한, 메인 노(爐) 바닥부(4)를 노(爐) 바닥부틀(23)로 지지하는 방법, 보조 노(爐) 바닥부(6)를 보조 노(爐) 바닥부 지지판(22)으로 유지하는 방법에 대해서도, 본 실시예 이외에도, 메인 노(爐) 바닥부 및 보조 노(爐) 바닥부의 주변부를 베어링으로 회전할 수 있도록 지지하는 등, 여러 가지 방법이 가능함은 물론이다.

본 실시예의 구동 수단의 전동(傳動) 기구(19)는, 도 3에 도시된 바와 같이 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5) 및 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)으로 각각 도르래 (19a)(19b)를 마련해 이것들을 무단(無端) 벨트(19c)에 의해 연계하여 메인 노(爐) 바닥부(4)의 회전 이동력을 보조 노(爐) 바닥부(6)로 전동하는 구성이다. 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5) 및 보조 노(爐) 바닥부 회전축(7)의 도르래(19a)(19b)의 지름을 변화시키는 것에 의해 메인 노(爐) 바닥부(4) 및 보조 노(爐) 바닥부(6)의 회전 속도비를 바꿀 수가 있다. 메인 노(爐) 바닥부(4)의 회전 속도는, 통상 0.5∼3 rpm이고, 보조 노(爐) 바닥부(6)의 회전 속도는 메인 노(爐) 바닥부의 대략 1.5∼2배 정도이다.

전기와 같은 구성에 의하면, 도 1에 각각 화살표로 나타난 바와 같이, 보조 노(爐) 바닥부(6)의 회전 방향(18)은 모두 동일한 방향으로, 메인 노(爐) 바닥부(4)의 회전 방향(17)과는 역방향이다. 이것에 의해, 노내(爐內) 대기의 교반이 촉진되는 것임으로, 보조 노(爐) 바닥부(6) 상에 재치(載置)된 피열처리물의 온도 분포 및 노내(爐內) 대기의 균일화가 향상된다.

또한, 예를 들면 도 6에 도시된 바와 같이, 도르래(19a)(19b)를 무단 벨트(19c)로 연계하는 방법을 변경함으로써, 보조 노(爐) 바닥부(6)의 회전 방향은 모두 동일하지 않고, 반수(半數)가 역회전하도록 하는 것도 가능하며, 이것에 의해 노내(爐內) 대기의 교반 효과가 높아져 노내(爐內) 대기의 균일성이 한층 향상된다.

구동 수단의 전동 기구(19)로서는, 본 실시예 이외에도 내열 기어, 타이밍 벨트, 또는 체인을 이용하는 등의 다양한 구성이 가능하다. 예를 들면, 메인 노(爐) 바닥부 회전축(5)의 하단부에 설치된 태양 기어(19a)와 보조 노(爐) 바닥부 회 전축(7)의 하단부에 설치된 유성 기어(19b)를 서로 맞물리게 하는 일종의 유성 기어 기구 등이 고려될 수 있다.

피열처리물(9)은 보조 노(爐) 바닥부(6)에 적재되어 열처리된다. 적층 세라믹 부품의 소성 등과 같은 열처리 등을 하는 경우는, 통상 피열처리물(9)은 용기 또는 선반용 판자(13) 등에 늘어놓고 이것을 다단으로 적층하여 열처리한다. 다단으로 적층된 용기 또는 선반용 판자(13)는 또한 원통형 지주(13a)에 탑재할 수도 있다. 용기 또는 선반용 판자(13)의 재료는 알루미나(alumina) 재질, 뮬라이트(mullite) 재질, 니켈 금속 등과 같이 내열성이면서 피열처리물(9)과 반응을 하지 않는 재질이 바람직하다. 또한, 상기 용기는 내열성을 갖는 피열처리물을 수용할 있는 용기 종류로 함이나 상자 등을 포함할 수 있다.

노내(爐內)에서 온도의 평면적인 위치 의존성에 의한 불균일성이 있더라도 보조 노(爐) 바닥부(6)가 자전 및 공전함으로써, 피열처리물(9)이 받는 불균일성은 소형 원판상의 보조 노(爐) 바닥부(6)의 반경이 극히 작은 불균일성의 범위로 억제할 수 있어 종래의 배치식 열처리노에 비해 훨씬 더 향상되어진다. 이상의 설명에서는 온도의 균일성에 대해서 언급하고 있지만, 대기(大氣)에 대해서도 균일성이 향상된다.

노내(爐內)를 가열하는 히터(가열원)(10)는 금속, 탄화규소, 몰리브덴 실리사이드, 란탄 크로마이드, 산화 지르코늄 등을 발열체로 하며, 막대 모양, U자형, 나사 모양의 U자형 등 발열부가 막대 모양이다. 또한, 전원을 공급하는 단자가 막대 모양의 한방향에 있는 것이 바람직하다. 또한, 단자부가 노벽(爐壁)을 관통시키 는 구조일 수도 있다.

본 실시예에서는, U자형의 복수의 히터(10)를 노(爐) 본체(16)의 대략 원통형의 동체부(16a)의 내벽을 따라 노(爐) 본체(16)의 천장부(16c)로부터 수직으로 매달아 고정한다. 복수의 히터(10)는 노(爐) 본체(16)의 상부를 가열하는 상부 히터군과, 노(爐) 본체(16)의 중간부의 높이 부분을 가열하는 중간부 히터군과, 노(爐) 본체(16)의 하부를 가열하는 하부 히터군으로 이루어지며, 각각의 히터군을 온도 제어 수단(도시하지 않음)으로 독립적으로 온도 제어함으로써, 노내(爐內)의 상하 방향의 온도의 균일성이 향상된다. 또한, 노(爐) 본체(16)의 상부, 중간부 및 하부를 가열하는 히터(10)는 도 1에 나타난 바와 같이, 각각 히터(10)의 발열부가 상부, 중간부 및 하부에 있는 상부 히터(1), 중간부 히터(2) 및 하부 히터(3)이다. 본 실시예에서는 도 1에 도시된 바와 같이, 상부, 중간부 및 하부 히터(1)(2)(3)를 차례로 배열하여 총 12개가 배치되어 있다. 상부, 중간부 및 하부 히터(1)(2)(3)는 발열부의 길이는 모두 동일함으로 설치부(단자부)의 길이가 각각 달라지게 되며, 상기 발열부가 소정 높이가 되도록 상기 설치부의 길이를 선택한다. 또한, 도 2에서 하부 히터(3)는 그 발열부만이 상부 히터(1)에 겹쳐 표시되어 있다.

또한, 본 실시예에서는 히터(10)를 노(爐) 본체(16)의 천장부(16c)로부터 수직으로 매달아 고정하고 있지만, 히터(10)를 동체부(16a)의 노측벽에 고정할 수도 있다.

피열처리물(9)을 다단으로 적층할 수 있는 유효 높이를 예를 들면, 400 mm로 할 경우, 중간부를 가열하는 중간부 히터(2)는 그 발열부의 길이가 200 mm인 것을 이용해 그 발열부의 중앙이 피열처리물(9)의 중앙 위치에 일치하도록 고정시킨다. 상부를 가열하는 상부 히터(1) 및 하부를 가열하는 하부 히터(3)도 발열부 길이가 200 mm인 것을 이용하여 그 발열부의 중앙이, 각각 피열처리물(9)의 중앙으로부터 각각 상방으로 150 mm, 하방으로 150 mm의 위치가 되도록 한다. 상기 히터의 평면적인 배치 위치는 노실(爐室)의 치수 및 요구되는 온도 정밀도 등에 따라 적절히 변경 가능하다.

이어서, 노실(爐室)내의 대기의 조정에 대해서 설명한다.

도 4, 도 5, 도 7 및 도 8은 대기 가스를 노내(爐內)에 도입하는 가스 도입관의 일실시예 및 각각 다른 실시예를 나타내며, 도 4 와 도 5, 및 도 7 과 도 8의 실시예는 후술하는 바와 같이, 각각 가스 분출공의 형상과 구성에서 상이한 점을 제외하고는 실질적으로 동일하다.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 의한 가스 도입관(31)은 노(爐) 외부에서 노(爐) 본체(16)의 동체부(胴體部)(16a)의 노측벽(爐側壁)을 관통해 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 이르는 수평관(31a)과 내벽면에서 수평관(31a)에 접속되고 수직 방향으로 연장되어 노(爐)의 내벽면을 따라 복수의 작은 구멍의 가스 분출공(31c)을 갖는 관(管) 모양의 가스 헤더(31b)로 구성된다. 대기 가스는 노(爐)의 외부에서 수평관(31a)에 의해 노실(爐室)내에 도입되어 가스 헤더(31b)의 가스 분출공(31c)으로부터 노실(爐室)내에 분산된다. 이 때, 노실(爐室) 내부보다 온도가 낮은 대기 가스가 분산되면, 노실(爐室)내의 온도가 낮아지게 됨으로, 대기 가스는 가열하여 노실(爐室)내에 분산함이 바람직하다. 본 실시예에서는, 도 2에 도 시된 바와 같이 3개의 가스 도입관 즉, 상부 가스 도입관(31), 중앙부 가스 도입관(32) 및 하부 가스 도입관(33)이, 각각의 가스 헤더(31b)(32b)(33b)가 각각 U자형의 상부 히터(1), 중간부 히터(2) 및 하부 히터(3)의 가열부와 대향하도록 배치되어 설치된다.

이러한 상중하 3단식의 가스 도입관의 배치에 의해, 대기 가스는 가스 헤더 (31b)(32b)(33b)로부터 노실(爐室)에 상하 방향으로 균일하게 분산되는 한편, 가스 헤더에 대향하는 히터에서 가열되어 피열처리물(9)에 도달하게 된다. 따라서, 대기 및 온도의 균일성이 향상되는 것과 함께, 별도의 가스 가열 장치가 불필요해져, 장치가 단순화되어 경제적 및 공간적으로도 유리해 진다.

또한, 노실(爐室)의 대기를 한층 더 정밀하게 제어할 필요가 있는 경우에는, 각각의 가스 도입관으로부터 도입되는 가스 조성 및 유량(流量)을 개별적으로 제어하면 된다.

가스 헤더(31b)(32b)(33b)의 가스 분출공(噴出孔)의 구성은, 도 4의 실시예에서는 0.5∼3 mmφ의 원형 구멍(31c)에 형성되어 헤더(31b)의 길이 방향으로 등간격으로 배치되어 있다.

또한, 도 5의 실시예에서는 가스 분출공(31d)이 상기 헤더의 길이 방향으로 연장되는 0.2∼1.0 mm의 폭을 갖는 타원형의 장공(長孔) 모양의 슬릿 형태로 형성되어 있다.

더구나, 도 7 및 도 8의 실시예의 가스 도입관은 각각 도 7(a) 및 도 8(a)에 나타난 바와 같이, 노(爐)의 외부에서 노(爐) 본체(16)의 동체부(16a)의 노측벽(爐 側壁)을 관통해 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 이르는 수평관(31a)의 선단부(벽면)가 반구상(半球狀)으로 되어 있으며, 이 반구상 부분이 가스 헤더(31b) 부분이다.

도 7의 실시예에서는 도 7(b)(가스 헤더(31b)를 도 7(a)의 A방향으로부터 본 도면)에 나타난 바와 같이, 가스 헤더(31b)에 복수의 0.5∼3.0mmφ의 작은 구멍의 가스 분출공(31c)이 노(爐)의 상하 방향으로 일렬로 형성되어 있다.

또한, 도 8의 실시예에서는 도 8(b)(가스 헤더(31b)를 도 8(a)의 B방향으로부터 본 도면)에 나타난 바와 같이, 가스 헤더(31b)에 폭이 0.2∼1.0 mm, 길이가 6 mm정도의 슬릿 형태의 가스 분출공(31d)이 슬릿의 긴 방향이 노(爐)의 상하 방향과 일치하도록 형성되어 있다.

도 5, 도 7 및 도 8의 가스 도입관을 이용하는 경우에도, 전기와 같이 가스 헤더가 상부 히터(1), 중간부 히터(2), 하부 히터(3)의 가열부와 대향하도록 상중하 3단식으로 노(爐)에 배치하여 설치함이 바람직하다.

또한, 노(爐) 바닥부(8) 및 전동 기구(19)의 하방부를 덮도록 설치된 바닥부를 갖는 원통형태로 형성된 노(爐) 바닥부틀(23)의 상단부 주위 전체에는 내열성(耐熱性)의 봉지(seal) 수단(23a)을 구비하여 상기 봉지 수단(23a)이 노(爐) 본체(16)의 저부(16b) 하면의 노(爐) 틀(11)에 당접함으로써 노내(爐內)의 기밀을 유지하게 된다.

노실(爐室)의 대기 가스를 노(爐)의 외부로 배출하는 가스 배출공(도시하지 않음)은 대기 가스의 도입량에 따라 배출량을 조정 할 수 있는 댐퍼를 설치하여 적절히 배치한다.

피열처리물(9)을 노(爐) 본체(16)내에 적재 또는 분리하는 경우에는, 피열처리물(9)을 재치하는 노(爐) 바닥부(8)를 노(爐) 바닥부 틀(23)과 함께 노(爐) 본체(16)에 대해 상대적으로 하강시켜, 노(爐) 바닥부(8)에 피열처리물(9)을 재치하거나 또는 분리하기에 충분한 공간을 확보할 수 있는 구조로 한다. 예를 들면, 노(爐) 바닥부틀(23)을 나사 잭(screw jack)(도시하지 않음) 등으로 승강시킴으로써 노(爐) 바닥부(8)를 승강시킬 수가 있다. 노(爐) 바닥부틀(23)이 상승할 경우에는, 노(爐) 바닥부틀(23)과 노(爐) 본체(16)의 저부(16b) 하면의 노(爐)틀(11)과는 내열성의 봉지 수단(23a)을 개재하여 접촉함으로써 노내(爐內)는 기밀성이 유지된다.

이러한 구성에 의해, 예를 들면, 니켈, 구리 등의 비금속(卑金屬)의 금속층을 갖는 세라믹 부품의 소성 공정의 경우는, 질소 가스를 캐리어 가스로서 수 ppm의 물을 도입해, 산소의 분압(分壓)을 10^－8∼10^－14 atm으로 억제한 대기를 형성할 수가 있다.

따라서 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 배치식 열처리 장치에 의하면, 보조 노(爐)바닥부 위에 재치된 피열처리물의 자전 및 공전에 의한 온도 분포의 균일화와 노내(爐內) 대기의 교반 효과에 부가하여, 상부, 중간부 및 하부 히터군의 개별 온도 제어 및 대기 가스를 노실(爐室)에 균일하게 분산하는 상중하 3단식의 가스 도입관에 의해, 고정밀도로 균일성이 높은 소망의 온도 및 노내(爐內) 대기 프 로 파일의 설정이 가능하다. 이 때문에, 특히 최근의 다양한 고성능 적층 세라믹 부품 등의 고정밀도의 열처리에 이용하는 것이 가능하다.

지금까지 본 발명에 따른 바람직한 구체예를 들어 본 발명을 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것일 뿐 본 발명을 제한하려는 것은 아니며, 당업자라면 본 발명의 영역으로부터 일탈하는 일 없이도 다양한 변화 및 수정이 가능함은 물론이나 이 또한 본 발명의 영역 내임을 유의하여야만 할 것이다.

Claims (8)

1. 내부에서 피열처리물을 열처리하기 위해서, 내면이 단열재로 형성된 노(爐)몸체와, 상기 노(爐) 몸체의 저부에 마련된 원형(圓形) 개구에 회전 가능하게 끼워 맞추어진 노(爐) 바닥부와, 거의 원통 형태의 열처리 공간으로 구성되어, 상기 노(爐) 바닥부 상에 재치된 피열처리물이 상기 열처리 공간내에서 회전하면서 열처리 되는 배치식 열처리 장치에 있어서,

   상기 노(爐) 바닥부는 상기 원형 개구의 중심을 지나는 축의 주위를 회전하는 원판상의 메인 노(爐) 바닥부와,

   상기 메인 노(爐) 바닥부의 회전축을 중심으로 하는 동심원상에 등간격(等(間隔)으로 배치되어 천설(穿設)된 복수의 삽통공(揷通孔)내에 회전할 수 있도록 끼워 맞추어지며, 상기 피열처리물을 재치하는 복수의 소형 원판상의 보조 노(爐) 바닥부로 구성되며,

   상기 보조 노(爐) 바닥부 상의 상기 피열처리물이 자전 및 공전하면서 열처리 되도록 상기 보조 노(爐) 바닥부를 자전함과 동시에 상기 메인 노(爐) 바닥부와 함께 공전하는 구동 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 보조 노(爐) 바닥부를 자전하기 위하여, 상기 구동 수단은 상기 메인 노(爐) 바닥부의 회전 구동력을 전동(傳動) 기구를 개재하여 상기 보조 노(爐) 바닥부의 회전축에 전달시켜 구성되는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 보조 노(爐) 바닥부 상에는 상기 피열처리물을 재치하기 위한 복수단으로 적층한 내열성의 금속 또는 세라믹제의 용기 또는 선반용 판자가 구비되며, 상기 노(爐)에는 상기 열처리 공간을 가열하는 가열원과 상기 열처리 공간에 대기 가스를 도입하는 가스 도입관이 구비되어 있으며, 상기 용기 또는 선반용 판자상에 재치된 피열처리물은 상기 가열원과 가스 도입관에 의해 얻어진 소망 온도 및 노내(爐內) 대기 프로 파일에 의해 열처리되는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
4. 제 3 항에 있어서,　

   상기 가열원은,

   상기 다단으로 적층된 용기 또는 선반용 판자와 상기 대략 원통형의 열처리 공간을 갖는 노(爐)의 동체부(胴體部) 내벽의 단열재 사이에서 동심원(同心圓) 형태로 수직으로 매달아 고정되거나 또는 상기 노(爐)의 상기 동체부의 노측벽에 고정되는 복수의 히터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
5. 제 4 항에 있어서,

   상기 복수의 히터는,

   상기 노(爐)의 상부를 가열하는 상부 히터군과,

   상기 노(爐)의 중간부를 가열하는 중간부 히터군과,

   상기 노(爐)의 하부를 가열하는 하부 히터군으로 이루어지며,

   상기 각각의 히터군을 독립하여 온도 제어하는 온도 제어 수단을 구비하고, 이것에 의해 상기 소망 온도 프로 파일을 얻는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
6. 제 3 항에 있어서,

   상기 가스 도입관은,

   상기 노(爐)의 외부에서 노측벽(爐側壁)을 관통해 상기 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 도달하는 수평관과,

   상기 수평관의 선단부에 설치되거나 또는 상기 수평관의 선단부에 접속됨과 함께 상기 내벽면을 따라 수직 방향으로 관(管) 형태로 연장되며, 상기 노(爐)의 내부 방향을 향해서 개구된 복수의 가스 분출공 또는 슬릿 형상의 가스 분출공을 갖는 가스 헤드로 이루어지는 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
7. 제 5 항에 있어서,

   상기 가스 도입관은,

   상기 노(爐)의 외부에서 상기 노측벽(爐側壁)을 관통해 상기 노측벽(爐側壁)의 내벽면에 도달하는 수평관과,

   상기 수평관의 선단부에 설치되거나 또는 상기 수평관의 선단부에 접속됨과 함께 상기 내벽면을 따라 수직 방향으로 관(管) 형태로 연장되며, 상기 노(爐)의 내부 방향을 향해서 개구된 복수의 가스 분출공 또는 슬릿 형상의 가스 분출공을 갖는 가스 헤드로 이루어지며,

   상기 가스 분출공이 상기 상부 히터, 중간부 히터 및 하부 히터 각각과 상기 노(爐)의 내벽면과의 사이에 위치하도록 설치되어 상기 가스 분출공으로부터의 대기 가스가 가열되면서 상기 열처리 공간에 분산되도록 한 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.
8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 노(爐) 바닥부는 상기 노(爐) 하부의 원형 개구에 대해서 상대적으로 상하 방향으로 이동할 수 있도록 구성되며,

   상기 피열처리물을 적재 또는 분리하는 경우에는 상기 노(爐) 내부가 냉각된 상태에서 상기 원형 개구로부터 하강하여 상기 피열처리물의 적재 또는 분리를 가능하게 하며,

   상기 피열처리물의 열처리시에는 상기 피열처리물을 재치한 상태로 상승하여 상기 노(爐)를 밀폐하는 것을 특징으로 하는 배치식 열처리 장치.

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