KR100792397B1 - Susceptor for lcd manufacturing equipment having reinforcement structure - Google Patents
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Abstract
개시된 내용은 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 열에 의해 서셉터의 히터플레이트가 변형되는 것을 억제하고 장시간 사용시 히터플레이트의 외곽부분이 처지는 것을 방지할 수 있는 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 LCD 제조장비의 CVD 공정챔버에서 글라스 기판이 안착되는 히터플레이트와 이 히터플레이트의 저면중앙에 수직으로 연결되는 원형 지지봉을 구비한 서셉터에 있어서, 상기 히터플레이트의 저면에 중앙으로부터 외곽을 향해 방사상으로 다수개 형성되는 보강리브들을 구비한다. 한편으로, 본 발명은 LCD 제조장비의 CVD 공정챔버에서 글라스 기판이 안착되는 히터플레이트와 이 히터플레이트의 저면중앙에 수직으로 연결되는 원형 지지봉을 구비한 서셉터에 있어서, 상기 히터플레이트의 하부몸체부를 외곽으로부터 중앙으로 갈수록 두껍게 구성하여 변형방지용 보강구조를 형성할 수도 있다. The present disclosure provides a deformation preventing reinforcement structure on the bottom of the heater plate of the susceptor to prevent deformation of the heater plate of the susceptor by heat and to prevent the outer portion of the heater plate from sagging during long time use. It relates to a susceptor for an LCD manufacturing equipment having a. The present invention relates to a susceptor having a heater plate on which a glass substrate is seated in a CVD process chamber of an LCD manufacturing apparatus, and a circular support rod vertically connected to a center of a bottom surface of the heater plate, wherein the bottom of the heater plate has an outer edge from the center. A plurality of reinforcing ribs formed radially toward the. On the other hand, the present invention is a susceptor having a heater plate on which a glass substrate is seated in a CVD process chamber of an LCD manufacturing equipment and a circular support rod vertically connected to the bottom center of the heater plate, the lower body portion of the heater plate It may be configured to become thicker from the outside toward the center to form a strain relief structure.
LCD제조장비, CVD 챔버, 서셉터, 히터플레이트 LCD manufacturing equipment, CVD chamber, susceptor, heater plate
Description
본 발명의 실시예에 관한 상세한 설명은 첨부하는 도면들을 참조하여 이루어질 것이며, 도면에서 대응되는 부분을 지정하는 번호는 같다.Detailed description of the embodiments of the present invention will be made with reference to the accompanying drawings, in which numerals designate corresponding parts in the drawings.
도 1은 종래의 TFT-LCD 제조장비의 CVD 공정챔버의 구성도이고,1 is a configuration diagram of a CVD process chamber of a conventional TFT-LCD manufacturing equipment,
도 2a 내지 도 2c는 도 1에 도시된 종래의 서셉터의 구조를 상세하게 나타낸 정면도, 평면도 및 측면도이고, 2a to 2c is a front view, a plan view and a side view showing in detail the structure of the conventional susceptor shown in FIG.
도 3은 도 2a 내지 도 2c에 도시된 종래의 서셉터의 사시도이고, 3 is a perspective view of a conventional susceptor shown in FIGS. 2A-2C,
도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터의 제1실시예를 나타낸 정면도, 평면도, 측면도 및 저면도이고, 4a to 4d is a front view, a plan view, a side view and a bottom view showing a first embodiment of a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a strain relief reinforced structure according to the present invention,
도 5는 도 4a 내지 도 4d에 도시된 본 서셉터의 사시도이고, 5 is a perspective view of the present susceptor shown in FIGS. 4A-4D,
도 6a 내지 도 6d는 본 발명에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터의 제2실시예를 나타낸 정면도, 평면도, 측면도 및 저면도이고, 6a to 6d is a front view, a plan view, a side view and a bottom view showing a second embodiment of a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a deformation preventing reinforcement structure according to the present invention,
도 7a 및 도 7b는 도 6a 내지 도 6d에 도시된 본 서셉터의 사시도들이고, 7A and 7B are perspective views of the present susceptor shown in FIGS. 6A-6D,
도 8은 본 발명의 제1실시예가 적용된 CVD 공정챔버의 구조를 나타낸 단면도이다. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a CVD process chamber to which the first embodiment of the present invention is applied.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **** Explanation of symbols for main parts of drawings **
60: 서셉터 70,100: 히터플레이트60:
72: 열선 74: 보강리브72: heating wire 74: reinforcing rib
80,110: 원형 지지봉 82: 전선80,110: circular support bar 82: electric wire
102: 하부몸체부 102: lower body
본 발명은 LCD 제조장비의 CVD(chemical vapor deposition) 공정챔버 내에서 글라스 기판을 지지하고 글라스 기판에 열과 전원을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 글라스 기판에 균일한 박막을 형성시켜 주는 서셉터(susceptor)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 CVD공정에서 열에 의해 서셉터의 히터플레이트가 변형되는 것을 억제하는 한편 장시간 사용시 히터플레이트의 외곽부분이 처지는 것을 방지할 수 있는 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터에 관한 것이다. The present invention supports a glass substrate in a CVD (chemical vapor deposition) process chamber of an LCD manufacturing apparatus, and generates a plasma by applying heat and power to the glass substrate to form a uniform thin film on the glass substrate. More specifically, by providing a deformation preventing reinforcement structure on the bottom of the susceptor's heater plate to suppress the deformation of the susceptor's heater plate by heat in the CVD process while sagging the outer portion of the heater plate during long time use The present invention relates to a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a reinforcement structure for preventing deformation.
TFT(성막 트랜지스터)를 사용한 LCD(액정 디스플레이)는 대단히 우수한 고화질을 제공해온 것으로서 주목받고 있다. 이러한 TFT - LCD(thin film transistor liquid crystal display)와 같은 반도체소자 제조공정에 있어서 PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)막은 일반적으로 평판전극의 샤워헤드(showerhead) 방식으로 증착된다. 이러한 플라즈마를 이용한 성막 증착공정은 CVD 챔버내에서 이루어지는데, 이 일반적인 CVD 챔버의 구조가 도 1에 도시되어 있다. LCDs (liquid crystal displays) using TFTs (film deposition transistors) have attracted attention as having been provided with extremely high image quality. In a semiconductor device manufacturing process such as a TFT-LCD (thin film transistor liquid crystal display), a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) film is generally deposited by a showerhead method of a plate electrode. Such a film deposition process using plasma is performed in a CVD chamber, and the structure of this general CVD chamber is shown in FIG.
도 1은 일반적인 TFT-LCD 제조장비의 CVD 공정챔버의 구성을 나타낸 도면으로, 도시한 바와 같이 TFT-LCD 제조장비에는 CVD 공정을 수행하기 위해 챔버가 필수적으로 구비되어 있다. 1 is a view illustrating a configuration of a CVD process chamber of a general TFT-LCD manufacturing apparatus. As illustrated, the TFT-LCD manufacturing apparatus is essentially provided with a chamber to perform a CVD process.
챔버(10)의 상부는 챔버리드(chamber lid; 12)로 폐쇄되어 외부와 차단되는 반응 공간이 마련된 반응기를 구성하게 된다. 반응 공간과 외부와의 효과적인 차단을 위해 챔버리드(12)와 챔버(10)의 결합부위에는 O-링이 개재된다. The upper part of the
챔버(10)의 내부에는 서셉터(Susceptor, 20)가 설치되어 있으며, 여기에 글라스 기판(30)이 안착된다. 이 서셉터(20)는 원형 지지봉(22)에 히터플레이트(24)가 결합되어 챔버(10)내에 위치하게 된다. 이 히터플레이트(24)의 위쪽에는 샤워헤드(showerhead; 40)가 위치되는 데, 이 샤워헤드(40)는 반응기 내에 기체를 주입하기 위한 기체 주입관(16)에 연결되어 있다. 샤워헤드(40)는 글라스 기판(30)에 대향하는 면에는 복수개의 분사공이 형성되어 있으며, 기체 주입관(16)에 의해 샤워헤드(40)로 공급된 기체는 분사공을 통하여 글라스 기판(30)의 전 표면에 균일하게 분사된다. 주입된 기체는 기체 배기관을 통하여 배기된다. 샤워헤드(40)는 플라즈마 전극의 역할도 동시에 수행할 수 있도록 RF 전력공급원에 연결되며, 서셉터(20)는 접지된다. 이 서셉터(20)의 상세한 구조에 대해서는 도 2a 및 도 2b를 참 조하여 구체적으로 설명한다. The
도 2a 내지 도 2c는 도 1에 도시된 종래의 서셉터의 구조를 상세하게 나타낸 정면도, 평면도 및 측면도이고, 도 3은 도 2a 내지 도 2c에 도시된 종래의 서셉터의 사시도이다. 2A to 2C are front, plan and side views showing the structure of the conventional susceptor shown in FIG. 1 in detail, and FIG. 3 is a perspective view of the conventional susceptor shown in FIGS. 2A to 2C.
서셉터(20)는 글라스 기판이 안착되는 넓은 판상의 히터플레이트(24)와 이 히터플레이트(24)의 저면 중앙에 수직으로 연결된 원형 지지봉(22)으로 형성되어 있으며, 이 원형 지지봉(22)은 서셉터 이송수단에 의해 상하로 이동될 수 있도록 되어 있다. 특히, 히터플레이트(24)에는 리프트 핀홀(lift pin hole; 26)이 형성되어 있으며, 히터플레이트(24)의 내부에는 안착되는 글라스 기판을 가열시키기 위한 열선(28)이 내장되어 있고, 이 열선(28)의 전선(29)들이 원형 지지봉(22)의 내부를 통해 배선되어 있다. The
이와 같은 구조의 서셉터는 히터플레이트 위에 글라스 기판을 올려놓고 소정의 처리를 행한다. 이 서셉터는 플라즈마 중에서의 사용에 견디고, 또한 고온에서의 사용에 견딜 수 있어야 하기 때문에, 내플라즈마성 및 열전도성이 뛰어난 질화 알루미늄계 소결체로 이루어진다. 하지만, 기존의 서셉터는 판상의 히터플레이트가 사용시 열변형에 의해 변형될 뿐만 아니라, 박판의 히터플레이트는 넓고 무거워 장시간 사용에 따라서도 외곽측에서 처짐이 발생하여 변형이 일어나게 된다. 그 결과, 글라스 소재를 지지하는 리프트핀의 핀홀이 비스듬하게 기울어져서 리프트핀 을 파손시키는 원인이 된다. 이것은 글라스 소재를 지지하는 서셉터의 기능을 제대로 수행하지 못하게 하는 결과를 가져온다. 결과적으로, 서셉터의 기능수행에 문제를 초래하여 챔버에서 수행되는 공정에서 불량이 발생하게 한다. The susceptor of such a structure places a glass substrate on a heater plate, and performs a predetermined process. Since the susceptor must withstand the use in plasma and withstand the use at high temperatures, the susceptor is made of an aluminum nitride-based sintered body excellent in plasma resistance and thermal conductivity. However, the conventional susceptor is not only deformed by the heat deformation when the plate-shaped heater plate is used, but the heater plate of the thin plate is wide and heavy so that the deformation occurs due to sagging at the outer side depending on the long time use. As a result, the pinhole of the lift pin supporting the glass material is inclined obliquely, which causes the lift pin to be damaged. This results in a failure of the susceptor to support the glass material. As a result, a problem occurs in the performance of the susceptor, causing a defect in the process performed in the chamber.
따라서, 본 발명의 목적은 상술한 제결점들을 해소하기 위해서 안출한 것으로서, 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 CVD공정에서 열에 의해 서셉터의 히터플레이트가 변형되는 것을 억제할 수 있는 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터를 제공하는 데 있다. Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned defects, to provide a reinforcement structure of the deformation prevention type on the bottom of the heater plate of the susceptor to suppress the deformation of the heater plate of the susceptor by heat in the CVD process. The present invention provides a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a deformation preventing reinforcement structure.
본 발명의 다른 목적은 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 장시간 사용시 크기가 크고 무거운 히터플레이트의 외곽부분이 처지는 것을 방지할 수 있는 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터를 제공하는 데 있다. Another object of the present invention is to provide a reinforcement structure of the deformation prevention type on the bottom of the heater plate of the susceptor, the SD manufacturing equipment having a deformation prevention reinforcement structure that can prevent the outer portion of the large and heavy heater plate sag when used for a long time. To provide the acceptor.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1측면에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터는 LCD 제조장비의 CVD 공정챔버에서 글라스 기판이 안착되는 서셉터에 있어서, 상기 서셉터의 히터플레이트의 저면에 변형방지용 보강구조를 마련하여 상기 히터플레이트의 외곽의 처짐을 방지하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a deformation preventing reinforcement structure according to the first aspect of the present invention is a susceptor in which a glass substrate is seated in a CVD process chamber of an LCD manufacturing equipment, and a heater plate of the susceptor. Providing a deformation preventing reinforcement structure on the bottom of the to prevent the sag of the outside of the heater plate.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제2측면에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터는 LCD 제조장비의 CVD 공정챔버에서 글라스 기판이 안착되는 히터플레이트와 이 히터플레이트의 저면중앙에 수직으로 연결되는 원형 지지봉을 구비한 서셉터에 있어서, 상기 히터플레이트의 저면에 중앙으로부터 외곽을 향해 방사상으로 다수개 형성되는 보강리브들을 구비한 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a deformation preventing reinforcement structure according to the second aspect of the present invention is vertical to a heater plate on which a glass substrate is seated in a CVD process chamber of an LCD manufacturing equipment and a bottom surface of the heater plate. In the susceptor having a circular support rod connected to the, characterized in that the bottom surface of the heater plate is provided with a plurality of reinforcing ribs formed radially outward from the center.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제3측면에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터는 LCD 제조장비의 CVD 공정챔버에서 글라스 기판이 안착되는 히터플레이트와 이 히터플레이트의 저면중앙에 수직으로 연결되는 원형 지지봉을 구비한 서셉터에 있어서, 상기 히터플레이트의 하부몸체부를 외곽으로부터 중앙으로 갈수록 두껍게 구성하여 변형방지용 보강구조를 형성한 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a deformation preventing reinforcement structure according to the third aspect of the present invention is vertical to a heater plate on which a glass substrate is seated in a CVD process chamber of an LCD manufacturing equipment and a bottom surface of the heater plate. In the susceptor provided with a circular support rod connected to the, characterized in that the lower body portion of the heater plate toward the center from the outer thicker configuration to form a deformation preventing reinforcement structure.
이하에서는 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터의 제1실시예를 나타낸 정면도, 평면도, 측면도 및 저면도이다. 도 5는 도 4a 내지 도 4d에 도시된 본 서셉터의 사시도이다. Figures 4a to 4d is a front view, a plan view, a side view and a bottom view showing a first embodiment of a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a strain relief reinforced structure according to the present invention. 5 is a perspective view of the present susceptor shown in FIGS. 4A-4D.
서셉터(60)는 판상의 히터플레이트(70)와 이 히터플레이트(70)의 저면 중앙 에 수직으로 연결된 원형 지지봉(80)으로 형성되어 있다. 히터플레이트(70)에는 열선(72)이 내장되어 있으며, 이 열선(72)은 원형 지지봉(80)의 내부로 배선되어 있는 전선(82)에 연결되어 전원을 공급받게 된다. 전선(82)은 열선에 전원을 공급하는 전원선과 온도제어신호를 전송하는 온도제어선으로 구성된다. The
본 실시예는 판상의 히터플레이트(70) 저면에 변형방지용 보강구조로서 보강리브(rib; 74)를 마련하고 있다. 이 보강리브(74)는 히터플레이트(70)의 하부중앙으로부터 외곽으로 방사상으로 다수개가 구성되며, 적어도 히터플레이트(70)의 4각 모서리를 향하여 4개가 형성되고, 그 사이사이에 다수개가 배치되어 있다. 이 보강리브(74)는 히터플레이트(70) 저면 중앙에서, 특히 원형 지지봉(80)과의 연결부분에서 시작되어 히터플레이트(70)의 외곽으로 연장되며, 그 높이는 중앙에서 외곽으로 갈수록 낮아지게 된다. 이와 같은 보강리브(74)가 많이 촘촘히 히터플레이트(70)의 저면에 구성될수록 히터플레이트(70)의 강도는 증가하게 된다. In this embodiment, a reinforcing
보강리브(74)는 히터플레이트(70)의 저면에 성형방법에 의해 일체로 성형되거나, 히터플레이트(70)와 별개로 제작하여 용접 등의 접합방법에 의해 고정되거나, 볼트 등에 고정수단에 의해 결합될 수 있다. The reinforcing
이와 같은 보강리브(74)의 보강구조에 의해 히터플레이트(70)의 자중 및 열변형에 의한 외곽의 처짐현상이 방지된다. This reinforcement structure of the reinforcing
도 6a 내지 도 6d는 본 발명에 따른 변형방지용 보강구조를 갖는 엘씨디제조장비용 서셉터의 제2실시예를 나타낸 정면도, 평면도, 측면도 및 저면도이다. 도 7a 및 도 7b는 도 6a 내지 도 6d에 도시된 본 서셉터의 사시도들이다. 6a to 6d is a front view, a plan view, a side view and a bottom view showing a second embodiment of a susceptor for an LCD manufacturing apparatus having a strain relief reinforced structure according to the present invention. 7A and 7B are perspective views of the present susceptor shown in FIGS. 6A-6D.
본 실시예에서는 판상의 히터플레이트(100)의 하부몸체부(102)를 외곽으로부터 중앙으로 갈수록 두껍게 구성하여 변형방지용 보강구조를 형성하고 있다. 구체적으로, 히터플레이트(100) 저면중앙에 연결된 원형 지지봉(110)에서 외곽으로 갈수록 경사지면서 두께가 얇아지는 보강구조를 일체로 형성함에 의해 히터플레이트(100) 외곽을 보강하여 자중 및 열변형에 의한 외곽부분의 처짐을 방지하게 된다. 이러한 보강구조에 의해 히터플레이트(100)의 하부는 마치 역피라미드와 같은 형상을 이루게 된다. In this embodiment, the
도 8은 본 발명의 제1실시예가 적용된 CVD 공정챔버의 구조를 나타낸 단면도이다. 이제, 이 도면 및 도 4a 내지 도 5를 참조하며 본 발명의 동작에 대해 상세히 설명한다. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a CVD process chamber to which the first embodiment of the present invention is applied. Referring now to this figure and FIGS. 4A-5, the operation of the present invention will be described in detail.
도시한 바와 같이, 본 발명의 보강구조를 갖는 서셉터(60)는 챔버(130)와 챔버리드(132)가 합체되어 이뤄진 반응기 내부에 장치되어 글래스 기판(140)을 안착시켜 지지하는 것으로, 전선(82)을 통해 외부로부터 히터플레이트(70)의 열선(72)에 전원을 공급하고 반응기내에서 플라즈마를 발생시켜 글래스 기판(140)에 막을 형성하게 된다. 이와 같이 히터플레이트(70)는 고온에 항시 노출되어 있으므로 열변형의 우려가 높으나, 본 발명은 히터플레이트(70)의 저면에 보강리브(74)들을 구비함에 의해 열변형을 억제한다. 나아가, 판상의 히터플레이트(70)의 자중에 의한 외곽측의 처짐현상도 보강리브(74)가 히터플레이트(70)에 보강구조로서 작용하여 처짐이 방지된다. As shown, the
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 CVD공정에서 열에 의해 서셉터의 히터플레이트가 변형되는 것을 억제할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention has an effect of suppressing deformation of the heater plate of the susceptor by heat in the CVD process by providing a reinforcement structure of a deformation prevention type on the bottom surface of the heater plate of the susceptor.
또한, 본 발명은 서셉터의 히터플레이트 저면에 변형 방지형태의 보강구조를 마련함으로써 장시간 사용시 크기가 크고 무거운 히터플레이트의 외곽부분이 처지는 것을 방지할 수 있다. In addition, the present invention can prevent the outer portion of the large and heavy heater plate sag when used for a long time by providing a reinforcement structure of the deformation prevention type on the bottom surface of the heater plate of the susceptor.
이와 같이, 본 발명은 보강구조로 인해 서셉터의 변형을 방지함으로써 서셉터의 제품수명을 연장하고 서셉터의 고장을 방지할 수 있는 효과가 있다. 나아가, 이로 인해 CVD공정에서 수행되는 글래스 기판의 성막공정의 작업효율을 높이고 불량율을 감소시킬 수 있는 장점이 있다. As such, the present invention has an effect of preventing the deformation of the susceptor due to the reinforcing structure, thereby extending the product life of the susceptor and preventing the susceptor from failing. Furthermore, this has the advantage of increasing the work efficiency of the glass substrate deposition process performed in the CVD process and reducing the defective rate.
여기에서 개시되는 실시예는 여러가지 실시가능한 예 중에서 당업자의 이해를 돕기 위하여 가장 바람직한 예를 선정하여 제시한 것일 뿐, 본 발명의 기술적 사상이 반드시 이 실시예에 의해서만 한정되거나 제한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론, 균등한 다른 실시예가 가능하다. The embodiments disclosed herein are only presented by selecting the most preferred examples to help those skilled in the art from the various possible examples, the technical spirit of the present invention is not necessarily limited or limited only by this embodiment, the present invention Various changes and modifications are possible within the scope without departing from the spirit of the invention, as well as other equivalent embodiments.
Claims (6)
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KR1020050079358A KR100792397B1 (en) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | Susceptor for lcd manufacturing equipment having reinforcement structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050079358A KR100792397B1 (en) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | Susceptor for lcd manufacturing equipment having reinforcement structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070027022A KR20070027022A (en) | 2007-03-09 |
KR100792397B1 true KR100792397B1 (en) | 2008-01-08 |
Family
ID=38100357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050079358A KR100792397B1 (en) | 2005-08-29 | 2005-08-29 | Susceptor for lcd manufacturing equipment having reinforcement structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100792397B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100904038B1 (en) | 2007-06-05 | 2009-06-22 | 주식회사 에스에프에이 | Chemical Vapor Deposition Apparatus for Flat Display |
KR101341423B1 (en) | 2011-06-16 | 2013-12-13 | 주식회사 에스에프에이 | Chemical Vapor Deposition Apparatus for Flat Display |
KR101739014B1 (en) * | 2011-11-25 | 2017-05-24 | 주식회사 원익아이피에스 | Substrate Processing Apparatus |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100877822B1 (en) * | 2007-04-10 | 2009-01-12 | 주식회사 에스에프에이 | Chemical vapor deposition apparatus for flat display |
KR100966369B1 (en) * | 2007-12-24 | 2010-06-28 | 삼성엘이디 주식회사 | Susceptor for Chemical Vapor Deposition |
WO2019021039A1 (en) | 2017-07-28 | 2019-01-31 | Polidoro S.P.A. | Burner unit |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005205250A (en) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Shibaura Mechatronics Corp | Spin treatment apparatus |
-
2005
- 2005-08-29 KR KR1020050079358A patent/KR100792397B1/en active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101739014B1 (en) * | 2011-11-25 | 2017-05-24 | 주식회사 원익아이피에스 | Substrate Processing Apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070027022A (en) | 2007-03-09 |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] | ||
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