KR100790617B1 - 시트메트리얼의 연속적인 스트림에서 소정 형상을 컷팅하기 위한 시스템 - Google Patents

시트메트리얼의 연속적인 스트림에서 소정 형상을 컷팅하기 위한 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 비전시스템(12)을 갖는 시트메트리얼(10) 내의 하나 또는 그 이상의 좌표(F, F2)의 코디네이트를 구비하여 시트메트리얼(10)의 이동 중에 소정 형상(S)을 컷팅하는 방법 및 장치를 제공하는 것이다. 상기 좌표(F, F2)는 소정 형상(S)을 위한 패턴(P)에 부합된다. 상기 컷팅시스템(11)은, 비전시스템이 시트메트리얼(10) 이동 중에 연속적인 하나 또는 그 이상의 좌표(F, F2)를 동시에 구비하는 동안 소정 형상(S)을 컷팅하기 위해 구비된 하나 또는 그 이상의 좌표(F, F2)에 상대적인 패털(P)를 겹친다. 연속적인 좌표(F, F2)를 구비하고 컷팅하는 동시프로세싱은 연속적으로 반복된다. 바람직하게 두개 또는 그 이상의 좌표(F, F2)를 이용하기 때문에 왜곡이 검출되고, 패턴(P)은 패턴(P)의 정확한 겹침과 왜곡된 소정 형상(S)에 대한 컷팅전에 리맵핑(REMAPPED) 될 수 있다.
비전시스템, 시트메트리얼, 좌표, 코디네이트, 패턴, 컷팅

Description

시트메트리얼의 연속적인 스트림에서 소정 형상을 컷팅하기 위한 시스템{SYSTEM FOR CUTTING SHAPES PRESET IN A CONTINUOUS STREAM OF SHEET MATERIAL}
<관련출원>
본 발명은 2001년 12월 10일 출원된 미국특허출원번호 제60/337,151호 이고, 본 발명의 목적 및 요점에 대해서 위 미국특허출원에 의해 구체화된다.
본 발명은 메트리얼시트의 이동중에 소정 형상을 컷팅하기 위한 비전 및 컷팅장치에 관한 것이다. 특히, 비전시스템은 알려진 좌표의 소정 형상에 결합된 좌표를 인식하고 제어기는 메트리얼의 통과에 따른 형상의 외형을 정확히 컷팅하기 위한 컷팅시스템을 제어한다.
통상적으로 알려진 방법은 일정길이의 재료를 컷팅존으로 진행하고, 이 때 재료가 정지하면 재료로부터 패턴을 컷팅하기 위한 X-Y 에 대하여 레이저 빔을 이동하는 것이다. 수치제어포지셔너는 예정된 알려진 패턴에 따라 메트리얼 위쪽으로 레이저빔을 위치한다.
1991년 11월 11일에 출원공개된 캐나다 특허에서, 방법은, 재료가 레이저 컷팅존을 통해 연속적인 방식으로 컨베이어 상에서 이동할 때, 레이저 컷팅이 가능한 컷팅 패턴의 양을 증가하는 목적을 이루려는 것이다. 이러한 컷-온-더-플라이 (CUT-ON-THE-FLY) 방법은 컷팅존으로부터 재료의 로딩(LOADING)과 언로딩(UNLOADING)을 제거하고 이동재료의 축 방향과 재료를 교차하는 방향의 레이저 컷팅헤드의 효과적인 움직임을 이용한다. 캐나다 알버타 애트먼튼 소재의 LACENT TECHNOLOGIES 의 2001년 9월 25일 등록된 미국특허 제6,294,755 B1에서, 위 미국특허는 외형의 이동으로 경로를 이산화하여 연속적인 경로를 따라 레이저를 이동하는데 필요한 시간을 최소화하여 컷팅재료의 양을 더욱 최적화하고 증가하는 방법을 포함하고, 이동의 한쌍은 포지셔너의 정지와 출발을 최소화 하도록 결합된다. 부가하여 속도의 범위는 각 이산적인 움직임에 대하여 분석되고 연속적인 속도 곡선을 적정하도록 오버랩하여 조정된다.
상술한 종래기술은 일률적인 재료에 기초하고 패턴은 컷터의 수치저장장치에 존재한다. 다시말하면 패턴은 재료의 연속적인 이동중의 어느 위치에서든지 수행된다. 그러나, 어떤 경우에 있어서, 이미 프린트되거나 재료내에 소정의 형상을 구비하고 컷트하는 것이 바람직하다. 여러가지 시도는, 재료 내의 코디네이트가 형상의 예정된 컷팅라인 또는 소정 오차 범위 내의 라인을 따르는 출발컷팅과 컷팅을 하는 위치에 구비되는 단계를 포함하는 불변의 컷팅형상 또는 패턴 내에 포함되는 시도이다. 상기 시도는 재료가 연속적으로 이동하는 경우에 더욱 단점을 보이고 재료가 출발컷팅에서 종료컷팅까지 비뚤어질 것이다.
패턴화된 재료의 컷팅이 패션과 가구 산업에서 널리 알려져 있다. 이러한 실례에서 여러가지 출발포지션이 알려져 있다. 각 기술의 예는 BERCAITS의 미국특허 5,975,743에 공개되고 LORIOT의 미국특허에 공개되어 있다. 출발포인트를 구비하여 이용되는 비전시스템을 이용한 기술이 당해 기술분야에 잘 알려져 있으나, 컷터에 의해 수행되는 비전시스템의 카메라는 종래의 기술이고 그러므로 순차적으로 적용된다; 출발지점을 구비하기 위해 정의된 영역 내에서 검색하고 컷팅프로세싱을 시작하도록 리셋하기 위해. 형상을 컷팅하기 위한 또 다른 접근은 한계를 프리-마크(PRE-MARK)하거나 식별마커(MARKER)를 갖는 형상의 라인을 컷팅하는 것이고 이때 컷터를 갖는 마커(MARKER)를 트레이스하는 것이다. 출원인의 지식에 비하여 메트리얼시트의 이동으로부터 소정 형상의 컷팅은 만족스러운 방식으로는 이루어지지 않는다.
상술한 기술에서는 찾아 볼 수 가 없는 출원인의 지식은 증가된 정확도, 보다 높은 양 및 더욱 복잡해진 재료의 동작을 제공한다.
시트메트리얼로 소정 형상을 컷팅하는 바람직한 실시예가 제시된다. 위빙(WEAVING)프로세싱과 같은 제조프로세싱의 결과 또는 연속적인 핸들링 동안 왜곡할 수 있는 소정 형상은 시트메트리얼의 성질이다. 상술한 왜곡의 성질과 범위는 형상의 길이를 따라 그리고 시트메트리얼의 길이를 따라 다양하다. 그러므로, 상기 형상은 시트메트리얼 내의 개개의 상대 포지션에서 예정된 패턴을 갖는 것이 기대된다. 또한, 프로세싱의 속도와 대비하여, 메트리얼은 컷팅시스템을 통해 연속적으로 이동될 수 있다. 종래기술의 접근방법은 메트리얼의 여백부분으로부터 알려진 모든 패턴을 컷팅하도록 잘 알려져 있다. 그러나 메트리얼 내의 소정 형상에 대해서 대응하는 부분의 패턴을 컷팅하는 하는 것과 시트메트리얼 상의 형상과 일치하는 소정 코디네이트를 컷팅하는 것이다.
바람직한 실시예에서, 컷팅시스템은 적어도 하나의 형상과 결합되는 재료 내의 하나 또는 그 이상의 연속적인 좌표를 구비하여 시트메트리얼의 통과를 주시하거나 스캔하는 동안, 비전시스템은 이전 구비된 좌표상에 기초되는 형상을 동시에 컷팅하는 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 컷팅시스템에 구비되고 형상은 동일한 형상이거나 각각의 형상이다. 각각의 형상은 시트메트리얼 내에 구비되고 알려진 외형 또는 패턴 및 좌표와 결합된다. 상기 좌표는 컷팅시스템과 횡으로되며 전체코디네이트시스템 내에 알려져 있다. 상기 알려진 패턴은 시트메트리얼이 통과할 때, 시트메트리얼 내의 소정 형상과 대응하기 위한 좌표의 코디네이트에 상대적으로 컷팅된다. 또한, 비전시스템과 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 컷팅시스템은 시트메트리얼의 프로세싱된 베드 위로 순차적이고 연속적으로 이동한다. 각각의 소정 형상의 실제위치를 갖는 컷팅 패턴을 매칭하기 위해 정지비전시스템은 제1 좌표를 구비하는 위치의 아래 시트메트리얼 이동을 주시하고 이 때에 커팅시스템에 따르는 시트메트리얼의 전체 코디테이트를 결정하는 것을 알 수 있다. 제어기는 겹쳐짐을 위한 제1좌표에 따르는 패턴의 위치를 결정한다. 따라서 시트메트리얼 내의 비규칙적인 간격에 나타나는 소정 형상 또는 코디네이트 X 또는 Y 내에 시프트되는 소정 형상은 재료에 고정되지 않거나 예정간격에 예상대로 나타나는 종래의 기술과 같이 컷팅된다.
동시에, 비전시스템이 연속적인 좌표를 구비하도록 이어지는 동안에, 컷팅시스템은 이전의 위치 또는 이전을 좌표에 대응하는 소정 형상을 컷팅한다.
다른 실시예에서, 형상 또는 각각의 형상을 위한 적어도 제2좌표는 재료 내에 제공된다. 상기 비전시스템은 제1좌표 및 부가적인 좌표에 대한 시야 범위 내의 재료를 스캔하고 이때 각각이 발견되며, 각각의 시스템은 각 시스템의 코디네이트를 결정한다. 상기 제어기는 제2 또는 보다 큰 수의 좌표가 제1 좌표로부터 주어진 증가 코디네이트에서 발견되고 상기 제1 좌표는 형상의 알려진 외형 또는 패턴에 기초한다. 상기 패턴은 시트메트리얼과 형상 내의 명백한 왜곡을 설명하도록 조정된다. 하나의 조정은 패턴 내의 예졍된 외형보다 보다 짧은 형상 또는 보다 긴 형상을 설명하도록 선형스트레치를 포함할 수 있다. 다른 조정형태는 회전(비뚤어진 재료)되는 시트메트리얼 내의 형상을 조절하고 형상 내(재료가 굽어지고 비뚤어미)에 왜곡되는 형상을 조절하는 것을 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에서, 효율성이 컷팅구조 온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 변화에 의해 지속되거나 증가된다. 이러한 실시예는 시트메트리얼 내의 네스트(NEST)형상 내의 다중 소정 형상 중의 하나를 컷팅하는 것을 변경, 생략 또는 왜곡 또는 스킵에 대한 설명을 하기 위한 패턴을 리맵핑하는 것을 포함한다. 그리고 선이 그어진 부분 또는 메트리얼의 결점부를 만족하는 소정 형상을 스킵한다. 각각의 좌표는 선이 그어진 소정 형상을 플래그 할 수 있다. 비전시스템과 컷팅시스템 사이에, 컨베이어와 레이저 컷터 포지셔너에 대한 컷팅경로 및 모션프로파일은 건조량을 최소화하고 다수의 이동을 최소화하고 컷터의 바이트 내의 컷팅경로를 재계산하고 선이 그어진 형상을 변경하고 매우 큰 포지셔너 시간을 절약하여 최적화할 수 있다.
컷팅라인 경로와 모션제어에 대한 리얼타임 계산은 환경에 의존해서 수행될 것이다. 알려진 외형의 직접적인 어플리케이션 또는 메트리얼 내의 재료의 패턴에서, "쿠키커터(COOKIE CUTTER)" 경우에 패턴은 소정 형상의 식별된 좌표에 상대적인 패턴의 겹침에 의해 간단하게 적용될 수 있고 시트메트리얼을 컷팅할 수 있다. 이러한 실시예에서, 예정된 컷팅경로 및 포지셔너의 모션제어에 대한 예정된 프로파일과 시트메트리얼에 대한 컨베이어를 이용하는 것을 선택할 수 있다. 다른 실시예에서 적어도 두개의 좌표가 형상을 위해 구비되었을 때, 회전 또는 스트레치는 결정가능하고 형상의 코디네이트는 컷팅라인경로의 영향없이 새로운 패턴으로 리맵핑(REMAPPED)될 수 있다. 일반적으로 모션프로파일은 재계산된다. 다른 실시예에서, 굽어지고 비뚤어진 것과 같은 경우는 다수의 좌표의 이용을 통해 검출되는 것과 같이, 컷팅라인경로는 컷팅라인과 모션프로파일의 조절을 촉진하여 최적화되지 않는다.
따라서, 폭넓은 관점에서, 방법은 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상에서 컷팅하기 위해 제공되고 상기 적어도 하나의 소정 형상은 예정된 외형을 갖는 패턴과 적어도 하나의 좌표를 갖고, 각 적어도 하나의 좌표는 패턴 내에서 예정된 코디네이트와 결합된다. 그리고 상기 방법은, 비전시스템과 컷팅시스템에 상대적으로 시트메트리얼 이동 내에 하나 또는 그 이상의 이전좌표를 구비하는 단계; 이동시트메트리얼 내에 하나 또는 그 이상의 연속적인 좌표를 동시에 구비하고 하나 또는 그 이상의 좌표에 기초하는 소정 형상을 컷팅하는 단계; 및 하나 또는 그 이상의 연속적인 좌표를 컷팅하고 구비하는 동시 프로세싱을 연속적으로 반복하는 단계를 포함한다.
폭넓은 장치관점에서, 상술한 방법은 이하의 장치를 장치를 이용하여 수행된다. 상기 장치는 시트메트리얼 내에서 패턴을 컷팅하기 위한 전체적으로 코디네이트에서 알려진 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 컷팅시스템; 패턴 내에서 예정된 코디네이트와 대응하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 좌표의 전체적인 코디네이트를 구비하기 위한 비전시스템; 상기 시트메트리얼과 상기 비전및 컷팅시스템 사이에 연속적인 상대 이동에 영향을 주기 위한 구조; 전체 코디네이트 내의 상기 상대적인 움직임의 측정을 확립하기 위한 수단; 및 패턴이 구비된 적어도 제1 좌표와 겹쳐지도록 하기 위한 제어기를 포함하므로, 컷팅시스템은, 비전시스템이 시트메트리얼 내의 연속적인 적어도 하나의 좌표의 전체 코디네이트를 구비하는 동안에 동시에 소정 형상을 위한 패턴을 컷팅한다.
상기 장치 및 방법은 미리 정의된 형상에 대하여 빠르게 이동될 수 있는 소정 툴에 적용된다. 메트리얼 내의 상기 형상은 메트리얼로 통합되거나 재료로 구비된다.
도1은 이동시트 재료로부터 컷팅되는 소정 형상에 대한 하나의 바람직한 실시예의 순서도 및 구조도를 도시한 것이고,
도2a 및 도2b는 레이저 컷터 컷팅시스템을 갖는 비전시스템의 각각의 평면도 및 측면도를 도시한 것이고,
도3은 시트메트리얼 내의 네스트(NEST)형상의 소정 형상을 도시한 것으로 과장된 부분의 여러가지 문제점을 도시한 것이다.
도4a 및 도4b는 몇몇 왜곡되지 않은 사각파 및 몇몇 좌표옵션을 도시한 것이고,
도5a 및 도5b는 시트메트리얼 상에 상대적으로 횡으로 시프트되지만 식별될 수 있는 패턴과 형상을 갖는 구개의 분리된 소정 형상을 도시한 것이고,
도6은 왜곡되지 않은 이상적인 패턴으로부터 회전되는 형상을 도시한 것이고,
도7a 및 도7b 는 시트메트리얼 상의 증가에 의해 제1 비왜곡 및 제2 종축으로의 스트레치된 두개의 분리된 소정 형상을 도시한 것이고,
도8a 및 도8b는 왜곡된 패치에 의해 도시된 바와 같이 제1 비왜곡되고 사각 패치를 나타내는 겹쳐진 그리드를 갖고 제2 굽어지고 비뚤어지게 왜곡된 시트메트리얼 내의 두개의 분리된 소정 형상의 평면도를 도시한 것이고,
도9a는 이상적인 패턴(도트라인), 그리드라인 및 선명함을 위해 생략된 패치에 비교되는 굽어지고 비뚤어게 왜곡된 복잡한 소정 형상을 도시한 것이고,
도9b 내지 도9d는 도9a의 네개의 좌표와 결합된 사각패치에 따라 도시한 것으로 도9b는 다수의 사각패치를 도시한 것이고, 도9c는 단일의 사각패치와 도9d는 비뚤어진 사각패치를 도시한 것이고,
도10은 다양한 재료의 이동 및 왜곡을 구비한 몇몇 옵션을 도시하고 시트메트리얼 내의 소정 컷팅형상을 위한 프로세싱의 순서를 도시한 것이고,
도11은 Lacent 1000의 실시예에 따른 상업적인 레이저 컷팅시스템을 구비한 본 발명의 바람직한 실시예의 사시도를 도시한 것이고,
도12는 도11의 실시예에 따른 비전시스템의 배면도를 도시한 것이고,
도13은 PMC 및 CMC의 모션제어를 조정하는 컷팅시스템을 갖는 비전시스템 협력 구조도를 도시한 것이고,
도14는 비전시스템, 컷팅시스템 및 각각의 제어기 사이의 하드웨어 컨넥션의 순서를 블록도로 도시한 것이고,
도15는 컷팅라인 경로 및 모션제어를 결정하기 위한 계산순차의 흐름을 도시한 것이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 목적, 작용, 효과를 포함하여 기타 다른 목적들, 특징점들, 그리고 작동상의 이점들이 바람직한 실시예의 설명에 의해 보다 명확해질 것이다.
종래의 기술은 여백시트 메트리얼의 알려진 패턴을 가지고 있다. 도1의 신규한 시스템을 위한 구조를 참고해서 설명하면, 형상(S)은 프린트되고 위브(WEAVE)되고 또는 메트리얼로 소정 형상이되며, 형상은 컷팅시스템(11)으로 컷팅되기 전에 먼저 구비된다. 상기 소정 형상(S)은 예정된 외형을 갖는 패턴(P)를 갖는다. 각 형상의 외형의 패턴(P)는 이미 알려지고 저장된다. 메트리얼 내의 형상(S)의 패턴 어플리케이션의 정확한 겹침은 최종 컷팅된 형상(s)의 완성과 만족에 중요할 수 있다. 상기 소정 형상(S)은 하나 또는 그 이상의 특정 마커(MARKER) 또는 메트리얼(10)을 위한 좌표 F 를 인식하는 비전시스템(12)를 이용한 시트메트리얼(10) 내에서 식별된다. 상기 좌표 F 의 위치는 소정 형상(S)과 패턴(P) 사이의 외형관계를 확립한다. 컷팅시스템에서의 어느 시간에서 위치, 비전시스템 및 시트메트리얼은 전체코디네이트 시스템에 알려저 있다. 따라서 시트메트리얼로부터 컷트되도록 적용되는 컷팅패턴(P)의 위치는 인식된 좌표 F 에 상대적으로 알려져 있다. 컷팅시스템(11)의 컷터(13)는 정확하게 구비되고 시트메트리얼 상의 소정 형상(S) 위에 겹쳐진 예정된 패턴(P)를 따라 시트메트리얼(10)를 컷트한다. 동시에 컷터가 이전 위치의 좌표에 기초하는 컷팅형상이므로 연속적인 좌표는 비전시스템으로 구비된다.
첨부된 도2a 및 도2b를 참조하면, 컷팅시스템(11)의 바람직한 실시예는 BAILIK 의 캐나다에서 출원공개된 제 2,016,544 호 및 SAWATZKY 의 미국특허 제6,294,755 호에 공개되었으며, 위 참조문헌에 의해 구체적으로 개재되어 있다. 상기 컷팅시스템(11)의 바람직한 실시예는 핀치롤러(15)와 무한컨베이어(16)을 통과하는 시트메트리얼을 피딩하는 메트리얼 스프레더(14)을 포함하는 구성으로 도시되어 있다. 상기 컨베이어(16)는 컷팅시스템(11)을 통해 연속적인 메트리얼(10)을 지지하고 전달한다. 컷팅 메트리얼은 스태커 또는 다른 콜렉션(COLLECTION) 시스템으로 전달된다. 시트메트리얼 내의 기계적장치와 변화성의 현실이 알려졌다면 컷팅전에 메트리얼 내의 소정 형상의 위치가 확립되지만, 소정 형상 내의 외형은 외형패턴(P)을 위한 예정된 외형과는 종종 완전히 대응하지는 않을 것이다.
메트리얼시트를 위한 순차적이고 연속적으로 이동하는 비전시스템과 컷팅시스템은 서로 동시에 적용되는 시스템이다. 상기 시스템의 효율성은, 메트리얼이 비전시스템 및 컷팅시스템을 통과하든지 비전시스템 및 컷팅시스템이 메트리얼을 통과하든지 연속적으로 상대적인 이동성을 갖는 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY)에 의해 얻어진다. 본 명세서에서 설명된 각각의 장치와 결합된 상기 시트메트리얼은 비전시스템 및 컷팅시스템을 순차적으로 통과하는 것으로 설명된다.
좌표 F 는 메트리얼(10)의 확장부를 횡방향으로 교차한 위치에 구비된다. 메트리얼 검색좌표 주변에서의 이동에 의해 정확성에서 효율성과 절충의 결합된 손실을 피하기 위하여, 비전시스템(12)은 정지상태로 주시하고 통과하는 메트리얼시트(10)의 이동의 전체 횡방향을 폭의 종축증가를 응시하거나 스캔한다. 상기 시트메트리얼의 효과적인 폭은 결합좌표를 포함한다. 하나 또는 그 이상의 횡방향 좌표가 알려져 있다면, 하나 또는 그 이상의 횡방향부분 또는 잉여영역은 인식프로세싱의 감소로 정의되고 모니터될 수 있다.
좌표 F 를 검출하기 위한 몇몇 방법은 메트리얼 이미지 프로세싱과 세이(SAY), 다크 크로스헤어(DARK CROSSHAIR)좌표 및 보다 약한 세기의 백그라운드(BACKGROUND)사이의 대조의 차이를 포함한다. 다른 몇몇 방법은 자기, 전자기방사 스펙트럼(가시적인 또는 비가시적인) 및 방사성동위원소를 통한 좌표의 어플리케이 션 및 검출을 포함한다. 다른 형태의 좌표마커는 캐퍼시턴스(CAPACITANCE), 자기장에서 변화를 측정하는 수동시스템 또는 유도된 에디(EDDY) 전류로부터 제2자기장을 측정하는 활성의 "타임도메인" 검출기를 이용하여 검출된 재료에 구비된 센서트레드(THREAD)를 포함한다. 상술한 몇몇 실시예로부터 보여진 바와 같이, 좌표 F 는 메트리얼의 표면에 구비된다. 본 명세서에서 좌표는 시트메트리얼의 내부 또는 상부에 구비되는 것으로 기술하였으나 굳이 한정하지 않음을 밝혀둔다.
본 명세서에서 비전시스템 라벨은 좌표 F 를 검출하는 시스템 또는 메트리얼(10) 시트를 검출하는 시스템과 같이 폭넓게 해석될 수 있다. 시스템에 근거한 간단한 비전은 디지털카메라 및 캡쳐링 오버랩핑렌즈 및 넓은시야 그리고 스캐너를 포함한다. 상기 비전시스템은 시트메트리얼의 효과적인 폭의 순차적인 스캔을 적용할 때, 스캔시간과 프로세싱타임은 이동재료 내의 식별된 좌표의 전체코디네이트를 결정하도록 보상된다. 그러나 편리성을 위해 더욱 부가하면 비전시스템(12)은 시트메트리얼 내의 시트메트리얼과 마커트레드(THREAD) 사이의 대조를 구분하는 종래 라이트와 카메라시스템으로 기술된다. 이와 같은 시스템은 동시에 시트메트리얼의 횡방향폭을 연산한다. 좌표의 식별을 위해 텀(TERM)의 주시, 스캔 및 검출은 동시에 이용될 수 있다.
도3을 참조하면, 시트메트리얼(10)은 일반적으로 머신-식별가능한(MACHINE-IDENTIFIABLE) 좌표 F 를 포함하는 다수의 소정 형상(S)을 갖는다. 상기 좌표 F 는 위브(WEAVE)된 재료의 감는 방향(일반적으로 이동방향)과 위브(WEFT)방향(일반적으로 횡방향) 내의 식별가능한 특성 위브(WEAVE)를 갖는 이산적인 "마커트레드 또는 트레드"를 갖는 시트메트리얼(10)의 백그라운드(BACKGROUND)으로부터 구별가능하다. 정확한 컷팅의 이득이 있는 시트메트리얼(10)의 한 형태는, 형상의 패턴이 메트리얼 내의 디자인에 종속하는 재료 상에 구비되고 각각의 디자인을 갖는 재료이다. 재료 내의 소정 형상의 종류의 다른 실예예는 이산적인 포인트에 서로 결합된 두개의 파브릭(FARIC)의 두개층으로 구성된 한조각의 위브(WEAVE)된 파브릭(FARIC)이다. 상기 형상(S)은 이산포인트에 상대적이고 일부 또는 형상이 모든 내부 및 내부한계 또는 톨러런스(TOLERANCE)의 배당을 포함한다. 상기 장치 및 방법은 톨러런스(TOLERANCE)를 갖는 한계상에서 작용을 피하도록 각 형상(S)의 정확한 컷팅을 가능하게 한다; 그 밖에 소정 형상(S)은 컷팅을 잔존시키지 않거나 연속적인 특성의 제어프로세싱을 잔존시키지 않는다.
상기 소정 형상(S)은 상기 시트메트리얼(10)에 물리적으로 마크되지 않지만, 소정 형상의 외형과 특정 포인트는 하나 또는 그 이상의 좌표에 상대적으로 알려져 있다. 또한, 부가하여 마크가 되었는지 또는 마크가 되지 않았는지, 상기 소정 형상(S)는, 재료로부터 적용되고 컷팅되는 것이 심(SEAM)을 허용하는 것과 같이 톨러런스(TOLERANCE)를 포함할 때 예정된 패턴(P)에 대응한다.
다수의 S 형상의 네스트(NEST)는 도3에 도시된다. 적어도 몇몇의 S 형상의 네스트(NEST)는 메트리얼로 구비되는 소정 형상(S)이다. 상기 네스트(NEST)는 각각의 소정 형상 S를 위해 패턴(P) 보다 넓은 패턴(P)를 갖는 소정 형상(S)를 구성할 수 있다.
도시된 목적을 위해 S 형상 내의 몇몇 변화는 몇몇 색다른 것과 심각한 왜곡을 포함하는 것으로 설명될 수 있다. 상기 리딩(LEADING) 네개의 소정 형상 S 는 굽어지고 비뚤어진 왜곡이 된다. 소정 형상 S 의 두번째 그룹은 그어진 선을 갖는 하나의 형상을 포함한다. 네개의 형상 S 의 라스트(LAST) 그룹은 다른 좌표와 비교되는 비주기적 리딩 좌표 F 를 갖는다. SAWATZKY 로부터 알려진 컷팅된 형상에서, 패턴은, 컷터가 구동됨에 따라 일련의 계산된 컷팅라인에 의해 특성화된다. 실제 컷팅은 컷팅라인 온-더-플라이(ON-THE-FLY)와 같은 계산에 의해 최적화된다. 따라서, 패턴 P의 최적 컷팅을 결정하고 수행하도록 최적화 계산을 수행하는 동안에 구비된 변화가능한 소정 형상 S 의 외형은 시트메트리얼(10)의 가능한 리얼타임 스캐닝시스템과 좌표 F 의 인식으로부터 잇점이 있다.
상기 시트메트리얼(10)은 비전과 컷팅시스템을 통해 연속적으로 이동한다. 상기 형상 S 는 이동 메트리얼 내에 소정 형상이된다. 이상적인 외형을 위한 상기 패턴 P는 예정되고 알려져 있다. 상기 시트메트리얼(10)에 궁극적으로 적용될 패턴 P의 위치는 초기에 알려져 있다. 상기 비전시스템(12)은 결합된 좌표의 코디네이트의 식별을 통해 상기 정보를 제공한다. 이러한 하나의 좌표는 연속좌표를 위치에 의존한 이전좌표가되고 소정 형상 S 의 결정을 가능하게 한다. 부가적으로 연속적인 좌표의 이용은 왜곡을 결정하는 것이 가능하다. 상기 컷팅시스템(11)은 각각의 패턴 또는 외형이 적용된 것에 관해 설명되는 것으로, 시트메트리얼(10) 내의 위치 또는 왜곡에 불구하고 소정 형상(S)과 겹쳐지도록 패턴(P)을 적절한 시점에 적절한 부분을 컷팅하는 것이다. 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY)작동의 성질은 이동재료(10)를 컷팅하도록 구비되는 것과 좌표에 의해 지시되는 코디네이트에 패턴 P 가 컷팅되는 동안에 좌표 F 를 동시에 식별하는 것이 가능하도록 하는 것이다.
컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 동작에서, 가장 적합한 최적계산이 리얼타임에서 수행되고 재배치 또는 알려진 패턴 P의 포지션에 따른 최소한의 변환 및 코디네이트회전이 일어난다. 따라서 하나 또는 그 이상의 기준 코디네이트 또는 소정 형상 S 의 좌표가 알려졌을 때, 상기 컷팅패턴 P 는 메트리얼 내에 대응하는 소정 형상의 코디네이트 및 외형에 정확하게 겹쳐서 컷팅되고 적용된 리얼타임 내에 구비된다.
컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 동작에서 리얼-타임의 수행이 가능하지만시트메트리얼(10) 위에서 일련적으로 스캔할 수 없고 시트메트리얼이 이동하고 컷팅시스템의 컷팅존으로부터 나오면 스캔되는 메트리얼을 이후 리턴하기가 어렵다.컴퓨팅 성능에 의한 제한으로, 소정 형상을 구비하는 것과 컷팅하는 동작은 자율적이고 동시에 동작한다. 상기와 같은 성능은 컷팅시스템(11)의 업스트림에 구비된 비전시스템(12)로부터 기인한다.
수단은 비전시스템 정보의 프로세싱을 위해 그리고 컷팅시스템을 갖는 소정 형상에 패턴을 컷팅하고 겹쳐지는 정보를 구비하도록 제공된다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 비전시스템(12)는 좌표인식시스템 정보를 프로세싱하기 위해 그리고 컷팅시스템(11)에 상대적인 좌표 F 의 코디네이트를 결정하기 위한 제어기(21)를 갖는다. 전체의 코디네이트 시스템은 비전시스템과 컷팅시스템이 알려진 상태로 유지된다. 상기 시트메트리얼의 코디네이트는 코디네이트가 이동할 때 전체코디네이트 시스템에 알려져 있다. 상기 비전시스템과 컷팅시스템에 상대적인 시트메트리얼을 이동하느 수단에 커플링된 엔코더는, 시트메트리얼이 비전시스템과 컷팅시스템 사이에 전체코디네이트시스템 내로 이동할 때 시트메트리얼상의 코디네이트 사이에 외형관계를 제공한다.
소프트웨어를 수행하는 컴퓨터와 같은 제어기수단(21)은 컷팅시스템(11)의 코디네이트 시스템 내의 인식된 좌표 F 의 코디네이트와 존재를 결정하고 비전시스템(12)를 인터페이스하고 컷팅시스템(11)은 컷팅시스템(11)에 인식된 좌표를 위한 정보를 통신하는 단계를 포함한다. 상기 컷팅시스템(11)은 컨베이어를 프로세싱하기 위한 제어기 수단(22)과 시트메트리얼 내의 소정 형상에 패턴을 컷팅하기 위한 이동 포지셔너를 구비한다.
도4a 및 도4b 를 참고하면, 비전시스템을 연속적으로 통과하는 이동메트리얼로서, 상기 메트리얼은 좌표 F 의 좌표 또는 형상에 비례하는 좌표 F 의 유일한 순차를 구비한다. 도4a에서 제1 좌표 F 는 사각형상 S 에 상대적인 도트(DOT)에 의해 설명된다. 도4b는 일련의 크로스-헤어(CROSS-HAIR) 좌표 F 를 도시한다. 순차상에서 두개는 공개된 형상 S에 의해 지시될 것이고, 이후 좌표 F 또는 좌표는 사각형상 S 에 상대적이다. 제어기 "패턴매치"는 알려진 패턴과 인식된 좌표 F 이다. 상술된 바와 같이, 패턴 P는 제어기 수단에 의해 알려져 있고, 매트리얼 내의 좌표 F와 패턴 P의 겹침과 구비에 의해 그리고 소정 패턴 형상 S를 정확하게 하도록 패턴 P를 컷팅에 의해 시트메트리얼(10)를 이동하는 것으로부터 컷팅될 수 있다. 도5a 및 도5b에 도시된 바와 같이 연속적인 형상(도5b)이 이전형상(도5b)으로부터 시트메트리얼 상에 시프트되든지 안되든지 좌표 F 의 위치는 형상 S 에 상대적으로 알려져 있고 상기 패턴은 컷팅전에 적당하게 구비된다.
그러나 실용적으로 도6, 7a-8b에 도시된 바와 같이, 상기 시트메트리얼(10)은 위브(WEAVE)된 재료 내의 잔여 스트레스로 인해 왜곡될 수 있거나 이동시트메트리얼(10)이 부가적으로 회전, 스트레치 또는 시트메트리얼의 공급과 비전시스템(12) 사이에서 후에 굽어지거나 비뚤어지는 왜곡이 될 수 있다. 이러한 것은 패턴과 형상 오버레이 또는 매칭의 이상적인 시나리오를 어렵게한다. 부가적인 왜곡을 모니터하도록 적용되는 제2 시스템이 있지 않을 때 비전시스템(12)과 컷팅시스템(11)사이의 부가적인 왜곡을 최소화하는 것이 유용하다. 이러한 경우에서 예정된 패턴 P의 외형은 왜곡된 소정 형상 S 와 더 이상 대응하지 않고 컷팅에 기초한 매칭에러는, 예정된 패턴이 변형되지 않거나 또한 왜곡된 소정 형상의 실제 형상에 따라 리맵핑(REAMPPED)되지 않는다면 일어날 것이다.
여러가지 경우가 넓은 카테로리로 될 수 있다.
도5a, 5b 스탬프 : 이러한 시나리오에서, 상기 제어기 프로그램은 전혀 패턴 P의 외형을 변화하지 않는 것이 필요하다. 상기 비전시스템(12)은 메트리얼(10) 상의 좌표 F 와 대응하는 소정 형상을 구비하고, 패턴 P를 겹치고 소정 형상 S 와 같이 패턴의 컷팅라인을 적용하고 스템프 또는 쿠키-컷터(COOKIE CUTTER)와 같이 형상을 컷트하는 것이 필요하다.
도3, 6 회전 : 이러한 시나리오에서, 상기 프로그램은 단지 회전에 의한 패턴 P의 외형을 변형할 필요가 있다. 상기 비전시스템은 두개의 좌표 F, F2를 필요 로 한다. 제1 기준 좌표 F는 패턴 P의 형상을 고정하고 제2 좌표 F2는 메트리얼(10)의 회전과 패턴 P 의 특정 포인트 P2로부터 형상 S의 회전을 식별하고 기준좌표 F 에 상대적이다.
도7a, 도7b 스트레치&시프트 : 이러한 시나리오에서, X, Y 또는 두개 내에서 단지 외형스트레칭에 의한 패턴 P의 외형을 변형할 필요가 있다. 도7a, 도7b 에 도시된 바와 같이, 상기 소정 형상이 패턴패턴 F-P2에 대한 대응하는 코디네이트 보다 길거나 짧은지, 종축 스트레치는 소정 형상, F-F2의 기준 길이를 정의하도록 두개 또는 두개 이상의 좌표 F,F2를 이용하여 식별하고 그리고 변형을 수행할 때 적합한 감기 또는 위브(WEAVE) 방향 내의 "스트레칭" 패턴을 수행한다.
다른 리맵핑(REMAPPING) 시나리오는 리맵핑(REMAPPED)되지 않은 형상의 영역과 리맵핑(REMAPPED)될 수 있는 다른 형상의 임계의 영역을 설명하는 예정된 알고리즘에 근거한 형상 S 의 모든 또는 일부에 적용될 수 있다.
도8a,8b 및 도9는 선형 굽어짐(LIEAR BOW)과 비뚤어짐(SKEW) : 이러한 시나리오에서 하나 또는 그 이상의 영역 또는 패턴 P 내에 있는 패치는 X, Y 코디네이트 시스템 내에 있는 적어도 세개의 좌표에 의해 한정되는 것으로 정의된다. 다중 세개의 좌표는 삼각 패치를 정의하고 다중 네개의 좌표는 다수의 삼각 패치를 정의한다. 상기 비전시스템은 이상적인 패턴 P 로부터 굽어짐과 비뚤어짐을 구분한다. 상기 프로그램은 이상적인 패턴으로부터 굽어지고 비뚤어진 영역보다 보다 많이 반사하는 리맵핑(REMAPPED)된 패턴 P 까지의 패턴 코디네이트를 리-맵(RE-MAP)하는 것이 필요하다. 리맵핑은 두개 또는 그 이상의 패치를 갖는 형상 S 의 전부 또는 일부에 적용될 수 있다. 상기와 같은 리맵핑 프로세스는 코디네이트의 간단한 선형변화 또는 일부 전송(LEAVING) 그리고 다른 부분의 변경이 될 것이다. 도시된 바와 같이 하나의 실시예는 하나 또는 그 이상의 사각영역 또는 X 에서의 두개의 좌표 및 Y 에서의 두개의 좌표 등 적어도 네개의 좌표에 의해 한정되는 패치를 구현한다.
삽입된 굽어짐과 비뚤어짐(INTERPOLATED BOW SKEW) : 선형 굽어짐(LIEAR BOW)과 비뚤어짐(SKEW) 전과 같이, 이러한 시나리오에서 패턴 P 내의 영역은 X 내의 적어도 두개의 좌표와 Y 내의 적어도 두개의 좌표에 의해 한정되는 사각패치를 이용하는 것으로서 정의된다. 비전시스템이 굽어짐과 비뚤어짐을 결정하자 마자 패턴 P의 코디네이트는 모든 지점을 위한 컷팅을 자연스럽게 Nth 다항식을 이용한 삽입에 의해 교정된다. 따라서 일반적으로, 도10의 블록 B1의 연산에서 비전시스템(12)와 컷팅시스템(11) 사이의 상대적인 외형은 전체 코디네이트 시스템내의 시트메트리얼(10), 상기 비전시스템(12)과 컷팅시스템(11)을 대체하도록 결정된다.
상기 비전시스템(12)은 컷팅시스템(11)의 알려진 코디네이트 X,Y 업스트림에 구비된다. 상기 컨베이어(16)는 알려진 속도특성을 갖는다. 캘리브레이션은 컷팅시스템(11)의 오리진(ORIGN) 포인트 및 활성커터(13)의 좌표 F 의 코디네이트 사이에서 수행된다. 상기 캘리브레이션은 필요에 따라 일반적으로 예정되며 시트메트리얼(10)의 롤의 시작과 같다. 상기 오리진은 식별되고 연산자는 오리진이 컷터 하부에 구비될 때 까지 재료를 진행시킨다. 모든 상대적인 코디네이트는 전체 코 디네이트시스템 내에 알려져 있다. 컷팅은 좌표 F 의 위치 패턴에 따라 부분적이고 계속적으로 동시에 시작된다.
상기 패턴은 블록 A1, B1 에서 프로세스가 시작되기 전에 일반적으로 알려진 코디네이트를 예정한다. 패턴을 이용하기 때문에, 하나의 패턴은 컷팅 라인 경로 블록 A2 에서 계산될 수 있고, 컷팅시스템에 대하여 적합하게 바이트(BITE)할 수 있다. 상기 모션프로파일은 블록 A3에서 계산될 수 있다. 상기 컷팅라인과 모션 프로파일은 온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 변화되는 것이 필요하지 않다.
상기 컨베이어(16)는 동작되고 좌표의 동시위치 프로세스 및 컷팅형상이 시작된다. 블록 B2에서 비전시스템(12)는 하나 또는 그 이상의 좌표 F, F2 ... 를 검색하기 위해 시트메트리얼(10)을 통과하는 폭에서 부분적이고 연속적으로 볼 수 있다. 효과적인 폭은, 시트메트리얼의 전체 횡폭 보다 작은 실용적이고 좌표가 나타나는 범위 내에서 선택된다. 당해 기술 분야에서 알려진 바와 같이, 다양한 규칙은, 비전시스템(12)에 의해 인식된 후보가 고유의 비전-베이스(VISION-BASED) 검출 트레스홀드(THRESHOLDS)를 포함하는 좌표와 같이 적합하다면 구분을 위해 적용될 수 있다.
오버헤드 프로세싱을 최소화하고 거짓긍정의 입사를 최소화도록 비전시스템은 횡폭의 부분을 주목하도록 구비될 수 있고 하나 또는 그 이상의 잉여영역에 효과적으로 제한을 할 수 있다.
각 좌표의 전체 코디네이트 X, Y 는 패턴과 블록 B5의 좌표를 비교하기 위한 수단으로 전진될 수 있다. 상기 비전시스템(12)는 컷팅시스템(11)의 동작과 같은 다운스트림활성에도 불구하고 동시에 좌표 코디네이트를 결정하고 인식한다. 컴퓨팅 부담을 분배하고 편리하도록 하기 위해, 비전시스템(12) 제어기(21)는 컷팅시스템(11)에 의해 수행되는 구조를 프로세싱하는 제어기(22)로부터 독립적인 코디네이트 X,Y 와 같은 입력데이터를 프로세스한다.
상기 시트메트리얼(10)은 이동하고 좌표 F,F2 코디네이트 또한 이동한다. 코디네이트의 이동어레이 또는 시간과 공간 연산을 포함하는 다양한 컴퓨테이션 기술의 이용으로 좌표 F,F2는 컷팅시스템(11)의 전체 코디네이트시스템 내에 트랙된다.
블록 B6, B7, B8에서, 형상 S 의 위치는 하나의 좌표 F 의 최소값으로 구분하고 두개 또는 그 이상의 좌표 F, F2, F3 를 이용한 형상의 왜곡을 교정하도록 구비된다. 이러한 조정은 패턴 P 의 디지털 템플리트를 갖는 인식된 좌표 F 의 매칭에 의해 얻어진 온-더-플라이(ON-THE-FLY)이고 소정 형상 S 의 바람직한 컷팅을 이룰수 있도록 바람직한 패턴의 외형으로 조정을 한다.
블록 B8의 가장 간단한 수행에서, 하나의 좌표 F가 발견되고 소정 형상의 위치가 블록 B12에서 알려지고 대응패턴은 소정 형상 S를 컷팅하기 위한 좌표 F 의 상대적인 위치에 적용된다. 변형이 필요하다면, 모션 프로파일은 블록 (B11)에서 재계산 될 것이다.
다른 실시에에서, 패턴은 두개 또는 그 이상의 좌표 F, F2에 의해 특성화된다. 이러한 실시예에서 패턴의 이상화 또는 상술한 것과 같은 예정된 외형으로부터 왜곡에 적용하는 부가적인 방법을 적용한다.
블록7 에서, 비전시스템(12)은 시트메트리얼 내의 소정 형상 S 을 구비하고 알력진 패턴을 위한 제1 좌표를 인식한다. 상기 비전시스템은, 제어기가 왜곡의 성질을 식별하는 패턴 P와 비교하는 적어도 하나의 부가적인 좌표 F2 를 식별하고 리포트 한다. 패턴 P가 발견된다면, 상기 패턴 P 는 블록(B12)에서 왜곡된 소정 형상의 컷팅을 진행하기 전에 왜곡성질에 따라 리맵핑된다. 블록(B12)에서 소정 형상 S 는 하나 또는 그 이상의 이전 좌표에 기초해서 컷팅된다. 처음부터 정의되거나 리맵핑될 때, 상기 패턴은 상기 좌표의 전체적인 코디네이트에서 적용되는 패턴의 예정된 코디네이트에 따라 시트메트리얼 상에서 겹쳐진다. 상기 컷팅시스템(11)이 이전 좌표에 근거에서 진행되는 동안, 비전시스템(12)은 동시에 이동시트메트리얼 내의 하나 또는 그 이상의 좌표를 구비한다. 일반적으로 블록(B11)에서 모션프로파일은 재계산된다. 상기 왜곡의 범위에 따라, 컷팅라인 또는 경로는 컷팅시스템(11)을 최적하게 동작하도록 재계산되는 것이 필요하다. 하나의 예로써 충분한 왜곡정보를 제공할 수 있는 경우는, 왜곡정보에 의해 재계산 컷팅라인으로부터의 이득은 굽어지고 비뚤어지게 될 것이다. 블록 B9와 패턴의 복잡성에 의한 일반적인 동작에서 상기 비전시스템은, 패치를 정의한 다수의 부가적인 좌표 F2, F3.... Fn 을 찾을 것이다. 왜곡은 이산화되고 각 패치의 왜곡에 반영된다. 왜곡된 형상은 각 패치를 리맵핑하여 리맵핑된다. 상기 컷팅라인 경로는 블록 B10 에서 재계산되고 포션 프로파일은 블록(B12)에서 왜곡되는 소정 형상의 컷팅으로 진행되기 전에 블록(B11)에서 재계산된다.
패치의 이용은 형상내의 변화할 수 있는 리맵핑을 가능하게 한다. 즉 본 발명에서 패치는 형상의 왜곡을 결정하는데 이용될 수 있다. 각 패치는 명확한 외형을 가져야만 한다. 그러므로 각각의 패치는 좌표를 갖는 것이 바람직하다. 다수의 좌표들은 패치의 외형에 따른다.다각형의 코디네이트를 결정하는 것이 필요한 사용자는 외형을 한정하는 포인트를 정할 것이다. 행렬, 배열 또는 다른 수학적인 함수를 세팅했을 때 다수의 포인트는 외형에 의해 한정된다. 이와 같은 선행되는 기술은 당업자에 의해 널리 알려져 있으므로 더 이상의 설명을 생략하기로 한다.
본 발명에서 삼각패치는 패치마다 세개의 좌표에 의해 정의되고 인접한 삼각 패치는 두개의 좌표를 분배한다. 따라서 삼각패치의 좌표수는 n을 패치갯수라 할 때 2 + 1n 의 식을 갖을 수 있다. 즉 삼각패치의 좌표수 = 2 + 1n 이다.
또한 본 발명에서 사각패치는 패치마다 네개의 좌표에 의해 정의되고 인접한 사각패치는 두개의 좌표를 분배한다. 따라서 사각패치의 좌표수는 n을 패치갯수라 할 때 2 + 2n 의 식을 갖을 수 있다. 즉 사각패치의 좌표수 = 2 + 2n 이다. 한편 다른 다각형상의 패치가 이용될 수 있다. 다양한 리맵핑 알고리즘은 패치외형과 바람직한 리맵핑 종류에 의존해서 이용될 수 있다. 간단한 경우에서, 이상적인 패치는 사각형상(x0,y0 - x3,y3)로서 사면을 갖는 다각형(x'0,y'0-x'3,y'3)으로 왜곡될 수 있다. 각 패치는 동일하거나 유일한 맵핑함수를 갖는다. 이러한 경우에서, 각 포인트는 사각형상으로부터 비사가형상 패치로 변형된다. 선형굽어짐과 비뚤어짐 분석에서 하나의 맵핑함수는 x' = Ax +By + Cxy + D 및 y' = Ex + Fy + Gxy + H 가 될 수 있다. 네개의 방정식은 네개의 알려지지 않은 수로 쓰여질 수 있고 하나는 A, B, C, D 의 값이 될 수 있다. 또한, 하나는 E,F,G,H 를 위한 값이 될 수 있다. 몇몇 가정을 해법을 간단하게 하게 할 수 있다.
도9b 내지 도9d 에서 보는 바와 같이, 다수의 사각 패치를 위한 인접한 패치는 동일한 x 코디네이트를 갖는 한쌍의 좌표와 동일한 y 코디네이트를 갖는 한쌍의 좌표를 갖는다. 또한, 제1 패치의 x0, y0 오리진 좌표를 가정하는 경우 동일한 왜곡된 패치 x'0, y'0 이다. 현재 방정식은 직접적으로 해결될 수 있다. 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY)를 고려할 때, 패치 바운드리(BOUNDARIES) 상에 바이트 바운드리를 대체하는 것이 유용하다.
기본적인 원칙과 바람직한 실시예로서 도11을 참조하면, 컷팅시스템(11)은 기본적인 레이저컷터를 포함하며, 상기 레이저컷터는 캐나다 알버타 에드먼트 소재 의 라센트(LACENT)사의 라센트1000 모델로서 미국특허 제6,294,755호 에 포함되는 형상과 동작을 한다. 장치의 다양한 면은 미국특허 제6,294,755호 내에 포함되며, 상기 미국특허 제6,294,755호의 컷팅시스템은 ROFIN-SINAR 1000 와트의 실드된 레이저가 구비된다.
상기 LACENT 1000의 컷터 포지셔닝 시스템은 1/2 ㎜보다 나은 정확도를 갖는 1500㎜/second 이상의 속도에서 트레블링 가능하다. 상기 포지셔너 캐링 레이저 컷터는 포지셔너 모션 제어기(PMC 또는 PMAC)로 제어된다. 상기 컨베이어의 베드는 130 ㎜/second 이상의 속도로 트레블링하는 것이 가능하다. 상기 컨베이어(16) 컨베이어 모션 제어기(CMC)로 제어된다. 최종시트 메트리얼은 최대 2.4 미터의 폭을 갖고 1400 Kg 이상의 하중을 갖는 롤러에 일반적으로 제공된다.
도2a, 도2b 및 도12에 도시된 바와 같이, 컷팅시스템(11)은 2.6 미터의 효과적인 재료폭을 넘는 횡축으로 여섯개 좌표 이상의 대비검출이 가능한 카메라-베이스 비전시스템(12)을 구비한다. 상기 비전시스템은 약 0.65 미터 ×0.5 미터 영역을 커버링하는 네개의 카메라 배렬을 포함한다. 클러스터와 같은 네개의 카메라는 0.5 미터 길이에 의한 2.6미터 의 폭을 효과적으로 커버한다.
특별한 발라스티드 로우 메인터넌스(BALLASTED LOW MAINTENANCE) 형광등은 카메라와 플리커-프리 라이팅(FLICKER-FREE LIGHTING) 제공에 의한 비전프로세싱에 도움이 된다.
상기 시스템(12)은 연속적인 시트메트리얼(10)의 이동에 따라 2mm 보다 나은 정확도를 갖는 각 좌표 F 의 위치를 결정하지만 컷팅시스템의 컷팅 존으로 좌표를 단순히 바로 밑으로 하는 것은 필요하지 않다. 600 × 800 픽셀 해상도와 서로 얽히지 않는 60Hz 캡쳐 레이트를 갖는 소니와 같은 카메라(30)를 이용하여, 모션 블러(BLUR)는 1/12 인치(2mm) 보다 낫다. 바람직한 실시예에 구비되는 바와 같이, 130mm/second 에서 폭 이동 내의 2.6 미터 이상의 형상이 패턴의 10mm 심(SEAM) 허용범위 내에서 정확하게 트랙될 수 있는 것이 발견될 수 있다.
횡좌표 F 의 여섯개 세트는 130mm/second 이상 재료의 이동을 갖는 1/2 미터 마다의 이동이 프로세스 될 것이다. 이것은 "굽어짐과 비뚤어짐" 시나리오에 대한 보상을 위한 시스템을 허용하는 소정 형상 마다의 하나의 좌표 이상인 설비인 것이다. 예를 들어 LACENT 1000 컷팅시스템의 물리적인 크기의 제한에 의해서, 패턴은 길이에 있어서 3미터 이상이 될 것이다. 현재의 시스템을 이용한 시트메트리얼컷팅은 파브릭 웨이트 700g/m2 (20.7 oz)를 갖는 나일론 코팅된 실리콘을 포함한다.
상기 비전시스템은 메트리얼 내의 하나 또는 그 이상의 좌표의 코디네이트를 검출하고, 구별하거나 인식하고 구비할 수 있다. 6 개의 횡좌표 세트가 구비되는 바와 같이, 부분적인 세트는 비전시스템(12) 하에서 시트메트리얼(10)을 통과하는 것과 같이 검출될 수 있다. 상기 비전시스템(12)은 LACENT 1000 레이저 컷팅시스템으로부터 독립적으로 입력데이터를 프로세스한다. 상기 비전시스템은 시트메트리얼 내부 또는 상부의 크로스 헤어 좌표 F 를 검출한다. 시트메트리얼(10) 상부 좌표의 디스크리트 코디네이트는 컷팅시스템(11)의 코디네이트 시스템 내에 알려져 있다. 메트리얼이 비전시스템을 횡지름에 따라, 메트리얼 포지션 인디케이션은 간혹 리시브되고 매치된 좌표가 인식된다. 조작자의 편리함을 가중하기 위해, 시스템 엔코더는 비전시스템의 모니터링 윈도우에 나나타는 포지션 인디케이션을 제공하는 펜티엄 기반의 컴퓨터에 인터페이스된다. 48 비트 엔코더는 인치당 4000 펄스에서 광분리된 차동 0-5V 직각파를 제공할 수 있고, 5"/s 는 초당 20,000 펄스이다. 상기 좌표코디네이트는 컷팅프로그램에 인터페이스된 RS-422 시리얼 통신을 통해 디지털 스트링과 같이 통과된다. 타이밍 스트로브(STROBE)는 포지션과 코디네이트가 유효할 때에 지시하는 밀리초(MILLISECOND)에 정확한 동조를 하기 위해 제공된다.
라이팅(LIGHTING)과 카메라(30)는 업스트림 마운트되고 컷팅시스템(11)의 컷팅존에 인접한다. 상기 카메라 클러스터(30,30,30,30)으로부터의 이미지는 이미지 프로세싱 시스템에 의해 프로세스 된다. 상기 이미지 프로세싱 시스템은 펜티엄 기반의 컴퓨터과 같은 인터페이스를 통해 동작하도록 인터페이스한다. 상기 비전시스템 소프트웨어는 연속적인 재료모션과 초마다 130mm 이상의 연속적인 가변비율을 갖는 리얼타임 동작이 가능하다.
도13을 참조하면, 비전시스템의 카메라는 고정되고 주시하고 메트리얼이 통과할 때 시트메트리얼의 효과적인 폭을 응시한다. 상기 비전시스템은 RS-422 링크를 통한 비전시스템으로부터 좌표정보를 수신하는 비전실행부 또는 프로그램에 의해 제어되고 대기열(QUEUE) 내의 하나 또는 그 이상의 좌표를 관리한다. 각 좌표는 패턴의 디지털 템플리트에 대한 좌표정보를 매치하여 분석된다. 정보교환과 정 보협력을 통해, 상기 비전시스템과 컷팅시스템은 패턴외형을 리맵하고 포지셔너 PMC 및 컨베이어 CMC 온-더-플라이(ON-THE-FLY)를 알리기 위한 새로운 컷팅라인을 계산한다. 다중좌표는 시트메트리얼 내의 왜곡 검출을 가능하게 한다.
도14에 도시된 바와 같이, 비전시스템(12)은 카메라(30)와 비전실행부 또는 제어기(21)의 인터페이스를 통해 결합된 라이팅(31)을 포함한다. 상기 비전시스템(12)은 몇몇 관점에서 컷팅시스템(11)과 통신한다. 컷팅시스템의 엔코더와 엔코더 정보의 교정 또는 리세트를 수신 가능한 관계를 수신하고 유지하는 것; 좌표 코디네이트 정보를 제공하기 위한 컷팅시스템 제어기(22)를 갖는 통신. 상기 컷팅시스템은 메트리얼의 리얼-타임 이동 및 엔코더와 모션제어기를 통해 전체 코디네이트 시스템 내의 소정 형상을 제어하는 것을 유지한다. 상기 비전시스템(12)는 비주얼 백그라운드 노이즈로부터 좌표를 구별하고 서로 다른 좌표를 구비하도록 시트메트리얼의 기본특성을 알 수 있도록 튜닝될 수 있다.
소정 형상 S 의 알려진 패턴 P 는 컷팅라인의 리얼-타임 최적화를 수행하고 패턴의 코디네이트의 변형과 회전을 수행하기 위한 적합한 프로그램을 동작하는 컴퓨터시스템 내의 메모리 내에 저장된다. 상기 패턴은 일반적으로 오리진에 관련된 벡터파일로서 AUTOCAD 도면 또는 DXF(DRAWING EXCHANGE FORMAT)를 예로 들수 있다. 상기 비전시스템 캡쳐와 이미지분석은 적어도 하나의 카메라에 의해 실행된다. 상기 카메라는 검출분석을 수행하는 컴퓨터시스템에 연결된다. 상기 카메라(30)의 코디네이트는 레이저컷팅시스템(11)의 코디네이트에 관계하는 프레임 내에 있다. 따라서, 구비된 좌표 F 는 컷팅시스템(11)의 컷터(13)의 코디네이트 시스템 내에 알려져 있다.
따라서, 컷팅시스템(11)은 시트메트리얼(10)의 연속적인 스트림 내의 소정 형상이 이미 구비된 컷팅이고, 상기 비전시스템(12)은 다음 형상 S의 기준 코디네이트를 연속적으로 결정한다. 각각의 시간에서 형상이 비전시스템 아래를 통과하고 컷팅시스템은 접근 형상의 전체코디네이트를 위해 업데이트된다.
이러한 바람직한 실시예는 이하의 제1 동작 전에 일반적으로 캘리브레이트된다. 연산자는 먼저 비전시스템으로 시트메트리얼을 진행하고 제1 좌표의 위치 또는 인식된 오리진 마크를 확인하고, 미스(MISS) 또는 기대하지 않은 좌표로 인한 오차핸들링 또는 연산자 교차는 제1예에서 필요하게 된다. 상기 연산자를 캘리브레이션 오리진과 같은 좌표의 식별된 코디네이트를 승인한다. 상기 컨베이어 및 시트메트리얼은 컷터(13)를 갖는 오리진을 얼라인 하도록 컷팅시스템(11)으로 진행된다. 상기 시스템은 "패턴"을 식별하고 ACAD DXF 형태 내의 CA CUPERTINO AUTODESK 로부터 이용할 수 있는 CAD 프로그램인 AUTOCAD 로부터 출력되는 것과 같은 CAD 파일 내에 편리하게 저장되는 좌표정보를 설명한다. 프로그램 "LINC"은 알려진 패턴 외형으로부터 프로세스하는데 이용되고 부가하여 DXF 파일로부터 패턴과 좌표정보를 가져온다; 패턴좌표위치를 내보낸다; 모든 컷팅라인 벡터와 관련된 패턴정보를 내보낸다; 각 패턴에 대한 재료형태를 받아 들인다; 그리고 PMAC 및 CMC 로 오프셋 교정 코드를 삽입한다.
관리모션제어기는 재료 내의 소정 형상을 알고 있는 본 발명의 장치와 방법에 적용되는 메트리얼 또는 비전모드에 관련되지 않고 패턴컷팅을 적용하도록 하는 종래기술 모드 내에서 작동한다. 비전모드에서 모션제어기는 이하의 과정을 포함하는 많은 작동과정의 관점에서 관리된다; 비전시스템 오프셋 트랙킹하는 단계; 이용할 메트리얼 종류의 프로파일의 비전시스템을 인스트럭트하는 단계; 비전시스템으로부터 불필요한 좌표를 받는 단계; 패턴의 디지털 템플리트에 좌표를 연속적으로 매치하는 단계; 각 패턴을 리맵하거나 조절하는 단계 또는 PMAC 에 리맵핑된 패턴을 다운로드하는 단계; PMAC에 다운로드하기 위해 조절된 마커 길이를 계산하는 단계; 제1 경우에서 마커 오리진을 지시하거나 좌표맵을 생산한 오차상에서 마커 오리진을 지시하는 연산자를 허용하는 단계 및 다양한 연산자 피드백 특성을 허가하는 단계;
상술한 바와 SAWATZKY 등의 미국특허 제6,294,755호 에 매우 상세하게 설명된 바와 같이 증가된 처리량은 높은 속도와 가속하는 것을 포함하는 도구의 이동의 최적화를 통해 얻어지고 툴에 대한 X-Y 포지셔너는 높은 가속과 정확한 이동을 가능하게 할 것이다.
패턴 P의 일부는 일반적으로 네스트(NEST)쪽으로 이미 프리피트(PRE-FITTED)된다. 상기 네스트(NEST)는 메트리얼 낭비를 최소화하도록 수집과 그룹 내의 다수 형상의 레이아웃이다. 바이트 길이 또는 폭은 기계의 의존과 일반적으로 네스트 길이 보다 짧은것을 결정한다. 패턴 P의 종축길이 또는 네스트는 컷팅시스템(11)의 컷팅존 내에 적당하지 않기 때문에 바이트를 계산하는 것이 필요하다. 바이트는 시스템(11)의 컷팅존의 종축 길의 1/2 길이이다. 예를 들어 컷팅존 내의 a44 는 바이트 내의 a22를 제공한다.
디지털 모션제어기 및 컴퓨터는 컷팅시스템의 X1, X2 및 Y 포지셔너의 엔코더 및 컨베이어 이동정보를 프로세스한다. 상기 컴퓨터는 패턴정보를 프로세스하고 PMC 와 CMC 로 이동하는 최적화된 컷팅 이동의 출력을 프로세스한다. 상기 모션제어기는 포지셔너에 대한 리니어 모터를 구동하는 명력을 출력하고 컨베이어의 속도와 X-Y 포지셔너 상의 레이저 노즐(13)의 모션을 코디네이트하는 컨베이어에 대한 구동을 한다. 프로세스는 시트메트리얼(10) 위로 레이저 노즐의 이동을 최적화하고 패턴외형을 얻는다.
전체적으로 도15의 순서도를 참조하면서 패턴 P 의 외형 또는 리맵핑된 패턴 이후 수신된다.
(a) 블록(118)에서, 외형은 컷팅존(11) 내의 적합한 기계 종속 바이트로 구성된다;
(b) 블록(120)에서, 바이트의 교차 폭의 컷팅순차가 최적화된다. 이러한 결과로서 외형은 건조량에 으해 분리된 일련의 연속적인 컷팅으로 확립된다.
(c) 블록(123)에서, 연속적인 컷팅의 외형은 새로운 이동을 형성하는 다수의 비탄젠트(NON-TANGENT) 교차점을 최소화하여 다수의 이산적인 이동으로 최적화되고, 연속적인 컷팅 내에서 불필요한 정지와 이동 동작을 최소화한다.
(d) 블록(126)에서, 포지셔너 모션 프로파일은 시스템 제한이 인식되고 있는 동안에 각 이산적인 이동의 속도프로파일을 최적화하여 결정한다. 곡선화된 이동은 일반적으로 이동 또는 커브로서 나타난다.
(e) 블록(127)에서, 컨베이어 모션은 구분적인 연속, 속도가 지속되는 동안 최적화되고 오히려 바이트와 속도는 네거티브가 되지 않는다.
결과적으로 외형은 저장되고 최적화된 이동은 모션제어기 CMC, 컨베이어(16)를 운용하기 위한 PMC 및 실시예의 소정 형상 S 위로 겹쳐지는 패턴 P 를 컷팅하기 위한 포지셔너를 통해 보내진다.
최적화에 관하여 다음 이동을 살펴보면 레이저 노즐의 이동을 최적화할 수 있다. 이러한 "LOOK AHEAD " 의 목적 프로세스는, 상세화된 최대 가속과 속력 또는 외부 입체오차의 드리프팅(DRIFTING)을 초과하는 것을 회피하는 동안에 임의의 외형 또는 패턴 P에 필요되는 시간을 최소화한다.
참고로, 여기에서 개시되는 실시예는 여러가지 실시 가능한 예 중에서 당업자의 이해를 돕기 위하여 가장 바람직한 실시예를 선정하여 제시한 것일 뿐, 본 발명의 기술적 사상이 반드시 이 실시예에만 의해서 한정되거나 제한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 다양한 변화와 부가 및 변경이 가능함은 물론, 균등한 타의 실시예가 가능함을 밝혀 둔다.

Claims (25)

  1. 패턴 내의 예정 코디네이트에 따라 예정된 외형을 갖는 패턴과 적어도 하나의 좌표(F,F2)에서 적어도 하나의 좌표를 갖는 적어도 하나의 소정 형상(S)를 시트메트리얼 내에서 컷팅하는 방법에 있어서,
    시트메트리얼(10)이 비전시스템(12) 및 컷팅시스템(11)으로 이동하는 동안 비전시스템(12)의 적어도 하나의 형상(S)과 일치하는 하나 또는 그 이상의 좌표(F,F2)의 전체적인 코디네이트를 정하는 단계와;
    이동중인 시트메트리얼(10) 내에 적어도 하나의 일련의 형상(S)을 위한 일련의 하나 또는 그 이상의 좌표(F,F2)의 전체적인 코디네이트를 정함과 동시에 패턴(P)가 정해진 하나 또는 그 이상의 좌표(F,F2)에 상대적으로 겹쳐지고 정해진 형상(S)를 위해 패턴(P)를 컷팅하는 단계와;
    적어도 하나의 일련의 형상(S)를 위한 일련의 하나 또는 그 이상의 좌표(F,F2)의 전체적인 코디네이트를 정함과 동시에 정해진 형상(S)를 컷팅하는 프로세싱을 연속적으로 반복하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 비전시스템(12)과 컷팅시스템(11)은 고정되고 시트메트리얼은 비전시스템을 연속적으로 통과하고 컷팅시스템을 통과하도록 이동하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 시트메트리얼(10)과 비전 및 컷팅시스템(11,12)의 상대적인 움직임의 측정을 수립하는 단계 및 상대적인 움직임을 측정을 인지하는 비전시스템과 컷팅시스템 사이에 적어도 하나의 좌표(F)의 움직임을 트랙킹하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    적어도 하나의 소정 형상은 적어도 하나의 좌표와 결합되는 다수의 형상(S)인 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    각각의 적어도 하나의 소정 형상(S)은 적어도 하나의 좌표(F)와 결합되는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    제1좌표와 적어도 제2좌표를 포함하는 적어도 하나의 좌표(F)는, 패턴(P)과 소정 형상의 왜곡을 수립하도록 제1 좌표에 상대적인 적어도 제2좌표의 전체적인 코디네이트와를 비교하는 단계와;
    상기 시트메트리얼을 컷팅하도록 리맵핑(REMAPPED)된 패턴을 겹치기 전에 적어도 하나의 소정 형상의 왜곡에 대해서 교정하도록 패턴을 리맵핑(REMAPPING)하는 단계;를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 리맵핑(REMAPPING)은 패턴(P) 또는 패턴의 일부의 전체에 적용되는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서,
    상기 패턴(P)의 리맵핑(REMAPPING)은 스트래칭, 로테이션의 그룹 또는 로테이션과 스트레칭의 그룹으로 선택된 소정 형상(S)의 왜곡을 교정하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    모션프로파일을 갖는 컷팅시스템의 컷터를 제어하는 단계와;
    패턴에 대한 모션프로파일을 예정하는 단계와; 및
    시트메트리얼을 컷팅하기 위해 겹쳐서 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 적용하기 전에 리맵핑(REMAPPING)된 패턴에 따라 모션프로파일을 변경하는 단계를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    패턴에 대한 컷팅 라인경로를 예정하는 단계와;
    상기 리맵핑(REMAPPING)된 패턴에 대한 예정된 컷팅경로를 변경하는 단계; 및
    시트메트리얼을 컷팅하기 위해 겹쳐서 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 적용하기 전에 리맵핑(REMAPPING)된 패턴에 따라 모션프로파일을 변경하는 단계;를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    플래그좌표와 결합하는 적어도 패턴의 일부 내에서 표시의 변화에 따라 적어도 하나의 좌표로부터 플래그좌표를 확인하는 단계;
    패턴내의 변화되는 컷팅라인경로를 변경하는 단계와; 및
    시트메트리얼을 컷팅하기 위해 겹쳐서 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 적용하기 전에 변경된 컷팅경로에 따라 모션프로파일을 변경하는 단계;를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 플래그좌표는 하나 또는 그 이상의 소정 형상 중에 하나 내의 표시선이고, 상기 패턴은 선이 그어진 소정 형상을 생략하도록 변화되는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  13. 제6항에 있어서,
    n=1 또는 그 이상일 때, 적어도 세개의 좌표중에 적어도 하나의 좌표는 2 + 1n 의 관계에 따라 소정 형상에 구비됨과 동시에 삼각경로를 형성하는 각 세개의 좌표는,
    기준좌표로서 적어도 하나의 좌표중에 하나를 수립하는 단계와;
    패턴과 소정 형상 내의 삼각경로의 왜곡을 수립하도록 기준좌표에 상대적인 삼각경로 내의 각 세개 좌표의 전체적인 코디네이트와를 비교하는 단계; 및
    시트메트리얼을 컷팅하기 위해 겹쳐서 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 적용하기 전에 왜곡에 대한 패턴을 교정하도록 삼각경로에 대응하는 패턴을 리맵핑(REMAPPING)하는 단계;를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  14. 제6항에 있어서,
    n=1 또는 그 이상일 때, 적어도 네개의 좌표중에 적어도 하나의 좌표는 2 + 2n 의 관계에 따라 소정 형상에 구비됨과 동시에 삼각경로를 형성하는 각 네개의 좌표는,
    기준좌표로서 적어도 하나의 좌표 중에 하나의 좌표를 수립하는 단계와;
    패턴과 소정 형상 내의 삼각경로의 왜곡을 수립하도록 기준좌표에 상대적인 삼각경로 내의 각 네개 좌표의 전체적인 코디네이트와를 비교하는 단계; 및
    시트메트리얼을 컷팅하기 위해 겹쳐서 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 적용하기 전에 왜곡에 대한 패턴을 교정하도록 삼각경로에 대응하는 패턴을 리맵핑(REMAPPING)하는 단계; 를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 소정 형상은 시트메트리얼 내에서 맞추어지는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 비전시스템(12)은 하나 또는 그 이상의 카메라를 포함하고, 적어도 하나의 기준을 구비하는 하나 또는 그 이상의 카메라를 갖는 시트메트리얼의 폭을 응시하는 단계를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 폭은 상기 시트메트리얼 횡축 폭의 부분으로서 하나 또는 그 이상의 잉여영역인 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  18. 제16항에 있어서,
    적어도 하나의 기준과 시트메트리얼 사이의 대조에서 변화를 검출하는 단계를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 컷팅시스템(11)은 시트메트리얼에서 컷팅되는 적어도 하나의 소정 형상의 외형패턴을 저장하는 제어기(22) 및 전체 코디네이트 내에 알려진 컷팅존을 포함하며,
    부가하여 시트메트리얼을 주시하기 위한 컷팅시스템의 알려진 전체 코디네이트 업스트림에서 비전시스템을 포지셔닝하는 단계와;
    전체 코디네이트에서 적어도 하나의 좌표를 구비하기 위해 연속적으로 비전시스템을 통과하는 시트메트리얼을 이동하는 단계와;
    상기 비전시스템이 전체 코디네이트 내에서 연달아 일어나는 적어도 하나의 좌표를 동시 검출하는 동안에, 컷팅시스템을 연속적으로 통과하는 시트메트리얼을 이동하는 단계와;
    구비된 적어도 하나의 좌표 중의 하나에서 전체 코디네이트는 소정 형상을 갖는 겹쳐진 패턴을 정확히 컷팅하도록 하는 컷팅존 내에 있는 제어기가 결정할 때 패턴을 컷팅하는 단계와; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼 내의 적어도 하나의 소정 형상을 컷팅하는 방법.
  20. 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치는,
    상기 시트메트리얼(10) 내의 패턴(P)을 컷팅하고 전체 코디네이트 내에 알려진 컷-온-더-플라이(CUT-ON-THE-FLY) 컷팅시스템(11)과;
    패턴(P) 내의 예정된 코디네이트와 일치하는 시트메트리얼(10) 내의 적어도 하나의 좌표(F,F2)의 전체 코디네이트를 구비하는 비전시스템(12)과;
    시트메트리얼(10)과 비전 및 커팅시스템 사이에서 연속적으로 이동하도록 하는 효과를 위한 구조(16,11,12)와;
    전체 코디네이트 내의 상기 상대적인 이동의 측정을 수립하기 위한 수단(22,16); 및
    구비된 적어도 제1 좌표(F, F2)와 패턴(P)이 겹쳐지도록 하기 위한 제어기(22)를 포함하며, 상기 컷팅시스템(11)은, 상기 비전시스템(12)이 시트메트리얼(10) 내의 연속적인 적어도 하나의 좌표(F,F2)의 전체적인 코디네이트를 구비하는 동안에 동시에 소정 형상(S)을 위한 패턴(P)을 컷트하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 비전시스템과 상기 컷팅시스템은 전체 코디네이트 내에 고정되고, 상대적인 이동을 효과적으로 하기 위한 상기 구조(16,11,12)는 상기 비전시스템에서 상기 컷팅시스템으로 연속적으로 시트메트리얼을 이동하기 위한 컨베이어를 부가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)를 컷팅하기 위한 장치.
  22. 제20항 또는 제21항에 있어서,
    상기 상대적인 이동의 측정을 수립하기 위한 수단은 시트메트리얼의 전체 코디네이트 내의 트랙킹 이동을 위한 장치를 부가하여 포함하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치.
  23. 제20항에 있어서,
    상기 제어기는 소정 형상 내의 왜곡을 식별하기 위한 패턴을 갖는 하나 또는 그 이상의 좌표에 구비되는 적어도 두 개의 좌표에 대해 패턴과 전체 코디네이트를 비교하고, 시트메트리얼를 컷팅하기 위해 리맵핑(REMAPPING)된 패턴을 겹치기 전에 소정 형상의 왜곡에 대하여 패턴을 교정하도록 패턴을 리맵(REMAP)하는 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치.
  24. 제20항에 있어서,
    상기 비전시스템은 상기 시트메트리얼 폭을 응시하기 위해 구비되는 하나 또는 그 이상의 카메라인 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치.
  25. 제20항에 있어서,
    상기 컷-온-더-플라이 비전시스템은 레이저 컷팅시스템인 것을 특징으로 하는 시트메트리얼(10) 내의 소정 형상(S)을 컷팅하기 위한 장치.
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