KR100781942B1 - 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트 - Google Patents

Abstract

본 발명은 대면적의 유리기판을 배치식으로 공정처리하기 위한 평판표시장치의 제조장치에 적용되도록 유리기판을 면상으로 지지하는 홀더를 갖는 평판표시장치의 열처리용 배치식 보트를 제공한다.

이를 위한 본 발명은 다수의 유리기판이 탑재되기 위한 배치식의 보트프레임과 이 보트프레임에 형성되어 유리기판을 탑재하기 위한 보트핑거 및 이 보트핑거에 안착되어 유리기판 저부를 면상으로 지지하기 위한 평면을 갖는 홀더가 포함되어 이루어진다. 이때, 지지구조물을 제공하는 보강리브를 평판형 홀더 하부에 일체로 마련하여 홀더의 체적을 감소시키고, 아울러 보강리브는 이것을 이루는 표면적이 홀더전체에 대하여는 표면적을 확장시키는 열교환핀의 역할을 수행토록 하여 냉각을 신속하게 수행하도록 한 것이다. 더 나아가, 보강리브가 제공하는 홈부는 보트핑거와 엔드이펙터가 삽입되는 공간을 제공하여, 엔드이펙터의 작업공간과 보트핑거로의 적층공간(두께)를 홀더가 포함하도록 하여 배치방식에서 피치를 감소시키도록 한 것이다.

이러한 보트장치 및 홀더를 통해 유리기판의 배치식 처리가 수행되고, 또한 배치방식의 유리기판 열처리에 있어서, 가열/냉각속도가 신속하고 컴팩트한 배치가 가능하게 되어 생산성이 확보되는 것이다.

Description

평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트{Batch Type Boat for Display Panel Manufacturing System}

도 1 은 본 발명에 따른 평판표시장치 제조시스템에 적용되는 배치식 보트를 나타낸 개념설명도,

도 2 는 일실시예로서 본 발명에 따른 배치식 보트에 적용되는 유리기판의 홀더를 나타낸 사시설명도,

도 3 은 일실시예인 상기 홀더의 평면설명도,

도 4 는 다른 실시예로서 본 발명에 따른 유리기판의 홀더를 나타낸 사시설명도 및 이 홀더가 탑재된 보트를 나타낸 측단면 설명도,

도 5 는 다른 실시예인 상기 홀더의 평면설명도,

도 6 은 종래 매엽식 평판표시장치 제조시스템 및 여기에 보트를 나타낸 개념설명도이다.

- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 -

2 - 보트프레임, 4 - 보트핑거,

6 - 홀더, 8 - 보트,

10 - 기판지지평판부, 12 - 보강리브부,

14 - 열교환부, 16 - 엔드이펙터 거치홈,

18 - 종프레임, 20 - 내부횡프레임,

22 - 외곽횡프레임, 24 - 보트핑거 거치홈,

26 - 엔드이펙터 거치홈, 100 - 유리기판,

101 - 엔드이펙터, 107 - 승강장치.

본 발명은 대면적의 유리기판을 배치식으로 공정처리하기 위한 평판표시장치의 제조장치에 적용되도록 유리기판을 면상으로 지지하는 홀더를 갖는 평판표시장치의 열처리용 배치식 보트에 관한 것이고, 이때, 다수의 유리기판을 동시에 처리하는 배치방식의 열처리에서 유리기판을 왜곡/변형 없이 공정처리하기 위한 구조적인 강도가 확보되면서 그 무게와 체적이 감소되며, 표면적은 증가되어 열처리 전/후 가열/냉각속도가 신속하고, 피치간격을 최소화하여 생산성을 향상시키는 홀더가 배치식 보트에 장착된 것이다.

주지된 바와 같이 근래에 들어 디스플레이 소자로서 가장 널리 사용되는 평판표시소자로는 액정을 이용한 LCD(Liquid Crystal Display) 소자, 플라즈마를 이용한 평판소자(PDP:Plasma Display Panel), 유기EL(Organic Eletroluminecent Display) 등을 들 수 있다.

상기 LCD는 CRT와는 달리 자기발광성이 없어 후광이 필요하지만 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고, 무게와 부피 면에서 휴대용으로 쓰일 수 있어 널리 쓰이는 평판 디스플레이이며, PDP와 유기EL 은 자체발광으로 차세대 평판표시장치라 할 수 있다.

이러한 평판표시에 있어서 천연색을 구현하기 위해 적, 녹, 청을 구성하는데 수동형 매트릭스와 능동형 매트릭스가 적용되며, 이 중 능동 매트릭스(active matrix) 방식은 각 화소마다 적,녹,청색 신호를 처리할 수 있는 3개의 트랜지스터를 사용함으로써 선명한 색상을 얻으며, TFT(Thin Film Transister) 구동이 대표적이다.

이러한 이유에서 평판표시장치의 제조공정에 있어서는, 유리기판의 표면에 상기 트랜지스터를 형성하기 위하여 반도체 제조공정의 경우와 마찬가지로 다수의 열처리 공정을 포함하고 있다.

그 일례로서 예시도면 도 6 은 예를 들어 열처리가 수행되는 공정으로서, LCD 유리기판의 화학기상증착장치를 나타낸 평면 및 측면개념도로서, 도시된 것은 하나의 유리기판에 대하여 순차적으로 증착을 수행하는 매엽식의 화학기상증착장치로서, 수직형의 핫월형 반응챔버를 취하고 있는 것을 나타내고 있다.

이러한 화학기상증착장치는 크게 3가지 부분으로 구분될 수 있으며, 이는 열처리환경을 조성하기 위한 반응챔버와, 이 반응챔버로 공정처리를 위해 소스가스를 공급하기 위한 장치와, 환경의 청정도를 유지함과 더불어 독성가스가 발생됨에 의해 밀폐된 환경에서 상기 반응챔버로 기판을 탑재하여 투입하기 위한 이송장치로 구분된다.

즉, 유리기판(100)이 대기되는 스테이지와 이 스테이지로부터 유리기판을 이 송하기 위한 이송수단으로서 로봇아암(엔드이펙터,101)이 배치된다.

그리고, 저압의 공정처리가 수행될 경우, 상기 이송장치는 격리된 공간으로 구분되어, 로드락 시스템을 갖출 수 있으며, 이 경우 각 공간은 이송실(103)과 대기챔버(105)로서 로드락챔버로 구분되고, 게이트(106)가 장착된다.

한편, 대기챔버(105)에는 보트의 이송을 위한 승강장치(107)가 구비되며, 이것은 승강레일과 구동장치를 포함하며, 구동장치는 보트(104)의 하부에 반응챔버의 열전달 구역을 회피하여 구비된다.

또한, 상기 보트(104)에는 평판형의 홀더(102)가 장착되며, 이것은 열처리 공정 중 유리기판의 휨 등을 방지하고 유리기판의 평편도를 유지하기 위하여 기판 저면 전체를 지지하기 위함이다.

한편, 반응챔버(108)에는 반응가스의 열분해를 위한 히팅장치(109)가 설치되며, 소스가스의 투입 및 회수를 위한 투입노즐(110)과 배기노즐(111)이 연결된다.

이때, 유리기판(100)으로의 실리콘 증착을 위한 소스가스 공급시스템은 소스파우더를 증발용기(112)에 충진시키고 히터를 통해 가열 증발시키며, 증발용기에 캐리어가스를 공급하여 반응챔버로 소스가스가 투입되고, 반응챔버는 저압환경이 조성될 수 있다.

이러한 평판표시장치의 제조시스템에서 문제가 되는 것은 종래에 제시되고 있는 열처리 방법이나 이에 따른 시스템들은 유리기판을 개별적으로 처리하는 매엽식이며, 이것은 하나의 열처리 반응챔버에 하나의 유리기판을 투입하여 열처리를 진행하고 있는데, 이때 열처리 시간이 과도하게 소요되는 경우, 생산성을 확보하기 어렵게 된다는 것이다.

따라서, 대량생산을 위하여는 상기 매엽식의 열처리장치를 하나의 유닛으로 대량으로 배치시켜야 하는 것이며, 이를 수행하기 위한 물리적 공간의 확보와 장치의 투입은 생산성 확보에 바람직하지 못한 요인인 것이다.

한편, 이러한 문제점을 개선하기 위하여 다수의 기판을 보트에 적층시켜 처리하는 배치식 방식을 고려할 수 있는데, 이 경우 단순 슬릿이 사용되는 배치식 보트가 그대로 적용될 수 없으며, 제조장치 전반에 걸쳐 해결되어야할 문제점들이 발생된다.

일반적으로, 반도체 제조공정에서 배치식의 처리는 수직형의 보트에 다수의 슬릿을 형성하고 여기에 기판을 끼워넣어 열처리를 수행하게 되는데, 이러한 배치식의 장치를 유리기판에 그대로 적용할 수 없으며, 이는 유리기판이 이것의 융점온도 미만이더라도 장시간의 고온환경에 노출될 경우 휘어지거나 변형되며, 특히 대면적의 유리기판인 경우 더욱 심하기 때문이다.

이에 본 발명은 상기 문제점을 개선하기 위하여 안출된 것으로, 대면적의 유리기판을 배치식으로 공정처리하기 위한 평판표시장치의 제조장치에 적용되도록 유리기판을 면상으로 지지하는 홀더를 갖는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트를 제공함에 그 목적이 있다.

아울러, 이러한 배치방식의 열처리에서 유리기판을 지지하기 위한 구조적인 강도가 확보되면서 그 무게와 체적이 감소되며 표면적은 증가되어 열처리 전/후 가 열/냉각속도가 신속하여 공정시간을 단축함으로써 생산성을 향상시키는 평판표시장치의 유리기판 열처리용 홀더를 제공한다.

더 나아가, 배치방식의 열처리에서 피치간격을 최소화하여 열처리 생산성을 향상시키는 평판표시장치의 유리기판 열처리용 홀더를 제공한다.

이를 위한 본 발명은 다수의 유리기판이 탑재되기 위한 배치식의 보트와 이 보트에 형성되어 유리기판을 탑재하기 위한 보트핑거 및 이 보트핑거에 안착되어 유리기판 저부를 면상으로 지지하기 위한 평면을 갖는 홀더가 포함되어 이루어진다.

또한 지지구조물을 제공하는 보강리브를 평판형 홀더 하부에 일체로 마련하여 홀더의 체적을 감소시키고, 아울러 보강리브는 이것을 이루는 표면적이 홀더전체에 대하여는 표면적을 확장시키는 열교환핀의 역할을 수행토록 하여 냉각을 신속하게 수행하도록 한 것이다.

또한, 보강리브가 제공하는 홈부는 보트핑거와 엔드이펙터가 삽입되는 공간을 제공하여, 엔드이펙터의 작업공간과 보트핑거로의 적층공간(두께)를 홀더가 포함하도록 하여 배치방식에서 피치를 감소시키도록 한 것이다.

이러한 보트장치 및 홀더를 통해 유리기판의 배치식 처리가 수행되고, 또한 배치방식의 유리기판 열처리에 있어서, 가열/냉각속도가 신속하고 컴팩트한 배치가 가능하게 되어 생산성이 확보되는 것이다.

이하, 이 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자가 이 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 이 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명하기로 한다. 이 발명의 목적, 작용효과를 포함하여 기타 다른 목적들, 특징점들, 그리고 동작상의 이점들이 바람직한 실시예의 설명에 의해 보다 명확해질 것이다.

참고로 여기에서 개시되는 실시예는 여러가지 실시가능한 예중에서 당업자의 이해를 돕기 위하여 가장 바람직한 예를 선정하여 제시한 것으로, 이 발명의 기술적 사상이 반드시 이 실시예만 의해서 한정되거나 제한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 다양한 변화와 변경이 가능함은 물론, 균등한 타의 실시예가 가능한 것이다.

예시도면 도 1 은 본 발명에 따른 평판표시장치 제조시스템에 적용되는 배치식 보트를 나타낸 개념설명도이고, 예시도면 도 2 는 일실시 예로서, 본 발명에 따른 평판표시장치 유리기판의 홀더를 나타낸 사시설명도 및 이 홀더가 탑재된 보트를 나타낸 측단면 설명도이고, 예시도면 도 3 은 상기 홀더의 평면설명도와 측단면 확대설명도이다.

한편, 예시도면 도 4 는 다른 실시예로서, 본 발명에 따른 평판표시장치 유리기판의 홀더를 나타낸 사시설명도 및 이 홀더가 탑재된 보트를 나타낸 측단면 설명도이고, 예시도면 도 5 는 상기 홀더의 평면설명도와 측단면 확대설명도이다.

본 발명은 도 1 에서와 같이, 다수의 유리기판(100)을 내부에 상하로 탑재하기 위한 탑재공간을 갖는 배치식의 보트프레임(2) 마련되어 여기에 상기 상하 탑재에 따라 보트핑거(4)가 내측으로 돌출되어 형성되고, 이 보트핑거(4)에 유리기 판(100) 저부를 면상으로 지지하기 위한 평면을 갖는 홀더(6)가 탑재되어 이루어지는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트이다.

상기 홀더(6)는 발전되어 도 2 내지 도 5 에서와 같이, 유리기판(100) 저부에 접촉되는 평면을 갖는 기판지지평판부(10)와, 이 기판지지평판부(10)의 저부에 형성되며 상기 기판지지평판부(10)를 지지하도록 횡프레임과 종프레임이 일체로 형성되어 이루어진 보강리브부(12)로 이루어진다.

그리고, 상기 보강리브부(12)는 이것이 마련하는 상기 기판지지평판부(10) 하부로의 표면적 증가에 의해 가열과 냉각속도를 증가시키는 열교환부(14)인 것을 특징으로 한다.

이러한 홀더(6)는 상기 보강리브부(12)에 의해 각 실시예로 구분되며, 일실시예로서 도 2 및 도 3 과 같이, 보강리브부(12)는 엔드이펙터(101)의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈(16)이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임(18)이 형성되고, 이에 일체로 종프레임(18)을 내측방향으로 결속시키는 내부횡프레임(20)과 상기 종프레임(18) 외측으로 기판지지평판부(10)의 하부를 지지하는 외곽횡프레임(22)이 형성되며, 상기 외곽횡프레임(22)은 보트핑거(4)가 삽입되는 보트핑거 거치홈(24)이 형성되면서 이를 사이에 두고 이웃되게 형성된 것을 특징으로 한다.

다른 실시예로서 도 4 및 도 5 와 같이, 상기 보강리브부(12)는 엔드이펙터(101)의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈(16)이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임(18)이 형성되고, 이에 일체로 종프레임(18)을 내측방향 으로 결속시키는 내부횡프레임(20)과 상기 종프레임 외측으로 기판지지평판부(10)의 하부를 지지하는 외곽횡프레임(22)이 형성되며, 상기 외곽횡프레임(22)은 엔드이펙터(101)의 로딩/언로딩 작업공간에서 보트핑거와 간섭되는 영역을 제외하여 형성되어, 상기 외곽횡프레임(22)과 종프레임(18)이 형성하는 기판지지평판부(10) 저부의 홈부가 엔드이펙터 작업수용부(26)로 형성된 것을 특징으로 한다.

상기 엔드이펙터 작업수용부(26)는 엔드이펙터(101)의 작업공간과 보트핑거(4)의 두께를 홀더(100)가 수용하여 배치식 보트에서 유리기판(100)의 적층간격(피치)을 보다 컴팩트하게 배치시키게 된다.

상술된 바와 같이, 본 발명에 따른 배치식 보트는 다수의 유리기판(100)을 내부에 상하로 탑재하기 위한 탑재공간을 갖는 배치식의 보트프레임(2) 마련되어 여기에 상기 상하 탑재에 따라 보트핑거(4)가 내측으로 돌출되어 형성되고, 이 보트핑거(4)에 유리기판(100) 저부를 면상으로 지지하기 위한 평면을 갖는 홀더(6)가 탑재되어 이루어진다.

구체적으로, 예시도면 도 1 은 유리기판을 공정처리하기 위한 장치를 나타낸 설명도로서, 도시된 것은 다수의 유리기판을 공정처리하기 위한 배치방식의 보트장치가 적용된 평판표시기판 제조시스템의 일부를 나타내고 있다.

이러한 장치는 종래와 마찬가지로 청정도를 유지하기 위한 격리된 공간으로 구분되어, 유리기판(100)이 대기되는 스테이지(미도시)가 마련되며, 이로부터 엔드이펙터(101)가 유리기판을 보트(8)로 로딩/언로딩하게 된다.

그리고, 열처리를 위한 반응챔버(미도시) 수직형임에 따라 보트(8)의 이송을 위한 승강장치(107)가 대기실에 구비된다. 상기 제조시스템에서 반응챔버(미도시)에는 종래와 동일한 맥락으로 설치되고, 다만 본 발명의 배치식 보트(8)가 적용되는 공정공간을 갖는 용적으로 형성된다.

이에 따라, 반응챔버에는 반응가스의 열분해를 위한 히팅장치(미도시)가 설치되며, 소스가스의 투입 및 회수를 위한 투입노즐(미도시)과 배기노즐(미도시)이 연결된다.

상기 보트(8)에는 평판형의 홀더(6)가 유리기판(100)과 함께 탑재되며, 이것은 열처리 공정 중 유리기판의 휨 등을 방지하고 유리기판의 평편도를 유지하기 위하여 기판 저면 전체를 지지하기 위함이다.

상기 보트는 여기로 홀더(6)를 로딩/언로딩 시키기 위해 기둥형의 보트프레임(2)이 구비되고, 이 보트프레임(2)에 보트핑거(4))가 돌출되어 홀더(6)가 거치된다. 이러한 홀더(6)로의 유리기판(100) 로딩/언로딩을 위하여는 별도의 엑스트라 스테이지(미도시)를 사용하여 이를 다시 분리하게 된다.

엑스트라 스테이지는 예를 들어, 상기 홀더(6)에 핀홀을 다수 형성시키고, 엑스트라 스테이지에 상기 핀홀에 관통되는 핀을 두어 홀더(6)에 핀이 관통되면서 홀더(6)와 유리기판(100)이 분리되며, 이러한 분리된 유리기판을 엔드이펙터가 이송시키게 된다.

이러한 보트(8)를 통해 다량의 유리기판(100)이 공정처리되며, 특히 열처리과정에서 평판형의 홀더(6)는 유리기판(100)을 면상으로 지지하여 공정처리 중에 유리기판(100)의 평면이 변형되는 것을 방지하게 된다.

이때, 홀더(6)는 열처리 공정에서 유리기판(100)을 지지하기 위한 강도가 확보되어야 하며, 이에 따른 구조적인 두께를 가지게 된다. 이러한 홀더(6)의 두께는 유리기판(100)이 대면적으로 발전됨에 따라 두꺼워질 것이다.

한편, 반응챔버에서의 열처리 과정 중에 홀더(6) 역시 가열되며, 홀더를 가열/냉각시키는 대기시간은 공정시간에 포함되어 있어, 홀더가 두꺼울수록 가열/냉각속도가 더디게 되고 공정시간 역시 증가될 수 있다.

즉, 홀더(6)의 두께 증가에 의한 가열/냉각의 지연은 공정시간을 지연시키게 되는 것이며, 상기 유리기판(100)의 공정처리는 다수의 열처리 공정이 포함됨을 감안할 때, 홀더(6)에 의한 공정처리시간 지연을 해결시켜야 할 필요가 있다.

다른 관점에서 야기될 수 있는 것으로는, 홀더(6)의 두께 증가에 의한 피치의 증가가 뒤따르며, 제한된 공간인 반응챔버에서 배치방식에 있어서 생산성 확보의 장애요소가 될 수 있다.

도 1b 에 의거 이를 좀 더 상세히 설명하면, 먼저 피치(P)는 보트(3)에서 유리기판(100) 사이의 배치간격을 의미한다. 보트에서의 피치(P)는 보트핑거(4)의 두께(F)와 홀더(6)의 두께(H)와 유리기판(100)의 두께(G)와 엔드이펙터(101)의 작업공간(E)의 합으로 이루어진다.

이 중 엔드이펙터(E)의 작업공간과 유리기판의 두께(G)는 결정된 사항이고 보트핑거의 두께(F) 역시 유리기판과 홀더를 지지하기 위한 구조적인 두께를 가지고 있어야 한다.

그 결과, 전기된 바와 같이 홀더의 두께(H) 증가는 피치(P)의 증가를 야기시 키게 되며, 제한된 공간인 반응챔버로의 배치 수는 감소될 수 있을 것이다.

이러한 이유에서, 본 발명은 다수의 유리기판을 동시에 처리하는 배치방식의 열처리에서 유리기판을 지지하기 위한 구조적인 강도가 확보되면서 그 무게와 체적이 감소되며 표면적은 증가되어 열처리 전/후 가열/냉각속도가 신속한 평판표시장치의 유리기판 열처리용 홀더(6)를 제공한다.

더 나아가, 배치방식의 열처리에서 피치간격을 최소화하여 열처리 생산성을 향상시키는 평판표시장치의 유리기판 열처리용 홀더(6)를 제공한다.

이를 위한 본 발명은 지지구조물을 제공하는 보강리브부(12)를 홀더(6) 하부에 일체로 마련하여 홀더의 체적을 감소시키고, 아울러 보강리브부(12)는 이것을 이루는 표면적이 홀더전체에 대하여는 표면적을 확장시키는 열교환핀의 역할을 수행토록 하여 냉각을 신속하게 수행하도록 한 것이다.

먼저, 일실시예는 예시도면 도 2 및 도 3 에서와 같이, 유리기판 저부에 접촉되는 평면을 갖는 기판지지평판부(10)와, 이 기판지지평판부(10)의 저부에 형성되며 상기 기판지지평판부(10)를 지지하도록 횡프레임과 종프레임이 일체로 형성되어 이루어진 보강리브부(12), 및 이 보강리브부(12)가 마련하는 기판지지평판부(10) 하부로의 표면적 증가에 의해 형성된 열교환부(14)로 이루어진다.

상기 기판지지평판부(14)는 평면으로서 소정의 두께를 가지고 유리기판(100)을 지지하는 구조물이고, 이러한 기판지지평판부(10)의 하부에 일체로 보강리브부(12)가 형성된다.

상기 보강리브부(12)는 종프레임과 횡프레임이 얽혀 보구조물로서 기판지지 평판부(10)의 저부를 지지하게 되며, 이러한 보강리브부(12)의 두께와 기판지지평판부(10)의 두께가 종래 홀더의 두께 정도로 구비된다.

그리고, 보강리브부(12)의 각 프레임부는 보트핑거(4)와 엔드이펙터(101)와의 간섭을 회피하여 형성된다.

예를 들어, 일실예에서 상기 보강리브부(12)는 엔드이펙터(101)의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈(16)이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임(18)이 형성된다.

상기 엔드이펙터 거치홈(16)에 따라 최소한 3개의 종프레임(18)이 형성되며, 이러한 종프레임(18)에 의해 홀더(100)의 중앙부분을 종으로 가로지르는 구조물이 형성된다.

그리고, 상기 종프레임(18)을 내부방향으로 결속시키는 내부횡프레임(20)이 형성되어, 얽힌 보구조물로서 기판지지평판부(10)의 중앙 구역의 지지를 담당하게 된다.

한편, 상기 종프레임(18) 외곽에서 기판지지평판부(10)의 하부를 지지하는 외곽횡프레임(22)이 형성되며, 상기 외곽횡프레임(22)은 배치식 보트의 보트핑거(4)가 삽입되는 보트핑거 거치홈(24)이 형성되면서 이를 경계로 이웃되게 형성된다.

상기 외곽횡프레임(22)은 상기 기판지지평판부(10)에서 상기 중앙 구역을 제외한 나머지 부분의 지지를 담당하게 된다.

상기 엔드이펙터 거치홈(16) 또는 보트핑거 거치홈(24)은 종래와 마찬가지로 각 부재에 홀더(100)가 거치되기 위한 면을 제공하기 위한 구성부분이다.

이러한 결과, 상기 보강리브부(12) 및 이에 따른 홈부의 형성은 홀더(100)의 동일 면적과 총두께내에서 종래에 비해 무게를 감소시켜 투입재료를 절감시키게 된다.

아울러, 보강리브부(12)에 의해 기판지지평판부(10)를 지지시킬 충분한 강성을 확보하고 있으며, 특히 보강리브부(12) 및 이에 의해 형성되는 홈부는 기판지지평판부(10) 저부에 주름진 표면적을 제공하게 된다.

즉, 기판지지평판부(10)의 저부에서 그 표면과 보강리브부(12)의 돌출표면은 열교환부(14)를 형성시키며, 이러한 표면적의 확장은 열구조물에서 열교환핀의 역할을 수행하게 되어 가열속도와 냉각속도가 증가된다.

홀더(100)의 가열/냉각속도 증가는 두가지 측면에서 발생되는데, 하나는 상기 전체 홀더에서 그 무게와 부피의 감소에 의해 재료자체가 보관하는 열수용량의 감소이고, 다른 하나는 열교환핀에 따른, 즉 표면적 증가에 따른 열교환 접촉면의 증가에서 비롯된다.

하지만, 이러한 일실예에서는 전기된 피치의 감소 이득은 기대되기 어렵다. 이것은 전기된 바와 같이 배치식 보트에서 기판의 적층간격인 피치는 보트핑거의 두께와 홀더의 두께와 유리기판의 두께와 엔드이펙터의 작업공간의 합으로 이루어진다.

비록 로딩완료시에 보트핑거(4)가 보트핑거 거치홈(24)에 삽입되어 홀더가 보트핑거의 두께를 포함하고 있지만, 로딩/언로딩의 진행에서는 엔드이펙터(101)의 삽입방향 전/후에 대하여 보트핑거(4)와 외곽횡프레임(22)은 간섭되는 구조물이기 때문에 보트핑거로부터 홀더를 상승시켜 완전하게 이탈시켜야 한다.

즉, 엔드이펙터(101)의 상하 작업영역이 보트핑거 거치홈의 형성부분만큼 증가되어 피치의 이득은 기대하기 어렵게 되는 것이다.

이러한 이유에서 상기 일실예로부터 배치식 보트의 피치 감소가 기대되는 다른 실시예가 제공된다.

이것은 예시도면 도 4 및 도 5 에서와 같이, 유리기판 저부에 접촉되는 평면을 갖는 기판지지평판부(10)와, 이 기판지지평판부(10)의 저부에 형성되며 상기 기판지지평판부(10)를 지지하도록 횡프레임과 종프레임이 일체로 형성되어 이루어진 보강리브부(12), 및 이 보강리브부(12)가 마련하는 기판지지평판부(10) 하부로의 표면적 증가에 의해 형성된 열교환부(14)로 이루어진다.

여기서, 상기 보강리브부(12)는 엔드이펙터(101)의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈(16)이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임부(18)가 형성되고, 상기 종프레임부(18)를 내부방향으로 결속시키는 내부횡프레임(20)과 상기 종프레임부(18) 외곽에서 기판지지평판부(10)의 하부를 지지하는 외곽횡프레임(22)이 형성되며, 상기 외곽횡프레임(22)은 엔드이펙터(101)의 로딩/언로딩 작업공간에서 보트핑거(4)와 간섭되는 영역을 제외하여 형성되어, 상기 외곽 횡프레임(22)과 종프레임(18)이 형성하는 기판지지평판부(18)의 홈부는 홀더(100)의 전체 두께 내부에 엔드이펙터 작업수용부를 형성시키는 것을 특징으로 하는 것이다.

즉, 일시예의 외곽횡프레임(22)에서 엔드이펙터(101)의 전후방향의 작업영역 에 간섭되는 부재가 삭제된다.

이에 따라 외곽횡프레임(22)은 엔드이펙터(101)의 작업영역에 대해 종단의 것을 제외하고는 삭제되며, 이에 의해 엔드이펙터 작업수용부가 홀더(100)의 두께 내부에서 형성된다.

상기 엔드이펙터 작업수용부(26)는 또한 보트핑거(4)의 간섭을 회피하기 위함이므로, 보트핑거(4)의 두께 수용부의 의미를 갖게된다.

결국, 이러한 본 발명에서 피치는 엔드이펙터의 작업공간(E: 상하작업공간을 의미)과 유리기판의 두께(G)와 홀더의 두께(H)이며, 보트핑거의 두께(F)는 홀더에 포함되어 최소 보트핑거의 두께만큼 피치간격을 감소시키게 된다.

이러한 엔드이펙터 작업수용부(26)에 의해 그 높이차에 따른 피치의 감소를 가져오게 된다. 이러한 피치의 감소는 동일 공정공간(반응챔버)에서 유리기판을 처리량을 증가시켜 생산성을 증가시키게 된다.

다만, 일실시예 보다는 냉각속도에서 소정의 손해는 발생되며, 이것은 엔드이펙터 작업수용부에 의해 일실시예가 제공하는 열교환부의 표면적이 감소되기 때문이다.

상기 일실예 또는 다른 실시예 모두 충분히 공정적용이 가능한 것이며, 열처리 단계와 생산성 측면에서 실험적으로 고려되어야 할 것이다.

상술된 바와 같이 본 발명에 따르면, 배치방식의 보트장치가 평판표시장치의 공정처리에 채택되어 다량의 유리기판이 공정처리되는 효과가 있다.

이때, 유리기판을 지지하는 평판형홀더는 다수의 유리기판을 동시에 처리하는 배치방식의 열처리에서 유리기판을 왜곡/변형 없이 지지하기 위한 구조적인 강도가 확보되면서 그 무게와 체적이 감소되며 표면적은 증가됨으로써, 열처리 전/후 가열/냉각속도가 신속하고 공정시간이 단축되어 생산성이 향상되는 효과가 있다.

아울러, 배치방식의 열처리에서 피치간격을 최소화하여 보트로의 유리기판 탑재수가 증가됨으로써, 생산성이 더욱 향상되는 효과가 있다.

Claims (5)

1. 평판표시장치로서 공정처리를 위하여 다수의 유리기판을 내부에 상하로 탑재하기 위한 탑재공간을 갖는 배치식의 보트프레임 마련되어 여기에 상기 상하 탑재에 따라 보트핑거가 내측으로 돌출되어 형성되고, 이 보트핑거에 유리기판 저부를 면상으로 지지하기 위한 평면을 갖는 홀더가 탑재되어 이루어지는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트.
2. 제 1 항에 있어서, 홀더는 유리기판 저부에 접촉되는 평면을 갖는 기판지지평판부와, 이 기판지지평판부의 저부에 형성되며 상기 기판지지평판부를 지지하도록 횡프레임부와 종프레임부가 일체로 형성되어 이루어진 보강리브부, 및 이 보강리브부가 마련하는 기판지지지평판부 하부로의 표면적 증가에 의해 형성된 열교환부로 이루어진 것을 특징으로 하는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트.
3. 제 2 항에 있어서, 상기 보강리브부는 이것이 마련하는 기판지지지평판부 하부로의 표면적 증가에 의해 열전달을 증가시키는 열교환부인 것을 특징으로 하는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트.
4. 제 2 항에 있어서, 보강리브부는 엔드이펙터의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임이 형성되고, 상기 종프레임을 내부방향으로 결속시키는 내부횡프레임과 상기 종프레임 외곽에서 기판지지평판부의 하부를 지지하는 외곽횡프레임이 형성되며, 상기 외곽횡프레임은 보트핑거가 삽입되는 보트핑거 거치홈이 형성되면서 이를 경계로 이웃되게 형성된 것을 특징으로 하는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트.
5. 제 2 항에 있어서, 보강리브부는 엔드이펙터의 삽입에 대하여 이를 수용하는 엔드이펙터 거치홈이 형성되어 이를 경계로 이웃되어 종프레임이 형성되고, 상기 종프레임을 내부방향으로 결속시키는 내부횡프레임과 상기 종프레임 외곽에서 기판지지평판부의 하부를 지지하는 외곽횡프레임이 형성되며, 상기 외곽횡프레임은 엔드이펙터의 로딩/언로딩 작업공간에서 보트핑거와 간섭되는 영역을 제외하여 형성되어 홀더의 전체 두께 내부에 엔드이펙터 작업수용부가 형성된 것을 특징으로 하는 평판표시장치 제조시스템의 배치식 보트.

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