KR100742488B1 - 가스 중의 불순물 정량 방법 및 장치 - Google Patents

가스 중의 불순물 정량 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

가스로부터 불순물을 제거하여 셀(15)에 도입하고, 그 셀(15)을 투과한 빛의 광강도를 리퍼런스로서 측정한다. 기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 동일 셀(15)에 도입하여, 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하고, 셀(15)을 투과한 빛의 광강도를 측정하여 상기 2개의 측정에서 얻게 된 광강도의 비로부터 불순물의 흡광도를 구한다. 이 불순물의 흡광도를 불순물 농도의 함수로서 메모리(20a)에 기억해 둔다. 농도가 미지인 불순물을 포함하는 가스를 셀(15)에 도입하여 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하고, 셀(15)을 투과한 빛의 광강도를 측정하여 이 측정에서 얻게 된 불순물의 상기 리퍼런스에 대한 흡광도를 구하고, 이 흡광도를 상기 함수에 적용하여 불순물의 농도를 구한다.
셀, 압력 제어부, 조정 밸브, 압력 트랜스듀서, 매스플로우 컨트롤러

Description

가스 중의 불순물 정량 방법 및 장치{METHOD OF AND APPARATUS FOR DETERMINING THE AMOUNT OF IMPURITY IN GAS}
도1은 불순물을 제거한 시료 가스(리퍼런스)의 광강도를 측정하기 위한 측정 시스템을 도시하는 도면.
도2는 검량선을 작성하기 위한 기지 농도의 불순물을 포함하는 표준 시료 가스를 측정하기 위한 측정 시스템을 도시하는 도면.
도3은 불순물인 수증기의 농도가 암모니아 가스에 대해 100 ppb가 되도록 수증기의 분압비를 조정하고, 도1의 측정 시스템으로 측정한 정제된 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼과, 도2의 측정 시스템으로 측정한 불순물인 물을 포함하는 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼을 비교하여 게재한 그래프.
도4는 도3의 양 흡수 스펙트럼의 비를 취하여 흡광도로 변환한 그래프.
도5는 농도가 미지인 불순물을 포함하는 시료를 측정하는 측정 시스템을 도시하는 도면.
도6은 적외선 광원(G), 간섭계(S), 적외선 검출기(D) 등을 고기밀성 용기 내부에 설치한 측정 시스템을 도시하는 도면.
도7은 도6의 측정 시스템에 있어서, 조인트(C2)와 가스 셀(15)과의 결합을 해제하여 가스 셀(15)을 제거한 상태를 나타내는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
11 : 봄베
12 : 매스플로우 컨트롤러
13 : 불순물 정제기
14 : 개폐 밸브
15 : 가스 셀
16 : 조정 밸브
17 : 버큠 제너레이터
18 : 압력 트랜스듀서
19 : 압력 제어부
20 : 흡광도/농도 측정부
31 : 고기밀성 용기
32 : 슬릿
[문헌 1] 일본 특허 공개 제2001-228085호 공보
본 발명은 가스 중에 혼입된 불순물의 농도를 정량하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
종래의 적외 분광 광도계를 이용한 가스 중의 불순물 정량 방법에 있어서, 미량의 불순물 가스의 농도를 측정하는 경우, 주성분 가스의 적외 흡수 피크가 미량 가스 성분의 적외 흡수 피크를 방해하여 측정이 매우 곤란했다.
그래서, 불순물 가스로서 암모니아 가스 중의 미량 수분을 예로 들어 설명한다.
종래, 상기 미량 수분을 암모니아와 수분의 적외 흡수가 겹치지 않는 파수로 측정하는 방법이 제안되어 있다(일본 특허 공개 제2001-228085호 공보).
그러나, 상기한 암모니아와 수분의 적외 흡수가 겹치지 않는 파수로 측정하는 방법이라도 불순물 가스 농도가 극히 미량인 경우, 불순물 가스의 적외 흡수 스펙트럼이 적외 흡수 스펙트럼에 가려져 버려 불순물 가스 농도의 측정이 곤란해진다.
그래서, 본 발명은 불순물 가스 농도가 매우 미량이라도 불순물 가스 농도를 정확하게 측정할 수 있는 가스 중의 불순물 정량 방법 및 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 가스 중의 불순물 정량 방법은, 상기 가스로부터 불순물을 제거하여 제1 셀에 도입하여 그 제1 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고, 기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 제1 셀 또는 동일 광로장의 제2 셀에 도입하여, 상기 측정과 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하여 상기 제1 또는 제2 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고, 상기 측정에서 얻게 된 광강도끼리를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 불순물 농도의 함수로서 기억해 두고, 농도가 미지인 불순물을 포함하는 가스를 상기 제1 또는 제2 셀 또는 동일 광로장의 제3 셀에 도입하여, 상기 측정과 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하여 상기 제1, 제2 또는 제3 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고, 상기 제1 셀을 투과한 빛의 광강도로 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 흡광도를 상기 함수에 적용하여 불순물의 농도를 구하는 방법이다.
이 방법에 따르면, 불순물 가스가 제거된 시료 가스의 흡수 광강도를 리퍼런스 측정하여 기지의 농도의 불순물 가스를 포함하는 시료 가스를 동일 온도 및 동일 압력, 동일 광로장이라는 조건을 기초로 하여 그 흡수 광강도를 측정할 수 있다. 그리고, 이들 광강도비(함수로 한 경우에는 차)를 산출하여 불순물의 흡광도를 구하여 불순물 농도의 함수로서 기억해 둔다. 다음에, 미지의 농도의 불순물 가스를 포함하는 시료 가스를 동일 온도 및 동일 압력, 동일 광로장이라는 조건을 기초로 하여 그 흡수 광강도를 측정한다. 불순물의 흡광도를 구하여 상기 기억된 함수에 적용하면, 불순물의 농도를 구할 수 있다.
따라서, 시료 가스의 영향에서 제외된 불순물만의 농도를 정확하게 측정할 수 있다.
또한, 본 발명의 가스 중의 불순물 정량 장치는 상기 가스 중의 불순물 정량 방법을 실시하기 위한 장치이며, 가스를 도입하기 위한 셀과, 셀에 빛을 조사하는 광원과, 셀을 투과한 빛의 강도를 측정하는 검출기와, 상기 셀을 일정 온도로 유지 하는 보온 수단과, 상기 셀 내의 가스를 소정의 압력으로 조정하는 압력 조정 수단과, 불순물 농도를 측정하고자 하는 시료 가스를 셀에 도입하기 위한 제1 가스 도입 시스템과, 기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 셀에 도입하기 위한 제2 가스 도입 시스템과, 제1 가스 도입 시스템에 설치된 시료 가스로부터 불순물을 제거하기 위한 불순물 제거기와, 불순물 제거기에 의해 불순물을 제거한 상기 가스를 셀에 도입하여 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제1 광강도 측정 수단과, 기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 상기 셀에 도입하여 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제2 광강도 측정 수단과, 상기 제1 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도로 상기 제2 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 불순물 농도의 함수로서 기억해 두는 기억 수단과, 농도가 미지인 불순물을 포함하는 가스를 상기 셀에 도입하여 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제3 광강도 측정 수단과, 상기 제1 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도로 상기 제3 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 상기 기억 수단에 의해 기억된 함수에 적용하여 불순물의 농도를 구하는 농도 측정 수단을 구비하는 것이다.
이 가스 중의 불순물 정량 장치는 상기 가스 중의 불순물 정량 방법과 동일 발명에 관한 장치로, 간단한 순서로 시료 가스의 영향에서 제외된 불순물만의 농도를 정확하게 측정할 수 있다.
상기 광원, 상기 검출기는 따로따로 기밀성 용기에 수납하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 상기 기밀성 용기를 쉽게 진공으로 할 수 있고, 상기 불순물의 흡수 스펙트럼의 파장 범위에서 흡수를 나타내지 않은 가스로 채울 수 있다. 이에 의해, 상기 광원이나 검출기의 오염을 방지할 수 있으므로, 측정되는 불순물 스펙트럼은 오염의 영향을 받는 일이 없게 된다. 따라서, 측정 오차가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
상기 제1 기밀성 용기와 상기 셀의 조인트부는 상기 셀을 제거한 상태에서 상기 제1 기밀성 용기의 기밀성을 유지할 수 있는 것으로, 상기 제2 기밀성 용기와 상기 셀의 조인트부는 상기 셀을 제거한 상태에서 상기 제2 기밀성 용기의 기밀성을 유지할 수 있는 것이 바람직하다. 이 구조에 따르면, 기밀성 용기의 기밀성을 유지한 상태에서 셀을 용이하게 교환할 수 있다.
상기 광원 또는 검출기에 전원을 공급하는 전원부는 상기 제1 기밀성 용기 및 상기 제2 기밀성 용기의 외부에 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이에 의해, 발열원인 전원부로부터의 방열의 효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명은, 상기 제1 광강도 측정 수단, 제2 광강도 측정 수단, 기억 수단, 제3 광강도 측정 수단 및 농도 측정 수단의 각 기능을 실현하는 컴퓨터를 구비하고, 상기 컴퓨터는 상기 제1 기밀성 용기 및 상기 제2 기밀성 용기의 외부에 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우에도, 상기 전원부와 마찬가지로 컴퓨터로부터의 방열의 효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명에 있어서의 상술한, 또는 또 다른 이점, 특징 및 효과는 첨부 도면을 참조하여 다음에 서술하는 실시 형태의 설명에 의해 명백해진다.
도1은 불순물을 제거한 시료 가스(리퍼런스)의 광강도를 측정하기 위한 측정 시스템을 도시하는 도면이다.
도1에 있어서, 시료 가스가 들어간 시료 봄베(11)는 가스의 유량을 조절하는 매스플로우 컨트롤러(12), 불순물을 제거하기 위한 불순물 정제기(13) 및 개폐 밸브(14)를 통해 가스 셀(15)의 가스 입구(IN)로 셋트된다. 이 경로를 제1 가스 도입 시스템이라 한다.
한편, 가스 셀(15)의 가스 출구(OUT)에는 조정 밸브(16), 부압을 만드는 버큠 제너레이터(17)(압력 이젝터라도 좋음)가 연결되어 있다. 버큠 제너레이터(17)에는 공기 또는 질소의 고압 가스 봄베(25)가 접속되어 있다. 이 구성에 의해, 대기압(100 ㎪)에 대해 0.1 Pa의 압력 제어를 할 수 있다.
가스 셀(15)은, 본 실시예에서는 [발명의 요약]에서 서술한 서로 동일 광로장의 제1, 제2, 제3 셀을 겸하고 있다.
가스 셀(15)은 도1에 도시한 바와 같이 통 형상의 일정 용적의 셀실(15a)과, 이 셀실(15a)의 양단부면에 설치된 광투과창(15b, 15c)으로 이루어져 있다. 셀실(15a)에는 상기 가스 입구(IN) 및 가스 출구(OUT)가 설치되고, 또한 셀실(15a) 내의 압력을 측정하기 위한 압력 트랜스듀서(18)에 이어지는 포트가 설치되어 있다.
상기 매스플로우 컨트롤러(12), 조정 밸브(16) 및 압력 트랜스듀서(18)는 압력 제어부(19)에 접속되어 있다. 압력 제어부(19)는 압력 트랜스듀서(18)의 압력 측정치를 기초로 하여 시료 가스의 유량과 조정 밸브(16)의 개폐도를 조정함으로써 가스 셀(15) 내의 압력을 소정의 압력으로 유지한다.
상기 광투과창(15b, 15c)은 예를 들어 적외선을 투과시키는 사파이어 투과창 이다.
상기 가스 셀(15)은 소정 온도로 유지하기 쉽도록 발포 스티롤 등의 단열재(도시하지 않음)로 포위되어 있다. 또한 가스 셀(15)의 전체는 후술하는 적외선 광원(G), 분광기 혹은 간섭계(S), 적외선 검출기(D)와 함께 보온 용기(도시하지 않음)에 수납되어 있다. 보온 용기 내는 히터 또는 펠티에 소자 등에 의해 일정 온도로 유지된다.
부호 G는 적외선 광원(G)을 나타낸다. 적외선 발생의 방식은 임의의 것으로 좋고, 예를 들어 세라믹스 히터(표면 온도 450 ℃) 등이 사용가능하다. 또한, 적외선의 파장을 선택하기 위한 분광기 혹은 간섭계(S)가 설치되어 있다. 또, 적외선 광원(G)에서 발생한 빛을 일정 주기로 차단하여 통과시키는 회전하는 쵸퍼(도시하지 않음)를 부가해도 좋다.
적외선 광원(G)으로부터 조사되어 상기 광투과창(15c)을 통해 가스 셀(15)에 들어간 빛은 상기 광투과창(15b)을 통해 가스 셀(15)로부터 출사되고, 적외선 검출기(D)에 의해 검출된다. 상기 적외선 검출기(D)는 DtGs 검출기(중수소 트리그리신설페이트 검출기), InAs 검출기 또는 CCD 소자 등으로 이루어진다.
적외선 검출기(D)의 검출 신호는 흡광도/농도 측정부(20)에 의해 해석된다. 이 해석 방법은 후술한다.
또, 압력 제어부(19) 및 흡광도/농도 측정부(20)는 퍼스널 컴퓨터로 구성된다. 압력 제어부(19), 흡광도/농도 측정부(20)의 처리 기능은 CD-ROM이나 하드디스크 등 소정의 매체에 기록된 프로그램을 퍼스널 컴퓨터가 실행함으로써 실현된 다. 또한, 흡광도/농도 측정부(20)에 접속되는 메모리(20a)는 하드디스크 등의 기록 매체 내에 만들어진 기입 가능한 설정 파일에 의해 실현된다.
이상의 측정 시스템에 있어서, 시료 봄베(11)에 축적된 시료 가스(예를 들어 암모니아 가스)는 불순물 정제기(13) 중의 불순물 흡수제(예를 들어 실리커겔과 같은 수분을 흡수하는 약품)에 의해 불순물(예를 들어 수분)이 제거되고, 가스 셀(15) 중으로 유도된다.
가스 셀(15) 중은 압력 트랜스듀서(18)에 의해 압력 측정되고 있다. 그리고 이 압력 측정치가 목표치가 되도록 상기 압력 제어부(19)에 의해 상기 매스플로우 컨트롤러(12) 및 상기 조정 밸브(16)의 제어가 행해진다. 이 피드백 제어에 의해 가스 셀(15) 중은 최종적으로 원하는 압력 또는 일정한 압력으로 유지된다. 이 압력을 "Ps"로 표기한다.
이 상태에서 상기 적외선 광원(G)으로부터 빛을 조사하여, 상기 분광기 혹은 간섭계(S)를 스펙트럼 주사시켜 상기 적외선 검출기(D)에 의해 가스 셀(15)을 투과한 빛의 강도를 판독한다. 이와 같이 하여, 가스 셀(15)에 채워진 불순물이 제거된 시료 가스의 광강도의 스펙트럼 강도를 측정할 수 있다. 예를 들어 암모니아 가스를 시료 가스로 하고, 불순물을 물로 한 경우, 수분이 제거된 암모니아 가스의 광강도 스펙트럼을 얻을 수 있다.
이와 같이 하여 얻게 되는 불순물이 제거된 시료 가스의 광강도의 스펙트럼은 광원(G)의 광량 변동, 검출기의 감도 변동 등을 보정하므로 유용하다.
도2는 검량선을 작성하기 위한 기지 농도의 불순물을 포함하는 표준 시료 가 스를 측정하기 위한 측정 시스템을 도시하는 도면이다.
시료 봄베(11)로부터 시료 가스를 공급하는 시스템, 가스 셀(15)로부터 가스를 배출하는 시스템은 도1의 구성과 동일한 것을 이용한다. 또한, 스펙트럼의 측정을 하는 광학 측정 시스템도 도1의 구성과 마찬가지이다.
도1과 다른 점은, 농도 기지의 불순물 가스가 들어간 불순물 봄베(21)와, 매스플로우 컨트롤러(22)와, 밸브(23)로 이루어지는 시스템을 설치하여, 불순물 가스를 가스 셀(15) 내로 도입 가능하게 한 것이다. 이 경로를 제2 가스 도입 시스템이라 한다.
이상의 측정 시스템에 있어서, 시료 봄베(11)에 축적된 시료 가스(예를 들어 암모니아 가스)를 불순물 정제기(13)를 통해 매스플로우 컨트롤러(12)에 의해 유량을 제어하면서, 가스 셀(15) 중으로 도입한다. 가스 셀(15)의 온도는 도1의 측정시의 온도와 동일하게 한다. 이와 동시에, 불순물 봄베(21)에 축적된 농도 기지의 불순물 가스(예를 들어 수증기)를 매스플로우 컨트롤러(22)에 의해 유량을 제어하면서 가스 셀(15) 중으로 도입한다.
2개의 매스플로우 컨트롤러(12, 22)의 유량의 비를 조정함으로써 불순물 가스와 시료 가스의 분압비(r)를 임의로 설정할 수 있다. 시료 가스의 압력(Ps)에 대해 설정되는 불순물 가스의 분압을 Pi라 쓴다. Pi ＝ rPs이다.
시료 가스와 불순물 가스와의 합계의 압력이 (Pi ＋ Ps)가 되도록 압력 제어부(19)에 의해 상기 매스플로우 컨트롤러(12, 22) 및 상기 조정 밸브(16)의 제어를 행한다.
또, Pi는 일반적으로 Ps보다도 3자리수나 4자리수 작은 값이므로, 실제로는 Pi를 무시하여 시료 가스와 불순물 가스와의 합계의 압력이 (Pi ＋ Ps)가 아닌 Ps가 되도록 제어하는 것이 실제적이다.
이와 같이 하여, 가스 셀(15) 내에는 시료 가스가 분압(Ps)에서 존재하고, 불순물 가스가 분압(Pi)에서 존재하게 된다.
이 상태에서, 상기 적외선 광원(G)으로부터 빛을 조사하고, 상기 분광기 혹은 간섭계(S)를 스펙트럼 주사시켜 상기 적외선 검출기(D)에 의해 가스 셀(15)을 투과한 빛의 강도를 판독한다. 이와 같이 하여, 가스 셀(15)에 채워진 기지의 농도의 불순물을 포함하는 시료 가스의 흡수 스펙트럼을 측정할 수 있다.
예를 들어 암모니아 가스를 시료 가스로 하고, 불순물을 물로 한 경우, 기지의 농도의 수분을 포함하는 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼을 얻을 수 있다.
도3은 불순물인 수증기의 농도가 암모니아 가스에 대해 100 ppb가 되도록 수증기의 분압비를 조정하고, 도1의 측정 시스템에서 측정한 정제된 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼과, 도2의 측정 시스템에서 측정한 불순물인 물을 포함하는 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼을 비교하여 게재한 그래프이다. 횡축은 파수(㎝-1)를 나타내고, 종축은 광강도를 나타내는 임의의 눈금이다. 횡축의 파수의 범위는 3870(㎝-1)으로부터 3780(㎝-1)까지이고, 이를 파장으로 환산하면 2583 ㎚ 내지 2645 ㎚가 된다.
도3에 따르면, 근소하지만, 정제된 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼과 물을 포함하는 암모니아 가스의 흡수 스펙트럼의 차이가 나타나 있다.
도4는 양 흡수 스펙트럼의 비를 취하여 흡광도로 변환한 그래프이다. 종축은 흡광도를 나타내고 있다.
여기서「흡광도」라 함은, 가스 셀(15) 내에 불순물을 포함하지 않는 시료 가스를 넣어 측정하였을 때의 광검출 강도 R0과, 가스 셀(15) 내에 불순물을 포함하는 시료 가스를 넣어 측정하였을 때의 빛 검출 강도 R1과의 비(R0/R1)의 로그 log(R0/R1)를 말한다.
이 도4의 그래프는 가스 셀(15) 내에 있어서의 농도 100 ppb의 물의 흡광도 스펙트럼을 나타내고 있다.
흡광도/농도 측정부(20)는 상기 도4의 스펙트럼을 파장에 대한 데이터로서 메모리(20a)에 기억한다.
그리고, 이와 같은 데이터를 불순물의 농도를 다양하게 바꾸면서 다수 취득한다. 그러면, 파장마다 불순물의 농도와 흡광도의 관계를 나타내는 곡선을 얻을 수 있다. 이 곡선을「검량선」이라 한다.
또, 파장이 달라도 검량선의 기울기는 거의 변하지 않는다고 추측되므로, 하나 또는 그 이상의 대표적인 파장에 대한 검량선을 이용할 수 있다. 「대표적인 파장」이라 함은, 불순물 스펙트럼이 전형적인 피크를 나타내는 파장으로 한다. 예를 들어, 도4에서는 3854(㎝-1)에 최대의 피크가 있으므로, 이 파장에 있어서의 검량선을 이용하면 된다.
도5는 농도가 미지인 불순물을 포함하는 시료를 측정하는 측정 시스템을 도시하는 도면이다. 이 측정 시스템은 기본적으로는 도1의 측정 시스템과 다르지 않지만, 시료 가스로부터 불순물을 제거하기 위한 불순물 정제기를 부착하고 있지 않은 점이 도1과 다르다. 따라서, 가스 입구(IN)를 통해 불순물을 포함하는 시료 가스가 가스 셀(15)에 도입된다. 불순물의 농도는 미지로 한다. 측정할 때의 가스 셀(15)의 온도는 도1, 도2의 경우와 동일하게 하고, 가스 셀(15) 내의 압력은 전술한 Ps가 되도록 한다. 이 도5의 측정 시스템에서 측정한 강도 스펙트럼은 시료 가스와 불순물 가스의 혼합 가스의 강도 스펙트럼으로 되어 있다.
본 발명의 가스 중의 불순물 정량 방법에서는 흡광도/농도 측정부(20)에 있어서 다음과 같은 데이터 처리를 행한다.
우선, 도1의 측정 시스템에서 측정한 강도 스펙트럼으로 도5의 측정 시스템에서 측정한 강도 스펙트럼을 나눈다. 이에 의해, 불순물 가스 고유의 흡광도 스펙트럼을 알 수 있다.
다음에, 이 불순물 가스의 흡광도 스펙트럼을 이미 작성해 둔 검량선에 적용하여 불순물 가스의 농도를 구한다.
이상과 같이 하여, 농도가 미지인 불순물 가스의 농도를 구할 수 있다.
다음에, 상기 측정 시스템의 변경예를 설명한다. 도1, 도2 및 도5에 도시한 측정 시스템에서는 상기 적외선 광원(G), 상기 분광기 혹은 간섭계(S), 상기 적외선 검출기(D)는 모두 실내의 공기 중에 설치되어 있었다. 그런데, 예를 들어 수분, 탄산 가스, 질소 산화물 등의 적외 영역에 흡수를 갖는 성분을 측정 대상으로 하는 경우, 이들 성분은 공기 중에 포함되어 있으므로, 정밀도 좋게 측정하기 위해서는 상기 적외선 광원(G), 상기 분광기 혹은 간섭계(S), 상기 적외선 검출기(D) 등으로부터 이들 공기 중에 포함되어 있는 성분을 제외할 필요가 있다.
그래서, 상기 적외선 광원(G), 상기 분광기 혹은 간섭계(S), 상기 적외선 검출기(D) 등을 고기밀성 용기의 내부에 설치하여, 용기 내를 진공으로 하거나, 혹은 적외에 흡수를 갖지 않는 고순도 가스로 채워 측정하도록 하였다.
도6은 이 상기 적외선 광원(G), 상기 간섭계(S), 상기 적외선 검출기(D) 등을 고기밀성 용기 내부에 설치한 측정 시스템을 도시하는 도면이다.
도6에 있어서, 가스 도입 시스템 등 가스가 흐르는 경로의 도시는 생략하고 있다. 적외선 광원(G) 및 간섭계(S)는 광로 중의 슬릿(32), 집광 렌즈 또는 집광 미러(34)와 함께 고기밀성 용기(31) 중에 배치되어 있다. 고기밀성 용기(31)의 하부 외벽에는 진공 커넥터(37)가 설치되어 있고, 여기에 전원부(44)로부터의 전원 공급 케이블 등이 접속된다. 또한 조인트(C4)에 진공 펌프의 흡입구가 접속된다.
또한, 고기밀성 용기(31)에는 광투과창(35)을 통해 레이저 장치(L)로부터의 레이저광이 도입된다. 이 레이저광은 간섭계(S)에 있어서 특정 파장의 빛을 선택하기 위해 이용된다. 또, 이 레이저 장치(L)를 이용한 간섭계(S)의 구조는 도1의 구성에서도 적용 가능한 것이다.
또한, 고기밀성 용기(31)의 측벽에는 가스 셀(15)에 접속하기 위한 조인트(C1)가 부착되어 있다. 조인트(C1)에는 광투과창(41)이 장착되어 있다. 조인트(C1)와 광투과창(41)의 접착 부위는 기밀성이 유지되어 있다. 따라서, 조인트(C1) 로부터의 기체의 누설은 없고, 고기밀성 용기(31) 중의 기밀을 유지할 수 있다. 또, 부호 40은 조인트(C1)에 가스 셀(15)을 접속하기 위한 O링이다.
또한, 상기 적외선 검출기(D)를 수납한 고기밀성 용기(33)가 설치되어 있다. 부호 36은 고기밀성 용기(33) 내에 상기 적외선 검출기(D)와 함께 수납된 집광 렌즈 또는 미러이다. 이 고기밀성 용기(33)의 하부 외벽에는 진공 커넥터(38)가 설치되어 있고, 여기에 전원부(44)로부터의 전원 공급 케이블 등이 접속된다. 또한 조인트(C3)에 진공 펌프의 흡입구가 접속된다.
고기밀성 용기(33)의 측벽에도 가스 셀(15)에 접속하기 위한 조인트(C2)가 부착되어 있다. 조인트(C2)에는 광투과창(43)이 장착되어 있다. 조인트(C2)는 O링(40)을 구비하고 있고, 이 O링(40)에 의해 가스 셀(15)과의 접속이 행해진다. 또한 조인트(C2)는 가스 셀(15)과의 부착 및 제거를 용이하게 행하기 위해 광축 방향으로 이동 가능하다. 부호 42는 이 광축 방향으로의 이동시에 기체의 누설을 방지하기 위한 O링이다.
또한, 조인트(C1)의 창(41)과, 가스 셀(15)의 창(15c) 사이의 공간 및 가스 셀(15)의 창(15b)과 조인트(C2)의 창(43) 사이의 공간에 들어간 대기를 제거하기 위해 조인트(C2)의 커넥터(47)에 진공 펌프를 접속할 수 있다. 이들 2개의 공간은 가스 셀(15)에 마련된 관통 구멍(48)에 의해 연통하고 있으므로, 조인트(C1)의 커넥터(47)에 진공 펌프를 접속하는 것만으로 2개의 공간의 대기를 동시에 흡입할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에서는 상기 적외선 광원(G), 상기 간섭계(S), 상기 적 외선 검출기(D) 이외의 주요 부재, 예를 들어 상기 레이저 장치(L), 전원부(44), 상기 퍼스널 컴퓨터 등은 고기밀성 용기(31, 33)의 외측에 배치하는 것을 고안하였다. 만약 이들 레이저 장치, 전원부, 컴퓨터 등을 고기밀성 용기(31, 33)의 내측에 배치하면, 진공 상태에서는 열의 대류가 극단적으로 적어지므로 레이저 장치, 전원부, 컴퓨터 등의 열이 외부에 전해지지 않게 되고, 고기밀성 용기(31, 33) 내부의 온도가 이상하게 상승하여, 측정 시스템에 나쁜 영향을 주기 때문이다.
이상의 도6에 도시한 측정 시스템에 있어서, 양 고기밀성 용기(31, 33)를 배기하여 기압을 내린 상태(예를 들어 10-4 내지 10-6 Torr)에서 도1 내지 도5를 이용하여 설명한 방법으로 불순물 가스의 흡광도 스펙트럼을 측정하면, 공기 중의 적외선 흡수 성분의 영향을 면할 수 있으므로 보다 정밀한 흡광도 측정이 가능해진다.
도7은 도(6)의 측정 시스템에 있어서 조인트(C2)와 가스 셀(15)과의 결합을 해제하여, 가스 셀(15)을 제거한 상태를 도시하는 도면이다. 이 상태에서 가스 셀(15)을 다른 가스 셀과 교환할 수 있다. 조인트(C1, C2)는 전술한 바와 같이 고기밀성 용기(31, 33)와의 기밀성이 유지되고 있으므로, 가스 셀의 교환시에도 고기밀성 용기(31, 33)의 진공도가 저하되는 일은 없다. 따라서, 교환이 끝나면 바로 측정에 들어갈 수 있다.
이상으로, 본 발명의 실시 형태를 설명하였지만, 본 발명의 실시는 상기한 형태에 한정되는 것이 아니다. 예를 들어, 측정 파장을 지금까지 설명한 것보다도 장파장(40 ㎛)까지 연장시킴으로써, 종래 측정할 수 없던 성분이나, 측정 곤란했던 성분(예를 들어 텅스텐 화합물이나 인 화합물)의 측정이 가능해진다. 이 경우, 가스 셀의 광투과창(15b, 15c)이나, 조인트(C1, C2)의 광투과창(41, 43)이나, 간섭계(S)의 광투과 부분을 상기 파장 영역을 투과할 수 있는 재료로 작성할 필요가 있다. 예를 들어, 간섭계(S)의 광투과 부분을 CsI(요오드화세슘)로 하고, 광투과창에 KRS-5(브롬화탈륨 45.7 ％ ＋ 요오드화탈륨 54.3 ％)을 이용함으로써, 적외 영역에서 안정된 측정을 행하는 것이 가능해진다(CsI는 0.5 내지 40 ㎛의 파장 범위에서 80 ％ 이상의 광투과율을 나타내는 광학 재료이고, KRS-5는 3 내지 40 ㎛의 파장 범위에서 70 ％ 이상의 광투과율을 나타내는 광학 재료임).
또한, 조인트(C1)의 창(41)과, 조인트(C2)의 창(43)을 제거할 수도 있다. 이 경우, 가스 셀(15)을 조인트(C1, C2)에 접속함으로써, 고기밀성 용기(31, 33)의 기밀성을 유지할 수 있다. 2개의 고기밀성 용기(31, 33)는 가스 셀(15)의 관통 구멍(48)을 통하여 연통하므로, 어느 하나의 용기에 진공 펌프를 접속하는 것만으로 전체를 진공으로 하는 것이 가능해진다.
본 발명에 따르면, 불순물 가스 농도가 매우 미량이라도 불순물 가스 농도를 정확하게 측정할 수 있는 가스 중의 불순물 정량 방법 및 장치를 제공할 수 있다.

Claims (6)

  1. 가스 중에 혼입된 불순물의 농도를 정량하는 방법이며,
    (a) 상기 가스로부터 불순물을 제거하여 제1 셀로 도입하여 그 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고,
    (b) 기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 제1 셀 또는 동일 광로장의 제2 셀에 도입하여, 상기 (a)의 측정과 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하여 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고,
    (c) 상기 (a)의 측정에서 얻게 된 광강도로 상기 (b)의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 불순물 농도의 함수로서 기억해 두고,
    (d) 농도가 미지인 불순물을 포함하는 가스를 상기 제1, 제2 셀 또는 동일 광로장의 제3 셀에 도입하여, 상기 (a) 및 상기 (b)의 측정과 동일 온도 및 동일 압력으로 유지하여 상기 제1, 제2 또는 제3 셀을 투과한 빛의 광강도를 측정하고,
    (e) 상기 (a)의 측정에서 얻게 된 광강도로 상기 (d)의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 흡광도를 상기 함수에 적용하여 불순물의 농도를 구하는 것을 특징으로 하는 가스 중의 불순물 정량 방법.
  2. 가스 중에 혼입된 불순물의 농도를 정량하는 장치이며,
    가스를 도입하기 위한 셀과,
    상기 셀에 빛을 조사하는 광원과,
    상기 셀을 투과한 빛의 강도를 측정하는 검출기와,
    상기 셀을 일정 온도로 유지하는 보온 수단과,
    상기 셀 내의 가스를 소정 압력으로 조정하는 압력 조정 수단과,
    불순물 농도를 측정하고자 하는 시료 가스를 상기 셀에 도입하기 위한 제1 가스 도입 시스템과,
    기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 상기 셀에 도입하기 위한 제2 가스 도입 시스템과,
    제1 가스 도입 시스템에 설치된 시료 가스로부터 불순물을 제거하기 위한 불순물 제거기와,
    불순물 제거기에 의해 불순물을 제거한 상기 가스를 상기 셀에 도입하여 상기 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제1 광강도 측정 수단과,
    기지의 농도의 불순물을 포함하는 가스를 상기 셀에 도입하여 상기 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제2 광강도 측정 수단과,
    상기 제1 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도로, 상기 제2 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 불순물 농도의 함수로서 기억해 두는 기억 수단과,
    농도가 미지인 불순물을 포함하는 가스를 상기 셀에 도입하여 상기 셀을 투과한 광강도를 측정하는 제3 광강도 측정 수단과,
    상기 제1 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도로 상기 제3 광강도 측정 수단의 측정에서 얻게 된 광강도를 나누어 불순물의 흡광도를 구하고, 이 불순물의 흡광도를 상기 기억 수단에 의해 기억된 함수에 적용하여 불순물의 농도를 구하는 농도 측정 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 중의 불순물 정량 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 광원을 제1 기밀성 용기에 수납하고, 상기 검출기를 제2 기밀성 용기에 수납한 상태에서 측정이 가능한 가스 중의 불순물 정량 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1 기밀성 용기와 상기 셀의 조인트부는 상기 셀을 제거한 상태에서 상기 제1 기밀성 용기의 기밀성을 유지할 수 있고,
    상기 제2 기밀성 용기와 상기 셀과의 조인트부는 상기 셀을 제거한 상태에서 상기 제2 기밀성 용기의 기밀성을 유지할 수 있는 가스 중의 불순물 정량 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 광원 또는 검출기에 전원을 공급하는 전원부는 상기 제1 기밀성 용기 및 상기 제2 기밀성 용기의 외부에 설치되어 있는 가스 중의 불순물 정량 장치.
  6. 제3항에 있어서, 상기 제1 광강도 측정 수단, 제2 광강도 측정 수단, 기억 수단, 제3 광강도 측정 수단 및 농도 측정 수단의 각 기능을 실현하는 컴퓨터가 구비되고,
    상기 컴퓨터는 상기 제1 기밀성 용기 및 상기 제2 기밀성 용기의 외부에 설치되어 있는 가스 중의 불순물 정량 장치.
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Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7132661B2 (en) 2000-08-28 2006-11-07 Spectrasensors, Inc. System and method for detecting water vapor within natural gas
CN100424496C (zh) * 2002-08-09 2008-10-08 东亚合成株式会社 硅烷醇基浓度的检测方法以及检测用密室
JP2007155372A (ja) * 2005-12-01 2007-06-21 Miura Co Ltd 光学計測装置
US7679059B2 (en) * 2006-04-19 2010-03-16 Spectrasensors, Inc. Measuring water vapor in hydrocarbons
US7511802B2 (en) 2006-05-26 2009-03-31 Spectrasensors, Inc. Measuring trace components of complex gases using gas chromatography/absorption spectrometry
JP2008170340A (ja) * 2007-01-12 2008-07-24 Olympus Corp 波長特定方法および分析装置
JP2008218568A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Denso Corp レーザ装置
US7508521B2 (en) 2007-03-14 2009-03-24 Spectrasensors, Inc. Pressure-invariant trace gas detection
JP4926769B2 (ja) * 2007-03-15 2012-05-09 大塚電子株式会社 誤検知判定付きガス濃度測定方法、プログラム及び装置
US7704301B2 (en) 2007-04-11 2010-04-27 Spectrasensors, Inc. Reactive gas detection in complex backgrounds
JP4677462B2 (ja) * 2008-03-04 2011-04-27 岩田電業株式会社 ガス分析装置、及び当該ガス分析装置を用いたガスセルの圧力又は流量の制御方法
EP2352987A4 (en) * 2008-11-06 2012-03-28 Li Cor Inc GAS ANALYZER
US8154714B2 (en) 2008-11-06 2012-04-10 Li-Cor, Inc. Gas analyzer
US9267881B2 (en) 2008-11-06 2016-02-23 Li-Cor, Inc. Hybrid gas analyzer with thermally insulated flow cell
US8125626B2 (en) * 2008-11-06 2012-02-28 Li-Cor, Inc. Hybrid gas analyzer
US8615360B2 (en) * 2009-10-30 2013-12-24 Telenav, Inc. Navigation system with single selection mileage single capture mechanism and method of operation thereof
KR20130042464A (ko) * 2010-02-16 2013-04-26 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 가스 농도 산출 장치, 가스 농도 계측 모듈 및 광 검출기
JP5423496B2 (ja) * 2010-03-15 2014-02-19 富士電機株式会社 レーザ式ガス分析計
WO2011130320A2 (en) 2010-04-12 2011-10-20 Li-Cor, Inc. Method and apparatus for determining gas flux
EP2437046B1 (de) * 2010-09-29 2014-08-13 Sick Ag Vorrichtung und Verfahren zum Messen von SO3 und H2SO4 Konzentrationen in Gasen
US8812179B1 (en) * 2010-10-05 2014-08-19 The Boeing Company Ammonia detection
US9012851B2 (en) 2010-10-14 2015-04-21 Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh Optical chamber module assembly
US9651488B2 (en) * 2010-10-14 2017-05-16 Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh High-accuracy mid-IR laser-based gas sensor
US9360415B2 (en) 2010-10-21 2016-06-07 Spectrasensors, Inc. Dynamic reconstruction of a calibration state of an absorption spectrometer
US9335257B2 (en) * 2013-06-20 2016-05-10 Rosemount Analytical Inc. Tunable diode laser absorption spectroscopy with water vapor determination
US9759703B2 (en) 2013-09-27 2017-09-12 Li-Cor, Inc. Systems and methods for measuring gas flux
JP5661957B1 (ja) * 2014-01-22 2015-01-28 オリジン電気株式会社 カルボン酸ガス濃度の推定方法及び半田付け装置
DE102014100691B3 (de) 2014-01-22 2015-01-08 Avl Emission Test Systems Gmbh Vorrichtung zur Bestimmung der Konzentration zumindest eines Gases in einem Probengasstrom mittels Infrarotabsorptionsspektroskopie
US10643008B2 (en) 2014-11-11 2020-05-05 Spectrasensors, Inc. Target analyte detection and quantification in sample gases with complex background compositions
DE102016007825A1 (de) * 2016-06-25 2017-12-28 Hydac Electronic Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Qualität von gasförmigen Medien
CN106841517B (zh) * 2016-12-22 2019-06-07 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 一种气体分析装置
JP6715798B2 (ja) * 2017-04-25 2020-07-01 三菱電機株式会社 ガス分析装置
CN109596539A (zh) * 2018-10-12 2019-04-09 上海禾赛光电科技有限公司 一种识别目标气体中干扰气体的方法及装置
CN109632667B (zh) * 2018-12-25 2021-09-14 杭州谱育科技发展有限公司 光谱和浓度间映射关系的获得方法
JP7221127B2 (ja) * 2019-04-26 2023-02-13 株式会社堀場エステック 吸光分析装置、及び、吸光分析装置用プログラム
US11733157B2 (en) 2020-07-06 2023-08-22 Honeywell International Inc. Cabin air sensor for ozone detection
CN112014353B (zh) * 2020-09-04 2021-07-13 北京理工大学 一种确定氢气射流浓度场分布的方法和系统
US11686670B2 (en) * 2020-11-03 2023-06-27 Yokogawa Electric Corporation Isolation of fluid sample in multi-pass optical system
CN115575340B (zh) * 2022-11-08 2023-03-10 杭州谱育科技发展有限公司 吸光度检测装置和方法
CN118032677B (zh) * 2024-04-09 2024-06-07 甘肃农业大学 当归冻干产品加工质量测试方法和系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10281988A (ja) 1997-04-09 1998-10-23 Nippon Sanso Kk ガス分析方法及びガス分析装置
KR20000029101A (ko) * 1998-10-16 2000-05-25 쉬에르 피에르 분석하고자 하는 가스 샘플 내 불순물의 양을 측정하는방법 및 장치
JP2000275171A (ja) 1999-03-24 2000-10-06 Nkk Corp 気体中の浮遊粒子の原子吸光分析方法および装置
JP2001356094A (ja) 2000-04-19 2001-12-26 Praxair Technol Inc 気体流れ中の不純物を分析するための方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT321007B (de) * 1972-12-07 1975-03-10 F J Richter Ind Mess Und Regel Vorrichtung zur kontinuierlichen Extinktionsmessung mit automatischer Blindwert-Kompensation
IT1131364B (it) * 1979-06-25 1986-06-18 Thermo Electron Corp Apparecchiatura di controllo della concentrazione di gas a cella di assorbimento
JP3336256B2 (ja) * 1998-07-02 2002-10-21 日本酸素株式会社 レーザ光によるガスの分光分析方法
US6207460B1 (en) * 1999-01-14 2001-03-27 Extraction Systems, Inc. Detection of base contaminants in gas samples
DE19949439C1 (de) * 1999-10-14 2001-02-08 Flow Comp Systemtechnik Gmbh Gasqualitätsbestimmung
JP3818051B2 (ja) * 1999-12-10 2006-09-06 昭和電工株式会社 アンモニア中の水分濃度の測定方法、測定装置、水分が低減されたアンモニアの製造方法およびその用途
US7091043B2 (en) 1999-12-10 2006-08-15 Showa Denko K.K. Method for measuring water concentration in ammonia
CN2513103Y (zh) * 2001-12-24 2002-09-25 中国科学院安徽光学精密机械研究所 烟道二氧化硫/氮氧化物(so2/nox)在线连续监测仪
ITMI20022011A1 (it) * 2002-09-23 2004-03-24 Getters Spa Metodo e sistema per la misura della concentrazione di ossigeno e acqua in idrogeno mediante spettroscopia do mobilita' ionica.

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10281988A (ja) 1997-04-09 1998-10-23 Nippon Sanso Kk ガス分析方法及びガス分析装置
KR20000029101A (ko) * 1998-10-16 2000-05-25 쉬에르 피에르 분석하고자 하는 가스 샘플 내 불순물의 양을 측정하는방법 및 장치
JP2000275171A (ja) 1999-03-24 2000-10-06 Nkk Corp 気体中の浮遊粒子の原子吸光分析方法および装置
JP2001356094A (ja) 2000-04-19 2001-12-26 Praxair Technol Inc 気体流れ中の不純物を分析するための方法

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