KR100737353B1 - 광학 정보 판독 장치 - Google Patents

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KR100737353B1
KR100737353B1 KR1020050075951A KR20050075951A KR100737353B1 KR 100737353 B1 KR100737353 B1 KR 100737353B1 KR 1020050075951 A KR1020050075951 A KR 1020050075951A KR 20050075951 A KR20050075951 A KR 20050075951A KR 100737353 B1 KR100737353 B1 KR 100737353B1
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구니히코 이토우
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가부시끼가이샤 덴소 웨이브
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Abstract

광학 정보 판독 장치에서, 픽업 유닛은 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 정보가 판독 위치에 위치될 때 타겟의 정보를 광학적으로 픽업하도록 구성된다. 마커 빔 조사 유닛은 광선(light beam)을 방사하도록 구성된 광원을 포함한다. 마커 빔 조사 유닛은 방사된 광선이 그 내부로 입사되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈를 포함한다. 패턴 형성 렌즈는 방사된 광선에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성된다. 마커 빔은 픽업 유닛의 판독 위치를 나타내기 위해 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 갖는다.
바코드, 마커 빔, 빔 패턴, 코드 판독기

Description

광학 정보 판독 장치{OPTICAL INFORMATION READING APPARATUS}
도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 건-형상(gun-shape) 2차원 코드 판독기의 구조를 개략적으로 도시한 부분 단면 측면도.
도2는 제1 실시예에 따른 2차원 코드 판독기의 전기 구조를 개략적으로 도시한 블록도.
도3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도4a는 도3에 도시된 마커 빔 조사 디바이스의 패턴 형성 렌즈의 구조를 개략적으로 도시한 평면도.
도4b는 도4a에 도시된 패턴 형성 렌즈의 일부분을 개략적으로 도시한 사시도.
도4c는 도4a에 도시된 패턴 형성 렌즈의 일부분을 개략적으로 도시한 사시도.
도5는 도3에 도시된 마커 빔 조사 디바이스에 의해 형성되는, 타겟 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 개략적으로 도시한 도면.
도6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조를 개략적 으로 도시한 도면.
도7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 패턴 형성 렌즈의 구성과 레이저 빔의 빔 프로파일 사이의 관계를 개략적으로 도시한 도면.
도8a는 본 발명의 제3 실시예에 따른 마커빔 조사 디바이스의 패턴 형성 렌즈의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.
도8b는 본 발명의 제3 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스에 의해 형성되는, 타겟 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 개략적으로 도시한 도면.
도9a는 본 발명의 제4 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 패턴 형성 렌즈의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.
도9b는 본 발명의 제4 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스에 의해 형성되는, 타겟 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 개략적으로 도시한 도면.
도10은 본 발명의 제5 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스에 의해 형성되는, 타겟 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 개략적으로 도시한 도면.
도11은 본 발명의 제5 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 패턴 형성 렌즈의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.
도12a는 도11에 도시된 패턴 형성 렌즈의 출사면(output surface) 상에 형성된 제1 및 제2 렌즈부를 개략적으로 도시한 도면.
도12b는 도11에 도시된 패턴 형성 렌즈의 입사면(entrance surface) 상에 형성된 제3 렌즈부를 개략적으로 도시한 도면.
도12c는 제5 실시예에 따른 도11에 도시된 패턴 형성 렌즈의 일측을 수평방 향에서 개략적으로 도시한 도면.
도12d는 제5 실시예에 따른 도11에 도시된 패턴 형성 렌즈의 타측을 수평방향에서 개략적으로 도시한 도면.
도13a는 제5 실시예에 따른 패턴 형성 렌즈의 입사면으로 진입한 레이저 빔의 일부를 개략적으로 도시한 도면 - 해칭으로 나타낸 레이저 빔의 이 부분은 마커 빔의 형성하는데 효율적임 - .
도13b는 패턴 형성 렌즈의 출사측에만 형성된 십자형 렌즈에 대응하는 레이저 빔의 일부를 개략적으로 도시한 도면 - 레이저 빔의 이 부분은 해칭으로 도시됨 - .
도14는 본 발명의 제1 내지 제5 실시예의 각각의 변형에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도15는 종래의 광학 정보 판독기의 마커 빔 조사 디바이스의 배열을 개략적으로 도시한 도면.
도16은 도15에 도시된 마커 빔 조사 디바이스의 구조를 개략적으로 도시한 도면.
도17은 도16에 도시된 마커 빔 조사 디바이스에 의해 형성되는, 타겟 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 개략적으로 도시한 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
16: 마커 빔 조사 디바이스 33: 레이저 다이오드
34: 집광 렌즈 35: 패턴 형성 렌즈
35a: 베이스 엘리먼트 38: 원통형 렌즈 어셈블리
36: 이미징 렌즈 37: 렌즈 조리개
본 발명은, 바코드 또는 2차원 코드 등의 정보 코드와 같은 광학적으로 판독 가능한 정보가 부착된 타겟을 광학적으로 판독하기 위한 장치에 관한 것이다.
핸드헬드 광학 정보 판독기는 바코드, 2차원 코드, 또는 기타 유사한 코드와 같은 광학적으로 판독가능한 정보 코드를 판독하는 것을 목적으로 한다. 본 명세서에서, 타겟 자체나 광학적으로 판독가능한 정보가 부착된 타겟은 총괄적으로 "타겟"으로 언급한다.
핸드헬드 광학 정보 판독기의 유용성을 향상시키기 위해, 핸드헬드 광학 정보 판독기로부터 떨어진 위치에 있는 정보 코드를 판독할 수 있는 핸드헬드 광학 정보가 제공되어 왔다.
핸드헬드 광학 정보 판독기는 그 일단부에 판독 윈도우(reading window)가 제공된 핸드헬드 본체 케이스를 갖는다. 또한, 핸드헬드 광학 정보 판독기는 CCD(charge-coupled device) 영역 센서 등의 광검출기(photodetector), 이미징 렌즈를 갖는 이미징 광학부(imaging optics), 및 LED(light emitting diode) 등의 조 광 디바이스(light illuminating device)로 이루어진 판독 유닛도 포함한다. 광검출기, 이미징 유닛, 및 판독 유닛은 본체 케이스 내에 각각 설치된다.
판독 윈도우(광검출기)와 타겟을 정렬하기 위해, 핸드헬드 광학 정보 판독기에는 레이저 다이오드(LD), LED, 또는 유사한 발광 디바이스를 이용하는 마커 빔 조사 유닛(marker beam irradiating unit)이 공통적으로 제공된다. 마커 빔 조사 유닛은, 광검출기의 시야(field of view)(FOV) 및/또는 FOV의 중심 위치와 같은 판독기의 판독 위치를 나타내기 위해 타겟 상에 마커 빔을 조사하도록 동작한다.
그와 같은 마커 빔 조사 유닛의 일례가 미국 특허공개 제6,347,163호에 기재되어 있다. 이 마커 빔 조사 유닛은 광원으로서 높은 가시성(high-visibility)을 갖는 마커 빔을 방사하는 LD와, 방사된 빔이 다양한 디자인으로 타겟 상에 조사되는 회절 격자(diffraction grating)를 이용한다.
특히, 도15에 도시한 바와 같이, 마커 빔 조사 유닛(3)은 CCD 영역 센서(1)와 이미징 광학부(2)의 상측과 같은 일측 상에 위치된다. 도16에 도시한 바와 같이, 마커 빔 조사 유닛(3)은 레이저 다이오드(4), 그 발광측에 배치되고 그와 동축으로 배열된 시준 렌즈(collimation lens), 그 시준된 광 출력측에 배치되고 그와 동축으로 배열된 회절 격자(6)로 이루어진다.
마커 빔 조사 유닛(3)에서, 레이저 다이오드(4)로부터 방사된 레이저 빔은 시준 렌즈(5)에 의해 집광된다. 집광된 빔은 회절 격자(6)의 홀로그램 면으로 진입하도록 회절 격자를 통해 전달된다. 입사 레이저 빔은 홀로그램 면에 의해 회절되어 1차 회전 빔렛과 2차 회절 빔렛은 타겟(R) 상에 미리 정해진 빔 패턴(회절 패 턴)을 갖는 마커 빔(M)으로서 홀로그램 면으로부터 조사된다(도15 및 도17 참조).
예를 들면, 마커 빔(M)의 회절 패턴은 CCD 영역 센서(1)의 시야(V)의 4개 코너부에 대응하는 4개의 L자형 패턴 엘리먼트로 이루어진다(도15 참조). 또한, 마커 빔(M)의 회절 패턴은 시야(V)의 중심을 나타내는 십자형 패턴 엘리먼트(corss pattern element)도 포함한다.
그러나, 1차 회절 빔렛과 2차 회절 빔렛 등의 회절 빔렛은 마커 빔의 빔 패턴(회절 패턴)을 형성하기 때문에, 도17에 도시한 바와 같이, 회절 빔렛은 도트 패턴으로서 타겟(R) 상에 나타나게 된다. 즉, 도트 패턴의 세트는 타겟(R) 상에 선형 패턴을 형성하고, 이는 타겟(R) 상의 빔 패턴을 흐려지게 야기하여, 빔 패턴의 시각 효과를 열화시킨다.
또한, 바코드 등의 1차원 코드를 스캐닝하는 경우, 마커 빔 조사 유닛을 갖는 광학 정보 판독기는 선형적으로 횡방향으로 연장하는 마커 빔을 바코드 스캐닝을 위한 조사광으로서 이용할 수 있다.
그러나, 그러한 회절 격자를 갖는 마커 빔 조사 유닛을 이용하는 일부의 광학 정보 판독기는 마커 빔 조사 유닛으로부터 방사되는 마커 빔을 바코드 스캐닝을 위한 조사광으로서 이용할 수 없다.
시준 렌즈(5)가 레이저 다이오드(4)로부터 방사된 레이저 빔을 집광하기 위한 집광 렌즈(collective lens)로서 일반적으로 이용된다는 점에 유념해야 한다. 시준 렌즈는 그에 의해 집광된 레이저 빔을 그 횡단면에서 실질적으로 장형(prolate)인 타원 프로파일로 전달한다. 이는 집광된 빔의 전달 효율을 열화시켜, 레이저 빔의 큰 손실을 유발한다.
본 발명은 이러한 배경 기술하에 이루어진 것으로, 본 발명의 광학 판독 장치의 바람직한 실시예는 미리 정해진 빔 패턴으로 마커 빔을 타겟 상에 명확하게 조사할 수 있다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 광학 정보 판독 장치가 제공된다. 이 장치는 미리 정해진 판독 위치를 갖는 픽업(pickup) 유닛을 포함한다. 픽업 유닛은, 정보가 판독 위치에 위치될 때, 타겟의 정보를 광학적으로 픽업하도록 구성된다. 이 장치는 마커 빔 조사 유닛을 포함한다. 마커 빔 조사 유닛은 광을 방사하도록 구성된 광원과, 방사된 광이 통과하도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈를 포함한다. 패턴 형성 렌즈는 방사된 광선 상에 기반하는 마커 빔을 조사하도록 구성된다. 마커 빔은 픽업 유닛의 판독 위치를 나타내기 위해 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 갖는다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 이 실시예에서, 본 발명은 건-형상(gun-shape) 2차원 코드 판독기에 적용된다.
(제1 실시예)
도1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 건-형상 2차원 코드 판독기(CR)의 구조를 개략적으로 도시한 부분 단면 측면도이다. 도2는 제1 실시예에 따른 2차원 코드 판독기(CR)의 전기 구조를 개략적으로 도시한 블록도이다.
도1에 도시한 바와 같이, 타겟을 광학적으로 판독하기 위한 장치의 일례로서, 본 발명의 제1 실시예에 따른 2차원 코드 판독기(CR)에는 건-형상 하우징(11)이 제공된다. 건-형상 하우징(11)은, 예를 들면, 얇은 장방형의 평행파이프 형상(parallelepiped)의 주본체(main body)(11a)를 갖는다. 주본체(11a)의 일측 단부는 라운드된다.
건-형상 하우징(11)의 주본체(11a)의 일측 단부의 일측(특히, 도1에서 하측)에는 주본체(11a)로부터 멀어져 연장하는 그립부(11b)가 제공된다. 그립부(11b)는 주본체(11a)에 일체적으로 형성된다. 그립부(11b)는 이용자로 하여금 한손으로 2차원 코드 판독기(CR)를 용이하게 파지하고 조작하는 것을 허용한다.
주본체(11a)의 타측 단부 측면에는 장방형의 반투명한 판독 윈도우(11c)가 형성된다. 2차원 코드 판독기(CR)에는 트리거(trigger) 스위치(12)도 제공된다. 트리거 스위치(12)는 그립부(11b)의 일측 표면에 배치되고, 판독 윈도우(11c)를 향해 있다. 트리거 스위치(12)는 이용자로 하여금 2차원 코드 판독기(CR)에 판독 동작을 명령하는 것을 허용한다.
2차원 코드 판독기(CR)에는 하우징(11)의 타측 단부 내에 배치된 판독 메커니즘(광학적 판독 메커니즘)(RM)이 제공된다. 제1 실시예에서, 하우징(11)의 타측 단부는 "헤드부"로 언급된다.
판독 메커니즘(RM)은 인쇄 또는 다른 방법에 의해 타겟(R)(도2 참조)에 부착된 QR(Quick Response) 코드 등의 2차원 코드를 판독하도록 동작한다. 타겟(R)은 페이퍼 또는 기타 매체의 조각인 카탈로그(catalog)와 레벨(level)을 포함한다. 타겟(R)은 상품 상에 부착될 수 있고, 이는 범용의 바코드와 동일하다. 2차원 코드는 상품의 제조 일련 번호, 이름, 고유 식별 번호, 제조일, 및 인터넷 상의 정보를 나타내는 URL 등의 정보를 포함한다.
최근, 타겟(R)은 컴퓨터 단말에서의 액정 디스플레이(LCD), 셀룰러 폰 또는 PDA(personal digital assistant) 등의 디스플레이의 스크린을 포함하고, 2차원 코드는 디스플레이의 스크린 상에 디스플레이된다.
예를 들면, 2차원 코드는 특정 패턴을 형성하여 데이터를 나타내기 위해 매트리스로 배열된 흑색 또는 백색 등의 상이한 컬러로 이루어진다. 흑색 및 백색 중 하나는 비트값 "0"과 "1" 중 하나에 대응하고, 흑색 및 백색 중 다른 하나는 비트값 "0"과 "1" 중 다른 하나에 대응한다. 셀을 판독한 후, 이를 디코딩하기 위해 판독된 컬러 데이터를 용이하게 디지털화할 수 있다.
도1 내지 도3에 개략적으로 도시한 바와 같이, 판독 메커니즘(RM)은 광검출기(13), 이미징 광학부(imaging optics)를 구성하는 이미징 렌즈(14), 및 한 쌍과 같은 복수의 조광 디바이스(15)를 포함하고, 이들 디바이스(15)는 도2에 도시된다. 또한, 판독 메커니즘(RM)은 광검출기(13)의 시야(FOV:field of view)의 위치 및/또는 시야의 중심을 마킹하기 위한 마커 빔 조광 디바이스(16)도 포함한다.
광검출기(13)는, 예를 들면, CCD 영역 센서로 이루어진다. 광검출기(13)는 주본체(11a)의 헤드부의 중앙에 위치된다. 광검출기(13)는 매트릭스 형태로 수평 및 수직으로 배열된 픽셀로 이루어진 액티브 영역(감광 픽셀 영역)이며, 특히, 제1 실시예에서, 광검출기(13)의 픽셀 영역은 그 FOV에 대응한다.
또한, 광검출기(13)는 미리 정해진 광축(optical axis)을 갖는다. 광검출기(13)는 그 픽셀 영역이 주본체(11a)의 판독 윈도우(11c)와 평행하게 대향하고, 그 광축이 판독 윈도우(11c)의 중심과 동축으로 정렬되도록 배열된다. 광검출기(13)의 시야의 종횡비는, 예를 들면, 3:4로 되도록 설정된다. 노출 시간, 즉 광검출기(13)의 셔터 속도는 외부적으로 제어될 수 있다.
이미징 렌즈(14)는 본체 튜브와 그 내부에 동축으로 배치된 복수의 렌즈를 갖는다. 이미징 렌즈(14)는 미리 정해진 광축을 갖는다. 이미징 렌즈(14)는 그 광축이 주본체(11a)의 판독 윈도우(11c)에 형성된 헤드 끝면(head end surface)과 직교하여 연장하도록 배열된다. 즉, 판독 윈도우(11c), 광검출기(13), 및 이미징 렌즈(14)는 주본체(11a) 내에서 상호 동축으로 정렬된다.
각각의 조광 디바이스(light illuminating device)(15)는 이미징 렌즈(14)의 주변에, 하나의 직경 방향측, 특히 그 상측을 제외하고 배치된다. 특히, 각각의 조광 디바이스(15)에는 광원으로서 기능하는 발광 다이오드(LED)가 제공된다. 또한, 각각의 조광 디바이스(15)에는 대응하는 발광 다이오드와 판독 윈도우(11c) 사이에 배치된 광 렌즈(light lens)가 제공된다. 각각의 광 렌즈의 광축은 판독 윈도우(11c)를 향해 있으며, 그에 따라 각각의 광 렌즈는 판독 위도우(11c)를 통해 각각 의 발광 다이오드로부터 방사된 광을 집광하거나 확산하도록 동작한다.
특히, 코드 판독기(CR)의 판독 윈도우(11c)는 2차원 코드가 부착된 타겟(R)에 대향하도록 위치되어, 각각의 조광 디바이스로부터 방사된 조사광은 판독 윈도우(11c)를 통해 2차원 코드 상에 조사된다. 2차원 코드로부터 반사된 광은 판독 윈도우(11c)를 통해 이미징 렌즈(14) 내로 입사된다. 이미징 렌즈(14) 내로 입사된 반사광은 이미징 렌즈(14)에 의해 광검출기(13)의 필셀 영역 상에 포커싱되고, 2차원 코드에 대응하는 이미지가 광검출기(13)에 의해 픽업된다.
또한, 도1에 도시한 바와 같이, 2차원 코드 판독기(CR)에는 주본체(11a) 내의 그 일단측, 특히 헤드측에 대향하는 후부측에 배치된 회로 기판(19)이 제공된다. 회로 기판(19)에는 코드 판독기(CR)의 전기적 구성요소가 설치된다(도2 참조). 도2에 도시한 바와 같이, 2차원 코드 판독기(CR)에는 동작 스위치(20), LED(발광 소자)(21), 액정 디스플레이(22), 경보기(beeper)(23), 및 통신 인터페이스(24)가 제공된다. 이들 구성요소(20-24)는 주본체(11a)의 일측 단부의 타측(특히, 도1에서 상측)에 각각 배치된다.
동작 스위치(20)는 이용자가 코드 판독기(CR)에 각종 명령어를 입력할 수 있게 해준다. LED(21)는 이용자에게 통지(notice)를 보내기 위한 정보를 시각적으로 나타낸다. 경보기(23)는 이용자에게 통지하기 위한 일련의 비프음을 발생하도록 동작한다. 통신 인터페이스(24)는 코드 판독기(CR)가 외부 장치와 통신하도록 해준다.
또한, 2차원 코드 판독기(CR)에는 전술한 광학 디바이스(13,15,16), 회로 기 판(19)에 설치된 전기 구성요소, 및 전술한 I/O 디바이스(12,20-24)를 각각 활성하기 위한 전원으로서 배터리(25)가 제공된다.
도2에 도시한 바와 같이, 회로 기판(19)에는, 예를 들면, 적어도 하나의 마이크로컴퓨터(CPU, ROM, RAM 등을 포함하는 내부 메모리 유닛 및 주변장치)로 이루어진 제어 회로(26)가 제공된다. 제어 회로는 하드-와이어드 로직 회로(hard-wired logic circuit)로 디자인될 수 있다.
제어 회로(26)는 배터리(25)로부터 공급된 전력에 기반하여 동작한다. 제어 회로(26)는, 예를 들면, 2차원 코드 판독기(CR)의 전체를 제어하고 디코딩 프로세스 및 다른 프로세스를 수행하기 위해 ROM 및/또는 RAM에 저장된 프로그램에 따라 동작한다. 프로그램은 매체에 포함된 신호로부터 내부 메모리 유닛으로 로드될 수 있다. 적당한 신호 포함 매체의 일례로는, 플로피 디스크와 CD-ROM 등의 기록가능한 타입의 매체와, 디지털과 아날로그 통신 링크 등의 전송형 매체를 포함한다.
제어 회로(26)는 트리거 스위치(12)와 동작 스위치(20)와 통신가능하게 결합되어, 스위치(12,20)로부터 송신된 명령어가 제어 회로(26)로 입력된다. 제어 회로(26)는 광검출기(13), 조광 디바이스(15), 및 마커 빔 조사 디바이스(16)와 통신가능하게 각각 결합된다.
즉, 제어 회로(26)는 광검출기(13), 조광 디바이스(15), 및 마커 빔 조사 디바이스(16)를 제어하여 타겟(R)에 부착된 2차원 코드의 판독 프로세스를 실행하도록 동작한다. 제어 회로(26)는 LED(21), 경보기(23), 및 액정 디스플레이(22)를 제어하도록 이들과 통신가능하게 결합된다. 또한, 제어 회로(26)는, 예를 들면, 통신 인터페이스(24)를 통해 관리 컴퓨터를 포함하는 외부 장치와 통신하도록 통신 인터페이스(24)에 통신가능하게 결합된다.
특히, 제어 회로(26)는 광검출기(13)의 노출 시간(셔터 스피드)을 제어하도록 동작한다.
또한, 회로 기판(19)에는, 증폭기(AMP)(17), 아날로그/디지털(A/D) 컨버터(28), 메모리(29), 특정비(specified-ratio) 검출 회로(30), 동기 신호 생성기(31), 및 어드레스 생성기(32)가 설치되고, 이들은 각각 제어 회로(26)와 통신가능하게 결합된다.
증폭기(27)는 광검출기(13)에 전기적으로 접속되고, 제어 회로(26)로부터 전송된 이득 제어 신호에 기반하는 이득으로 광검출기(13)로부터 출력된 이미지 신호를 증폭하도록 동작한다. A/D 컨버터(28)는 증폭기(27)에 전기적으로 접속되고, 증폭된 이미지 신호를 디지털 이미지 데이터(광검출기(13)의 감광 픽셀 영역의 각 픽셀의 광 세기 데이터(픽셀 데이터))로 변환한다.
동기 신호 생성기(31)는, 제어 회로(26)의 제어하에서, 예를 들면, 광검출기(13), 특정비 검출 회로(30), 및 어드레스 생성기(32)로 주기적으로 동기 신호를 출력하기 위해 동기 신호를 주기적으로 생성한다.
어드레스 생성기(32)는 카운트 결과에 응답하여 어드레스를 생성하고, 그에 따라 메모리(29)로 어드레스 신호를 출력하도록 전송된 동기 신호의 수를 주기적으로 카운트한다.
특히, A/D 컨버터(28)로부터 송신된 이미지 데이터는 출력된 어드레스 신호 에 대응하도록 메모리(29) 내에 저장된다. 특정비 검출 회로(30)는 동기 신호에 응답하여 이미지 데이터 내의 특정 패턴(비트 패턴)을 검출하도록 제어 회로(26)의 제어에 기반하여 동작한다. 제어 회로(26) 및 특정비 검출 회로(30)는 검출된 특정 패턴에 기반하여 이미지 데이터에 대응하는 정보 코드의 타입을 식별하고, 식별된 결과에 기반하여 이미지 데이터를 디코딩한다. 즉, 이미지 내의 특정 패턴은 제어 회로(26)와 특정비 검출 회로(30)가 이미지 데이터(정보 코드)의 타입을 식별하는 것을 허용한다.
다음으로, 마커 빔 조사 디바이스(16)의 구조를 도3 내지 도5를 참조하여 이하에 설명한다.
마커 빔 조사 디바이스(16)는 판독 메커니즘(RM)의 주변에 배치된다. 예를 들면, 마커 빔 조사 디바이스(16)는 이미징 렌즈(14)의 하나의 직경 방향측(상측)에 배치되고, 각각의 조광 디바이스(15)와 마커 빔 조사 디바이스(16)는 위치적으로 서로 무관하다.
마커 빔 조사 디바이스(16)는 광검출기(13)의 FOV로서 광검출기의 판독 위치를 나타내기 위해 미리 정해진 패턴으로 타겟(R) 상에 마커 빔(M)을 조사하도록 동작한다. 도5는 타겟(R) 상의 미리 정해진 마커 빔 패턴의 패턴 형상을 도시한다.
도5에 도시한 바와 같이, 마커 빔(M)의 미리 정해진 빔 패턴은, 그 종횡비가 3:4인 광검출기의 FOV의 4개 코너에 대응하는 4개의 L자형 패턴 엘리먼트(빔렛(beamlet))(Ma-Md)로 이루어진다. 또한, 마커 빔(M)의 미리 정해진 패턴은 FOV의 중심을 나타내는 십자형 패턴 엘리먼트(Me)도 포함한다. 특히, 각각의 L자형 패턴 엘리먼트(빔렛)(Ma-Md)와 십자형 패턴 엘리먼트는 미리 정해진 패턴 폭(빔 폭)을 갖는다.
도3에 도시한 바와 같이, 마커 빔 조사 디바이스(16)에는, 그 광축이 판독 윈도우(11c)를 통과하도록 향해 있는 레이저 다이오드(33)가 광원으로서 제공된다. 마커 빔 조사 디바이스(16)에는, 레이저 다이오드(33)의 레이저-빔 출력측(판독 윈도우측)에 미리 정해진 간격으로 동축으로 차례대로 정렬된 집광 렌즈(34), 패턴 형성 렌즈(35), 이미징 렌즈(36), 및 렌즈 조리개(lens aperture)(37)도 제공된다.
특히, 레이저 다이오드(33)는 가시 주파수 범위 내에서 확산된(diffused) 레이저 빔을 방사하도록 동작한다. 집광 렌즈(34)는 방사된 확산 레이저 빔을 집광하도록 동작하여, 집광된 빔이 패턴 형성 렌즈(35)로 입사되도록 한다.
패턴 형성 렌즈(35)는, 예를 들면, 투명 플라스틱, 투명 글래스, 또는 기타 투명 재료로 이루어지며, 미리 정해진 패턴의 마크 빔(M)을 형성하도록 동작한다.
특히, 도4a에 도시한 바와 같이, 패턴 형성 렌즈(35)는 수평으로 긴 판-형상(plate-like shape)의 베이스 엘리먼트(35a)로 이루어지고, 이 형상은 광검출기의 FOV의 영역에 대응한다. 이 베이스 엘리먼트(35a)는 집광 렌즈(34)와 동축으로 정렬된다. 패턴 형성 렌즈(35)에는 복수의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)로 이루어진 원통형 렌즈 어셈블리(38)가 제공된다. 원통형 렌즈 어셈블리(38)는 베이스 엘리먼트(35a)의 일측면(S)과 일체화되고, 이 일측면(S)은 이미징 렌즈(36)와 대면한다.
도4a 내지 도4c에 도시한 바와 같이, 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 수는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 수에 대응하고, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 형상과 방위는 각각의 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 형상과 방위에 대응한다. 또한, 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 배열에 대응하기 위해 베이스 엘리먼트(35a)의 표면(S)에 배열된다.
특히, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38d)는 실질적으로 L자형을 갖는다. 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)는, 이미징 렌즈측으로부터 보았을 때, 실질적으로 연속적인 L자형을 갖는 실질적으로 원통형(반원형)의 굴절면(38a1)을 갖는다. 동일하게, 원통형 렌즈(38b-38d)는, 이미징 렌즈측으로부터 보았을 때, 각각 실질적으로 연속하는 L자형을 갖는 실질적으로 원통형의 굴절면(38b1-38d1)을 갖는다.
도4c에 도시한 바와 같이, 원통형 렌즈 엘리먼트(38e)는 실질적으로 십자형을 갖는다. 특히, 원통형 렌즈 엘리먼트(38e)는, 이미징 렌즈측으로부터 보았을 때, 실질적으로 연속적인 십자형을 갖는 실질적으로 원통형(반원형)인 제1 굴절면(38e1)을 갖는다.
즉, 원통형 렌즈의 원통형 굴절면은, 레이저 빔이 원통형 렌즈로 입사될 때, 입사 레이저 빔의 굴절을 유발하여 선형적으로 입사 레이저 빔을 포커싱하는 기능을 갖는다.
레이저 빔이 원통형 렌즈 어셀블리(38)의 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38d) 내로 들어갈 때, 그에 따라 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)로 입사된 빔렛은 그 굴절면(38a1)에 의해 굴절된다. L자형 패턴 엘리먼트(Ma)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는 굴절된 빔렛은 이미징 렌즈(36) 내로 입사되도록 전달된다.
동일하게, L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38b-38d) 내로 입사된 빔렛은 그 굴절면(38b1-38d1)에 의해 굴절되어, 각각의 L자형 패턴 엘리먼트(Mb-Md)의 형상과 빔폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는 각각의 굴절된 빔렛은 이미징 렌즈(36)로 입사되도록 전달된다.
또한, 레이저 빔이 원통형 렌즈 어셈블리(38)의 십자형의 원통형 렌즈(38e)로 들어갈 때, 십자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38e)로 입사된 빔렛은 그 굴절면(38e)에 의해 굴절된다. 십자형 패턴 엘리먼트(Me)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는 굴절된 빔렛은 이미징 렌즈(36) 내로 입사되도록 전달된다.
제1 실시예의 구조에서, L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38d)를 대표하여 도4b에서의 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)로 도시된 바와 같이, 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)는 그 굴절면(38a1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경이 굴절면(38a1) 상의 각각의 위치와 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 방사 위치 사이의 거리에 따라 변화하도록 구성된다.
예를 들면, 참조기호 "r"은 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)의 굴절면(38a1)의 곡률반경으로 언급된다. L자형 굴절면(38a1)의 일단부의 외주에서의 곡률반경 "r"이 "r1"로 설정되면, 굴절면(38a1) 상의 위치는 일단부로부터 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)의 코너부측으로 갈수록 멀어지고, 굴절면(38a1) 상의 그 위치에서의 곡률반경 r2가 더 길게 된다.
동일하게, L자형 굴절면(38a1)의 타단부의 외주에서의 곡률반경 "r"이 "r3"로 설정되면, 굴절면(38a1) 상의 위치는 타단부로부터 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)의 코너부측으로 갈수록 멀어지고, 굴절면(38a1) 상의 그 위치에서의 곡률반경 r2가 더 길게 된다.
즉, 제1 실시예에서, 굴절면(38a1) 상의 한 위치에서의 곡률반경이 길수록, 굴절면(38a1) 상의 그 위치에서의 굴절 각도는 작아진다. 따라서, 굴절면(38a1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경의 조정은 그에 따른 굴절 각도의 제어를 허용하고, L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)를 통해 전달된 L자형 빔렛의 빔 폭을 일정하게 유지할 수 있게 한다.
각각의 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38b-38d)의 각각의 굴절면(38b1-38d1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경은 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a)와 동일한 방식으로 조정된다. 이는 각각의 L자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38b-38d)를 통해 전달된 L자형 빔렛의 빔 폭을 일정하게 유지할 수 있게 한다.
동일하게, 참조기호 "ra"는 십자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38e)의 곡률반경으로 언급된다. 굴절면(38e1)의 일단부의 외주에서의 곡률 반경 "ra"가 "r10"으로 설정되면, 굴절면(38e1) 상의 위치는 일단부로부터 렌즈 엘리먼트(38e)의 중심부의 코너부로 갈수록 멀어지고, "r1"로 언급되는 굴절면(38e1)의 그 위치에서의 곡률반경은 더 길어진다.
즉, 제1 실시예에서, 굴절면(38e1) 상의 한 위치에서의 곡률반경이 길수록, 굴절면(38e1) 상의 그 위치에서의 굴절 각도는 작아진다. 굴절면(38e1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경의 조정은 그에 따른 굴절 각도의 제어를 허용하고, 십자형의 원통형 렌즈 엘리먼트(38e)를 통해 전달된 십자형 빔렛의 빔 폭을 일정하게 유지할 수 있게 한다.
또한, 레이저 다이오드(33)는 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 방사 위치와 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 각각의 주점(principal point) 사이의 거리가 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 초점 거리를 초과하도록 배열된다.
또한, 이미징 렌즈(36)는 렌즈 조리개(37)를 통과한 마커 빔(M)에 기반하여 타겟(R) 상에 이미지를 형성하도록 동작한다. 제1 실시예에서, 도1에 도시한 바와 같이, 집광 렌즈(34)는 레이저 다이오드(33)로부터 방사된 레이저 빔을 집광하도록 구성 및 배열되어, 원통형 렌즈 어셈블리(38)를 통해 전달된 마커 빔(M)은 이미징 렌즈(36)의 입사 동공(entrance pupil)(동축(pupil axes) P)에 일치한다.
또한, 렌즈 조리개(37)는 타겟(R)이 판독 윈도우(11c)로부터 비교적 멀리 있을 때 확산광을 제거하도록 동작한다.
제1 실시예에서, 제어 회로(26)는 2차원 코드 판독기(CR)가 동작하는 동안 레이저 다이오드(33)가 연속적으로 또는 주기적으로 레이저 빔을 방사하도록 마커 빔 조사 디바이스(16)의 레이저 다이오드를 제어하도록 동작한다.
또한, 트리거 스위치(12)는 2회의 스트로크(stroke)(제1 스트로크 및 제2 스트로크)로 이용자가 이를 누르는 것이 허용된다고 가정된다. 이러한 가정에서, 타겟(R) 상에 마커 빔(M)을 조사하기 위해서는, 이용자는 반 스트로크(half stroke)와 같은 제1 스트로크로 트리거 스위치를 누른다. 트리거 스위치(12)의 반 스트로크에 대응하고 마커 빔(M)의 조사를 나타내는 명령어가 제어 회로(26)로 송신되고, 제어 회로(26)는 레이저 다이오드(33)로 하여금 레이저 빔을 방사하도록 제어된다.
다음으로, 제1 실시예에 따른 2차원 코드 판독기(CR)의 동작에 대해 이하에 설명한다.
이용자가 타겟(R)에 부착된 2차원 코드를 판독하기를 원할 때, 이용자는 판독 윈도우(11c)가 타겟(R)으로부터 임의의 거리만큼 떨어져 타겟(R)에 대향하는 위치로 파워-온(power-on) 상태의 코드 판독기(CR)를 위치시킨다.
코드 판독기(CR)가 그 상태로 배치되면, 레이저 빔은 마커 빔 조사 디바이스(16)의 레이저 다이오드(33)로부터 연속적으로 방사되기 때문에, 마커 빔(M)은 마커 빔 조사 디바이스(16)로부터 타겟(R) 상에 연속적으로 조사된다(도5 참조). 마커 빔(M)은 광검출기(13)의 판독 위치(FOV)를 나타낸다.
다음으로, 이용자는 2차원 코드가 조사된 마커 빔(M)의 중심(FOV)에 위치되도록 위치로 코드 판독기(CR)를 타겟(R)과 정렬한다. 마커 빔(M)이 타겟(R) 상에 조사되는 동안, 이용자는 트리거 스위치(12)를 온(ON)으로 동작시킨다.
트리거 스위치(12)이 ON으로 켜짐에 따라, 제어 회로(26)는 레이저 다이오드(33)로 하여금 마커 빔(M)의 조사를 일시적으로 차단하도록 제어하고, 각각의 조광 디바이스(15)를 온(ON) 한다.
그 결과, 각각의 조광 디바이스(15)로 부터 방사된 조사광은 판독 위도우(11c)를 통해 타겟(R) 상의 2차원 코드 상에 조사된다. 타겟(R)의 2차원 코드로부터 반사된 광은 판독 윈도우(11c)를 통해 이미징 렌즈(14)로 입사된다. 이미징 렌즈(14)로 입사된 반사광은 이미징 렌즈(14)에 의해 광검출기(13)의 픽셀 영역 상에 포커싱되어, 2차원 코드에 대응하는 이미지가 광검출기(13)에 의해 픽업된다.
전술한 바와 같이, 제1 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스(16)는 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)를 갖는 원통형 렌즈 어셈블리(38)에 기반하여 마커 빔(M)(빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me))의 미리 정해진 빔 패턴을 형성한다. 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 형상 및 방위는 각각의 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 형상 및 방위에 대응하고, 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 배열에 대응하도록 각각 배열된다.
따라서, 이들 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)에 대응하는 선형 빔렛이 그를 통과해 형성되는 것을 허용한다. 이는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)가 타겟(R) 상에 명확하게 조사되는 것을 허용한다.
또한, 제1 실시예에서, 각각의 굴절면(38a1-38e1) 상의 각각의 위치와 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 방사 위치 사이의 거리에 따라, 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)의 각각의 굴절면(38a1-38e1) 상의 각가의 위치에서의 곡률반경을 변경할 수 있다. 이는 마커 빔(M)으로 이루어진 각각의 빔 패턴 엘리먼트의 빔폭이 일정하게 유지되는 것을 허용한다. 이는 타겟(R) 상에 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)의 명확한 조사를 안정적으로 한다.
또한, 제1 실시예에서, 타겟(R)이 판독 윈도우(11c)로 부터 비교적 멀리 떨여 있더라도, 렌즈 조리개(37)는 확산광을 방사하여, 타겟(R) 상에 조사된 빔 패턴의 명확도를 더욱 향상시킨다. 또한, 집광 렌즈(34)는, 레이저 다이오드(33)로부터 방사된 레이저 빔을 집광하도록 구성 및 배열되어, 이미징 렌즈(36)를 통해 전달된 마커 빔(M)이 이미징 렌즈(36)의 입사 동공(동축 P)에 일치된다. 집광 렌즈(34)의 이 구성은 레이저 빔의 손실을 감소시키고, 마커 빔(M)의 밝기를 높게 유지한다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에서는, 2차원 코드 판독기(CR)에는 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-38e)로 이루어진 원통형 렌즈 어셈블리(38)가 제공되고, 이들 원통형 렌즈 엘리먼트(38a-8e)는 빔 패턴 엘리먼트(Ma-Me)에 대응하는 선형 빔렛이 그를 통해 형성되는 것을 허용한다. 이 구조에서, 선형 빔렛 및 그 조합에 기반하여 마커 빔(M)을 미리 정해진 패턴으로 조사할 수 있고, 이는 종래의 회절 격자(6)의 홀로그램 면에 기반한 도트-패턴을 이용하는 마커 빔의 빔 패턴 형성과 상이하다.
원통형 렌즈 엘리먼트의 배열, 원통형 렌즈 엘리먼트의 개수, 그 형상 및 방위의 변경은 바람직한 마커 빔의 빔 패턴이 용이하게 디자인되는 것을 허용한다.
(제2 실시예)
도6 및 도7은 본 발명의 제2 실시예를 도시한다. 제2 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스를 제외하고, 제1 실시예에 따른 코드 판독기(CR)에서와 실질적으로 동일한 부분에 대한 제2 실시예의 2차원 코드 판독기의 엘리먼트의 설명은 생략하거나, 간단하게 설명한다. 즉, 제2 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조에 초점을 두고 설명한다.
제2 실시예에서, 마커 빔 조사 디바이스(41)와 제1 실시예의 마커 빔 조사 디바이스(16)의 차이점은 집광 렌즈(34)가 집광 렌즈(42)로 대체된 점이다.
특히, 집광 렌즈(42)는 오목하게 휜 출사면(42a)을 갖는다. 집광 렌즈(42)는 방사된 확산 레이저 빔을 그 횡단면이 실질적으로 원형 프로파일(실질적으로 타원 프로파일)로 집광하도록 동작한다. 집광 렌즈(42)는 집광된 광이 패턴 형성 렌즈(35)로 입사하도록 동작한다. 패턴 형성 렌즈(35)로 입사된 빔은 도7에서 참조기호 "L1"으로 언급된다.
집광 렌즈(42)의 구조를 상세하게 설명하기 위해, 출사면(42a)은 광검출기(13)의 수평 방향에 대응하는 수평 방향으로 미리 정해진 수평 곡률과, 광검출기(13)의 수직 방향에 대응하는 수직 방향으로 미리 정해진 수직 곡률를 갖는다. 집광 렌즈(42)의 출사면(42a)의 수평 곡률과 수직 곡률은 주축(major axis)(수평 바양)과 주축(수직 방향)에서의 빔 프로파일(L1)의 길이의 비율이 3:4의 광검출기의 FOV의 종횡비와 실질적으로 동일하도록 설정된다.
도7에서 이점 쇄선(L0)으로 도시된 바와 같이, 전술한 시준 렌즈(5)가 집광 렌즈(42)를 대신하여 이용되는 경우, 시준 렌즈(5)에 의해 집광된 레이저 빔은 그 횡단면에서 실질적으로 수평으로 장형인 타원 프로파일을 갖는다.이는 패턴 형성 렌즈(35)로 입사되는 레이저 빔의 손실량을 증가시켜, 마커 빔(M)의 총 밝기의 양이 부족하게 된다.
그러나, 제2 실시예의 구조에서, 집광된 레이저 빔의 그 횡단면에서의 빔 프로파일(L1)은 시준 렌즈를 이용하는 경우에 비교하여 보다 포커싱되어 있다. 따라서, 집광 렌즈(42)는 레이저 다이오드(33)로부터 방사된 레이저 빔의 집광 효율이 향상되는 것을 허용하고, 타겟(R) 상에 높은 밝기로 마커 빔(M)을 명확하게 조사할 수 있게 한다.
특히, 제2 실시예에서, 주축(수직 방향)에서의 빔 프로파일(L1)의 길이에 대한 주축(수평 방향)에서의 빔 프로파일의 길이의 비율은 3:4와 같은 광검출기의 FOV의 종횡비의 비율과 실질적으로 동일하다. 이는 레이저 다이오드(33)로부터 방사된 레이저 빔의 집광 효율을 더욱 향상시키는 것을 허용한다.
(제3 실시예)
도8a는 본 발명의 제3 실시예를 도시한다. 제3 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스를 제외하고, 제1 실시예에 따른 코드 판독기(CR)에서와 실질적으로 동일한 부분에 대한 제3 실시예의 2차원 코드 판독기의 엘리먼트의 설명은 생략하거나, 간단하게 설명한다. 즉, 제3 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조에 초점을 두고 설명한다.
제3 실시예에서, 도8b에 도시한 바와 같이, 제3 실시예에 따른 마커 빔(M1)의 미리 정해진 빔 패턴은 광검출기의 FOV의 중심 위치에 대응하는 중심 패턴 엘리먼트(M1a)로 이루어진다. 또한, 마커 빔(M1)의 미리 정해진 빔 패턴은 중심 패턴 엘리먼트(M1a)를 강조하여 나타내기 위해 중심 패턴 엘리먼트(M1a)를 수직으로 감싸는 한 쌍의 선형 패턴 엘리먼트(M1b,M1d)로도 이루어진다. 또한, 마커 빔(M1)의 미리 정해진 빔 패턴은 중심 패턴 엘리먼트(M1a)를 강조하여 나타내기 위해 중심 패턴 엘리먼트(M1a)를 수평으로 감싸는 한 쌍의 선형 패턴 엘리먼트(M1c,M1e)로도 이루어진다. 특히, 각각의 패턴 엘리먼트(빔렛)(M1b-M1e)는 미리 정해진 패턴 폭( 빔 폭)을 갖는다.
마커 빔 조사 디바이스와 제1 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스(16)의 차이점은, 패턴 형성 렌즈(35)가 패턴 형성 렌즈(51)로 대체된 점이다.
패턴 형성 렌즈(51)는, 예를 들면, 투명 플라스틱, 투명 글래스, 또는 기타 투명 재료로 이루어지고, 마커 빔(M1)의 미리 정해진 패턴을 형성하도록 동작한다.
특히, 도8a에 도시한 바와 같이, 패턴 형성 렌즈(51)는 수평으로 긴 판-형상을 갖는 베이스 엘리먼트(51a)로 이루어지고, 이 형상은 광검출기의 FOV의 영역에 대응한다. 이 베이스 엘리먼트(51a)는 집광 렌즈(34)와 동축으로 정렬된다. 패턴 형성 렌즈(51)에는 복수의 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)로 이루어진 원통형 렌즈 어셈블리(52)가 제공된다. 원통형 렌즈 어셈블리(52)는 베이스 엘리먼트(51a)의 일측면(S1)과 일체화되고, 이 일측면(S1)은 이미징 렌즈(36)와 대면한다.
도8a에 도시한 바와 같이, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)의 형상과 방위는 각각의 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)의 형상과 방위에 대응하고, 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)의 배열은 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)의 배열에 대응한다.
특히, 원통형 렌즈 엘리먼트(52a)는 베이스 엘리먼트(51a)의 일측면(S1)의 중심에 위치된 실질적으로 반구형(hemispherical)의 형상을 갖는다. 원통형 렌즈 어셈블리(52b-52e)는 원통형 렌즈 엘리먼트(52a)를 감싸도록 베이스 엘리먼트(51)의 일표면(S1) 상에 배열된다. 원통형 렌즈 엘리먼트(52b,52d)는 수직 방향을 따라 연장하도록 배열되고, 원통형 렌즈 엘리먼트(52c,52e)는 수평 방향을 따라 연장하도록 배열된다.
원통형 렌즈 엘리먼트(52a)는 실질적으로 반구형 굴절면(52a1)을 갖는다. 동일하게, 원통형 렌즈 엘리먼트(52b-52e)는 실질적으로 원통형 굴절면(52b1-52e1)을 갖는다.
제1 실시예와 동일하게, 레이저 빔이 원통형 렌즈 어셈블리(52)의 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e) 내로 입사될 때, 원통형 렌즈 엘리먼트(52a)로 입사된 빔렛은 그 굴절면(52a1)에 의해 굴절된다. 원통형 렌즈 엘리먼트(52a)에 의한 굴절된 빔렛은 패턴 엘리먼트(M1a)의 형상과 빔 직경에 대응하는 형상과 빔 직경을 갖는다.
동일하게, 원통형 렌즈 엘리먼트(52b-52e) 내로 입사된 빔렛은 그 굴절면(52b1-52e1)에 의해 굴절되어, 각각의 굴절된 빔렛은 각각의 패턴 엘리먼트(M1b-M1e)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는다.
제3 실시예의 구조에서, 제1 실시예와 동일하게, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(52b-52e)는 그 굴절면(52b1-52e1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경이 각각의 굴절면(52b1-52e1) 상의 각각의 위치와 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 방사 위치 사이의 거리에 따라 변화되도록 구성된다.
전술한 바와 같이, 제3 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스는 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)를 갖는 원통형 렌즈 어셈블리(52)에 기반하여 마커 빔(M1)(빔 패턴 엘리먼트(M1a-M1e))의 미리 정해진 빔 패턴을 형성한다. 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)의 형상 및 방위는 각각의 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)의 형상 및 방위에 대응하고, 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)는 빔 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)의 배 열에 대응하도록 각각 배열된다.
따라서, 이들 원통형 렌즈 엘리먼트(52a-52e)는 빔 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)에 대응하는 선형 빔렛이 그를 통과해 각각 형성되는 것을 허용한다. 이는 빔 패턴 엘리먼트(M1a-M1e)가 타겟(R) 상에 명확하게 조사되는 것을 허용한다. 또한, 제3 실시예에서, 판독 위치(FOV)의 중심 위치를 강조하도록 마커 빔(M1)을 형성할 수 있다.
(제4 실시예)
도9a는 본 발명의 제4 실시예를 도시한다. 제4 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스를 제외하고, 제1 실시예에 따른 코드 판독기(CR)에서와 실질적으로 동일한 부분에 대한 제4 실시예의 2차원 코드 판독기의 엘리먼트의 설명은 생략하거나, 간단하게 설명한다. 즉, 제4 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조에 초점을 두고 설명한다.
제4 실시예에서, 도9b에 도시한 바와 같이, 제4 실시예에 따른 마커 빔(M2)의 미리 정해진 빔 패턴은 FOV의 중심을 지나는 광검출기의 FOV의 수평 라인에 대응하는 수평 라인 패턴 엘리먼트(M2a)로 이루어진다. 또한, 마커 빔(M2)의 미리 정해진 빔 패턴은 중심 패턴 엘리먼트(M2a)를 강조하여 나타내기 위해 미리 정해진 간격을 두고 수평 라인 패턴 엘리먼트(M2a)의 중심부를 수직으로 직교하여 감싸는 한 쌍의 선형 패턴 엘리먼트(M2b,M2c)로도 이루어진다. 수평 라인 패턴 엘리먼트(M2a)의 패턴 폭은 각각의 선형 패턴 엘리먼트(M2b,M2c)의 패턴 폭과 실질적으로 동일하다.
이 마커 빔 조사 디바이스와 제1 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스(16)의 차이점은, 패턴 형성 렌즈(35)가 패턴 형성 렌즈(61)로 대체된 점이다.
패턴 형성 렌즈(61)는, 예를 들면, 투명 플라스틱, 투명 글래스, 또는 기타 투명 재료로 이루어지며, 미리 정해진 패턴의 마크 빔(M2)을 형성하도록 동작한다.
특히, 도9a에 도시한 바와 같이, 패턴 형성 렌즈(61)는 수평으로 긴 판-형상을 갖는 베이스 엘리먼트(61a)로 이루어지고, 이 형상은 광검출기의 FOV의 영역에 대응한다. 이 베이스 엘리먼트(61a)는 집광 렌즈(34)와 동축으로 정렬된다. 패턴 형성 렌즈(61)에는 복수의 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)로 이루어진 원통형 렌즈 어셈블리(62)가 제공된다. 원통형 렌즈 어셈블리(62)는 베이스 엘리먼트(61a)의 일측면(S2)과 일체화되고, 이 일측면(S2)은 이미징 렌즈(36)와 대면한다.
도9a에 도시한 바와 같이, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)의 형상과 방위는 각각의 패턴 엘리먼트(M2a-M2c)의 형상과 방위에 대응하고, 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)의 배열은 패턴 엘리먼트(M2a-M2c)의 배열에 대응한다.
특히, 원통형 렌즈 엘리먼트(62a)는 베이스 엘리먼트(61a)의 일측면(S2)의 중심을 지나도록 위치된 실질적으로 수평으로 선형인 형상을 갖는다. 원통형 렌즈엘리먼트(62b,62c)는 원통형 렌즈 엘리먼트(62a)의 중심부를 감싸도록 베이스 엘리먼트(61a)의 일측면(S2) 상에 배열된다. 원통형 렌즈 엘리먼트(62b,62c)는 수직 방향을 따라 연장된다.
원통형 렌즈 엘리먼트(62a)는 실질적으로 원통형 굴절면(62a1)을 갖는다. 동일하게, 원통형 렌즈 엘리먼트(62b,62c)는 실질적으로 원통형 굴절면(62b1,62c1)을 갖는다.
제1 실시예와 동일하게, 레이저 빔이 원통형 렌즈 어셈블리(62)의 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c) 내로 들어갈 때, 원통형 렌즈 엘리먼트(62a)로 입사된 빔렛은 그 굴절면(62a1)에 의해 굴절된다. 원통형 렌즈 엘리먼트(62a)에 의한 굴절된 빔렛은 패턴 엘리먼트(M2a)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는다.
동일하게, 원통형 렌즈 엘리먼트(62b,62c) 내로 입사된 빔렛은 그 굴절면(62b1,62c1)에 의해 굴절되어, 각각의 굴절된 빔렛은 각각의 패턴 엘리먼트(M2b,M2c)의 것에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는다.
제4 실시예의 구조에서, 제1 실시예와 동일하게, 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)는 그 굴절면(62a1-62c1) 상의 각각의 위치에서의 곡률반경이 각각의 굴절면(62a1-62c1) 상의 각각의 위치와 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 방사 위치 사이의 거리에 따라 변화되도록 구성된다.
전술한 바와 같이, 제4 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스는 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)를 갖는 원통형 렌즈 어셈블리(62)에 기반하여 마커 빔(M2)(빔 패턴 엘리먼트(M2a-M2c))의 미리 정해진 빔 패턴을 형성한다. 각각의 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)의 형상 및 방위는 각각의 패턴 엘리먼트(M2a-M2c)의 형상 및 방위에 대응하고, 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)는 빔 패턴 엘리먼트(M2a-M2c)의 배열에 대응하도록 각각 배열된다.
따라서, 이들 원통형 렌즈 엘리먼트(62a-62c)는 빔 패턴 엘리먼트(M2a-M2c) 에 대응하는 선형 빔렛이 그를 통과해 각각 형성되는 것을 허용한다. 이는 빔 패턴 엘리먼트(M2a-M2c)가 타겟(R) 상에 명확하게 조사되는 것을 허용한다. 또한, 제4 실시예에서, 판독 위치(FOV)의 중심 위치를 강조하도록 마커 빔(M2)을 형성할 수 있다.
또한, 제4 실시예에서, 원통형 렌즈 엘리먼트(62a)는 타겟(R) 상에 수평 빔 패턴(M2a)이 조사되는 것을 허용한다. 따라서, 바코드 등의 1차원 코드의 판독시, 조사광으로서 마커 빔(M2)을 바코드 상에 이용할 수 있다.
(제5 실시예)
도10 내지 도13b는 본 발명의 제5 실시예를 도시한다. 제5 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스를 제외하고, 제1 실시예에 따른 코드 판독기(CR)에서와 실질적으로 동일한 부분에 대한 제5 실시예의 2차원 코드 판독기의 엘리먼트의 설명은 생략하거나, 간단하게 설명한다. 즉, 제5 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스의 구조에 초점을 두고 설명한다.
제5 실시예에서, 도10에 도시한 바와 같이, 제5 실시예에 따른 마커 빔(M3)의 미리 정해진 빔 패턴은 FOV의 중심을 지나는 광검출기의 FOV의 수평 라인에 대응하는 수평 라인 패턴 엘리먼트(M3a)로 이루어진다. 또한, 마커 빔(M3)의 미리 정해진 빔 패턴은 중심 패턴 엘리먼트(M3a)를 강조하여 나타내기 위해 미리 정해진 간격을 두고 수평 라인 패턴 엘리먼트(M3a)의 중심부를 수직으로 직교하여 감싸는 한 쌍의 선형 패턴 엘리먼트(M3b,M3c)로도 이루어진다. 수평 라인 패턴 엘리먼트 (M3a)의 패턴 폭은 각각의 선형 패턴 엘리먼트(M3b,M3c)의 패턴 폭과 실질적으로 동일하다.
이 마커 빔 조사 디바이스와 제1 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스(16)의 차이점은, 패턴 형성 렌즈(35)가 패턴 형성 렌즈(81)로 대체된 점이다.
패턴 형성 렌즈(81)는, 예를 들면, 투명 플라스틱, 투명 글래스, 또는 기타 투명 재료로 이루어지며, 미리 정해진 패턴의 마크 빔(M3)을 형성하도록 동작한다.
특히, 도11 및 도12a 내지 도12d에 도시한 바와 같이, 패턴 형성 렌즈(81)는 수평으로 긴 판-형상을 갖는 베이스 엘리먼트(81a)로 이루어진다. 이 베이스 엘리먼트(81a)는 집광 렌즈(34)와 동축으로 정렬된다. 패턴 형성 렌즈(81)에는 베이스 엘리먼트(81a)의 일측면(S3a)에 일체화된 제1 렌즈부(82)와 한 쌍의 제2 렌즈부(83,84)가 제공된다. 이 일측면(S3a)은 패턴 형성 렌즈(81)의 출사면으로서 기능하기 위해 이미징 렌즈(36)와 대면한다.
도11 및 도12a에 도시한 바와 같이, 제1 렌즈부(82)는 그 횡단면에서 실질적으로 반 원통형 굴절면(82a)을 갖도록 일측면(S3a) 상에 볼록하게 형성된다. 굴절면(82a)은 비교적 좁은 폭을 갖고 일측면(S3a)의 중심을 완전히 지나도록 수평으로 연장된다.
제2 렌즈부(83,83)는 만곡된(curved) 원통형 굴절면(83a,83a)을 갖도록 일측면(S3a) 상에 볼록하게 형성되고, 각각의 제2 렌즈부(83,83)는 제1 렌즈부(82)의 폭 보다 넓은 미리 정해진 수평방향의 빔 폭을 갖고 수직으로 연장된다.
도12c 및 도12d에 도시한 바와 같이, 제1 렌즈부(82)는 제2 렌즈부(83,83)의 각각의 곡률보다 큰 미리 정해진 곡률을 갖고, 즉 제1 렌즈부(82)의 굴절면(82a)의 곡률반경은 각각의 굴절면(83a)의 곡률반경보다 짧다. 또한, 제1 렌즈부(82)의 굴절면(82a)의 돌출 길이는 제2 렌즈부(83)의 각각의 굴절면(83a)의 돌출 길이보다 길다.
또한, 패턴 형성 렌즈(81)에는 베이스 엘리먼트(81a)의 타측면(S3b)에 일체화된 제3 렌즈부(84)가 제공되고, 이 타측면(S3b)은 패턴 형성 렌즈(81)의 입사면으로 기능하기 위해 집광면(34)에 대면한다.
도11 및 도12b에 도시한 바와 같이, 제3 렌즈부(84)는 그 횡단면에서 실질적으로 만곡된 원통형 굴절면(84a)을 갖도록 타측면(S3b) 상에 오목하게 형성된다. 굴절면(84a)은 제1 렌즈부(82)의 굴절면(82a)의 폭보다 넓은 미리 정해진 폭을 갖고 타측면(S3b)의 중심을 완전히 지나도록 수평으로 연장한다.
도12c에 도시한 바와 같이, 제3 렌즈부는 제1 렌즈부(82)의 곡률보다 작은 미리 정해진 곡률을 갖고, 즉 제3 렌즈부(84)의 굴절면(84a)의 곡률반경은 제1 렌즈부(82)의 굴절면(82a)의 곡률반경보다 길다.
제1 실시예에서와 같이, 마커 빔 조사 디바이스에는 레이저 다이오드(33), 집광 렌즈(34), 패턴 형성 렌즈(81), 이미징 렌즈(36), 및 렌즈 조리개(37)가 제공되고, 이들은 미리 정해진 간격을 갖고 이러한 순서대로 레이저 다이오드(33)의 레이저 빔 출사측(판독 윈도우측)에 동축으로 정렬된다.
레이저 빔(L1)이 집광 렌즈(34)에 의해 집광되어 패턴 형성 렌즈(81)의 입사면(S3b)으로 입사되면, 제3 렌즈부(84)로 입사된 레이저 빔(L1)의 빔렛이 분광된 다. 분광된 빔(L1)은 제1 렌즈 엘리먼트(82)의 전체와 각각의 제2 렌즈 엘리먼트(83) 내로 입사된다.
따라서, 제1 렌즈부(82)로 입사된 빔렛은 그 굴절면(82a)에 의해 굴절되고, 수평 라인 패턴 엘리먼트(M3a)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는 빔렛이 이미징 렌즈(36) 내로 입사되도록 전달된다.
각각의 제2 렌즈부(83,83) 내로 입사된 레이저 빔(L1)의 빔렛은 그 각각의 굴절면(83a,83a)에 의해 굴절된다. 각각 수평 라인 패턴 엘리먼트(M3b,M3c)의 형상과 빔 폭에 대응하는 형상과 빔 폭을 갖는 굴절된 빔렛은 이미징 렌즈(36) 내로 입사되도록 전달된다.
전술한 바와 같이, 제3 실시예의 구조에서, 패턴 형성 렌즈(81)는 제3 렌즈부(84)를 갖는 입사면과, 제1 및 제2 렌즈 엘리먼트(82,83)를 갖는 출사면에 형성된다. 이 구조는 제3 렌즈부(84)가 이를 통과하여 입사된 레이저 빔이 패턴 형성 렌즈(81)의 입사면으로 분광되는 것을 허용하고, 이는 분광된 레이저 빔이 제1 렌즈부(82)의 전체 굴절면(82a)과 제2 렌즈부(82,83)의 굴절면(83a,83a)으로 입사되는 것을 허용한다.
즉, 제3 실시예에서, 이용자는 패턴 형성 렌즈(81)의 주요 부분를 이용하여 마커 빔(M3)의 빔 패턴을 형성할 수 있다. 이는 레이저 빔의 손실량을 상당히 감소시키고, 따라서 타겟(R) 상에 조사되는 마커 빔(M3)의 밝기를 증가시킨다.
또한, 패턴 형성 렌즈(81)의 입사면(S3b) 상에 형성된 제3 렌즈부(84)는 제1 렌즈부(82)의 곡률과, 제2 렌즈부(83,83)의 각각의 곡률이 상호 크게 달라지는 것 을 허용한다. 이는 패턴 형성 렌즈(81)로 입사된 레이저 빔을 더욱 효율적으로 사용할 수 있게 해준다.
또한, 제3 렌즈부(84)는 제1 렌즈부(82)의 굴절면(82a)의 폭과 각각의 제2 렌즈부(83,83)의 각각의 굴절면(83a)의 폭이 상호 크게 달라지는 것을 허용한다.이는 패턴 형성 렌즈(81)로 입사된 레이저 빔을 더욱 효율적으로 사용할 수 있게 해준다.
예를 들면, 도13a는 집광 렌즈(34)에 의해 집광되어 패턴 형성 렌즈(81)의 입사면(S3b)으로 입사되는 레이저 빔(L1)의 일부를 도시하고, 해칭에 의해 나타낸 레이저 빔(L1)의 이 부분은 마커 빔(M3)을 형성하는데 유효하다.
특히, 제5 실시예에 따른 패턴 형성 렌즈(81)에서, 레이저 빔(L1)의 대부분은 마커 빔(M3)을 형성하는데 이용될 수 있다. 이는 패턴 형성 렌즈의 출사측에만 형성된 십자형 렌즈부에 대응하는 레이저 빔(L1A) 부분을 사용하는 것과 비교하여 패턴 형성 레이저 빔의 사용 효율을 증가시킬 수 있고, 레이저 빔(L1A)의 이 부분은 도13b에서 해칭으로 도시된다.
전술한 바와 같이, 제5 실시예에서, 제1 실시예와 동일하게, 수평으로 연장하는 선형 빔 패턴(M3a)과, 선형 빔 패턴(M3a)에 직교하여 연장하는 각각의 선형 빔 패턴(M3b,M3c)으로 이루어진 마커 빔(M3)을 명확하게 조사할 수 있다. 또한, 패턴 형성 렌즈(81)로 입사되는 레이저 빔을 효율적으로 사용할 수 있다.
각각의 실시예 및 그 변형예에서, 각각의 마커 빔 조사 디바이스(16,41,61)에는 집광 렌즈(34,42)와 이미징 렌즈(35)가 제공되지만, 본 발명은 이 구조로 한 정되지 않는다. 특히, 도14에 도시한 바와 같이, 각각의 실시예의 변형에 따른 마커 빔 조사 디바이스(71)는 레이저 다이오드(33)로부터 방사된 확산 레이저 빔이 패턴 형성 렌즈(35,42)로 직접적으로 입사되어, 타겟(R) 상의 입사된 레이저 빔에 기반하여 명확하게 마커 빔을 조사하도록 구성될 수 있다. 이 변형된 구조는 마커 빔이 명확하게 조사되는 것을 허용한다.
각각의 제1 내지 제5 실시예 및 그 변형예에서, 본 발명은 건-형상 2차원 코드 판독기에 적용되었지만, 본 발명은 각각의 제1 내지 제5 실시예의 구조로 한정되지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 광학 정보 판독기는 핸드헬드 구조 등의 다른 구조일 수 있다.
마커 빔의 빔 패턴은 크게 변화될 수 있다. 예를 들면, 광검출기(3)의 FOV에 대응하는 장방형 또는 정방형 프레임-형상이 마커 빔의 빔 패턴으로서 이용될 수 있다. 또한, FOV의 중심, 일측 및 타측(또는 종방향) 단부를 각각 나타내는 복수의 십자형 패턴 엘리먼트가 마커 빔의 빔 패턴으로서 이용될 수 있다. 또한, 필요에 따라 렌즈 조리개가 제1 내지 제5 실시예에 따른 마커 빔 조사 디바이스에 제공될 수 있고, 장치가 이를 필요로 하지 않는다면 생략될 수 있다.
제1 내지 제5 실시예 및 그 변형예에서, "렌즈 및/또는 렌즈 엘리먼트"라는 용어는 투명 재료로 이루어지고, 입사된 광에 광학적으로 작용하도록 설계된 모든 광학 부재를 개념적으로 포함한다.
지금까지 본 발명의 실시예와 변형예에 대해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 첨부한 청구범위 내에서 각종 변형이 가능하다.
본 발명에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴으로 마커 빔을 타겟 상에 명확하게 조사할 수 있는 광학 정보 판독 장치를 제공할 수 있다.

Claims (17)

  1. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛(pickup unit); 및
    마커 빔 조사 유닛(maker beam irradiating unit)
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광(light beam)을 방사(emit)하도록 구성된 광원(light beam source); 및
    상기 방사된 광(emitted light beam)이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛(linear beamlet)으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - 를 포함하고,
    여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는, 실질적으로 원통형 굴절면(refractive surface)을 가지며 상기 빔 패턴에 대응하도록 배열된 적어도 하나의 렌즈 엘리먼트(lens element)를 갖고, 상기 적어도 하나의 렌즈 엘리먼트의 상기 굴절면 상의 각각의 위치에서의 곡률 반경(radius of curvature)은 상기 굴절면 상의 각각의 위치와 상기 광이 방사되는 광원의 위치 사이의 거리에 따라 변하는
    광학 정보 판독 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 렌즈 엘리먼트의 굴절면은 그 내부로 입사되는 상기 방사된 광이 굴절되는 것을 허용하고, 상기 굴절된 광은 상기 빔 패턴의 상기 적어도 하나의 선형 빔렛의 형상과 폭에 대응하는 형상과 폭을 갖는
    광학 정보 판독 장치.
  4. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원; 및
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - 를 포함하고,
    여기서, 상기 픽업 유닛의 판독 위치는 상기 픽업 유닛의 시야(field of view)에 대응하는 미리 정해진 영역이고, 상기 시야는 상기 픽업 유닛의 광축(optical axis)에 대응하는 미리 정해진 중심 위치 및 미리 정해진 형상을 갖고, 상기 빔 패턴은 상기 시야의 중심 위치 및 그 형상 중 적어도 하나를 식별하도록 배열된 복수의 패턴 엘리먼트를 갖고, 상기 패턴 형성 렌즈는 각각 실질적으로 원통형 굴절면을 갖는 복수의 렌즈 엘리먼트를 갖고, 상기 렌즈 엘리먼트는 각각 상기 빔 패턴의 패턴 엘리먼트에 대응하도록 배열되는
    광학 정보 판독 장치.
  5. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원;
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - ;
    상기 광원과 상기 빔 패턴 형성 렌즈 사이에 배열되고, 집광된 광이 상기 빔 패턴 형성 렌즈로 입사되기 위해서 상기 방사된 광을 집광하도록 구성된 집광 광학 렌즈(collective optical lens); 및
    상기 집광 광학 렌즈와 동축으로 정렬되고, 상기 빔 패턴 형성 렌즈와 미리 정해진 간격을 두고 대향하여 배열된 이미징 렌즈(imaging lens)를 포함하는
    광학 정보 판독 장치.
  6. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원;
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - ; 및
    상기 광원과 동축으로 정렬되고, 상기 빔 패턴 형성 렌즈와 미리 정해진 간격을 두고 대향하여 배열된 조리개(aperture)를 포함하는
    광학 정보 판독 장치.
  7. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원; 및
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - 를 포함하고,
    여기서, 상기 광원은, 상기 광이 방사되는 광원의 위치와 상기 빔 패턴 형성 렌즈의 주점(principal point) 사이의 거리가 상기 빔 패턴 형성 렌즈의 초점 거리(focal length)를 초과하도록 배열되는
    광학 정보 판독 장치.
  8. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원; 및
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - 를 포함하고,
    여기서, 상기 마커 빔의 빔 패턴은 제1 및 제2 방향을 따르는 십자형(cross-shaped) 패턴 엘리먼트를 갖고, 상기 십자형 패턴 엘리먼트는 상기 판독 위치의 중심을 나타내고, 상기 패턴 형성 렌즈는, 상기 십자형 패턴 엘리먼트의 중심에 대응하도록 배열된 실질적으로 반구형(hemispherical shaped) 렌즈 엘리먼트, 상기 반구형 렌즈 엘리먼트를 감싸도록 상기 제1 및 제2 방향 중 한 방향을 따라 배열된 제1 쌍의 원통형 렌즈 엘리먼트, 및 상기 반구형 렌즈 엘리먼트를 감싸도록 상기 제1 및 제2 방향 중 다른 방향을 따라 배열된 제2 쌍의 원통형 렌즈 엘리먼트를 갖는
    광학 정보 판독 장치.
  9. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원; 및
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - 를 포함하고,
    여기서, 상기 빔 패턴은 제1 및 제2 방향을 따르는 십자형 패턴 엘리먼트를 갖고, 상기 십자형 패턴 엘리먼트는 상기 판독 위치의 중심을 나타내고, 상기 패턴 형성 렌즈는, 상기 십자형 패턴 엘리먼트의 중심에 대응하도록 상기 제1 및 제2 방향 중 한 방향을 따라 배열된 선형 엘리먼트, 및 상기 선형 엘리먼트를 감싸도록 상기 제1 및 제2 방향 중 다른 방향을 따라 배열된 한 쌍의 원통형 렌즈 엘리먼트를 갖는
    광학 정보 판독 장치.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 집광 광학 렌즈는, 상기 빔 패턴 형성 렌즈로부터 조사되어 상기 이미징 렌즈로 입사된 마커 빔이 상기 이미징 렌즈의 입사 동공(entrance pupil)에 대응하기 위해서 상기 광원으로부터 방사된 광을 집광하도록 구성 및 배열되는
    광학 정보 판독 장치.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 집광 광학 렌즈는, 횡단면(lateral cross section)에서 실질적으로 원형 프로파일로 상기 광원으로부터 방사된 광을 집광하도록 구성되는
    광학 정보 판독 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 픽업 유닛은, 미리 정해진 종횡비(aspect ratio)를 갖는 영역 센서(area sensor)를 포함하고, 수직 방향에서의 프로파일의 길이에 대한 수평 방향에서의 프로파일의 길이의 비는 실질적으로 상기 종횡비와 동일하고, 상기 수평 방향 및 상기 수직 방향은 상기 영역 센서의 수평 방향 및 수직 방향에 각각 대응하는
    광학 정보 판독 장치.
  13. 미리 정해진 판독 위치를 갖고, 상기 판독 위치에 정보가 위치될 때 광학적으로 타깃인 상기 정보를 픽업하도록 구성된 픽업 유닛; 및
    마커 빔 조사 유닛
    을 포함하고,
    상기 마커 빔 조사 유닛은,
    광을 방사하도록 구성된 광원; 및
    상기 방사된 광이 그 내부로 입사되는 것이 허용되도록 배열된 빔 패턴 형성 렌즈 - 여기서, 상기 패턴 형성 렌즈는 상기 방사된 광에 기반하여 마커 빔을 조사하도록 구성되고, 상기 마커 빔은 상기 픽업 유닛의 판독 위치를 지시하기 위해서 적어도 하나의 선형 빔렛으로 이루어진 미리 정해진 빔 패턴을 가짐 - ;
    상기 광원과 상기 빔 패턴 형성 렌즈 사이에 배열되고, 집광된 광이 상기 빔 패턴 형성 렌즈로 입사되기 위해서 상기 방사된 광을 집광하도록 구성된 집광 광학 렌즈(collective optical lens); 및
    상기 집광 광학 렌즈와 동축으로 정렬되고, 상기 빔 패턴 형성 렌즈와 미리 정해진 간격을 두고 대향하여 배열된 이미징 렌즈(imaging lens)를 포함하고,
    여기서, 상기 빔 패턴 형성 렌즈는, 상기 광원에 대향하는 입사면(entrance surface) 및 상기 입사면에 대향하는 출사면(output surface)을 갖고, 상기 빔 패턴 형성 렌즈는 적어도 하나의 입사측(entrance-side) 렌즈부를 갖는 상기 입사면 및 적어도 하나의 출사측(output-side) 렌즈부를 갖는 상기 출사면에 형성되고, 상기 적어도 하나의 입사측 렌즈부 및 상기 적어도 하나의 출사측 렌즈부는 각각 실질적으로 원통형 굴절면을 갖고, 상기 마커 빔의 빔 패턴에 대응하도록 배열되는
    광학 정보 판독 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 빔 패턴은, 제1 방향을 따라 연장되는 제1 선형 패턴 및 상기 제1 방향에 직교하는 제2 방향을 따라 연장되는 제2 선형 패턴으로 이루어지는
    광학 정보 판독 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 출사측 렌즈부는, 상기 제1 선형 패턴을 형성하도록 구성된 제1 렌즈부 및 상기 제2 선형 패턴을 형성하도록 구성된 제2 렌즈부를 포함하고, 상기 제1 렌즈부의 굴절면의 곡률은 상기 제2 렌즈부의 굴절면의 곡률과 상이한
    광학 정보 판독 장치.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 빔 패턴 형성 렌즈는, 상기 출사측 렌즈부와 상기 입사측 렌즈부가 상기 제1 선형 패턴을 형성하고, 상기 출사측 렌즈부가 상기 제2 선형 패턴을 형성하도록 구성되는
    광학 정보 판독 장치.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 제1 선형 패턴 및 상기 제2 선형 패턴은 동일한 패턴 폭을 갖는
    광학 정보 판독 장치.
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