KR100698916B1 - Adhesive composition, circuit connecting material, structure of connecting circuit terminal and semiconductor device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 접착제 조성물은, 열가소성 수지와, 라디칼 중합성 화합물과, 1분간 반감기온도가 90∼145℃인 제 1의 라디칼 중합개시제와, 1분간 반감기온도가 150∼175℃인 제 2의 라디칼 중합개시제를 함유하는 것이다. 본 발명에 의하면, 저온에서 충분히 신속하게 경화처리를 할 수 있고, 또한 경화처리를 행하는 경우의 프로세스 마진이 넓고, 충분히 안정한 접착강도나 접속저항이 얻어지는 접착제 조성물, 회로접속재료, 회로부재의 접속구조 및 반도체장치를 제공할 수 있다.The adhesive composition of the present invention comprises a thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, a first radical polymerization initiator having a half-life temperature of 90 to 145 ° C for 1 minute, and a second radical polymerization having a half-life temperature of 150 to 175 ° C for 1 minute. It contains an initiator. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the connection structure of the adhesive composition, circuit connection material, and circuit member which can harden | cure quickly and rapidly at low temperature, and the process margin at the time of hardening process is wide and a sufficiently stable adhesive strength and connection resistance are obtained. And a semiconductor device.

Description

접착제 조성물, 회로접속재료, 회로부재의 접속구조체 및 반도체장치{ADHESIVE COMPOSITION, CIRCUIT CONNECTING MATERIAL, STRUCTURE OF CONNECTING CIRCUIT TERMINAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE}Adhesive composition, circuit connection material, connection structure of circuit member and semiconductor device {ADHESIVE COMPOSITION, CIRCUIT CONNECTING MATERIAL, STRUCTURE OF CONNECTING CIRCUIT TERMINAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE}

도 1은 본 발명의 회로부재의 접속구조의 일실시형태를 나타내는 개략단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a connection structure of a circuit member of the present invention.

도 2는 본 발명의 반도체장치의 일실시형태를 나타내는 개략단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a semiconductor device of the present invention.

본 발명은, 접착제 조성물, 회로접속재료, 회로부재의 접속구조 및 반도체장치에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition, a circuit connection material, a connection structure of a circuit member, and a semiconductor device.

종래, 반도체소자나 액정표시소자용 접착제로서는, 접착성이 우수하고, 특히 고온고습조건하에서도 우수한 접착성을 나타내는 에폭시 수지 등의 열경화성 수지가 이용되고 있다(예컨대, 일본국 특개평01-113480호 공보 참조). 이러한 접착제는, 170∼250℃의 온도에서 1∼3시간 가열하는 것에 의해 경화해서 접착성이 얻어진다.Conventionally, thermosetting resins, such as an epoxy resin which is excellent in adhesiveness and especially excellent in high temperature, high humidity conditions, are used as an adhesive agent for semiconductor elements and a liquid crystal display element (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 01-113480). Publication). Such an adhesive is cured by heating at a temperature of 170 to 250 ° C. for 1 to 3 hours to obtain adhesiveness.

최근, 반도체소자의 고집적화, 액정소자의 고정세화에 따라서, 소자간 및 배 선간 피치의 협소화가 진행되고 있다. 이와 같은 반도체소자 등에 상술한 접착제를 이용했을 경우는, 경화시킬 때의 가열 온도가 높고, 또한 경화하는 속도도 느리기 때문에, 원하는 접속부 뿐만 아니라 주변부재까지 가열하여, 주변부재의 손상 등의 영향을 미치는 경향이 있다. 더욱이 저코스트화 때문에, 스루풋을 향상시킬 필요가 있고, 저온(100∼170℃), 단시간(1시간 이내), 환언하면 「저온속경화」로의 접착이 요구되고 있다.Background Art In recent years, as the integration of semiconductor devices and the definition of liquid crystal devices are increased, narrower pitches between devices and wirings have been developed. In the case of using the above-described adhesive such as a semiconductor device, since the heating temperature at the time of curing and the curing speed are low, not only the desired connecting portion but also the peripheral member is heated to affect the damage of the peripheral member. There is a tendency. Furthermore, due to the low cost, the throughput needs to be improved, and low temperature (100 to 170 ° C), short time (within 1 hour), in other words, adhesion to "low temperature hardening" is required.

한편, 최근 아크릴레이트 유도체나 메타크릴레이트 유도체와 라디칼중합개시제인 퍼옥사이드를 병용한 라디칼 경화형 접착제가 주목되고 있다. 이 접착제는, 반응성이 우수한 반응활성종인 라디칼의 중합반응을 이용해서 경화, 접착하는 것이기 때문에, 비교적 단시간에서 경화가 가능하다(예컨대, 일본국 특개2002-203427호 공보 참조).On the other hand, the radical curable adhesive which used together the acrylate derivative, the methacrylate derivative, and the peroxide which is a radical polymerization initiator is attracting attention recently. Since this adhesive agent is hardened | cured and adhere | attached using the polymerization reaction of the radical which is reactive reactive species excellent in reactivity, it can harden | cure in a comparatively short time (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-203427).

그러나, 라디칼 경화형 접착제는 반응성이 우수하기 때문에, 경화처리를 행하는 경우의 프로세스 마진이 좁아지는 경향이 있다. 예컨대, 반도체소자나 액정표시소자를 전기적으로 접속하기 위해서 상술한 라디칼 경화형의 접착제를 이용하는 경우, 그 경화물을 얻을 때의 온도나 시간 등의 프로세스 조건이 다소 변동하면 접착강도, 접속저항 등의 특성이 안정하게 얻어지지 않는 경향이 있다.However, since radical curable adhesives are excellent in reactivity, there exists a tendency for the process margin at the time of hardening process to become narrow. For example, in the case of using the above-mentioned radical curable adhesive to electrically connect a semiconductor device or a liquid crystal display device, if the process conditions such as temperature and time when obtaining the cured product vary slightly, characteristics of adhesive strength, connection resistance, etc. This tends not to be stably obtained.

따라서 본 발명은, 저온에서 충분히 신속하게 경화처리를 행할 수 있고, 또한 경화처리를 행하는 경우의 프로세스 마진이 넓어서, 충분히 안정한 접착강도나 접속저항이 얻어지는 접착제 조성물, 회로접속재료, 회로부재의 접속구조 및 반도 체장치를 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention provides a connection structure of an adhesive composition, a circuit connection material, and a circuit member, which can be sufficiently cured at a low temperature quickly and have a wide process margin in the case of performing a curing process, thereby obtaining sufficiently stable adhesive strength and connection resistance. And a semiconductor device.

상기 과제를 해결하는 본 발명의 접착제 조성물은, 열가소성 수지와, 라디칼 중합성 화합물과, 1분간 반감기온도가 90∼145℃인 제 1의 라디칼 중합개시제와, 1분간 반감기온도가 150∼175℃인 제 2의 라디칼 중합개시제를 함유하는 것을 특징으로 한다.The adhesive composition of this invention which solves the said subject is a thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, the 1st radical polymerization initiator whose half life temperature is 90-145 degreeC for 1 minute, and the half life temperature is 150-175 degreeC for 1 minute. It is characterized by containing a 2nd radical polymerization initiator.

여기에서, 「1분간 반감기온도 」는, 반감기가 1분이 되는 온도를 말하고, 「반감기」는, 화합물의 농도가 초기값의 반으로 감소할때까지의 시간을 말한다.Here, "1 minute half-life temperature" means the temperature at which a half-life becomes 1 minute, and "half-life" means time until the concentration of a compound decreases to half of an initial value.

본 발명의 접착제 조성물은, 열가소성 수지와, 라디칼 중합성 화합물과, 라디칼 중합개시제를 포함하는, 소위 라디칼 경화형 접착제 조성물이다. 이와 같이 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 접착제 조성물은 반응성이 우수하기 때문에, 저온이어도 충분히 단시간에 경화시키는 것이 가능하다. 더욱이, 라디칼 중합개시제로서 1분간 반감기온도가 다른 2종류의 라디칼 중합개시제를 이용하는 것에 의해, 경화처리를 행하는 경우의 프로세스 마진을 넓히는 것이 가능해진다. 따라서, 이와 같은 접착제 조성물로부터 얻어지는 경화물은, 그 경화물을 얻을 때의 프로세스 온도나 시간이 변동했다 하더라도, 접착강도나 접속저항 등의 특성을 안정한 것으로 할 수 있다. 또한, 경화물의 경시적인 특성저하도 억제할 수 있다.The adhesive composition of this invention is what is called radical curable adhesive composition containing a thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, and a radical polymerization initiator. Thus, since the adhesive composition containing a radically polymerizable compound is excellent in reactivity, even if it is low temperature, it can be hardened enough in a short time. Furthermore, by using two kinds of radical polymerization initiators having different half-life temperatures for one minute as the radical polymerization initiator, it becomes possible to widen the process margin in the case of performing the curing treatment. Therefore, the hardened | cured material obtained from such an adhesive composition can make stable characteristics, such as adhesive strength and connection resistance, even if the process temperature and time at the time of obtaining the hardened | cured material change. In addition, the deterioration of the cured product over time can also be suppressed.

더욱이, 1분간 반감기온도가 상술한 범위에 있는 라디칼 경화형 접착제는 대체로 활성화 에너지가 낮기 때문에, 저장안정성이 열세한 경향이 있다. 그러나, 본 발명의 접착제 조성물로부터 얻어지는 경화물은, 종래의 것에 비교하여, 한층 우수 한 저장안정성을 구비하는 것도 가능해진다. 이것은, 본 발명의 접착제 조성물에 있어서, 1분간 반감기온도가 다른 2종류의 라디칼 중합개시제를 이용하고 있는 것에 기인한다고, 본 발명자들은 생각하고 있다.Furthermore, radical curable adhesives having a half-life temperature of 1 minute in the above-described range generally have low activation energy, and thus tend to be inferior in storage stability. However, the hardened | cured material obtained from the adhesive composition of this invention can also be equipped with the storage stability which was further excellent compared with the conventional thing. The inventors believe that this is due to the use of two kinds of radical polymerization initiators having different half-life temperatures in the adhesive composition of the present invention for one minute.

더욱이, 본 발명의 접착제 조성물을 이용하면 경화처리를 단시간에 행할 수 있고, 또한 프로세스 마진을 넓히는 것이 가능하므로, 반도체소자나 액정소자 등의 소자간 및 배선간 피치가 협소화했다고 하더라도, 원하는 접속부 뿐만 아니라 주변부재까지 가열하여, 주변부재의 손상 등의 영향을 미치게 하는 것을 방지할 수 있어, 스루풋을 향상시키는 것이 가능해진다.In addition, the adhesive composition of the present invention can be cured in a short time, and the process margin can be widened. Therefore, even if the pitch between elements such as semiconductor elements, liquid crystal elements, and wirings is narrowed, not only the desired connection portion can be used. By heating up to the peripheral member, it is possible to prevent the influence of the peripheral member from being damaged or the like, and the throughput can be improved.

또한, 본 발명의 접착제 조성물에 있어서, 라디칼 중합성 화합물이 분자내에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 가지면 바람직하다. 이와 같은 접착제 조성물을 이용하면, 한층 단시간에 경화처리를 행할 수 있게 된다. 이것은, 라디칼 중합성 화합물이, 반응성이 풍부한 라디칼 반응성 기인 (메타)아크릴로일기를 2개 이상 갖는 것에 기인한다고, 본 발명자들은 추측하고 있다.Moreover, in the adhesive composition of this invention, it is preferable that a radically polymerizable compound has two or more (meth) acryloyl groups in a molecule | numerator. By using such an adhesive composition, hardening process can be performed in a short time. This inventor is guessing that this is because a radically polymerizable compound has two or more (meth) acryloyl groups which are a reactive radical rich reactive group.

더욱이, 이와 같은 라디칼 중합성 화합물은, 반응성 기로서 (메타)아크릴로일기를 이용하기 때문에, 피착체의 재질을 가리지 않고 강고한 접착성을 얻을 수 있다. 따라서, 이와 같은 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 본 발명의 접착제 조성물은, 범용성이 우수하고, 예컨대 반도체소자나 액정표시소자에 이용했을 경우에도 보다 안정한 접착강도나 접속저항 등의 특성을 얻을 수 있다.Moreover, since such a radically polymerizable compound uses a (meth) acryloyl group as a reactive group, firm adhesiveness can be obtained regardless of the material of the adherend. Therefore, the adhesive composition of this invention containing such a radically polymerizable compound is excellent in versatility, and even when it is used for a semiconductor element or a liquid crystal display element, more stable adhesive strength, connection resistance, etc. can be acquired.

더욱이, 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제가, 모두 분자량 180∼1000인 퍼옥시에스테르유도체인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that both the 1st radical polymerization initiator and the 2nd radical polymerization initiator are peroxy ester derivatives whose molecular weight is 180-1000.

제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 어느 것이나, 동종의 퍼옥시에스테르유도체이고, 더구나 상기 수치범위내의 분자량이면, 서로 상용성이 우수하기 때문에, 얻어지는 경화물은, 그 전체에 걸쳐서 한층 안정한 접착강도나 접속저항 등의 특성을 나타내는 것이 된다.Since either the 1st radical polymerization initiator and the 2nd radical polymerization initiator are peroxy ester derivatives of the same kind, and if it is a molecular weight in the said numerical range, since it is excellent in compatibility with each other, the hardened | cured material obtained will be over the whole It becomes more stable and exhibits characteristics, such as adhesive strength and connection resistance.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은, 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 라디칼 중합성 화합물을 50∼250중량부 함유하고, 또한 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제를 각각 0.05∼30중량부 함유하는 것이 바람직하다. 이 본 발명의 접착제 조성물은, 그 구성재료를 상기의 범위의 배합비율로 하는 것에 의해, 본 발명의 효과를 보다 현저하게 발휘할 수 있다.Moreover, the adhesive composition of this invention contains 50-250 weight part of radically polymerizable compounds with respect to 100 weight part of thermoplastic resins, and also 0.05-30 weight of 1st radical polymerization initiator and 2nd radical polymerization initiator, respectively. It is preferable to contain. The adhesive composition of this invention can exhibit the effect of this invention more remarkably by making the composition material into the compounding ratio of the said range.

더욱이, 이 접착제 조성물에는 도전성 입자를 함유시키는 것이 바람직하다.이와 같은 접착제 조성물은, 도전성을 갖게 된다. 그렇게 하면, 이 접착제 조성물은 회로전극이나 반도체 등의 전기공업이나 전자공업의 분야에 있어서 도전성 접착제로서 이용할 수 있게 된다. 더욱이, 이 경우, 접착제 조성물이 도전성이기 때문에, 경화후의 접속저항을 한층 낮게 하는 것이 가능해진다.Moreover, it is preferable to contain electroconductive particle in this adhesive composition. Such an adhesive composition becomes electroconductive. Then, this adhesive composition can be used as a conductive adhesive in the field of electrical industry and electronic industry, such as a circuit electrode and a semiconductor. In addition, in this case, since an adhesive composition is electroconductive, it becomes possible to make connection resistance after hardening much lower.

또한, 이 도전성 입자의 배합 비율에 관해서는, 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 도전성 입자를 O.5∼30중량부 함유하고 있는 것이 바람직하다. 도전성 입자를 상기의 범위의 배합 비율로 하는 것에 의해, 이와 같은 접착제 조성물은, 도전성 입자의 효과를 한층 발휘할 수 있다. 예컨대, 회로전극의 접속에 이용했을 경우, 대향하는 회로전극간에서 도전하지 않거나, 혹은 인접하는 회로전극간에서 단락(쇼트)하거나 하는 것을 방지할 수 있다. 더욱이, 도전성 입자를 상기의 배합 비 율로 함유한 접착제 조성물은, 전기적인 접속의 이방성을 나타내는 것도 가능해져서, 이방도전성 접착제 조성물로서 이용할 수 있게 된다.Moreover, about the compounding ratio of this electroconductive particle, it is preferable to contain 0.5-30 weight part of electroconductive particles with respect to 100 weight part of thermoplastic resins. By making electroconductive particle into the compounding ratio of the said range, such an adhesive composition can exhibit the effect of electroconductive particle further. For example, when it is used for connection of circuit electrodes, it is possible to prevent the conduction between opposing circuit electrodes or the short circuit (short) between adjacent circuit electrodes. Moreover, the adhesive composition containing electroconductive particle in said compounding ratio can also show the anisotropy of an electrical connection, and can be used as an anisotropic conductive adhesive composition.

그리고, 본 발명의 회로접속재료는, 대향하는 회로전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로접속재료로서, 회로접속재료가 상술한 접착제 조성물을 함유하는 것을 특징으로 한다.And the circuit connection material of this invention is a circuit connection material for electrically connecting the opposing circuit electrodes, It is characterized by the circuit connection material containing the adhesive composition mentioned above.

이와 같은 회로접속재료는, 대향하는 회로전극끼리의 접착을 저온이어도 충분히 단시간에 행할 수 있고, 프로세스 마진을 넓히는 것도 가능해진다. 더욱이, 이와 같은 회로접속재료로부터 얻어지는 경화물은, 그 경화물을 얻을 때의 프로세스 온도나 시간이 변동했다고 하더라도, 접착강도나 접속저항 등의 특성을 안정한 것으로 할 수 있다. 또한, 경화물의 경시적인 특성저하도 억제할 수 있다. 더욱이, 이 회로접속재료가 도전성 입자를 상기의 배합 비율로 함유하면, 전기적인 접속의 이방성을 나타낼 수 있어, 회로전극용 이방도전성 회로접속재료로서 이용하는 것도 가능하다.Such a circuit connection material can fully adhere | attach opposing circuit electrodes even in low temperature in a short time, and can also enlarge a process margin. Furthermore, the cured product obtained from such a circuit connecting material can be made stable in characteristics such as adhesive strength and connection resistance even if the process temperature and time when obtaining the cured product vary. In addition, the deterioration of the cured product over time can also be suppressed. Moreover, when this circuit connection material contains electroconductive particle in said compounding ratio, it can show the anisotropy of an electrical connection, and it can also use as an anisotropic conductive circuit connection material for circuit electrodes.

또한, 상술한 접착제 조성물 또는 회로접속재료는 필름상으로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 필름상으로 한 접착제 조성물 또는 회로접속재료는 취급성이 우수하기 때문에, 스루풋을 한층 향상시킬 수 있다.Moreover, it is preferable that the adhesive composition or circuit connection material mentioned above is formed in the film form. Since the adhesive composition or circuit connection material which made into a film is excellent in handleability, the throughput can be improved further.

또한, 본 발명의 회로부재의 접속구조는, 제 1의 회로기판의 주면상에 제 1의 회로전극이 형성된 제 1의 회로부재와, 제 2의 회로기판의 주면상에 제 2의 회로전극이 형성된 제 2의 회로부재와, 제 1의 회로기판의 주면과 제 2의 회로기판의 주면과의 사이에 설치되어, 제 1의 회로전극과 제 2의 회로전극을 대향배치시킨 상 태에서 전기적으로 접속하는 회로접속부재를 구비한 회로부재의 접속구조로서, 회로접속부재는, 상술한 회로접속재료의 경화물인 것을 특징으로 한다.In addition, the connection structure of the circuit member of the present invention includes a first circuit member in which a first circuit electrode is formed on a main surface of a first circuit board, and a second circuit electrode on a main surface of a second circuit board. It is provided between the formed second circuit member and the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board, and is electrically connected with the first circuit electrode and the second circuit electrode. A circuit member connection structure including a circuit connection member to be connected, wherein the circuit connection member is a cured product of the circuit connection material described above.

이와 같은 회로부재의 접속구조는, 전기적으로 접속한 회로전극을 유효하게 이용할 수 있다. 즉, 제 1의 회로전극과 제 2의 회로전극을 전기적으로 접속할 수 있도록 상술한 회로접속재료를 이용하기 때문에, 본 발명의 접속구조를 갖는 회로부재는, 품질의 격차가 적어, 충분히 안정한 특성을 나타낼 수 있다. 더욱이, 회로접속재료의 경화물이 도전성 입자를 포함하는 경우는, 접속저항을 낮게 할 수 있다. 이 도전성 입자를 배합하는 것에 의해, 대향하는 회로전극간에서 도전하지 않거나, 혹은 인접하는 회로전극간에서 단락(쇼트)하거나 하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 도전성 입자를 상기의 배합 비율로 함유하면, 전기적인 접속의 이방성을 나타내어, 이방성 회로접속재료로 하는 것도 가능하다.As such a circuit member connection structure, an electrically connected circuit electrode can be effectively used. That is, since the above-described circuit connection material is used to electrically connect the first circuit electrode and the second circuit electrode, the circuit member having the connection structure of the present invention has a sufficiently stable characteristic due to a small gap in quality. Can be represented. Furthermore, when the hardened | cured material of a circuit connection material contains electroconductive particle, connection resistance can be made low. By mix | blending this electroconductive particle, it can prevent that it does not conduct between opposing circuit electrodes, or short circuits (short) between adjacent circuit electrodes. Moreover, when electroconductive particle is contained in said compounding ratio, it can also show the anisotropy of an electrical connection, and can also set it as an anisotropic circuit connection material.

또한, 본 발명의 반도체장치는, 반도체소자와, 반도체소자를 탑재하는 기판과, 반도체소자 및 기판간에 설치되어, 반도체소자 및 기판을 전기적으로 접속하는 반도체소자 접속부재를 구비한 반도체장치로서, 반도체소자 접속부재는, 상술한 접착제 조성물의 경화물 또는 필름상 접착제인 것을 특징으로 한다.Moreover, the semiconductor device of this invention is a semiconductor device provided with a semiconductor element, the board | substrate which mounts a semiconductor element, and the semiconductor element connection member provided between the semiconductor element and the board | substrate, and electrically connecting a semiconductor element and a board | substrate, A semiconductor The element connecting member is a cured product of the adhesive composition described above or a film adhesive.

이와 같은 반도체장치는, 반도체소자와 기판을 전기적으로 접속하는 접착제 조성물의 경화물이 상술한 접착제 조성물의 경화물인 것으로부터, 품질의 격차가 적어, 충분히 안정한 특성을 나타낼 수 있다. 더욱이, 접착제 조성물의 경화물이 도전성 입자를 포함하는 경우는, 접속저항을 낮게 할 수 있다. 이 도전성 입자를 배합하는 것에 의해, 대향하는 반도체소자 및 기판간에서 도전하지 않거나 하는 것 을 방지할 수 있다. 또한, 도전성 입자를 상기의 배합 비율로 함유하면, 전기적인 접속의 이방성을 나타내어, 이방성 반도체로 하는 것도 가능하다.Such a semiconductor device is hardened | cured from the adhesive composition mentioned above since the hardened | cured material of the adhesive composition which electrically connects a semiconductor element and a board | substrate has a small quality difference, and can exhibit the characteristic which is sufficiently stable. Furthermore, when the hardened | cured material of an adhesive composition contains electroconductive particle, connection resistance can be made low. By mix | blending this electroconductive particle, it can prevent that it does not conduct between an opposing semiconductor element and a board | substrate. Moreover, when electroconductive particle is contained in said compounding ratio, it can also show the anisotropy of an electrical connection, and can also be set as an anisotropic semiconductor.

바람직한 실시예의 설명Description of the Preferred Embodiments

이하, 경우에 따라 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해서 설명한다. 또, 동일요소에는 동일부호를 사용하는 것으로 하고, 중복하는 설명은 생략한다. 또한 이하의 설명에 있어서 (메타)아크릴레이트는, 아크릴레이트 또는 그것에 대응하는 메타크릴레이트를 의미하는 것으로 한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described with reference to an accompanying drawing in some cases. In addition, the same code | symbol is used for the same element, and the overlapping description is abbreviate | omitted. In addition, in the following description, (meth) acrylate shall mean an acrylate or a methacrylate corresponding to it.

(접착제 조성물)(Adhesive Composition)

본 발명의 접착제 조성물은, 열가소성 수지, 라디칼 중합성 화합물, 1분간 반감기온도가 90∼145℃인 제 1의 라디칼 중합개시제, 및 1분간 반감기온도가 150∼175℃인 제 2의 라디칼 중합개시제를 함유하는 것이다.The adhesive composition of the present invention comprises a thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, a first radical polymerization initiator having a half-life temperature of 90 to 145 ° C for 1 minute, and a second radical polymerization initiator having a half-life temperature of 150 to 175 ° C for 1 minute. It is to contain.

여기에서, 본 발명에 따른 열가소성 수지는, 접착하는 대상물(이하, 간단히 「피착체」라 한다.)끼리의 접착을 강고한 것으로 하기 위해서 사용된다.Here, the thermoplastic resin which concerns on this invention is used in order to make the adhesion | attachment of the object to adhere | attach (Hereinafter, only a "substrate") to be firm.

본 발명에서 이용하는 열가소성 수지로서는, 특별히 제한 없이 공지의 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 폴리이미드, 폴리아미드, 페녹시수지류, 폴리(메타)아크릴레이트류, 폴리이미드류, 폴리우레탄류, 폴리에스테르류, 폴리비닐부티랄류 등을 이용할 수 있다. 이들은 단독 혹은 2종류 이상을 혼합하여 사용될 수 있다. 더욱이, 이들 수지는 분자내에 실록산결합이나 불소치환기를 가지고 있어도 좋다. 이들은 혼합하는 수지끼리가 완전히 상용하거나, 또는 미크로상 분리가 생겨서 백탁하는 상태이면 적절하게 이용할 수 있다.As a thermoplastic resin used by this invention, a well-known thing can be used without a restriction | limiting in particular. Specifically, polyimide, polyamide, phenoxy resins, poly (meth) acrylates, polyimides, polyurethanes, polyesters, polyvinyl butyrals and the like can be used. These can be used individually or in mixture of 2 or more types. Furthermore, these resins may have a siloxane bond or a fluorine substituent in the molecule. These resins can be suitably used as long as the resins to be mixed are completely compatible or have a microphase separation.

또한, 이 열가소성 수지의 분자량이 클수록 후술하는 필름을 용이하게 형성 할 수 있고, 또한, 접착제로서의 유동성에 영향을 주는 용융점도를 광범위하게 설정하는 것도 가능해진다. 용융점도를 광범위하게 설정할 수가 있으면, 반도체소자나 액정소자 등의 접속에 이용했을 경우, 소자간 및 배선간 피치가 협소화했다고 하더라도, 주변부재에 접착제가 부착되는 것을 한층 방지할 수 있어, 스루풋을 향상시키는 것이 가능하게 된다. 다만, 이 분자량의 값이, 150000을 넘으면 다른 성분과의 상용성이 열세한 경향이 있고, 5000 미만에서는 후술하는 필름으로서 사용하는 경우에 필름 형성이 불충분하게 되는 경향이 있다. 따라서, 이 분자량은 중량평균분자량으로서 5000∼150000이면 바람직하고, 10000∼80000이면 보다 바람직하다.In addition, the larger the molecular weight of the thermoplastic resin, the more easily the film described later can be formed, and the melt viscosity that affects the fluidity as the adhesive can be set widely. If the melt viscosity can be set in a wide range, when used for connection of semiconductor elements, liquid crystal elements, etc., even if the pitch between elements and wirings is narrowed, it is possible to further prevent the adhesive from adhering to the peripheral member, thereby improving throughput. It becomes possible to make it. However, when the value of this molecular weight exceeds 150000, there exists a tendency for compatibility with other components to be inferior, and when less than 5000, when used as a film mentioned later, there exists a tendency for film formation to become inadequate. Therefore, this molecular weight is preferable in it being 5000-150000 as a weight average molecular weight, and more preferable in it being 10000-80000.

또한, 본 발명에 따른 라디칼 중합성 화합물은, 어떠한 에너지가 부여되는 것에 의해 라디칼이 발생하고, 그 라디칼이 연쇄반응에 의해 중합해서 폴리머를 형성하는 성능을 갖는 화합물을 말한다. 이 라디칼 중합반응은 일반적으로 양이온 중합이나 음이온 중합보다도 신속하게 반응이 진행한다. 따라서, 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 본 발명에 있어서는, 비교적 단시간에서의 중합이 가능해진다.In addition, the radically polymerizable compound which concerns on this invention says the compound which has the ability to generate | occur | produce a radical by what energy is provided, and the radical superposes | polymerizes by a chain reaction and forms a polymer. The radical polymerization reaction generally proceeds faster than cationic polymerization or anionic polymerization. Therefore, in this invention using a radically polymerizable compound, superposition | polymerization in a comparatively short time becomes possible.

본 발명에서 이용하는 라디칼 중합성 화합물로서는, (메타)아크릴기, (메타)아크릴로일기나 비닐기 등, 분자내에 올레핀을 갖는 화합물이면, 특별히 제한 없이 공지의 것을 사용할 수 있다. 이 중에서도 (메타)아크릴로일기를 갖는 라디칼 중합성 화합물인 것이 바람직하다.As a radically polymerizable compound used by this invention, if it is a compound which has an olefin in a molecule | numerator, such as a (meth) acryl group, a (meth) acryloyl group, and a vinyl group, a well-known thing can be used without a restriction | limiting in particular. Among these, it is preferable that it is a radically polymerizable compound which has a (meth) acryloyl group.

구체적으로는, (메타)아크릴로일기를 갖는 라디칼 중합성 화합물로서는, 에 폭시(메타)아크릴레이트올리고머, 우레탄(메타)아크릴레이트올리고머, 폴리에테르(메타)아크릴레이트올리고머, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트올리고머 등의 올리고머, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리알킬렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산변성 2관능(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산변성 3관능(메타)아크릴레이트, 2,2'-디(메타)아크릴로일옥시디에틸포스페이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸애시드포스페이트 등의 다관능(메타)아크릴레이트화합물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 필요에 따라서 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하여도 좋다.Specifically as a radically polymerizable compound which has a (meth) acryloyl group, it is an epoxy (meth) acrylate oligomer, a urethane (meth) acrylate oligomer, a polyether (meth) acrylate oligomer, and polyester (meth) acryl Oligomers, such as a rate oligomer, trimetholpropane tri (meth) acrylate, polyethyleneglycol di (meth) acrylate, polyalkylene glycoldi (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclophene Tenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isocyanuric acid modified bifunctional (meth) acrylate, isocyanuric acid modified trifunctional (meth) Polyfunctional (meth) acrylates, such as an acrylate, 2,2'- di (meth) acryloyloxy diethyl phosphate, and 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate Agent may be a compound or the like. You may use these compounds individually or in mixture of 2 or more types as needed.

이와 같이 반응성 기로서 (메타)아크릴로일기를 이용하면, 피착체의 재질을 가리지 않고 강고한 접착을 할 수 있다. 이 피착체로서는, 프린트배선판이나 폴리이미드 등의 유기기재를 비롯하여, 구리, 알루미늄 등의 금속이나 ITO(indium tin oxide), 질화규소(SiN), 이산화규소(SiO2) 등을 들 수 있다.Thus, when using a (meth) acryloyl group as a reactive group, firm adhesion can be performed regardless of the material of a to-be-adhered body. Examples of the adherend include organic substrates such as printed wiring boards and polyimides, as well as metals such as copper and aluminum, indium tin oxide (ITO), silicon nitride (SiN), and silicon dioxide (SiO 2 ).

더욱이, 라디칼 중합성 화합물이 분자내에 (메타)아크릴로일기를 2개 이상 가지면, 접착에 필요한 가열시간을 보다 짧게 할 수 있고, 접착에 필요한 가열온도를 보다 낮게 할 수 있으므로 바람직하다. 이것은, 라디칼 중합성 화합물의 분자내에 라디칼 반응성 기인 (메타)아크릴로일기를 보다 많이 갖는 것에 기인한다고 여겨진다.Moreover, when a radically polymerizable compound has two or more (meth) acryloyl groups in a molecule | numerator, since the heating time required for adhesion | attachment can be shortened and the heating temperature required for adhesion | attachment can be made preferable, it is preferable. This is considered to be due to having more (meth) acryloyl groups which are radical reactive groups in the molecule | numerator of a radically polymerizable compound.

더욱이 이 라디칼 중합성 화합물의 배합 비율은, 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 50∼250중량부인 것이 바람직하고, 60∼150중량부인 것이 더욱 바람직하다. 라디칼 중합성 화합물의 배합 비율이 50중량부 미만이면, 피착체에 부여한 접착제 조성물의 경화물의 내열성이 저하하는 경향이 있고, 250중량부를 넘으면, 접착제 조성물을 후술하는 필름으로서 이용하는 경우에 필름 형성이 불충분하게 되는 경향이 있다.Moreover, it is preferable that it is 50-250 weight part with respect to 100 weight part of thermoplastic resins, and, as for the compounding ratio of this radically polymerizable compound, it is more preferable that it is 60-150 weight part. If the blending ratio of the radically polymerizable compound is less than 50 parts by weight, the heat resistance of the cured product of the adhesive composition applied to the adherend tends to decrease, and if it exceeds 250 parts by weight, the film formation is insufficient when the adhesive composition is used as a film to be described later. Tend to be done.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은 라디칼 중합개시제를 포함한다. 라디칼 중합성 화합물은, 일단 라디칼 중합반응을 시작하면, 연쇄반응이 진행하고, 강고한 경화가 가능하게 되지만, 최초에 라디칼을 발생시키는 것이 비교적 곤란하기 때문에, 라디칼을 비교적 용이하게 생성가능한 라디칼 중합개시제를 함유시킨다.In addition, the adhesive composition of the present invention includes a radical polymerization initiator. The radically polymerizable compound, once the radical polymerization reaction starts, the chain reaction proceeds and firm curing becomes possible, but since it is relatively difficult to generate radicals at first, a radical polymerization initiator capable of generating radicals relatively easily It contains.

본 발명에 있어서는, 라디칼 중합개시제로서, 1분간 반감기온도가 90∼145℃인 제 1의 라디칼 중합개시제와, 1분간 반감기온도가 150∼175℃인 제 2의 라디칼 중합개시제를 병용한다.In this invention, as a radical polymerization initiator, the 1st radical polymerization initiator whose half life temperature is 90-145 degreeC for 1 minute, and the 2nd radical polymerization initiator whose half life temperature is 150-175 degreeC for 1 minute are used together.

이와 같은 제 1의 라디칼 중합개시제로서는, 1분간 반감기온도가 90∼145℃이면 공지의 화합물을 이용할 수 있고, 제 2의 라디칼 중합개시제로서는, 1분간 반감기온도가 150∼175℃이면 공지의 화합물을 이용할 수 있다.As such a 1st radical polymerization initiator, a well-known compound can be used as long as the half-life temperature is 90-145 degreeC for 1 minute, and a well-known compound can be used as a 1st half-life temperature as 150-175 degreeC as a 2nd radical polymerization initiator. It is available.

이 중에서도 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제가 모두 퍼옥시에스테르유도체인 것이 바람직하다. 어느 것이나 퍼옥시에스테르유도체이면, 서로 상용성이 우수하기 때문에, 얻어지는 경화물은, 그 전체에 걸쳐 한층 안정한 접착강도나 접속저항 등의 특성을 나타내는 것이 된다.Among these, it is preferable that both a 1st radical polymerization initiator and a 2nd radical polymerization initiator are peroxy ester derivatives. Since any of them are excellent in compatibility with each other as long as they are peroxy ester derivatives, the resulting cured product exhibits properties such as more stable adhesive strength and connection resistance throughout its entirety.

제 1의 라디칼 중합개시제로서는, 구체적으로는, 큐밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-t-부틸퍼옥시헥사히드로테레프탈레이트, t-아밀퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, 3-히드록시-1,1-디메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시네오데카노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 4,4'-아조비스(4-시아노발레린산), 1,1'-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴) 등을 들 수 있다.Specifically as a 1st radical polymerization initiator, cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3- tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxy neo Decanoate, t-hexyl peroxy neodecanoate, t-butylperoxy neodecanoate, t-butylperoxy pivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexa Noate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate , t-butylperoxy neoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexa Noate, 3-hydroxy-1,1-dimethylbutylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyneodecano Et, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate , 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1,1'-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2'-azobisisobutyronitrile, 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1 ' -Azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), etc. are mentioned.

또한, 제 2의 라디칼 중합개시제로서는, 구체적으로는, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카보네이트, t-부틸퍼옥시말레인산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(3-메틸벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디부틸퍼옥시트리메틸아디페이트, t-아밀퍼옥시노말옥토에이트, t-아밀퍼옥시이소시아노에이트, t-아밀퍼옥시벤조에이 트 등을 들 수 있다.As the second radical polymerization initiator, specifically, t-hexyl peroxy isopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy maleic acid, t-butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t- Butyl peroxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (3-methylbenzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, 2, 5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyl adipate, t-amylperoxy normal octoate, t-amylperoxy isocyanate, t-amyl peroxybenzoate, etc. are mentioned.

또, 본 발명의 접착제 조성물은 제 1의 라디칼 중합개시제와 제 2의 라디칼 중합개시제를 병용하고 있으면 되고, 제 1의 라디칼 중합개시제를 2종 이상 사용해도 좋으며, 제 2의 라디칼 중합개시제를 2종 이상 사용하는 것도 가능하다.Moreover, the adhesive composition of this invention should just use together the 1st radical polymerization initiator and the 2nd radical polymerization initiator, You may use 2 or more types of 1st radical polymerization initiators, and 2 types of 2nd radical polymerization initiators It is also possible to use more than.

제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 분자량은, 중량평균분자량으로서 180∼1000인 것이 바람직하다. 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 어느것이나, 상기 수치범위내의 분자량이면, 상용성이 우수하므로, 얻어지는 경화물은, 그 전체에 걸쳐서 한층 안정한 접착강도나 접속저항 등의 특성을 나타내는 것으로 된다.It is preferable that the molecular weight of a 1st radical polymerization initiator and a 2nd radical polymerization initiator is 180-1000 as a weight average molecular weight. If either the first radical polymerization initiator or the second radical polymerization initiator is a molecular weight within the above numerical range, the compatibility is excellent, and thus the resulting cured product will have properties such as more stable adhesive strength and connection resistance throughout the whole. It is shown.

제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 첨가량은, 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 어느 것이 0.05∼30중량부인 것이 바람직하고, 어느 것이나 0.05∼30중량부인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 어느 것이나 0.1∼20중량부인 것이 특히 바람직하다. 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 어느 것의 첨가량이 0.05중량부 미만이면, 라디칼 중합이 충분히 개시되지 않는 경향이 있고, 제 1의 라디칼 중합개시제 및 제 2의 라디칼 중합개시제의 어느 것의 첨가량이 30중량부를 넘으면, 저장 안정성이 저하하는 경향이 있다.As for the addition amount of a 1st radical polymerization initiator and a 2nd radical polymerization initiator, it is preferable that all are 0.05-30 weight part with respect to 100 weight part of thermoplastic resin, and it is more preferable that all are 0.05-30 weight part. Moreover, it is especially preferable that all are 0.1-20 weight part. When the addition amount of any of the first radical polymerization initiator and the second radical polymerization initiator is less than 0.05 part by weight, radical polymerization tends not to be sufficiently initiated, and any of the first radical polymerization initiator and the second radical polymerization initiator When the addition amount of a thing exceeds 30 weight part, there exists a tendency for storage stability to fall.

또, 본 발명에 있어서 부여하는 에너지의 형태로서는 특별히 한정되지 않지만, 열, 전자선, 감마선, 자외선, 적외선 등을 들 수 있다.Moreover, although it does not specifically limit as a form of energy imparted in this invention, Heat, an electron beam, a gamma ray, an ultraviolet-ray, an infrared ray, etc. are mentioned.

본 발명의 접착제 조성물을 이용하면 접착강도나 접속저항이 충분히 안정한 경화물이 얻어지는 요인은 현재 시점에서 상세하게는 밝혀져 있지 않다. 그렇지만, 본 발명자들은, 그 요인의 하나로서, 1분간 반감기온도가 다른 2종의 라디칼 중합개시제를 이용하는 것에 의해, 다른 프로세스 조건에 의해서도, 비교적 안정한 라디칼 중합속도가 얻어지기 때문이라고 여기고 있다. 다만, 요인은 이것에 한정되지 않는다.When the adhesive composition of the present invention is used, the factor of obtaining a cured product having sufficiently stable adhesive strength and connection resistance is not known at present. However, the present inventors consider that, as one of the factors, a relatively stable radical polymerization rate can be obtained under different process conditions by using two kinds of radical polymerization initiators having different half-life temperatures for one minute. However, the factor is not limited to this.

본 발명의 접착제 조성물에는 도전성 입자를 함유시키면 바람직하다. 도전성 입자를 함유시키는 것에 의해, 그 접착제 조성물에 도전성을 부여할 수 있다. 그렇게 하면, 회로전극이나 반도체 등의 전기공업이나 전자공업의 분야에 있어서 도전성 접착제로서 이용하는 것이 가능해진다.It is preferable to contain electroconductive particle in the adhesive composition of this invention. By containing electroconductive particle, electroconductivity can be provided to this adhesive composition. In this way, it becomes possible to use as a conductive adhesive in the field of electrical industry and electronic industry, such as a circuit electrode and a semiconductor.

여기에서 이용되는 도전성 입자는, 전기적 접속을 얻을 수 있는 도전성을 갖고 있으면 특별히 제한은 없지만, 예컨대 Au, Ag, Ni, Cu, 땜납 등의 금속이나 카본 등을 들 수 있다. 또한, 비도전성의 유리, 세라믹, 플라스틱 등을 핵으로 하고, 이 핵에 상기의 금속이나 카본을 피복한 것이어도 좋다. 이 중에서도 금속 자체가 열용융성의 금속일 경우, 또는 플라스틱을 핵으로 하여 금속 또는 카본으로 피복한 것인 경우가 바람직하다. 이들의 경우, 접착제 조성물의 경화물을 가열이나 가압에 의해 변형시키는 것이 한층 용이하게 되므로, 전극끼리를 전기적으로 접속할 때에, 전극과 접착제 조성물과의 접촉 면적을 증가시켜, 전극간의 도전성을 향상시킬 수 있다.Although the electroconductive particle used here will not have a restriction | limiting in particular if it has electroconductivity which can acquire an electrical connection, For example, metals, such as Au, Ag, Ni, Cu, solder, carbon, etc. are mentioned. In addition, a non-conductive glass, ceramic, plastic, or the like may be used as a nucleus, and the nucleus may be coated with the above metal or carbon. Among these, it is preferable that the metal itself is a heat-melt metal, or a case in which plastic is used as a nucleus and coated with metal or carbon. In these cases, since it becomes easier to deform the hardened | cured material of an adhesive composition by heating or pressurization, when electrically connecting electrodes, the contact area of an electrode and an adhesive composition can be increased, and electroconductivity between electrodes can be improved. have.

또한, 이 도전성 입자의 표면을 고분자 수지로 피복한 층상입자를 이용해도 좋다. 층상입자의 상태에서 도전성 입자를 접착제 조성물에 첨가하면, 도전성 입자의 배합량을 증가시켰을 경우라도, 수지로 피복되어 있으므로 도전성 입자끼리의 접촉에 의해 단락이 생기는 것을 한층 억제하고, 전극회로간의 절연성도 향상시킬 수 있다. 또, 이들 도전성 입자나 층상입자는 단독 혹은 2종 이상 혼합해서 이용해도 좋다.Moreover, you may use the layered particle | grains which coat | covered the surface of this electroconductive particle with the polymeric resin. When the conductive particles are added to the adhesive composition in the state of the layered particles, even when the compounding amount of the conductive particles is increased, the conductive particles are coated with the resin, further suppressing the occurrence of a short circuit due to contact between the conductive particles and improving the insulation between the electrode circuits. You can. Moreover, you may use these electroconductive particle and layered particle individually or in mixture of 2 or more types.

도전성 입자의 평균 입경은 분산성, 도전성의 관점으로부터 1∼18㎛인 것이 바람직하다. 도전성 입자의 배합 비율은, 접착제 조성물 100부피%에 대하여 0.1∼30부피%인 것이 바람직하고, 0.1∼10부피%인 것이 더욱 바람직하다. 이 값이, 0.1부피% 미만이면 도전성이 충분히 얻어지지 않는 경향이 있고, 30부피%를 넘으면 회로의 단락이 일어나는 경향이 있다. 또, 도전성 입자의 배합 비율(부피%)은 23℃에 있어서의 접착제 조성물을 경화시키기 전의 각 성분의 부피를 바탕으로 결정되지만, 각 성분의 부피는 비중을 이용해서 중량으로부터 부피로 환산하는 방법이나, 그 성분을 용해하거나 팽윤시키지 않고, 그 성분을 잘 적시는 적당한 용매(물, 알코올 등)가 들어있는 메스실린더 등의 용기에 그 성분을 투입하고, 증가한 부피로부터 산출하는 방법에 의해 구할 수 있다.It is preferable that the average particle diameter of electroconductive particle is 1-18 micrometers from a viewpoint of dispersibility and electroconductivity. It is preferable that it is 0.1-30 volume% with respect to 100 volume% of adhesive compositions, and, as for the compounding ratio of electroconductive particle, it is more preferable that it is 0.1-10 volume%. If this value is less than 0.1 volume%, there exists a tendency for electroconductivity to not fully be acquired, and when it exceeds 30 volume%, there exists a tendency for a short circuit to occur. In addition, although the compounding ratio (vol%) of electroconductive particle is determined based on the volume of each component before hardening an adhesive composition at 23 degreeC, the volume of each component is converted into volume from volume using specific gravity, It can be obtained by a method of adding the component to a container such as a measuring cylinder containing a suitable solvent (water, alcohol, etc.) that wets the component well without dissolving or swelling the component, and calculating it from the increased volume. .

또한, 본 발명의 접착제 조성물에는, 알콕시실란유도체나 실라잔유도체로 대표되는 커플링제 및 밀착향상제, 레벨링제 등의 접착조제를 첨가하는 것이 바람직하다. 이것에 의해 본 발명의 효과를 보다 현저하게 발휘할 수 있고, 더욱 양호한 밀착성이나 취급성을 부여할 수도 있게 된다. 구체적으로는, 하기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물을 첨가하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to add the coupling agent represented by an alkoxysilane derivative and a silazane derivative, and adhesion | attachment adjuvant, such as an adhesion promoter and a leveling agent, to the adhesive composition of this invention. Thereby, the effect of this invention can be exhibited more remarkably, and also more favorable adhesiveness and handleability can also be provided. It is preferable to add the compound specifically, represented by following General formula (1).

Figure 112005016223407-pat00001
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여기에서, 식중, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1∼5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기, 탄소수 1~5의 알콕시카르보닐기, 또는 아릴기를 나타내고, R4는 수소, 또는 메틸기를 나타내고, n은 1∼10의 정수를 나타낸다.In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group of 1 to 5 carbon atoms, or an aryl group, and R 4 represents Hydrogen or a methyl group is represented, n represents the integer of 1-10.

더욱이, 이 일반식 (1)에 있어서, R1이 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 아릴기이고, R2 및 R3이 각각 독립적으로 탄소수 2∼3의 알콕시기이고, n이 2∼4이면 접착성, 및 접속저항이 보다 우수하므로 바람직하다. 또, 일반식(1)로 나타내어지는 화합물은 1종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 좋다.Furthermore, in this general formula (1), when R <1> is a C1-C5 alkyl group or an aryl group, R <2> and R <3> is respectively independently a C2-C3 alkoxy group, and n is 2-4, adhesive It is preferable because of its superiority and connection resistance. In addition, the compound represented by General formula (1) may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은, 이 외에도 사용 목적에 따라서 별도의 재료를 첨가할 수 있다. 예컨대, 접착제의 가교율을 향상시키는 접착성 향상제를 병용해도 좋다. 이것에 의해 접착강도를 한층 높일 수 있다. 즉, (메타)아크릴로일기를 갖는 라디칼 중합성 화합물에 더하여, 알릴기, 말레이미드기, 비닐기 등의 라디칼 중합가능한 관능기를 갖는 화합물을 첨가해도 좋다. 구체적으로는, N-비닐이미다졸, N-비닐피리딘, N-비닐피롤리돈, N-비닐포름아미드, N-비닐카프로락탐, 4, 4'-비닐리덴비스(N,N-디메틸아닐린), N-비닐아세트아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-이소프로필아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드 등을 들 수 있다. 또, 이 들 접착성 향상제는 1종을 단독으로 사용하여도, 2종 이상을 혼합하여 사용하여도 좋다.Moreover, the adhesive composition of this invention can add another material according to a use purpose besides this. For example, you may use together the adhesive improver which improves the crosslinking rate of an adhesive agent. Thereby, adhesive strength can be raised further. That is, in addition to the radically polymerizable compound which has a (meth) acryloyl group, you may add the compound which has radically polymerizable functional groups, such as an allyl group, a maleimide group, and a vinyl group. Specifically, N-vinylimidazole, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinyl caprolactam, 4,4'- vinylidenebis (N, N-dimethylaniline ), N-vinylacetamide, N, N-dimethyl acrylamide, N-isopropyl acrylamide, N, N-diethyl acrylamide, etc. are mentioned. In addition, these adhesive improving agents may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.

또한, 단관능 (메타)아크릴레이트 등의 유동성 향상제를 병용해도 좋다. 이것에 의해 유동성을 향상시킬 수 있다. 구체적으로는, 펜타에리스리톨(메타)아크릴레이트, 2-시아노에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, n-라우릴(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로일몰포린을 들 수 있다. 또, 이들 유동성 향상제는 1종을 단독으로 사용하여도, 2종 이상을 혼합하여 사용하여도 좋다.Moreover, you may use together fluidity improving agents, such as monofunctional (meth) acrylate. Thereby, fluidity | liquidity can be improved. Specifically, pentaerythritol (meth) acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) Acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, n-lauryl (meta ) Acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) a Relate, there may be mentioned N, N- dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N- dimethylaminopropyl (meth) acrylate, (meth) acryloyl morpholine sunset. In addition, these fluidity improving agents may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.

더욱이, 접착성을 향상시키는 고무계의 재료를 병용해도 좋다. 이것에 의해 응력을 완화하는 것도 가능하게 된다. 구체적으로는, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 카르복실기말단폴리부타디엔, 수산기말단폴리부타디엔, 1,2-폴리부타디엔, 카르복실기말단 1,2-폴리부타디엔, 수산기말단 1,2-폴리부타디엔, 아크릴고무, 스티렌-부 타디엔고무, 수산기말단 스티렌-부타디엔고무, 아크릴로니트릴-부타디엔고무, 카르복실기, 수산기, (메타)아크릴로일기 또는 몰포린기를 폴리머 말단에 함유하는 아크릴로니트릴-부타디엔고무, 카르복실화니트릴고무, 수산기말단 폴리(옥시프로필렌), 알콕시실릴기말단폴리(옥시프로필렌), 폴리(옥시테트라메틸렌)글리콜, 폴리올레핀글리콜, 폴리-ε-카프로락톤을 들 수 있다.Moreover, you may use together the rubber type material which improves adhesiveness. This also makes it possible to relieve stress. Specifically, polyisoprene, polybutadiene, carboxyl terminal polybutadiene, hydroxyl terminal polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl terminal terminal 1,2-polybutadiene, hydroxyl terminal terminal 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, styrene- Butadiene rubber, hydroxyl group terminal styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or an acrylonitrile-butadiene rubber which contains a (meth) acryloyl group or a morpholine group in a polymer terminal, carboxylated nitrile rubber And hydroxyl terminal terminal poly (oxypropylene), alkoxysilyl group terminal poly (oxypropylene), poly (oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol, and poly-ε-caprolactone.

또, 고무계의 재료는, 접착성 향상의 관점으로부터, 극성이 높은 관능기인 시아노기, 카르복실기를 측쇄 또는 말단에 포함하는 고무계의 재료인 것이 바람직하고, 더욱이 유동성 향상의 관점으로부터, 액상인 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 액상 아크릴로니트릴-부타디엔고무, 카르복실기, 수산기, (메타)아크릴로일기 또는 몰포린기를 폴리머 말단에 함유하는 액상 아크릴로니트릴-부타디엔고무, 액상카르복실화 니트릴고무를 들 수 있고, 극성기인 아크릴로니트릴 함유량이 이들 고무계 재료 전체의 10∼60중량%인 것이 더욱 바람직하다. 또, 이들 고무계 재료는 1종을 단독으로 이용해도, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 좋다.In addition, the rubber-based material is preferably a rubber-based material including a cyano group and a carboxyl group, which are highly polar functional groups, in the side chain or the terminal from the viewpoint of adhesion improvement, and more preferably in the liquid phase from the viewpoint of fluidity improvement. Do. Specific examples include liquid acrylonitrile-butadiene rubber and liquid carboxylated nitrile rubber containing a liquid acrylonitrile-butadiene rubber, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group or a morpholine group at the polymer terminal, It is further more preferable that the acrylonitrile content which is a polar group is 10 to 60 weight% of all these rubber materials. Moreover, these rubber type materials may be used individually by 1 type, or may mix and use 2 or more types.

또한, t-부틸피로카테콜, t-부틸페놀, p-메톡시페놀 등으로 대표되는 중합금지제 등의 첨가제를 병용하여도 좋다. 이것에 의해 저장안정성을 더욱 높일 수 있다.Moreover, you may use together additives, such as a polymerization inhibitor represented by t-butyl pyrocatechol, t-butylphenol, p-methoxyphenol. As a result, storage stability can be further improved.

본 발명의 접착제 조성물은, 상온에서 액상인 경우에는 페이스트상으로 하여 사용할 수 있다. 상온에서 고체인 경우에는, 가열해서 페이스트화하는 것 이외에, 용제를 사용해서 페이스트화해도 좋다. 사용할 수 있는 용제로서는, 접착제 조성물과 반응하지 않고, 동시에 충분한 용해성을 나타내는 것이면, 특별히 제한은 없지 만, 상압에서의 비점이 50∼150℃인 것이 바람직하다. 비점이 50℃ 미만이면, 실온에서 용이하게 휘발하는 경향이 있기 때문에, 밀봉한 환경하에서 라디칼 중합반응을 행하지 않으면 안되어, 사용이 제한되는 경향이 있다. 또한, 비점이 150℃를 넘으면, 용제를 휘발시키는 것이 어렵고, 접착후에 있어서 충분한 접착강도가 얻어지지 않는 경향이 있다.When the adhesive composition of the present invention is a liquid at normal temperature, it can be used as a paste. In the case of a solid at normal temperature, in addition to heating and pasting, you may paste into a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it does not react with the adhesive composition and exhibits sufficient solubility at the same time, but the boiling point at normal pressure is preferably 50 to 150 ° C. If the boiling point is less than 50 ° C., there is a tendency to volatilize easily at room temperature. Therefore, a radical polymerization reaction must be performed in a sealed environment, and the use tends to be restricted. Moreover, when a boiling point exceeds 150 degreeC, it is difficult to volatilize a solvent and there exists a tendency for sufficient adhesive strength to not be obtained after adhesion | attachment.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은 필름상으로 하여 이용하는 것도 가능하다. 이 필름의 제조방법은, 접착제 조성물에 용제를 가한 혼합액을, 불소수지필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트필름, 이형지 등의 박리성 기재상에 도포하고, 또는 부직포 등의 기재에 혼합액을 함침시켜서 박리성 기재상에 재치하고, 용제 등을 제거하는 것에 의해 필름을 얻을 수 있다. 이와 같이 접착제 조성물을 필름상으로 하면, 취급성이 우수하여 한층 편리하다.Moreover, the adhesive composition of this invention can also be used as a film form. In the method for producing the film, a mixed solution obtained by adding a solvent to the adhesive composition is applied onto a release base such as a fluororesin film, polyethylene terephthalate film, and release paper, or the base such as a nonwoven fabric is impregnated with a mixed solution to form a release base. The film can be obtained by mounting on and removing a solvent and the like. Thus, when an adhesive composition is made into a film form, it is excellent in handleability and is more convenient.

또한, 본 발명의 접착제 조성물에 도전성 입자를 첨가해서 필름을 제작하면, 이방도전성 필름으로 할 수 있다. 이 이방도전성 필름은, 예컨대, 기판상의 대향하는 전극간에 재치하고, 가열가압하는 것에 의해 양쪽 전극을 접착할 수 있음과 동시에, 전기적으로 접속할 수 있다. 여기에서 전극을 형성하는 기판으로서는, 반도체, 유리, 세라믹 등의 무기질, 폴리이미드, 폴리카보네이트 등의 유기물, 유리/에폭시 등의 이들 복합의 각 조합이 적용될 수 있다.Moreover, when an electroconductive particle is added to the adhesive composition of this invention and a film is produced, it can be set as an anisotropic conductive film. For example, the anisotropic conductive film can be electrically connected to both electrodes by placing them between opposing electrodes on a substrate, and heating and pressing them. As the substrate for forming the electrode, combinations of these composites, such as inorganic materials such as semiconductors, glass and ceramics, organic materials such as polyimide and polycarbonate, and glass / epoxy, can be applied.

더욱이, 본 발명의 접착제 조성물은 가열 및 가압을 병용해서 접착시킬 수 있다. 가열 온도는, 50∼190℃의 온도가 바람직하다. 압력은 피착체에 손상을 주지 않는 범위이면 좋고, 0.1∼10MPa가 바람직하다. 이들의 가열 및 가압은, 0.5초∼ 120초간의 범위에서 행하는 것이 바람직하다.Moreover, the adhesive composition of this invention can be bonded together using heating and pressurization. As for heating temperature, the temperature of 50-190 degreeC is preferable. The pressure may be in a range that does not damage the adherend, and is preferably 0.1 to 10 MPa. It is preferable to perform these heating and pressurization in the range for 0.5 second-120 second.

더욱이, 본 발명의 접착제 조성물은, 단시간에 반응을 행할 수 있고, 저장 안정성도 우수한 것으로부터, 적절하게 회로접속재료로서 이용할 수 있다. 예컨대, 제 1의 회로부재의 회로전극과 제 2의 회로부재의 회로전극을 전기적으로 접속할 때에, 이들 회로부재를 대향배치한 상태에서, 본 발명의 접착제 조성물을 한 쪽의 회로전극에 부여하고, 다른 쪽의 회로전극과 라디칼 중합반응에 의해 전기적으로 접속시킬 수 있다. 이와 같이 접착제 조성물을 회로접속재료로서 이용하면, 전기적으로 접속을 단시간에 행할 수 있고, 접속을 행하는 경우의 프로세스 온도나 시간이 변동했다고 하더라도, 접착강도나 접속저항 등의 특성을 안정한 것으로 할 수 있다. 또한, 회로접속재료의 경화물의 경시적인 특성저하도 억제할 수 있다. 더욱이, 이 회로접속재료가 도전성 입자를 함유하면, 전기적인 접속의 이방성을 나타낼 수 있어, 회로전극용 이방도전성 회로접속재료로서 이용하는 것도 가능하다.Moreover, since the adhesive composition of this invention can react in a short time and is excellent also in storage stability, it can use suitably as a circuit connection material. For example, when electrically connecting the circuit electrode of a 1st circuit member and the circuit electrode of a 2nd circuit member, the adhesive composition of this invention is provided to one circuit electrode in the state which arrange | positioned these circuit members, and It can be electrically connected with the other circuit electrode by a radical polymerization reaction. Thus, when an adhesive composition is used as a circuit connection material, it can electrically connect in a short time, and even if the process temperature and time in the case of making a connection change, characteristics, such as adhesive strength and connection resistance, can be made stable. . In addition, the deterioration of the cured product of the circuit connecting material over time can be suppressed. Moreover, when this circuit connection material contains electroconductive particle, it can show the anisotropy of an electrical connection, and it can also use as an anisotropic conductive circuit connection material for circuit electrodes.

그리고, 이 회로접속재료는, 열팽창계수가 다른 이종의 피착체의 회로접속재료로서도 사용할 수 있다. 구체적으로는, 이방도전성 접착제, 은페이스트, 은필름 등으로 대표되는 회로접속재료, CSP용 엘라스토머, CSP용 언더필재, LOC테이프 등으로 대표되는 반도체소자 접착재료로서 이용할 수 있다.The circuit connecting material can also be used as a circuit connecting material for heterogeneous adherends having different thermal expansion coefficients. Specifically, it can be used as a circuit connecting material represented by anisotropic conductive adhesive, silver paste, silver film, or the like, semiconductor device adhesive material represented by CSP elastomer, CSP underfill material, LOC tape, or the like.

(회로부재의 접속구조)(Connection structure of circuit member)

다음에, 본 발명의 회로부재의 접속구조의 바람직한 실시형태에 관해서 설명한다. 도 1은, 본 발명의 회로부재의 접속구조의 일실시형태를 나타내는 개략단면도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 회로부재의 접속구조(1)는, 서로 대향하는 제 1의 회로부재(20) 및 제 2의 회로부재(30)를 구비하고 있고, 제 1의 회로부재(20)와 제 2의 회로부재(30)와의 사이에는, 이들을 전기적으로 접속하는 회로접속부재(10)가 설치되어 있다. 제 1의 회로부재(20)는, 제 1의 회로기판(21)과, 회로기판(21)의 주면(21a)상에 형성되는 제 1의 회로전극(22)을 구비하고 있다. 또, 회로기판(21)의 주면(21a)상에는, 경우에 따라 절연층(도시하지 않음)이 형성되어 있어도 좋다.Next, a preferred embodiment of the connection structure of the circuit member of the present invention will be described. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a connection structure of a circuit member of the present invention. As shown in FIG. 1, the connection structure 1 of the circuit member of this embodiment is equipped with the 1st circuit member 20 and the 2nd circuit member 30 which mutually oppose, and is a 1st circuit Between the member 20 and the 2nd circuit member 30, the circuit connection member 10 which electrically connects these is provided. The first circuit member 20 includes a first circuit board 21 and a first circuit electrode 22 formed on the main surface 21a of the circuit board 21. In addition, an insulating layer (not shown) may be formed on the main surface 21a of the circuit board 21 in some cases.

한편, 제 2의 회로부재(30)는, 제 2의 회로기판(31)과, 제 2의 회로기판(31)의 주면(31a)상에 형성되는 제 2의 회로전극(32)을 구비하고 있다. 또한, 회로기판(31)의 주면(31a)상에도, 경우에 따라 절연층(도시하지 않음)이 형성되어 있어도 좋다.On the other hand, the second circuit member 30 includes a second circuit board 31 and a second circuit electrode 32 formed on the main surface 31a of the second circuit board 31. have. In addition, an insulating layer (not shown) may be formed on the main surface 31a of the circuit board 31 in some cases.

제 1의 회로부재(20) 및 제 2의 회로부재(30)로서는, 전기적 접속을 필요로 하는 전극이 형성되어 있는 것이면 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 액정 디스플레이에 이용되고 있는 ITO 등으로 전극이 형성되어 있는 유리 또는 플라스틱기판, 프린트배선판, 세라믹배선판, 프렉시블배선판, 반도체실리콘칩 등을 들 수 있고, 이들은 필요에 따라서 조합시켜 이용할 수 있다. 이와 같이, 본 실시형태에서는, 프린트배선판이나 폴리이미드 등의 유기물로 이루어진 재질을 비롯해서, 구리, 알루미늄 등의 금속이나 ITO(indium tin oxide), 질화규소(SiNx), 이산화규소(SiO2) 등의 무기재질과 같이 다종다양한 표면상태를 갖는 회로부재를 이용할 수 있다.The first circuit member 20 and the second circuit member 30 are not particularly limited as long as an electrode that requires electrical connection is formed. Specifically, a glass or plastic substrate, a printed wiring board, a ceramic wiring board, a flexible wiring board, a semiconductor silicon chip, etc., on which electrodes are formed of ITO or the like used in a liquid crystal display, may be used. Can be. As described above, in the present embodiment, a material made of organic material such as a printed wiring board or polyimide, as well as metals such as copper and aluminum, indium tin oxide (ITO), silicon nitride (SiN x ), and silicon dioxide (SiO 2 ) As the inorganic material, a circuit member having various surface states can be used.

회로접속부재(10)는, 절연성 물질(11) 및 도전성 입자(7)를 함유하고 있다. 도전성 입자(7)는, 대향하는 제 1의 회로전극(22)과 제 2의 회로전극(32)과의 사이 뿐만 아니라, 주면(21a)과 주면(31a)과의 사이에도 배치되어 있다. 본 실시형태의 회로부재의 접속구조(1)에 있어서는, 제 1의 회로전극(22)과 제 2의 회로전극(32)이, 도전성 입자(7)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 이것 때문에, 제 1의 회로전극(22) 및 제 2의 회로전극(32)의 사이의 접속저항이 충분히 저감된다. 따라서, 제 1의 회로전극(22) 및 제 2의 회로전극(32)의 사이의 전류의 흐름을 원활하게 할 수 있어, 회로가 가지는 기능을 충분히 발휘할 수 있다. 또한, 이 도전성 입자(7)를 상술한 배합 비율로 하는 것에 의해 전기적인 접속의 이방성을 나타내는 것도 가능하다.The circuit connection member 10 contains the insulating material 11 and the electroconductive particle 7. The electroconductive particle 7 is arrange | positioned not only between the opposing 1st circuit electrode 22 and the 2nd circuit electrode 32, but also between the main surface 21a and the main surface 31a. In the connection structure 1 of the circuit member of this embodiment, the 1st circuit electrode 22 and the 2nd circuit electrode 32 are electrically connected through the electroconductive particle 7. For this reason, the connection resistance between the 1st circuit electrode 22 and the 2nd circuit electrode 32 is fully reduced. Therefore, the flow of electric current between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 can be smoothed, and the function of the circuit can be sufficiently exhibited. Moreover, it is also possible to show the anisotropy of electrical connection by making this electroconductive particle 7 into the compounding ratio mentioned above.

또, 회로접속부재(10)가 도전성 입자(7)를 함유하고 있지 않은 경우에는, 제 1의 회로전극(22) 및 제 2의 회로전극(32)의 사이에 원하는 양의 전류가 흐르도록, 그들을 직접 접촉시키거나 또는 충분히 가까이 하므로써 전기적으로 접속된다.Moreover, when the circuit connection member 10 does not contain the electroconductive particle 7, so that a desired amount of electric current may flow between the 1st circuit electrode 22 and the 2nd circuit electrode 32, Electrically connected by direct contact or close enough to them.

회로접속부재(10)는 상기 접착제 조성물을 포함하는 회로접속재료의 경화물에 의해 구성되어 있는 것으로부터, 제 1의 회로부재(20)또는 제 2의 회로부재(30)에 대한 회로접속부재(10)의 접착강도가 충분히 높아지고, 이 상태를 장기간에 걸쳐 지속시킬 수 있다. 따라서, 제 1의 회로전극(22) 및 제 2의 회로전극(32) 사이의 전기특성의 장기신뢰성을 충분히 높이는 것이 가능해진다.Since the circuit connection member 10 is comprised by the hardened | cured material of the circuit connection material containing the said adhesive composition, the circuit connection member with respect to the 1st circuit member 20 or the 2nd circuit member 30 ( The adhesive strength of 10) is sufficiently high, and this state can be maintained for a long time. Accordingly, it becomes possible to sufficiently increase the long-term reliability of the electrical characteristics between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32.

(반도체장치)(Semiconductor device)

다음에, 본 발명의 반도체장치의 실시형태에 관해서 설명한다. 도 2는, 본 발명의 반도체장치의 일실시형태를 나타내는 개략단면도이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 반도체장치(2)는, 반도체소자(50)와, 반도체의 지지부재가 되는 기판(60)을 구비하고 있고, 반도체소자(50) 및 기판(60)의 사이에는, 이들을 전기적으로 접속하는 반도체소자 접속부재(40)가 설치되어 있다. 반도체소자 접속부재(40)는 기판(60)의 주면(60a)상에 적층되고, 또한 반도체소자(50)는 그 반도체소자 접속부재(40)상에 적층되어 있다.Next, an embodiment of the semiconductor device of the present invention will be described. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a semiconductor device of the present invention. As shown in FIG. 2, the semiconductor device 2 of the present embodiment includes a semiconductor element 50 and a substrate 60 serving as a support member of the semiconductor. The semiconductor element 50 and the substrate 60 are provided with a semiconductor element 50. The semiconductor element connection member 40 which electrically connects these is provided in between. The semiconductor element connection member 40 is laminated on the main surface 60a of the substrate 60, and the semiconductor element 50 is laminated on the semiconductor element connection member 40. FIG.

기판(60)은 회로패턴(61)을 구비하고 있고, 회로패턴(61)은, 기판(60)의 주면(60a)상에서 반도체접속부재(40)를 통해서 또는 직접 반도체소자(50)와 전기적으로 접속되어 있다. 그리고, 이들이 봉지재(70)에 의해 봉지되어, 반도체장치(2)가 형성된다.The substrate 60 has a circuit pattern 61, and the circuit pattern 61 is electrically connected to the semiconductor element 50 or directly through the semiconductor connection member 40 on the main surface 60a of the substrate 60. Connected. Then, these are sealed by the encapsulant 70 to form the semiconductor device 2.

반도체소자(50)의 재료로서는 특별히 제한되지 않지만, 실리콘, 게르마늄의 4족의 반도체소자, GaAs, InP, GaP, InGaAs, InGaAsP, AlGaAs, InAs, GaInP, AlInP, AlGaInP, GaNAs, GaNP, GaInNAs, GaInNP, GaSb, InSb, GaN, AlN, InGaN, InNAsP 등의 III-V족 화합물 반도체소자, HgTe, HgCdTe, CdMnTe, CdS, CdSe, MgSe, MgS, ZnSe, ZeTe 등의 II-VI족 화합물 반도체소자, 그리고, CuInSe(ClS) 등의 여러가지 것을 이용할 수 있다.Although it does not restrict | limit especially as a material of the semiconductor element 50, The semiconductor element of group 4 of silicon and germanium, GaAs, InP, GaP, InGaAs, InGaAsP, AlGaAs, InAs, GaInP, AlInP, AlGaInP, GaNAs, GaNP, GaInNAs, GaInNPs Group III-V compound semiconductor devices such as GaSb, InSb, GaN, AlN, InGaN, InNAsP, HgTe, HgCdTe, CdMnTe, CdS, CdSe, MgSe, MgS, ZnSe, ZeTe, etc. And CuInSe (ClS) can be used.

반도체소자 접속부재(40)는, 절연성 물질(11) 및 도전성 입자(7)를 함유하고 있다. 도전성 입자(7)는, 반도체소자(50)와 회로패턴(61)과의 사이 뿐만 아니라, 반도체소자(50)와 주면(60a)과의 사이에도 배치되어 있다. 본 실시형태의 반도체장치(2)에 있어서는, 반도체소자(50)와 회로패턴(61)이, 도전성 입자(7)를 통해서 전 기적으로 접속되어 있다. 이것 때문에, 반도체소자(50) 및 회로패턴(61) 사이의 접속저항이 충분히 저감된다. 따라서, 반도체소자(50) 및 회로패턴(61) 사이의 전류의 흐름을 원활하게 할 수 있어, 반도체가 갖는 기능을 충분히 발휘할 수 있다. 또한, 이 도전성 입자(7)를 상술한 배합비율로 하는 것에 의해 전기적인 접속의 이방성을 나타내는 것도 가능하다.The semiconductor element connection member 40 contains the insulating material 11 and the electroconductive particle 7. The electroconductive particle 7 is arrange | positioned not only between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61, but also between the semiconductor element 50 and the main surface 60a. In the semiconductor device 2 of this embodiment, the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 are electrically connected through the electroconductive particle 7. For this reason, the connection resistance between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 is fully reduced. Therefore, the current flows between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 can be made smooth, and the function which a semiconductor has can fully be exhibited. Moreover, it is also possible to show the anisotropy of electrical connection by making this electroconductive particle 7 into the compounding ratio mentioned above.

또, 반도체소자 접속부재(40)가 도전성 입자(7)를 함유하고 있지 않은 경우에는, 반도체소자(50)와 회로패턴(61)을 원하는 양의 전류가 흐르도록 직접 접촉시키거나 또는 충분히 가까이 하므로써 전기적으로 접속된다.In the case where the semiconductor element connecting member 40 does not contain the conductive particles 7, the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 are brought into direct contact with or close enough to allow a desired amount of current to flow. Electrically connected.

반도체소자 접속부재(40)는 상기 접착제 조성물을 포함하는 접착제 조성물의 경화물에 의해 구성되어 있는 것으로부터, 반도체소자(50) 및 기판(60)에 대한 반도체소자 접속부재(40)의 접착강도가 충분히 높아지고, 이 상태를 장기간에 걸쳐 지속시킬 수 있다. 따라서, 반도체소자(50) 및 기판(60) 사이의 전기특성의 장기신뢰성을 충분히 높이는 것이 가능해진다.Since the semiconductor element connection member 40 is comprised by the hardened | cured material of the adhesive composition containing the said adhesive composition, the adhesive strength of the semiconductor element connection member 40 with respect to the semiconductor element 50 and the board | substrate 60 is strong. It becomes high enough and can maintain this state for a long time. Therefore, it becomes possible to sufficiently increase the long-term reliability of the electrical characteristics between the semiconductor element 50 and the substrate 60.

[실시예]EXAMPLE

이하에, 본 발명을 실시예에 근거해서 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Although this invention is demonstrated concretely based on an Example below, this invention is not limited to this.

(도전성 입자의 조정)(Adjustment of conductive particles)

폴리스티렌 입자의 표면에, 두께 0.2㎛로 되도록 니켈층을 설치하고, 더욱 이 니켈층의 외측에, 두께 0.02㎛로 되도록 금층을 설치하여, 평균입경 4㎛, 비중 2.5의 도전성 입자를 제작했다.A nickel layer was provided on the surface of the polystyrene particles so as to have a thickness of 0.2 μm, and a gold layer was further provided outside the nickel layer so as to have a thickness of 0.02 μm, thereby producing electroconductive particles having an average particle diameter of 4 μm and a specific gravity of 2.5.

[실시예 1]Example 1

페녹시수지(평균 분자량 45000, 유니온카바이드사제, 상품명:PKHC) 50중량부를, 메틸에틸케톤 75중량부에 용해하여, 고형분 40중량%의 용액으로 만들었다.50 weight part of phenoxy resins (average molecular weight 45000, Union Carbide make, brand name: PKHC) were melt | dissolved in 75 weight part of methyl ethyl ketone, and it was made into the solution of 40 weight% of solid content.

그리고, 이 용액에 라디칼 중합성 화합물로서, 이소시아눌산EO변성디아크릴레이트(동아합성사제, 상품명:M-215)를 25중량부, 우레탄아크릴레이트(교에이샤화학사제, 상품명:AT-600)를 20중량부, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트(교에이샤화학사제, 상품명:라이트에스테르P-2M)를 5중량부, 라디칼 중합개시제로서 t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(1분간 반감기온도 132.6℃, 일본유지사제, 상품명:퍼헥실0)를 1.5중량부, t-헥실퍼옥시벤조에이트(1분간 반감기온도 160.3℃, 일본유지사제, 상품명:퍼헥실Z)를 1.5중량부 배합했다. 얻어진 혼합액에 도전성 입자를 1.5부피%가 되도록 배합분산시켜, 접착제 조성물 A를 얻었다.And as a radically polymerizable compound, 25 weight part of isocyanuric acid EO modified diacrylate (made by Dong-A Synthetic Co., Ltd., brand name: M-215) and urethane acrylate (made by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., brand name: AT-600) ) 20 parts by weight, 5 parts by weight of 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., product name: Lightester P-2M) and t-hexyl peroxy-2-ethyl as a radical polymerization initiator 1.5 parts by weight of hexanoate (half life temperature of 132.6 ° C, manufactured by Nippon Oil Holding Co., Ltd., product name: perhexyl 0), and t-hexyl peroxybenzoate (half life temperature of 160.3 ° C, manufactured by Nippon Oil Company, Ltd. ) Was combined with 1.5 parts by weight. The electroconductive particle was mix | blended and dispersed so that electroconductive particle might be set to 1.5 volume% in the obtained liquid mixture, and adhesive composition A was obtained.

이어서, 얻어진 접착제 조성물 A를, 편면을 표면처리한 두께 80㎛의 불소수지 필름에 공지의 코팅장치를 이용해서 도포하고, 70℃에서 10분간 열풍건조를 행하는 것에 의해, 층의 두께가 15㎛인 필름상 회로접속재 A를 얻었다.Subsequently, the adhesive composition A obtained was applied to a 80-micrometer-thick fluororesin film which surface-treated on one side using a well-known coating apparatus, and hot-air-dried at 70 degreeC for 10 minutes, and the layer thickness is 15 micrometers. The film-form circuit connection material A was obtained.

[실시예 2]Example 2

라디칼 중합개시제인 t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트의 배합비율을 1중량부로 하고, t-헥실퍼옥시벤조에이트의 배합 비율을 2중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 필름상 회로접속재 B를 얻었다.Except having made the compounding ratio of t-hexyl peroxy 2-ethylhexanoate which is a radical polymerization initiator into 1 weight part, and the compounding ratio of t-hexyl peroxy benzoate into 2 weight part, it carried out similarly to Example 1, The film-form circuit connection material B was obtained.

[비교예 1]Comparative Example 1

라디칼 중합개시제인 t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트의 배합비율을 3중량 부로 하고, t-헥실퍼옥시벤조에이트를 사용하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 필름상 회로접속재 C를 얻었다.A film-like circuit connecting material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the blending ratio of t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate as a radical polymerization initiator was 3 parts by weight and no t-hexylperoxybenzoate was used. C was obtained.

[비교예 2]Comparative Example 2

라디칼 중합개시제인 t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트를 사용하지 않고, t-헥실퍼옥시벤조에이트의 배합비율을 3중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 필름상 회로접속재 D를 얻었다.A film-like circuit connecting material was produced in the same manner as in Example 1 except that t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, which is a radical polymerization initiator, was used and the blending ratio of t-hexylperoxybenzoate was 3 parts by weight. D was obtained.

[비교예 3]Comparative Example 3

라디칼 중합개시제로서, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 및 t-헥실퍼옥시벤조에이트 대신에 디이소프로필퍼옥시디카보네이트(1분간 반감기온도 88.3℃, 일본유지사제, 상품명:파로일IPP)를 3중량부 배합한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 필름상 회로접속재 E를 얻었다.As a radical polymerization initiator, diisopropyl peroxydicarbonate (half life temperature 88.3 degreeC, the Japan oil company make, brand name: paroyl IPP instead of t-hexyl peroxy-2-ethylhexanoate and t-hexyl peroxy benzoate) ) Was obtained in the same manner as in Example 1, except that 3 parts by weight of) were obtained.

(평가방법 1)Evaluation Method 1

[접속저항의 측정][Measurement of connection resistance]

상기 제법에 의해 얻어진 필름상 회로접속재 A∼D를 이용하여, 라인 폭 25㎛, 피치 50㎛, 두께 18㎛의 구리회로배선을 500개 갖는 프렉시블 회로판(FPC)과, 0.2㎛의 산화인듐(ITO)의 박층을 형성한 유리(두께 1.1mm, 표면저항 20Ω/□)를, 열압착 장치(가열방식:콘스탄트 히트형, 도레엔지니어링사제)에 의해 폭 2mm에 걸쳐 전기적으로 접속했다. 이때의 가열가압의 조건은, 가열온도를 160℃, 170℃, 190℃, 가압 압력을 3MPa, 가열 가압 시간을 15초간으로 했다. 이 전기적으로 접속한 회로간의 저항치를, 접착직후, 및 85℃, 85%RH의 고온고습조 중에 120시간 유지 한 후에 멀티미터(multi-meter)를 이용해서 측정했다. 저항치는 인접하는 회로간의 저항 150점의 평균(x+3σ)으로 나타냈다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.A flexible circuit board (FPC) having 500 copper circuit wirings having a line width of 25 μm, a pitch of 50 μm, and a thickness of 18 μm using film-like circuit connecting materials A to D obtained by the above-mentioned manufacturing method, and 0.2 μm of indium oxide The glass (thickness 1.1mm, surface resistance 20Ω / square) in which the thin layer of (ITO) was formed was electrically connected over 2 mm in width by the thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, Dore Engineering Co., Ltd.). The conditions of the heating pressurization at this time made heating temperature 160 degreeC, 170 degreeC, 190 degreeC, pressurization pressure 3 Mpa, and heating pressurization time for 15 second. The resistance value between these electrically connected circuits was measured using a multimeter immediately after adhesion | attachment, and after hold | maintaining for 120 hours in 85 degreeC and the high temperature, high humidity tank of 85% RH. The resistance value was represented by the average (x + 3σ) of 150 resistance points between adjacent circuits. The obtained results are shown in Table 1.

(평가방법 2)Evaluation Method 2

[접착강도의 측정][Measurement of Adhesive Strength]

상기 제법에 의해 얻어진 필름상 회로접속재 A∼D의 접착강도를 JIS-ZO237에 준해서 90도 박리법으로 측정해서 평가했다. 여기에서, 접착강도의 측정장치는 텐실론UTM-4(박리속도 50mm/min, 25℃, 동양볼드윈사제)를 사용했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.The adhesive strength of the film-form circuit connection materials A-D obtained by the said manufacturing method was measured and evaluated by the 90 degree peeling method according to JIS-ZO237. Herein, Tensilon UTM-4 (peel rate 50 mm / min, 25 ° C, manufactured by Dongyang Baldwin Co., Ltd.) was used as a measuring apparatus for adhesive strength. The obtained results are shown in Table 2.

Figure 112005016223407-pat00002
Figure 112005016223407-pat00002

실시예 1, 2의 필름상 회로접속재 A 및 B는, 가열온도 160∼190℃에 있어서, 접착직후 및 85℃, 85%RH의 고온고습조 중에 120시간 유지한 후라도, 양호한 접속저항 및 접착강도를 나타내고, 광역의 가열 온도에 대하여 양호한 특성을 나타내는 것을 알 수 있다. 이것에 대하여, 본 발명에 의하지 않는 비교예 1의 필름상 회로접속재 C에서는, 170℃ 가열시의 85℃, 85%RH, 120시간 유지후, 및 190℃ 가열시에 접속저항이 높아지고, 또한 접착강도는 접착직후, 및 85℃, 85%RH의 고온고습조 중에 120시간 유지한 후에도 실시예 1, 2와 비교해서 낮은 값을 나타냈다. 더욱이, 비교예 2의 필름상 회로접속재 D에서는 160∼170℃ 가열시의 접속저항이 높아지고, 접착강도가 더 낮은 값을 나타냈다.The film-like circuit connecting members A and B of Examples 1 and 2 exhibited good connection resistance and adhesive strength even at the heating temperature of 160 to 190 ° C., even after holding for 120 hours immediately after the adhesion and in a high temperature and high humidity bath at 85 ° C. and 85% RH. It turns out that it shows a favorable characteristic with respect to the heating temperature of wide area | region. On the other hand, in the film-form circuit connection material C of the comparative example 1 which is not based on this invention, connection resistance becomes high after 85 degreeC, 85% RH, 120 hours hold | maintenance at 170 degreeC heating, and 190 degreeC heating, and also adheres The strength showed a low value in comparison with Examples 1 and 2 immediately after adhesion and after holding for 120 hours in a high temperature, high humidity bath at 85 ° C and 85% RH. Moreover, in the film-form circuit connection material D of the comparative example 2, the connection resistance at the time of 160-170 degreeC heating became high, and the adhesive strength showed lower value.

(평가방법 3)Evaluation Method 3

실시예 1 및 비교예 3에서 얻어진 필름상 회로접속재 A 및 E를, 진공포장재에 수용하고, 40℃에서 3일간 방치한 후, FPC 및 ITO를 상술한 가열압착장치에 의해 160℃, 3MPa, 10초간의 조건하에서 가열 압착을 행하였다. 얻어진 필름에 관해서 평가방법 1 및 2에 준해서 접속저항과 접착강도를 측정했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.The film-form circuit connection members A and E obtained in Example 1 and Comparative Example 3 were housed in a vacuum packaging material and allowed to stand at 40 ° C. for 3 days, and then the FPC and ITO were described at 160 ° C., 3 MPa, and 10 by the above-mentioned hot pressing apparatus. Heat compression was performed under the conditions for a second. About the obtained film, connection resistance and adhesive strength were measured according to evaluation methods 1 and 2. The results are shown in Table 2.

Figure 112005016223407-pat00003
Figure 112005016223407-pat00003

표 2에 있어서, 실시예 1의 필름상 회로접속재 A는, 40℃ 방치 전후에 있어서, 양호한 접속저항 및 접착강도를 나타내고, 저장안정성이 우수한 것을 알 수 있다. 이것에 대해서, 본 발명에 의하지 않는 비교예 3의 필름상 회로접속재 E에서는, 40℃, 3일 방치후에 접속저항이 상승하고, 또한 접착강도가 반감하고, 안정성이 양호하지 않다는 것을 알 수 있었다.In Table 2, the film-form circuit connection material A of Example 1 shows favorable connection resistance and adhesive strength before and after 40 degreeC standing, and it turns out that it is excellent in storage stability. On the other hand, in the film-form circuit connection material E of the comparative example 3 which does not depend on this invention, it turned out that a connection resistance rises, adhesive strength is halved, and stability is not favorable after leaving for 3 days at 40 degreeC.

본 발명에 의하면, 저온에서 충분히 신속하게 경화처리를 행할 수 있고, 또한 경화처리를 행하는 경우의 프로세스 마진이 넓고, 충분히 안정한 접착강도나 접속저항이 얻어지는 접착제 조성물, 회로접속재료, 회로부재의 접속구조 및 반도체장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the connection structure of the adhesive composition, circuit connection material, and circuit member which can harden | cure quickly at low temperature sufficiently, and the process margin at the time of hardening process is wide and a sufficiently stable adhesive strength and connection resistance are obtained. And a semiconductor device.

Claims (33)

열가소성 수지와, 라디칼 중합성 화합물과, 1분간 반감기온도가 90∼145℃인 제 1의 라디칼 중합개시제와, 1분간 반감기온도가 150∼175℃인 제 2의 라디칼 중합개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.A thermoplastic resin, a radically polymerizable compound, a first radical polymerization initiator having a half-life temperature of 90 to 145 ° C for 1 minute, and a second radical polymerization initiator having a half-life temperature of 150 to 175 ° C for 1 minute, Adhesive composition. 제 1항에 있어서, 상기 라디칼 중합성 화합물이 분자내에 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1, wherein the radically polymerizable compound has two or more (meth) acryloyl groups in its molecule. 제 1항에 있어서, 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제가, 모두 분자량 180∼1000의 퍼옥시에스테르유도체인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1, wherein both the first radical polymerization initiator and the second radical polymerization initiator are peroxyester derivatives having a molecular weight of 180 to 1000. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 2항에 있어서, 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제가, 모두 분자량 180∼1000의 퍼옥시에스테르유도체인 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 2, wherein both of the first radical polymerization initiator and the second radical polymerization initiator are peroxyester derivatives having a molecular weight of 180 to 1000. 제 1항에 있어서, 상기 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 상기 라디칼 중합성 화합물을 50∼250중량부 함유하고, 또한 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제를 각각 0.05∼30중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The said radically polymerizable compound is contained 50-250 weight part with respect to 100 weight part of said thermoplastic resins, Furthermore, the said 1st radical polymerization initiator and the said 2nd radical polymerization initiator are 0.05-30, respectively. An adhesive composition comprising a weight part. 제 2항에 있어서, 상기 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 상기 라디칼 중합성 화합물을 50∼250중량부 함유하고, 또한 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제를 각각 0.05∼30중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The said radical polymerizable compound is contained 50-250 weight part with respect to 100 weight part of said thermoplastic resins, Furthermore, 0.05-30 of said 1st radical polymerization initiator and the said 2nd radical polymerization initiator are respectively An adhesive composition comprising a weight part. 제 3항에 있어서, 상기 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 상기 라디칼 중합성 화합물을 50∼250중량부 함유하고, 또한 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제를 각각 0.05∼30중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The method according to claim 3, wherein 50 to 250 parts by weight of the radically polymerizable compound is contained per 100 parts by weight of the thermoplastic resin, and the first and second radical polymerization initiators are respectively 0.05 to 30. An adhesive composition comprising a weight part. 제 12항에 있어서, 상기 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 상기 라디칼 중합성 화합물을 50∼250중량부 함유하고, 또한 상기 제 1의 라디칼 중합개시제 및 상기 제 2의 라디칼 중합개시제를 각각 0.05∼30중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The said radical polymerizable compound is contained 50-250 weight part with respect to 100 weight part of said thermoplastic resins, The said 1st radical polymerization initiator and the said 2nd radical polymerization initiator are 0.05-30, respectively. An adhesive composition comprising a weight part. 제 1항 내지 제 3항, 제 12항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서, 도전성 입자를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 and 12 to 16, further comprising conductive particles. 제 17항에 있어서, 상기 열가소성 수지 100중량부에 대하여, 상기 도전성 입자를 0.5∼30중량부 함유하는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.The adhesive composition of Claim 17 containing 0.5-30 weight part of said electroconductive particles with respect to 100 weight part of said thermoplastic resins. 대향하는 회로전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로접속재료로서, As a circuit connecting material for electrically connecting opposed circuit electrodes, 상기 회로접속재료가 제 1항 내지 제 3항, 제 12항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 회로접속재료.The circuit connection material contains the adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 and 12 to 16. 대향하는 회로전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로접속재료로서, As a circuit connecting material for electrically connecting opposed circuit electrodes, 상기 회로접속재료가 제 17항에 기재된 접착제 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 회로접속재료.Said circuit connection material contains the adhesive composition of Claim 17, The circuit connection material characterized by the above-mentioned. 대향하는 회로전극끼리를 전기적으로 접속하기 위한 회로접속재료로서, As a circuit connecting material for electrically connecting opposed circuit electrodes, 상기 회로접속재료가 제 18항에 기재된 접착제 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 회로접속재료.Said circuit connection material contains the adhesive composition of Claim 18, The circuit connection material characterized by the above-mentioned. 제 1항 내지 제 3항, 제 12항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물을 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 접착제.The adhesive agent as described in any one of Claims 1-3, 12-16 is formed in a film form, The film adhesive characterized by the above-mentioned. 제 17항에 기재된 접착제 조성물을 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 접착제.The adhesive agent composition of Claim 17 is formed in a film form, The film adhesive characterized by the above-mentioned. 제 18항에 기재된 접착제 조성물을 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 접착제.The adhesive agent composition of Claim 18 is formed in film form, The film adhesive characterized by the above-mentioned. 제 19항에 기재된 회로접속재료를 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 회로접속재.A film-form circuit connection material formed by forming the circuit connection material according to claim 19 in a film form. 제 20항에 기재된 회로접속재료를 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 회로접속재.The film-form circuit connection material formed by forming the circuit connection material of Claim 20 into a film form. 제 21항에 기재된 회로접속재료를 필름상으로 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 필름상 회로접속재.The circuit connecting material of Claim 21 is formed in the film form, The film-form circuit connecting material characterized by the above-mentioned. 제 1의 회로기판의 주면상에 제 1의 회로전극이 형성된 제 1의 회로부재와,A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit board, 제 2의 회로기판의 주면상에 제 2의 회로전극이 형성된 제 2의 회로부재와,A second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit board, 상기 제 1의 회로기판의 주면과 상기 제 2의 회로기판의 주면과의 사이에 설치되어, 상기 제 1의 회로전극과 상기 제 2의 회로전극을 대향배치시킨 상태에서 전기적으로 접속하는 회로접속부재A circuit connecting member which is provided between the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board and electrically connects the first circuit electrode and the second circuit electrode in a state in which the second circuit electrode is disposed to face each other. 를 구비한 회로부재의 접속구조체로서,A connecting member for a circuit member having a 상기 회로접속부재는, 제 19항에 기재된 회로접속재료의 경화물인 것을 특징으로 하는 회로부재의 접속구조체.The circuit connecting member is a cured product of the circuit connecting material according to claim 19, wherein the circuit member connecting structure. 제 1의 회로기판의 주면상에 제 1의 회로전극이 형성된 제 1의 회로부재와,A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit board, 제 2의 회로기판의 주면상에 제 2의 회로전극이 형성된 제 2의 회로부재와,A second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit board, 상기 제 1의 회로기판의 주면과 상기 제 2의 회로기판의 주면과의 사이에 설치되어, 상기 제 1의 회로전극과 상기 제 2의 회로전극을 대향배치시킨 상태에서 전기적으로 접속하는 회로접속부재A circuit connecting member which is provided between the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board and electrically connects the first circuit electrode and the second circuit electrode in a state in which the second circuit electrode is disposed to face each other. 를 구비한 회로부재의 접속구조체로서,A connecting member for a circuit member having a 상기 회로접속부재는, 제 20항에 기재된 회로접속재료의 경화물인 것을 특징으로 하는 회로부재의 접속구조체.The said circuit connection member is a hardened | cured material of the circuit connection material of Claim 20, The connection structure of the circuit member characterized by the above-mentioned. 제 1의 회로기판의 주면상에 제 1의 회로전극이 형성된 제 1의 회로부재와,A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit board, 제 2의 회로기판의 주면상에 제 2의 회로전극이 형성된 제 2의 회로부재와,A second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit board, 상기 제 1의 회로기판의 주면과 상기 제 2의 회로기판의 주면과의 사이에 설치되어, 상기 제 1의 회로전극과 상기 제 2의 회로전극을 대향배치시킨 상태에서 전기적으로 접속하는 회로접속부재A circuit connecting member which is provided between the main surface of the first circuit board and the main surface of the second circuit board and electrically connects the first circuit electrode and the second circuit electrode in a state in which the second circuit electrode is disposed to face each other. 를 구비한 회로부재의 접속구조체로서,A connecting member for a circuit member having a 상기 회로접속부재는, 제 21항에 기재된 회로접속재료의 경화물인 것을 특징으로 하는 회로부재의 접속구조체.Said circuit connection member is a hardened | cured material of the circuit connection material of Claim 21, The connection structure of the circuit member characterized by the above-mentioned. 반도체소자와,A semiconductor device, 상기 반도체소자를 탑재하는 기판과,A substrate on which the semiconductor element is mounted; 상기 반도체소자 및 상기 기판간에 설치되어, 상기 반도체소자 및 상기 기판을 전기적으로 접속하는 반도체소자 접속부재A semiconductor element connecting member provided between the semiconductor element and the substrate to electrically connect the semiconductor element and the substrate 를 구비한 반도체장치로서,A semiconductor device comprising: 상기 반도체소자 접속부재는, 제 1항 내지 제 3항, 제 12항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 반도체장치.The said semiconductor element connection member is a hardened | cured material of the adhesive composition in any one of Claims 1-3, 12-16. The semiconductor device characterized by the above-mentioned. 반도체소자와,A semiconductor device, 상기 반도체소자를 탑재하는 기판과,A substrate on which the semiconductor element is mounted; 상기 반도체소자 및 상기 기판간에 설치되어, 상기 반도체소자 및 상기 기판을 전기적으로 접속하는 반도체소자 접속부재A semiconductor element connecting member provided between the semiconductor element and the substrate to electrically connect the semiconductor element and the substrate 를 구비한 반도체장치로서,A semiconductor device comprising: 상기 반도체소자 접속부재는, 제 17항에 기재된 접착제 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 반도체장치.The said semiconductor element connection member is a hardened | cured material of the adhesive composition of Claim 17, The semiconductor device characterized by the above-mentioned. 반도체소자와,A semiconductor device, 상기 반도체소자를 탑재하는 기판과,A substrate on which the semiconductor element is mounted; 상기 반도체소자 및 상기 기판간에 설치되어, 상기 반도체소자 및 상기 기판을 전기적으로 접속하는 반도체소자 접속부재A semiconductor element connecting member provided between the semiconductor element and the substrate to electrically connect the semiconductor element and the substrate 를 구비한 반도체장치로서,A semiconductor device comprising: 상기 반도체소자 접속부재는, 제 18항에 기재된 접착제 조성물의 경화물인 것을 특징으로 하는 반도체장치.The said semiconductor element connection member is a hardened | cured material of the adhesive composition of Claim 18, The semiconductor device characterized by the above-mentioned.
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