KR100684359B1 - 서셉터 변형 방지기구 - Google Patents

서셉터 변형 방지기구 Download PDF

Info

Publication number
KR100684359B1
KR100684359B1 KR1020050114433A KR20050114433A KR100684359B1 KR 100684359 B1 KR100684359 B1 KR 100684359B1 KR 1020050114433 A KR1020050114433 A KR 1020050114433A KR 20050114433 A KR20050114433 A KR 20050114433A KR 100684359 B1 KR100684359 B1 KR 100684359B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
susceptor
ceramic support
flange
ceramic
fixing
Prior art date
Application number
KR1020050114433A
Other languages
English (en)
Inventor
엄평용
Original Assignee
주식회사 유진테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 유진테크 filed Critical 주식회사 유진테크
Priority to KR1020050114433A priority Critical patent/KR100684359B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100684359B1 publication Critical patent/KR100684359B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
    • C03B29/025—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
    • C03B35/14—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
    • C03B35/20—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames
    • C03B35/202—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames by supporting frames
    • C03B35/207—Construction or design of supporting frames
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 대면적의 LCD장치에서 서셉터의 변형을 방지하는 기구로서 특히 서셉터의 양측 처짐 변형을 방지하기 위하여 상기 서셉터의 하부에 방사형으로 다수개 배치되는 세라믹 지지대 판재와, 상기 세라믹 지지대 판재를 수용하는 세라믹 서포트 플랜지와, 상기 세라믹 지지대 판재의 위에 배치됨에 의해 상기 세라믹 지지대 판재를 눌러서 고정시키는 고정 블럭과, 상기 고정 블럭과 상호 고정되는 고정 플랜지와, 상기 고정블럭과 고정 플랜지를 지지하는 서포트로 구성되어 상기 서셉터가 좌우 방향의 처짐은 물론 전후방향의 처짐을 방지할 수 있는 서셉터 변형 방지기구에 관한 것이다.
서셉터, 변형, LCD

Description

서셉터 변형 방지기구{Deformation preventing apparatus for susceptor}
도 1 및 도 2는 종래의 LCD 증착장치에 대한 개념도,
도 3은 본 발명에 의한 변형방지기구에 대한 단면도,
도 4는 본 발명에 의한 변형방지기구의 분해 사시도,
도 5는 본 발명에 의한 변형방지기구의 저면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110 : 세라믹 지지대 판재 111 : 본체
111b : 단턱 120 : 세라믹 서포트 플랜지
122 : 삽입홈 123 : 개방부
130 : 고정 플랜지 140 : 고정블럭
150 : 서포트
본 발명은 서셉터의 변형을 방지하는 기구에 관한 것으로서 특히 서셉터 주변부의 처짐 변형을 방지하기 위하여 상기 서셉터의 하부에 방사형으로 다수개 배치되는 세라믹 지지대 판재와, 상기 세라믹 지지대 판재를 수용하는 세라믹 서포트 플랜지와, 상기 세라믹 지지대 판재의 위에 배치됨에 의해 상기 세라믹 지지대 판재를 눌러서 고정시키는 고정 블럭과, 상기 고정 블럭과 상호 고정되는 고정 플랜지와, 상기 고정블럭과 고정 플랜지를 지지하는 세라믹 서포트로 구성되어 상기 서셉터가 좌우 방향의 처짐은 물론 전후방향의 처짐을 방지하는 기능을 갖는 서셉터 변형 방지기구에 관한 것이다.
일반적으로 LCD를 증착하기 위한 화학기상증착장치로서 도 1에 나타난 바와 같은 구성이 널리 사용되고 있다. 즉, 반응가스를 도입하기 위한 도입구(40)가 형성되어 있는 챔버 리드(Lid)(10)내에 반응가스를 분사하기 위한 샤워헤드(30)가 배치되고 상기 샤워헤드(30) 하부쪽에 서셉터(50)가 배치된다. 상기 서셉터(50)는 서포트(도면부호없슴)에 의해 지지되는데 상기 구성요소는 챔버 바디(20)에 의해 수용되게 된다.
근래에 들어서 LCD 가공을 위한 글래스의 크기와 중량이 증가되는 추세에 있으며 이는 보다 큰 스크린 또는 디스플레이어에 대한 요구가 증가됨에 따라 LCD의 크기는 지속적으로 증가될 것이라는 것이 대체적인 예측이다.
그러나 상술한 바와 같은 종래의 LCD 증착장치의 경우 글래스의 크기가 증가함에 따라 서셉터(50)의 크기도 증가하게 되고 또한 서셉터의 재질이 일반적으로 알루미늄 합금으로 제작되는바 온도가 상승(대략 400℃)하면 서셉터를 지지하는 부위가 중앙에 있기 때문에 주변부는 자체 중량에 의해 도 2에 도시된 바와 같이 서셉터(50)의 주변부가 아래로 처짐되어 변형되는 문제점이 있었다. 이러한 변형은 샤워헤드와 서셉터간의 전극거리에 있어서 중앙부와 주변부간의 차이가 발생하게 되며 이로 인해 플라즈마가 중앙부와 주변부간에 차이가 발생하게 되어 불균일한 플라즈마가 발생되고 이에 의해 증착의 균일도가 저하되는 문제점이 있었다.
따라서 일반적으로 서셉터(50) 하부에 세라믹재질로 지지하여 서셉터 주변부가 처지는 변형을 방지하는데 글라스의 크기 및 서셉터의 크기가 대형화되면서 세라믹 지지대의 크기도 대형화 되고 있다.
그러나 세라믹의 크기를 서셉터의 크기만큼 일체형으로 대형화시키기에는 제작하기도 어렵고 비용도 크게 소요 될 뿐만 아니라 깨짐 등의 안정성 측면에서도 불리한 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 서셉터의 하부에 세라믹 지지대 판재를 조합, 설치하여 작은 세라믹의 조합체로도 서셉터의 하부를 안정적으로 지지하여 서세터의 변형을 방지하여 증착의 균일도를 향상시킬 수 있는 서셉터 변형방지기구를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적은 서셉터의 하부에 방사형으로 다수개 배치되는 세라믹 지지대 판재와, 상기 세라믹 지지대 판재를 수용하는 세라믹 서포트 플랜지와, 상기 세라믹 지지대 판재의 위에 배치됨에 의해 상기 세라믹 지지대 판재를 눌러서 고정시키는 고정 블럭과, 상기 고정 블럭과 상호 고정되는 고정 플랜지와, 상기 고정블럭과 고정 플랜지를 지지하는 서포트로 구성되어 작은 크기의 세라믹 조합체에 의해 상기 서셉터 주변부의 처짐 변형을 방지할 수 있는 서셉터 변형 방지기구에 의해 달성될 수 있다.
이하 실시예와 첨부된 도면에 의해 상기 기술적 사상을 상세히 설명하기로한다.
상술한 바와 같이 본 발명은 서셉터의 처짐변형을 방지하기 위한 것으로서 이하 도 3과 도 4를 참조하여 설명하기로 한다.
본 발명에서 상기 서셉터(S)의 처짐변형을 방지하기 위해서 상기 서셉터(S)의 하부에 세라믹 지지대 판재(110)를 배치하게 된다. 상기 세라믹 지지대 판재(110)는 막대형상의 본체(111)상에 핀홀(111a)이 형성되는데, 상기 본체(111)가 방사형으로 다수개 배치된다. (도 5참조)
따라서 상기 방사형으로 배치되는 세라믹 지지대 판재(110)의 구성에 의해 상기 서셉터(S)의 주변부가 처짐에 의해 변형되는 것을 방지할 수 있게 된다.
이때 상기 본체(111)의 끝부분에는 단턱(111b)이 형성되게 되는데, 상기 단턱(111b) 부분에 대해서는 후술하기로 한다.
한편 상기 세라믹 지지대 판재(110)는 열전도율이 낮은 세라믹을 재질로 하는 것이 바람직하다. 이때 상기 세라믹을 재질로 하는 이유로 인해 본 발명에서는 상기 세라믹 지지대 판재(110)를 막대기 형상으로 형성하였다. 즉, 세라믹이라고 하는 재질은 변형이 없고 열전달이 없어 본 발명에 적합하나, 가공이 어려워서 원판으로 성형하기가 곤란하고 또한, 적은 크기로도 지지할 수 있게 하기 위하여 상술한 바와 같이 막대기 형상으로 형성하였다.
상술한 바와 같이 세라믹 지지대 판재(110)가 상기 서셉터(S)의 밑에 배치되 게 되어 상기 서셉터(S)의 처짐변형을 방지하게 되는데, 상기 세라믹 지지대 판재(110)를 고정하기 위해서 세라믹 서포트 플랜지(120)가 사용된다. 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)는 원판형상으로서 중앙에 개방부(123)가 형성되는 본체(121)상에 상기 세라믹 지지대 판재(110)가 삽입되게 되는 삽입홈(122)이 형성된다. 그리고 상기 세라믹 지지대 판재(110)와 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)를 고정하기 위해서 상기 세라믹 지지대 판재(110)의 본체(111)에 형성되는 핀홀(111a)과 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 삽입홈(122)에 형성되는 핀홀(121a)사이에 핀(도면부호 없음)이 삽입되어 상호 고정된다.
또한 상기 본체(121)의 개방부(123)측에는 단턱(121b)이 형성되는데, 이와 같은 구성에 의해 상기 세라믹 지지대 판재(110)가 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 삽입홈(122)에 삽입된 경우 상기 판재(110)의 단턱(111b)과 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 단턱(121b)이 동일 평면을 이루게 된다. 이와 같은 구성에 의해 후술하는 고정블럭(140)이 안착되게 되는 것이다. 한편 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 재질은 상기 판재(110)와 같은 세라믹이 바람직하다.
상술한 바와 같은 서셉터(S)의 처짐변형을 방지하기 위한 판재(110)와 상기 세라믹 지지대 판재(110)가 삽입되는 세라믹 서포트 플랜지(120)를 상호 고정하기 위해 상기 판재(110)의 상부에는 고정블럭(140)이 사용되고, 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 하면에는 고정 플랜지(130)가 사용된다.
상기 고정블럭(140)은 원판형상으로서 중앙에 개방부(142)가 형성된 본체(143)와 상기 본체(143)의 하측으로 돌출되어 형성되는 삽입부(141)로 된다. 또한 상기 본체(143)의 주변부에는 고정홀(143a)이 다수개 형성되는데, 이는 후술하는 고정 플랜지(130)의 고정홀(132)에 고정구가 삽입되어 고정되게 된다.
이와 같은 구성에 의해 상기 고정블럭(140)의 삽입부(141)가 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 개방부(123)에 삽입되게 되는 한편 상기 고정블럭의 본체(143)가 상기 동일평면을 이루고 있는 변형방지구(110)의 단턱(111b)과 세라믹 서포트 플랜지의 단턱(121b)를 누르게 되어 고정되게 한다.
또한 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 하면에는 고정 플랜지(130)가 배치되는데, 상기 고정 플랜지(130)는 개방부(133)가 형성되는 한편 그 주변부에는 고정홀(132)이 형성되는 원판형상의 본체(131)로 구성된다.
상기 고정블럭(140)과 상기 고정 플랜지(130)가 그 사이에 배치되는 세라믹 지지대 판재(110)와 세라믹 서포트 플랜지(120)를 고정시키게 되는 것인데, 이를 위해 상기 고정블럭(140)에 형성되는 고정홀(143a)과 상기 고정 플랜지(130)상에 형성되는 고정홀(132)을 고정구가 관통하여 고정되게 된다. 한편 상기 고정블럭(140)과 상기 고정 플랜지(130)의 재질은 금속이 바람직하다.
상술한 바와 같이 고정블럭(140)과 고정 플랜지(130)사이에 세라믹 지지대 판재(110)와 세라믹 서포트 플랜지(120)가 끼워지게 되는데 상술한 구성요소의 개방부에는 상기 서셉터(S)를 지지하는 서셉터 지지구(도 2참조)가 관통된다. 따라서 상기 구성요소를 서셉터 지지구상에 고정시키기 위해 서포트(150)가 사용된다.
상기 서포트(150)는 내부가 비어있는 중공형상으로서 원판형상인 본체(152)와 상기 본체(152)상부에는 상기 고정플랜지(130)의 개방부(133) 및 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 개방부(123)에 삽입되는 삽입부(153)가 형성되고, 상기 본체(152)의 하면에는 서셉터 지지구가 삽입되는 지지부(151)로 구성된다. 또한 상기 서포트(150)는 그 재질로서 상기 세라믹 지지대 판재(110)와 세라믹 서포트 플랜지(120)와 같이 세라믹이 바람직하다.
이상 상술한 바와 같이 본 발명은 서셉터(S)의 처짐변형을 방지하기 위한 것으로서, 세라믹 지지대 판재(110)와 세라믹 서포트 플랜지(120)가 고정블럭(140)과 고정 플랜지(130)사이에 끼워지게 되고 상기 고정 플랜지(130)의 하면에는 서포트(150)에 의해 서셉터 서포트에 고정된다. 이때 상기 서셉터 서포트는 상기 구성요소의 각 개방부를 관통하여 서셉터에 연결된다.
이상과 같이 서셉터의 하부에 작은 크기의 세라믹을 방사형으로 설치하는 구성에 의해 대형의 서셉터를 안정하게 지지할 수 있으며, 좌우측에서의 변형은 물론 전후방측의 변형도 방지하여 증착의 균일도를 향상시킬 수 있는 하는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 서셉터 지지구(200)에 의해 지지되는 서셉터(S)의 양측 처짐 변형을 방지하기 위하여 상기 서셉터(S)의 하부에 방사형으로 다수개 배치되어 상기 서셉터(S)를 지지하는 것으로서, 막대형상의 본체(111)의 상면에 핀홀(111a)이 관통되어 형성되는 세라믹 지지대 판재(110)와,
    상기 방사형으로 배치되는 다수개의 세라믹 지지대 판재(110)의 하부에 위치하되 세라믹 지지대 상기 판재(110)를 수용하기 위한 것으로서 원판형상의 본체(121)상에 상기 판재(110)에 대응되게 방사형으로 형성되는 다수개의 삽입홈(122)과 상기 삽입홈(122)에 형성되어 상기 세라믹 지지대 판재(110)와 핀에 의해 상호 고정되기 위한 핀홀(121a)이 형성되는 한편 상기 본체(121)의 중앙부에는 개방부(123)가 형성되는 세라믹 서포트 플랜지(120)와,
    상기 세라믹 서포트 플랜지(120)상에 상기 세라믹 지지대 판재(110)가 끼워진 상태를 고정하기 위해 상기 세라믹 지지대 판재(110)의 위에 배치되는 것으로서 중앙에 개방부(142)가 형성되는 한편 상기 개방부(142) 주위로 다수개의 고정홀(143a)이 형성되는 원판 형상의 본체(143)와 상기 본체(143)의 하측에 형성되는 삽입부(141)로 되어 상기 삽입부(141)가 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 개방부(123)에 삽입됨에 의해 상기 세라믹 지지대 판재(110)를 눌러서 고정시키는 고정 블럭(140)과,
    상기 고정 블럭(140)과 상호 고정되기 위한 것으로서, 중앙에 개방부(133)가 형성되는 한편 상기 개방부(133) 주위로 고정홀(132)이 다수개 형성되는 원판형상의 본체(131)로서 고정구가 상기 고정홀(132)과 상기 고정 블럭(140)의 고정홀(143a)에 관통되어 고정하게 되는 고정 플랜지(130)와,
    상기 세라믹 서포트 플랜지(120)상에 삽입된 판재(110)를 고정하는 고정블럭(140)과 고정 플랜지(130)를 지지하기 위한 것으로서, 원판형상의 본체(152)와 상기 본체(152)상에 형성되어 상기 고정 플랜지(130)의 개방부(133)에 삽입되는 원통형상의 삽입부(153)와 상기 본체(152)의 하부에 원통형상으로 형성되는 지지부(151)로 구성되는 것으로서 내부가 빈 중공형상으로 형성되는 서포트(150)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 서셉터 변형 방지기구.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 세라믹 지지대 판재(110)의 본체(111) 끝부분에는 단턱(111b)이 형성되는 한편, 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 개방부(123)측에도 단턱(121b)이 형성되어 상기 세라믹 지지대 판재(110)가 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)상에 삽입되는 경우 상기 세라믹 지지대 판재(110)의 단턱(111b)과 상기 세라믹 서포트 플랜지(120)의 단턱(121b)이 동일 높이를 이루는 것을 특징으로 하는 서셉터 변형 방지기구.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 세라믹 지지대 판재(110), 세라믹 서포트 플랜지(120) 및 서포트(150) 의 재질은 세라믹이고,
    상기 고정 블럭(140)과 고정 플랜지(150)의 재질은 스테인레스인 것을 특징으로 하는 서셉터 변형 방지기구
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서
    증착공정이 이루어지는 챔버 바디(20)와 상기 챔버 바디(20)에 반응가스를 분사하는 샤워헤드(40) 및 상기 샤워헤드(40)에 반응가스를 공급하는 도입부(40)가 형성되는 챔버 리드(10)로 구성되는 LCD증착용 화학기상증착장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 서셉터 변형 방지기구.
KR1020050114433A 2005-11-28 2005-11-28 서셉터 변형 방지기구 KR100684359B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050114433A KR100684359B1 (ko) 2005-11-28 2005-11-28 서셉터 변형 방지기구

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050114433A KR100684359B1 (ko) 2005-11-28 2005-11-28 서셉터 변형 방지기구

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100684359B1 true KR100684359B1 (ko) 2007-02-20

Family

ID=38103988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050114433A KR100684359B1 (ko) 2005-11-28 2005-11-28 서셉터 변형 방지기구

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100684359B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100904038B1 (ko) 2007-06-05 2009-06-22 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
KR101341423B1 (ko) * 2011-06-16 2013-12-13 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0758029A (ja) * 1993-08-16 1995-03-03 Sumitomo Metal Ind Ltd サセプタ
US20040040632A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-04 Oosterlaken Theodorus Gerardus Maria Susceptor plate for high temperature heat treatment
KR20040024062A (ko) * 2002-09-13 2004-03-20 주식회사 유진테크 개선된 샤워헤드 구조를 가지는 박막 제조용 화학기상증착장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0758029A (ja) * 1993-08-16 1995-03-03 Sumitomo Metal Ind Ltd サセプタ
US20040040632A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-04 Oosterlaken Theodorus Gerardus Maria Susceptor plate for high temperature heat treatment
KR20040024062A (ko) * 2002-09-13 2004-03-20 주식회사 유진테크 개선된 샤워헤드 구조를 가지는 박막 제조용 화학기상증착장치

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
10-2004-0024062 A

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100904038B1 (ko) 2007-06-05 2009-06-22 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
KR101341423B1 (ko) * 2011-06-16 2013-12-13 주식회사 에스에프에이 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5302865B2 (ja) 大面積プラズマ化学気相堆積法のためのガス分配プレートアセンブリ
KR101249999B1 (ko) 화학기상증착 장치
US5766364A (en) Plasma processing apparatus
KR101444873B1 (ko) 기판처리장치
TW575678B (en) Stacked showerhead assembly for delivering gases and RF power to a reaction chamber
KR20070037510A (ko) 마스크 패널을 갖춘 섀도우 프레임
KR20040063828A (ko) 가변식 가스 분배 플레이트 조립체
US5648006A (en) Heater for chemical vapor deposition equipment
KR100684359B1 (ko) 서셉터 변형 방지기구
US5976331A (en) Electrodeposition apparatus for coating wafers
KR100904038B1 (ko) 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치
US6623563B2 (en) Susceptor with bi-metal effect
KR102460503B1 (ko) 플라즈마 원자층 증착 장치 및 수평 유도형 전극체
CN101930891B (zh) 反应腔室和内衬装置
KR20100053250A (ko) 플라즈마 화학기상증착 장치용 섀도우프레임
KR100814263B1 (ko) 기판 주변부 지지대 지지 장치
KR20120122795A (ko) 기판 지지용 홀더 및 이를 사용한 기판 처리 장치
JP4709862B2 (ja) 大面積基板処理システムのサセプタ・ヒータアセンブリ
KR101933562B1 (ko) 지지 기판 유닛
JP7233245B2 (ja) 配線固定構造及び処理装置
KR20130048304A (ko) 기판처리장치
KR101284093B1 (ko) 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치
KR100893408B1 (ko) 기판 홀더
KR20070119186A (ko) 변형 방지용 보강재를 가지는 플라즈마 발생용 전극 및이를 이용하는 기판처리장치
KR200463820Y1 (ko) 보트

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130129

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140128

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150202

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160126

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190130

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200128

Year of fee payment: 14