KR100682943B1

KR100682943B1 - 자기 기록 헤드, 이를 이용한 자기 기록 장치 및 상기 자기 기록 헤드의 제조방법

Info

Publication number: KR100682943B1
Application number: KR1020050024569A
Authority: KR
Inventors: 이후산; 김용수
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2005-03-24
Filing date: 2005-03-24
Publication date: 2007-02-15
Also published as: CN1838242A; CN100447860C; US20060215318A1; JP2006269061A; KR20060102702A

Abstract

자기 기록 헤드 및 그 제조방법에 관하여 개시된다. 본 발명에 의한 자기 기록 헤드는, 메인폴과 리턴폴이 구비된 적층구조를 포함하는 것으로서, 일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층; 상기 단차부의 바깥쪽 면에 접하는 수직 박막 형상의 제1자성체부; 및 상기 제1자성체부와 서로 절연되도록 형성된 제2자성체층;을 포함한다. 또한 본 발명에 의한 자기 기록 헤드의 제조방법은, 일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층 위에 상기 단차부 윤곽을 따라 자성 재료 박막을 형성하는 단계;와 소정 시간동안 상기 박막을 식각하여, 상기 단차부 측면에 접하는 수직 박막 부분만 잔류되도록 함으로써 메인폴을 형성하는 단계;를 포함한다.

자기 기록 헤드, 자기 기록 장치, 수직 박막, 비등방성 식각

Description

자기 기록 헤드, 이를 이용한 자기 기록 장치 및 상기 자기 기록 헤드의 제조방법{Magnetic writing head, magnetic writing device comprising the same and manufacturing method of the magnetic writing head}

도1은 종래의 사다리꼴 형 메인폴과 기록매체의 트랙 폭의 관계를 도시한 개략도이다.

도2는 종래의 자기 기록 헤드 적층구조를 도시하는 단면도이다.

도3a 내지 도3d는 종래의 자기 기록 헤드 제조방법을 도시한 공정도이다.

도4는 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 적층구조를 도시한 단면도이다.

도5a 내지 도5d는 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 제조 공정을 도시한 공정도이다.

도6a는 단차부를 갖는 절연층을 형성하는 방법의 일예를 도시한 단면도이다.

도6b는 단차부를 갖는 절연층을 형성하는 방법의 또다른 예를 도시한 단면도이다.

도7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 적층구조를 도시한 단면도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

23: 제3절연층 30: 제2자성체층

41: 제1절연층 411: 단차부

50: 제1자성체부 50': 제1자성체층

본 발명은 자기 기록 헤드 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 메인폴과 리턴폴이 구비된 박막 적층구조의 자기 기록 헤드와 그 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 자기 기록 매체는 도메인의 자기 분극이 수평이냐 수직이냐에 따라 수평 자기 기록 매체와 수직 자기 기록 매체로 나뉘는데, 이들 중 데이터 기록 밀도를 높이는 데에는 수직 자기 기록 매체가 적합하다. 주로 디스크 형태로 제공되는 자기 기록 매체에 데이터를 기록하는 장치를 자기 기록 헤드라 한다. 이러한 자기 기록 헤드는 자기 기록 매체에 자기장을 인가하는 메인폴과, 인가된 자기장이 회귀되도록 하는 리턴폴을 구비하며, 소형화를 위해 박막 적층구조로 이루어진다.

자기 기록 밀도를 높이기 위해서는 디스크 형 자기 기록 매체의 트랙 폭을 좁혀야 하고, 이를 위해서는 메인폴의 폭을 줄이는 것이 중요한데, 종래의 자기 기록 헤드 적층구조로는 그 공정 기술 상의 제약으로 인해 상기 메인폴의 폭을 줄이는 데에 한계가 있다.

이하, 도면을 참조하여 종래의 자기 기록 헤드 적층구조 및 그 제조방법을 간략하게 설명한다. 도1은 종래의 사다리꼴 형 메인폴과 기록매체의 트랙 폭의 관 계를 도시한 개략도이다. 자기 기록 매체의 기록면과 자기 기록 헤드의 종단부를 수직 방향에서 보았을 때, 메인폴(10)은 대략 사다리꼴 형상을 갖는다. 사다리꼴 형 메인폴(10)은 선택된 트랙에 비트 데이터를 기록할 때, 스큐 각(skew angle), S가 최대인 경우에도 그 인접 트랙에 영향을 미치지 않는 장점을 갖는다. 이와 같이 자기 기록 헤드에 사다리꼴 형 메인폴(10)이 구비된 경우, 그 트랙 폭은 사다리꼴 단면의 긴 변(10b) 측에 해당하는 상기 메인폴(10)의 폭에 의해서 결정된다. 즉, 스큐 각, S가 0°일 때의 최대 트랙 폭(W₁)은 상기 메인폴(10)의 단면을 이루는 사다리꼴의 긴 변(10b) 길이와 같다.

도2는 종래의 자기 기록 헤드 적층구조를 도시하는 단면도이다. 자기 기록 매체와 대향하는 자기 기록 헤드의 종단부를 도시한 것이다. 제1절연층(21), 제2절연층(22), 제3절연층(23) 및 리턴폴층(30)이 차례로 적층되어 있고, 상기 제2절연층(22)에는 그 단면이 사다리꼴을 이루는 슬릿이 형성되어 있으며, 상기 슬릿이 자성 재료로 채워져 사다리꼴 형 메인폴(10)을 이루고 있다.

도3a 내지 도3d는 종래의 자기 기록 헤드 제조방법을 도시한 공정도이다. 먼저, 도3a에 도시된 바와 같이, 제1절연층(21)과 메인폴층(10')을 차례로 적층하고, 그 위에 감광막(photoresist) 패턴(80)을 형성한다. 상기 감광막 패턴(80)은 소정 폭을 갖는 라인 패턴으로서, 그 폭의 최소값은 상기 감광막을 패터닝하는 포토리소그래피(photolithography) 기술에 의해서 결정된다.

다음으로, 도3b에 도시된 바와 같이, 상기 제1절연층(21)이 노출될 때까지 상기 메인폴층(10')을 식각하여, 상기 감광막 패턴(80) 아래에 그 단면이 사다리꼴인 메인폴(10)을 형성한다. 이때, 상기 메인폴(10)은 그 넓은 폭이 상기 감광막 패턴(80)의 폭과 같다.

다음으로, 도3c에 도시된 바와 같이, 상기 제1절연층(21) 상에 제2절연층(22)을 형성한다. 상기 메인폴(10)의 양 측이 모두 메워질 때까지 절연성 재료를 전면에 증착하고, 상기 사다리꼴 형 메인폴(10) 상부에 덮인 부분을 상기 감광막 패턴과 함께 리프트-오프(lift-off) 법으로 제거할 수 있다. 상기 감광막 패턴을 먼저 스트리퍼(stripper)로 제거하고, 절연성 재료를 증착한 뒤에 상기 메인폴 상부에 덮인 부분을 연마해 낼 수도 있다. 다음은 도 3d에 도시된 바와 같이, 상기 메인폴(10)과 제2절연층(22) 위에 제3절연층(23)을 형성하고, 그 위에 자성 재료로 리턴폴층(30)을 형성한다.

그런데, 기존의 포토리소그래피 장비로서 형성할 수 있는 상기 감광막 패턴(80) 폭의 최소값은 대략 100nm정도에 불과하다. 전술한 바와 같이, 상기 감광막 패턴(80)의 폭(W₁)에 의해 메인폴(10)의 폭이 결정되므로, 이는 곧, 종래의 적층구조로는 자기 기록 매체 트랙 폭(W₁)이 대략 100nm보다 작아질 수 없는 한계에 도달하였음을 의미한다. 이러한 한계를 극복하고 더 좁은 트랙 폭을 구현할 수 있는 자기 기록 헤드의 구조와 그 제조방법의 개발이 요구된다.

본 발명은 포토리소그래피 법에 비해 상대적으로 더 작은 치수까지 제어가 가능한 박막의 두께에 의해 자기 기록 매체의 트랙 폭이 결정되도록 하는, 새로운 적층구조의 자기 기록 헤드 및 그 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.

본 발명에 의한 자기 기록 헤드는, 메인폴과 리턴폴이 구비된 적층구조를 포함하는 것으로서, 상기 적층구조는, 일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층; 상기 단차부의 바깥쪽 면에 접하는 수직 박막 형상의 제1자성체부; 및 상기 제1자성체부와 서로 절연되도록 형성된 제2자성체층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.

여기서 수직 박막 형상이란, 적층구조의 자기 기록 헤드가 형성되는 기준면에 대하여 대략적으로 수직하게 형성된 상기 단차부의 표면을 따라 대략 일정한 두께로 형성된 박막의 일부분과 같은 형상을 의미한다. 또한, 상기 제1절연층은 상기 기판 위에 증착 등의 방법으로 형성된 층일 수 있고, 상기 기판이 절연성 물질로 이루어진 경우, 소정 형상으로 가공된 기판 자체의 일부분 일 수도 있다.

상기 제1자성체부는 자기 기록 매체에 자기장을 인가하는 메인폴(main pole)로서 기능을 수행하고, 상기 제2자성체층은 인가된 자기장이 회귀되도록 하는 리턴폴(return pole)로서 기능을 수행한다. 메인폴인 상기 제1자성체부로부터 인가된 자기장은 자기 기록 매체의 기록층과 그 아래의 연자성체층(soft under layer)를 통과한 후 리턴폴인 상기 제2자성체층으로 회귀된다. 그 과정에서 상기 기록층은 자속 밀도가 높은 상기 제1자성체부에 대응되는 영역이 상향 또는 하향 폴로 자기 분극되며, 이로써 비트 데이터가 저장된다.

본 발명에 의한 자기 기록 헤드의 제조방법은, 메인폴과 리턴폴이 구비된 적 층구조를 포함하는 자기 기록 헤드의 제조방법으로서, 일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층을 형성하는 단계; 상기 제1절연층 위에 상기 단차부 윤곽을 따라 자성 재료 박막인 제1자성체층을 형성하는 단계; 소정 시간동안 상기 제1자성체층을 식각하여, 수평부분을 제거하고 상기 단차부 측면에 접하는 수직 박막 부분만 잔류되도록 함으로써 제1자성체부를 형성하는 단계; 상기 제1절연층 및 제1자성체부 상면에 절연성 재료를 증착하고, 상기 제1자성체부의 상면이 노출될 때까지 연마하여 제2절연체층을 형성하는 단계; 및 상기 제1자성체부 상측에 제3절연체층 및 제2자성체층을 차례로 적층하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 제1절연층은 감광막(PR) 마스크를 이용한 선택적 식각 또는 적층을 통하여 형성될 수 있고, 각각의 절연층들 및 자성체층들의 적층은 종래의 일반적인 박막 적층방법에 따라 이루어질 수 있다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드 및 그 제조방법을 상세히 설명한다. 첨부된 도면에서 동일한 부호는 동일한 성격의 부재 또는 부분을 나타내고, 도시된 층 및 영역들의 두께나 폭은 명세서의 명확성을 위해 과장되게 표현된 것이다.

먼저, 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드를 살펴본다. 도4는 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 적층구조를 도시한다. 상기 도4의 왼편으로부터 보면 상기 적층구조는, 일면에 계단 형상의 단차부(411)를 갖는 제1절연층(41)과, 상기 단차부(411)의 측면에 접하는 수직 박막 형상의 제1자성체부(50)를 갖는다. 여기서 수직 박막 형상이란, 자기 기록 헤드의 적층구조가 형성되는 기준면에 대하여 대략적으로 수직하게 형성된 상기 단차부(411)의 표면을 따라 대략 일정한 두께로 형성된 박막의 일부분과 같은 형상을 의미한다.

본 실시예에 따른 상기 적층구조는, 상기 제1자성체부(50)와 서로 절연되도록 형성된 제2자성체층(30)을 포함한다. 제1자성체부(50)는 메인폴로서 기능을 수행하고, 제2자성체층(30)은 리턴폴로서 기능을 수행한다. 상기 제1자성체부(50)와 제2자성체층(30)을 절연시키는 구조의 예로서는, 상기 제1절연층(41)의 낮은 단부 상면에 형성되어 상기 제1자성체부(50)와 같은 높이를 갖는 제2절연층(42) 및 상기 제1자성체부(50)의 상면과 상기 제2자성체층(30) 사이에 형성된 제3절연층(23)을 구비할 수 있다. 이 때, 상기 제3절연층(23)은 라이트 갭(write gap)으로서의 기능을 수행한다.

다만, 상기 제1자성체부(50)와 상기 제2자성체층(30)이 서로 절연되도록 하는 구조는 전술한 예에 한하는 것이 아니라 다양하게 구현될 수 있다. 예를 들면, 도4에서 상기 제2자성체층을 상기 제1절연층을 중심으로 상기 제1자성체부의 반대편에 배치시켜 상기 제1절연층이 라이트 갭의 기능을 하도록 할 수도 있다.

상기 실시예에 따른 자기 기록 헤드를 구비하는 자기 기록 장치는, 자기 기록 매체의 선택된 트랙이 상기 자기 기록 헤드에 대하여 상기 제1자성체부(50)의 적층 방향과 수직한 방향으로 진행되는 것을 특징으로 한다. 이 때, 자기 기록 매체의 트랙 폭, W₂는 상기 제1자성체부(50)의 박막 두께에 의해서 결정된다. 즉, 제1절연층(41) 위에 적층되는 제1자성체부(50)의 증착 두께가 곧 트랙(T)의 폭 W₂ 에 해당된다.

종래의 박막 공정 기술에 따르더라도 수십 나노미터에서 작게는 서브 나노미 터 두께의 박막 형성이 가능하므로, 본 발명에 따른 자기 기록 헤드 및 자기 기록 장치는 서브 나노미터 내지 수십 나노미터 정도의 매우 좁은 트랙 폭으로 자기 정보를 기록할 수 있다. 이는 곧, 본 발명에 따른 자기 기록 헤드를 이용하여 제곱인치(in²)당 테라 비트(Tb)급의 정보 저장이 가능한 자기 기록 장치를 제공할 수 있음을 의미한다.

여기서 상기 제1자성체부(20) 및 제2자성체층(30)은 전자기 유도현상 등에 의해 발생된 외부 자기장의 영향을 받아 자화되는 연자성(soft magnetic) 재료로 이루어지고, 본 실시예에 따른 자기 기록 헤드에는 종래에 일반적으로 사용되는 퍼멀로이(permalloy: NiFe) 등의 재료가 채용될 수 있다. 다만, 상기 제1자성체부(50)는 좁은 단면 영역에 자기장이 집중되는 메인폴로서의 기능을 수행하므로 상기 제2자성체층(30)에 비해 포화 자속 밀도 즉, Bs값이 큰 재료로 형성된 것이 바람직하다.

상기 제1절연층(41), 제2절연층(42) 및 제3절연층(23)은 절연성 재료로 이루어지고, 절연성 재료로는 주로 Al₂O₃등의 산화물이 채용될 수 있으며, 종래에 절연성 재료로서 일반적으로 사용되는 산화물, 질화물 등 다양한 재료들이 채용될 수 있다.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 제조방법에 대하여 살펴본다. 도5a 내지 도5d는 본 발명의 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 제조 공정을 도시한 공정도이다. 먼저, 도5a에 도시된 바와 같이, 일면에 계단 형상의 단차 부(411)를 갖는 제1절연층(41)을 형성한다. 상기 제1절연층(41)의 단차부(411)는 일 예로서, 감광막 마스크(81)를 이용하여 절연층 일부(41')를 선택적으로 식각함으로써 형성될 수 있다(도6a참조). 또다른 예로서, 상기 단차부(411)는 상기 제1절연층(41)의 낮은 단으로 예정된 부분에 감광막 마스크를 형성하고, 그 위에 절연성 재료를 증착하여 높은 단 부분을 형성한 후, 리프트-오프(lift-off)법으로 상기 감광막 마스크 및 그 위에 증착된 절연성 재료를 제거함으로써 형성될 수도 있다(도6b참조).

다음으로, 도5b에 도시된 바와 같이, 상기 제1절연층(41) 위에 상기 단차부(411) 윤곽을 따라 자성 재료 박막인 제1자성체층(50')을 형성한다. 자성 재료로는 전술한 바와 같이, 퍼멀로이 등의 연자성 재료가 적합하고, 박막을 형성하기 위해서는 스퍼터링법, 진공증발법, 전기도금법, 원자층증착법 등 종래의 일반적인 박막 공정 기술 중에서 선택된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어 원자층증착법(ALD: Atomic Layer Deposition)를 사용할 경우 단원자 층 단위로 증착이 가능하므로 서브 나노미터 단위의 두께를 갖는 제1자성체층(50')을 형성할 수도 있다. 이러한 방법으로 상기 제1자성체층(50')은 상기 단차부(411)의 표면을 따라 형성되고, 상기 도5b의 수평면 즉, 적층구조의 기준면에 대하여 수직한 방향으로 적층된 수직 박막 부분(501)을 갖게 된다.

다음으로, 도5c에 도시된 바와 같이, 소정 시간동안 상기 제1자성체층을 식각하여, 수평부분을 제거하고 상기 단차부(411) 측면에 접하는 수직 박막 부분만 잔류되도록 함으로써 제1자성체부(50)를 형성한다. 식각방법으로는 비등방성(anisotropic) 식각법을 사용하는 것이 바람직하고, 구체적으로는 일정한 방향성을 갖는 이온빔 식각(IBE)법, 반응성 이온 식각(RIE)법 또는 반응성 이온빔 식각(RIBE)법을 사용할 수 있다. 식각의 방향은 상기 도5c의 세로 방향, 즉 적층구조의 기준면에 대하여 대략적으로 수직한 방향인 것이 바람직하다. 그런데, 통상 이온을 충돌시키는 방향이 수직일 때보다는 45도일 때의 식각 효율이 가장 좋은 것으로 알려져 있다. 따라서, 먼저 ①과 같이 45도 방향으로 먼저 이온을 충돌시키며 식각을 진행하고, 단차부(411)에 의해 가려진 부분의 제거를 위해 나중에 ②와 같이 수직방향으로 이온을 충돌시키는 식으로 방향을 변경하며 식각을 진행시킬 수 있다. 상기 소정 시간은 상기 제1자성체층(50')의 수평 박막 부분이 모두 제거될 정도의 시간인 것이 바람직 하다.

다음으로, 상기 제1절연층(41) 및 제1자성체부(50) 상면에 절연성 재료를 증착하고, 상기 제1자성체부(50)의 상면이 노출될 때까지 연마하여, 상기 제1자성체부(41)의 높은 단부와 높이가 갖은 제2절연체층(42)을 형성하고, 그 위에 제3절연체층(23) 및 제2자성체층(30)을 차례로 적층하는 것이 바람직하다.

다만, 상기 제2절연층, 제3절연층 및 제2자성층을 형성하는 과정은 상기 제1자성체부와 제2자성층이 서로 절연될 수 있도록 형성하는 것이면 충분하고, 전술한 실시예와 달리, 상기 제1자성체부와 제2자성층기판에 상기 제2자성체층을 먼저 적층한 뒤 그 위에 상기 제1절연층을 형성하고, 이후의 공정을 진행할 수도 있음은 물론이다.

도7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 기록 헤드의 적층구조를 도시한 단면도이다. 상기 도7에 도시된 바와 같이, 상기 제1절연층(41)의 단차부를 수직으로부터 소정의 기울기를 갖도록 형성하고, 상기 식각 공정에서의 식각 방향에도 수직으로부터 소정의 기울기를 주어, 수직 박막으로 이루어진 역사다리꼴 형상의 제1자성체부(51)를 형성할 수도 있다. 즉, 도면에서 좌변의 기울기는 제1절연층(41)의 단차부 형상으로 조정하고, 우변의 기울기는 이온의 충돌방향을 화살표 방향과 같이 조정하면 제1자성체부(51)의 형상을 원하는 역사다리꼴로 만들 수 있다.

위에서 상술한 바와 같이, 본 발명에 의한 자기 기록 헤드의 제조방법은 기존의 공정 설비를 그대로 사용하여 실시될 수 있다.

이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.

이상에서 기술한 발명의 구성에 의하여, 본 발명에 의한 자기 기록 헤드는 박막의 증착 두께에 의해 자기 기록 매체의 트랙 폭이 결정되도록 함으로써, 트랙 폭을 서브 나노미터 단위까지 좁힐 수 있도록 하는 효과가 있다.

또한, 본 발명에 의한 자기 기록 헤드의 제조방법은 기존의 공정 장비를 그대로 활용하면서도 전술한 새로운 적층구조의 자기 기록 헤드를 제조할 수 있도록 하는 효과가 있다.

Claims

메인폴과 리턴폴이 구비된 적층구조를 포함하는 자기 기록 헤드에 있어서,

상기 적층구조는,

일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층;

상기 단차부의 표면에 접하는 수직 박막 형상의 제1자성체부; 및

상기 제1자성체부와 서로 절연되도록 형성된 제2자성체층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드.
제1항에 있어서,

상기 제1절연층의 하단부 표면에 형성되어, 상기 제1자성체부와 같은 높이를 갖는 제2절연층; 및

상기 제1자성체부의 상면과 상기 제2자성체층 사이에 형성된 제3절연층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드.
제1항에 있어서,

상기 제2자성체층은 상기 제1절연층의 저면 측에 형성된 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드.
제1항에 있어서,

상기 제1자성체부는 상기 제2자성체층보다 큰 포화자속밀도를 갖는 연자성 재료로 이루어진 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드.
메인폴과 리턴폴이 구비된 적층구조를 갖는 자기 기록 헤드와, 선택된 트랙이 상기 자기 기록 헤드에 대하여 일 방향으로 진행되는 자기 기록 매체를 포함하는 자기 기록 장치에 있어서,

상기 자기 기록 헤드의 적층구조는,

일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층;

상기 단차부의 표면에 접하는 수직 박막 형상의 제1자성체부; 및

상기 제1자성체부와 서로 절연되도록 형성된 제2자성체층;을 포함하고,

상기 자기 기록 매체는,

그 선택된 트랙이 상기 자기 기록 헤드에 대하여 상기 제1자성체부의 적층 방향과 수직한 방향으로 진행되는 것을 특징으로 하는 자기 기록 장치.
메인폴과 리턴폴이 구비된 적층구조를 포함하는 자기 기록 헤드의 제조방법에 있어서,

일면에 계단 형상의 단차부를 갖는 제1절연층을 형성하는 단계;

상기 단차부를 포함하는 제1절연층의 표면에 자성 재료 박막인 제1자성체층을 형성하는 단계; 및

상기 단차부 표면에 접하는 수직 박막 부분만 잔류되도록 상기 제1자성체층을 식각함으로써 제1자성체부를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제6항에 있어서,

상기 제1절연층 상면에 절연성 재료를 증착하여 제2절연체층을 형성하는 단계;

상기 제1자성체부 위에 제3절연체층을 적층하는 단계; 및

상기 제3절연체층 위에 제2자성체층을 적층하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제7항에 있어서,

상기 제2절연체층 형성 단계는,

상기 제1절연층 및 제1자성체부 상면에 절연성 재료를 증착하고, 상기 제1자성체부의 상면이 노출될때까지 연마하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제6항에 있어서,

상기 제1자성체층을 식각하여 제1자성체부를 형성하는 단계는,

비등방성(anisotropic) 식각법을 이용하여, 상기 제1자성체층을 상기 적층구조의 기준면에 대해 대략 수직한 방향으로 식각을 진행하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제9항에 있어서,

상기 적층구조의 기준면에 대해 대략 45도 방향으로 이온을 충돌시켜 상기 제1자성체층을 식각한 후, 상기 기준면에 대해 대략 수직한 방향으로 이온을 충돌시켜 상기 단차부에 의해 가려진 부분을 식각하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제9항에 있어서,

상기 비등방성(anisotropic) 식각법은,

이온빔 식각(IBE)법과 반응성 이온 식각(RIE)법 및 반응성 이온빔 식각(RIBE)법 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.
제6항에 있어서,

상기 제1절연층을 형성하는 단계는 상기 단차부를 수직으로부터 기울기를 갖도록 형성하고,

상기 제1자성체부를 형성하는 단계는 상기 적층구조의 기준면에 대해 수직으로부터 소정의 기울기를 주어 식각함으로써 역사다리꼴 형상의 제1자성체부를 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 헤드의 제조방법.