KR100660341B1 - 반도체 소자 - Google Patents

반도체 소자 Download PDF

Info

Publication number
KR100660341B1
KR100660341B1 KR1020050133887A KR20050133887A KR100660341B1 KR 100660341 B1 KR100660341 B1 KR 100660341B1 KR 1020050133887 A KR1020050133887 A KR 1020050133887A KR 20050133887 A KR20050133887 A KR 20050133887A KR 100660341 B1 KR100660341 B1 KR 100660341B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
region
well
substrate
source region
gate electrode
Prior art date
Application number
KR1020050133887A
Other languages
English (en)
Inventor
김창남
Original Assignee
동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부일렉트로닉스 주식회사 filed Critical 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority to KR1020050133887A priority Critical patent/KR100660341B1/ko
Priority to US11/639,157 priority patent/US7692248B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100660341B1 publication Critical patent/KR100660341B1/ko
Priority to CN2006101720132A priority patent/CN1992346B/zh

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/822Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
    • H01L21/8232Field-effect technology
    • H01L21/8234MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
    • H01L21/823481MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type isolation region manufacturing related aspects, e.g. to avoid interaction of isolation region with adjacent structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/76Making of isolation regions between components
    • H01L21/761PN junctions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/822Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
    • H01L21/8232Field-effect technology
    • H01L21/8234MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
    • H01L21/823493MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type with a particular manufacturing method of the wells or tubs, e.g. twin tubs, high energy well implants, buried implanted layers for lateral isolation [BILLI]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

본 발명은 소자의 사이즈를 줄일 수 있는 반도체 소자에 관한 것으로, 웰 영역을 갖는 기판; 상기 웰 영역 형성된 적어도 하나의 웰 픽업 영역; 상기 웰 픽업 영역을 둘러싸도록 상기 기판상에 형성된 소스 영역; 상기 소스 영역의 일측에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 드레인 영역; 및, 상기 소스 영역과 제 1 드레인 영역 사이에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 게이트 전극을 포함하여 구성됨을 그 특징으로 한다.
반도체 소자, 웰 픽업

Description

반도체 소자{A semiconductor device}
도 1은 종래의 반도체 소자를 나타낸 도면
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자를 나타낸 도면
도 3은 도 2의 소스 영역 및 웰 픽업 영역을 나타낸 도면
도 4는 도 2의 Ⅰ~Ⅰ의 선상에 따른 단면도
도 5는 도 2의 Ⅱ~Ⅱ의 선상에 따른 단면도
*도면의 주요부에 대한 부호 설명
200 : 기판 201a : 제 1 게이트 전극
201b : 제 2 게이트 전극 203 : 소스 영역
202a : 제 1 드레인 영역 202b : 제 2 드레인 영역
본 발명은반도체 소자에 관한 것으로, 특히 소자의 사이즈를 줄일 수 있는 반도체 소자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 메모리 소자는 p형 트랜지스터와 n형 트랜지스터로 크게 나누어지는데, 이는 소스 영역, 드레인 영역, 게이트 전극, 및 기판의 4극으로 이루어진 구조를 가지고 있다.
이와 같은 4극 중 기판은 보통 웰(well)이라고 불리우는 구조로 이루어져 있는데, 이는 트랜지스터의 소스 영역 및 드레인 영역보다 보통 1/10000 또는 1/100000 정도 불순물 농도가 적으며 n형 웰, p형 웰의 2 가지 형태를 갖는다.
이와 같은 웰 영역에는 웰 픽업 영역이 형성되는데, 이 웰 픽업 영역은 상기 웰 영역의 포텐셜을 안정화시키기 위해 사용된다.
도 1은 종래의 반도체 소자를 나타낸 도면이다.
종래의 반도체 소자는, 도 1에 도시된 바와 같이, 웰 영역을 갖는 기판(100)과; 상기 웰 영역에 위치하도록 상기 기판(100)상에 형성된 제 1 드레인 영역(102a), 소스 영역(103), 및 제 2 드레인 영역(102b)과; 상기 제 1 드레인 영역(102a)과 상기 소스 영역(103)간에 위치한 제 1 게이트 전극(101a)과; 상기 제 2 드레인 영역(102b)과 상기 소스 영역(103)간에 위치하며, 일단이 상기 제 1 게이트 전극(101a)과 연결된 제 2 게이트 전극(101b)과; 상기 웰 영역에 위치하도록 상기 기판(100)의 가장자리에 위치한 웰 픽업 영역(104)을 포함한다.
여기서, 상기 제 1 및 제 2 게이트 전극(101a, 101b), 소스 영역(103), 제 1 드레인 영역(102a), 제 2 드레인 영역(102b), 및 웰 픽업 영역(104)은 각각 콘택메탈(111, 113, 112a, 112b, 114)을 통해 각 외부 배선과 전기적으로 연결된다.
그러나, 종래에는 상기 웰 픽업 영역(104)이 기판(100)의 가장자리에 형성되기 때문에, 소자의 사이즈가 증가하는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 소스 영역내에 웰 픽업 영역을 형성하여 소자의 사이즈를 줄일 수 있는 반도체 소자를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 소자는, 웰 영역을 갖는 기판; 상기 웰 영역 형성된 적어도 하나의 웰 픽업 영역; 상기 웰 픽업 영역을 둘러싸도록 상기 기판상에 형성된 소스 영역; 상기 소스 영역의 일측에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 드레인 영역; 및, 상기 소스 영역과 제 1 드레인 영역 사이에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 게이트 전극을 포함하여 구성됨을 그 특징으로 한다.
여기서, 상기 소스 영역의 타측에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 2 드레인 영역; 및, 상기 소스 영역과 상기 제 2 드레인 영역에 위치하도록 상기 기판상에 형성되며, 일단이 상기 제 1 게이트 전극과 연결된 제 2 게이트 전극을 더 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
상기 각 웰 픽업 영역은 상기 제 1 게이트 전극의 길이 방향으로 따라 배열된 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자를 나타낸 도면이고, 도 3은 도 2의 소스 영역 및 웰 픽업 영역을 나타낸 도면이다.
본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 웰 영역을 갖는 기판(200)과; 상기 웰 영역에 위치하도록 상기 기판(200)상에 형성된 제 1 드레인 영역(202a), 소스 영역(203), 및 제 2 드레인 영역(202b)과; 상기 제 1 드레인 영역(202a)과 상기 소스 영역(203)간에 위치한 제 1 게이트 전극(201a)과; 상기 제 2 드레인 영역(202b)과 상기 소스 영역(203)간에 위치하며, 일단이 상기 제 1 게이트 전극(201a)과 연결된 제 2 게이트 전극(201b)과; 상기 소스 영역(203)에 의해 둘러싸인 다수의 웰 픽업 영역(204)을 포함한다.
여기서, 상기 소스 영역(203)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 기판(200)의 웰 영역을 일부 노출시키는 다수의 홀 영역을 가지고 있으며, 이 각 홀 영역에 상기 각각 웰 픽업 영역(204)이 형성된다.
이때, 각 웰 픽업 영역(204)은 상기 제 1 및 제 2 게이트 전극(201a, 201b)의 길이 방향으로 따라 배열된다.
이와 같이, 이 각 웰 픽업 영역(204)이 소스 영역(203)내에 형성되기 때문에 소자의 사이즈가 줄어들 수 있다.
한편, 본 발명의 실시예에서는 상기 웰 영역은 n형으로 도핑하고, 소스 영역(203)과 제 1 드레인 영역(202a)과 제 2 드레인 영역(202b)을 p형으로 도핑하고, 각 웰 픽업 영역(204)을 상기 웰과 동일한 n형으로 도핑하였다.
물론, 도면에 도시하지 않았지만, 상기 웰 영역을 p형으로 도핑하고, 소스 영역(203)과 제 1 드레인 영역(202a)과 제 2 드레인 영역(202b)을 n형으로 도핑하고, 각 웰 픽업 영역(204)을 상기 웰과 동일한 p형으로 도핑하여도 무방하다.
도 4는 도 2의 Ⅰ~Ⅰ의 선상에 따른 단면도로서, 동 도면에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 및 제 2 게이트 전극(201a, 201b), 소스 영역(203), 제 1·드레인 영역, 웰 영역, 및 각 웰 픽업 영역(204)을 포함한 기판(200)의 전면에는 보호막이 형성되어 있다. 상기 보호막에는 상기 제 1 및 제 2 게이트 전극(201a, 201b), 소스 영역(203), 제 1·드레인 영역, 웰 영역, 각 웰 픽업 영역(204)을 각각 노출시키는 다수의 콘택홀이 형성되어 있다.
이 콘택홀을 통해서 제 1 콘택메탈(211)이 상기 제 1 및 제 2 게이트 전극(201a, 201b)과 연결되고, 제 2 콘택메탈(213)이 상기 소스 영역(203)과 연결되고, 제 3 콘택메탈(212a)이 상기 제 1 드레인 영역(202a)과 연결되고, 제 4 콘택메탈(212b)이 상기 제 2 드레인 영역(202b)과 연결된다.
한편, 도 5는 도 2의 Ⅱ~Ⅱ의 선상에 따른 단면도로서, 동 도면에 도시된 바와 같이, 제 1 게이트 전극(201a)과 기판(200)간에는 게이트 절연막(555)이 형성되고, 상기 게이트 절연막(555)을 포함한 제 1 게이트 전극(201a)의 양측에는 스페이서(720)가 형성된다. 물온, 제 2 게이트 전극(201b)과 상기 기판(200)간에도 게이트 절연막(555)이 형성되며, 상기 게이트 절연막(555)을 포함한 제 2 게이트 전극(201b)의 양측에도 스페이서(720)가 형성된다.
한편, 상기 웰 픽업 영역(204)들을 상기 제 1 드레인 영역(202a)(또는 제 2 드레인 영역(202b))내에 형성하여도 무방하다. 또한, 상기 웰 픽업 영역(204)들을 상기 소스 영역(203), 제 1 드레인 영역(202a), 및 제 2 드레인 영역(202b)에 나누어 형성하여도 무방하다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 반도체 소자에는 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명에서는 소스 영역내에 웰 픽업 영역을 형성하여 소자의 사이즈를 줄일 수 있다.

Claims (3)

  1. 웰 영역을 갖는 기판;
    상기 웰 영역 형성된 적어도 하나의 웰 픽업 영역;
    상기 웰 픽업 영역을 둘러싸도록 상기 기판상에 형성된 소스 영역;
    상기 소스 영역의 일측에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 드레인 영역; 및,
    상기 소스 영역과 제 1 드레인 영역 사이에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 1 게이트 전극을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체 소자.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 소스 영역의 타측에 위치하도록 상기 기판상에 형성된 제 2 드레인 영역; 및,
    상기 소스 영역과 상기 제 2 드레인 영역에 위치하도록 상기 기판상에 형성되며, 일단이 상기 제 1 게이트 전극과 연결된 제 2 게이트 전극을 더 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체 소자.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 각 웰 픽업 영역은 상기 제 1 게이트 전극의 길이 방향으로 따라 배열된 것을 특징으로 하는 반도체 소자.
KR1020050133887A 2005-12-29 2005-12-29 반도체 소자 KR100660341B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050133887A KR100660341B1 (ko) 2005-12-29 2005-12-29 반도체 소자
US11/639,157 US7692248B2 (en) 2005-12-29 2006-12-15 Semiconductor device and method of fabricating the same
CN2006101720132A CN1992346B (zh) 2005-12-29 2006-12-27 半导体器件及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050133887A KR100660341B1 (ko) 2005-12-29 2005-12-29 반도체 소자

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100660341B1 true KR100660341B1 (ko) 2006-12-22

Family

ID=37815237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050133887A KR100660341B1 (ko) 2005-12-29 2005-12-29 반도체 소자

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7692248B2 (ko)
KR (1) KR100660341B1 (ko)
CN (1) CN1992346B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9698044B2 (en) 2011-12-01 2017-07-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Localized carrier lifetime reduction
KR20210145492A (ko) * 2020-05-25 2021-12-02 에스케이하이닉스 주식회사 이미지 센싱 장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100230426B1 (ko) 1996-06-29 1999-11-15 윤종용 집적도가 향상된 스태틱 랜덤 억세스 메모리장치
JP2953416B2 (ja) 1996-12-27 1999-09-27 日本電気株式会社 半導体装置
TW382789B (en) * 1998-04-22 2000-02-21 United Microelectronics Corp Method for manufacturing CMOS
JP2002110974A (ja) 2000-10-02 2002-04-12 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2003007844A (ja) * 2001-04-09 2003-01-10 Seiko Instruments Inc 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1992346A (zh) 2007-07-04
US20070158694A1 (en) 2007-07-12
US7692248B2 (en) 2010-04-06
CN1992346B (zh) 2010-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4711061B2 (ja) 半導体装置
TWI467739B (zh) 半導體裝置
JP2009016418A (ja) 半導体装置
JP2008218564A (ja) 半導体装置
US6630715B2 (en) Asymmetrical MOSFET layout for high currents and high speed operation
JP2005142261A (ja) 静電破壊保護装置
JP2011071327A (ja) 半導体装置
JP2009071173A (ja) 半導体装置
KR100543001B1 (ko) 박막 트랜지스터 및 액티브 매트릭스 평판 표시 장치
US8598659B2 (en) Single finger gate transistor
KR100660341B1 (ko) 반도체 소자
KR100808605B1 (ko) 주변회로지역의 반도체 소자
JP4615229B2 (ja) 半導体装置
US20080070371A1 (en) Semiconductor Device and Manufacturing Method Thereof
US7667244B2 (en) Semiconductor device
WO2013161249A1 (ja) 半導体装置
KR910017675A (ko) 고전압 mos트랜지스터 및 그 제조방법 과 고전압 mos 트랜지스터를 갖는 반도체 장치 및 그 제조방법
US6492710B1 (en) Substrate isolated transistor
JP2007123729A (ja) 半導体装置
US6608349B1 (en) Narrow/short high performance MOSFET device design
JP2007250684A (ja) 回路基板及び表示装置
JP2009016725A (ja) 半導体装置
JP5163212B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2008251565A (ja) 半導体装置
JP4575079B2 (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111121

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121126

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee