KR100660086B1 - 전해 도금을 위한 장치 및 방법 - Google Patents

전해 도금을 위한 장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100660086B1
KR100660086B1 KR1020047005787A KR20047005787A KR100660086B1 KR 100660086 B1 KR100660086 B1 KR 100660086B1 KR 1020047005787 A KR1020047005787 A KR 1020047005787A KR 20047005787 A KR20047005787 A KR 20047005787A KR 100660086 B1 KR100660086 B1 KR 100660086B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
circuit board
printed circuit
electrolyte
eductor
laminar flow
Prior art date
Application number
KR1020047005787A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040058210A (ko
Inventor
켐펜하인반
Original Assignee
비아시스템즈 그룹, 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 비아시스템즈 그룹, 인코포레이티드 filed Critical 비아시스템즈 그룹, 인코포레이티드
Publication of KR20040058210A publication Critical patent/KR20040058210A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100660086B1 publication Critical patent/KR100660086B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0085Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
    • H05K3/0088Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor for treatment of holes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/024Electroplating of selected surface areas using locally applied electromagnetic radiation, e.g. lasers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/20Electroplating using ultrasonics, vibrations
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/12Semiconductors
    • C25D7/123Semiconductors first coated with a seed layer or a conductive layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/423Plated through-holes or plated via connections characterised by electroplating method

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 전해 도금조, 상기 도금조 내에 인쇄회로 기판을 위치시키는 수단, 및 인쇄회로 기판의 각각의 면에 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 수단을 구비한 전해 도금 시스템을 포함한다. 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 바람직한 수단은 인쇄회로 기판 하부에 벤튜리 형상의 칸막이(25) 및 정렬된 칸막이(24)를 구비한 플로팅 쉴드(20)를 포함하며, 상기 플로팅 쉴드 하부의 복수의 이덕터(22)를 작동시킨다. 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 수단은 플로팅 쉴드와 그의 칸막이를, 이덕터에 대해, 횡방향으로 왕복 이동시키는 수송 메커니즘 또는 이덕터를 이동시키는 메커니즘을 추가로 포함할 수 있다. 상기 도금 공정은, 진동기 및 진동 에너지가 도금 시스템의 고정된 부위에 의해 흡수되지 않도록 하는 스프링 장착 시스템을 이용함으로써 더욱 개선될 수 있다.
전해 도금, 인쇄회로 기판, 플로팅 쉴드, 비아, 진동 에너지, 층류, 이덕터, 벤튜리

Description

전해 도금을 위한 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR ELECTROLYTIC PLATING}
본 발명은 전해 도금을 위한 시스템 및 전해 도금 방법에 관한 것이다.
기존의 인쇄회로 기판 및 향후의 고기술 제품에 있어서, 보이드(void; 무도금 부위)를 도금하는 문제 및 불량한 도금 분포의 문제는 종횡비(aspect ratio)의 증가로 인해 더욱 어려운 문제가 되고 있다. 인쇄회로 기판은 계속 두꺼워지고 홀(hole)은 더욱 작아지고 있다. 인쇄회로 기판에서 도금 보이드가 검출되면 그 기판은 개방 회로 때문에 불량 처리된다.
또한, 불량한 도금 분포는 "도그본(dogbone)" 효과를 야기할 수 있으며, 심지어는, (마이크로) 비아홀(via hole) 내부에 요구되는 최소 두께를 얻을 수 없다는 사실 때문에 기판의 불량 처리를 초래할 수 있다.
전해 도금에 관한 본 발명은 이러한 문제를 극복하거나 최소화하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 플라이트 바(flight bar)의 자유 이동부(free movable part) 상에 진동기(vibrator)가 장착된 전해 도금 시스템을 제공한다. 진동기는 라인의 중량 부(massive part)(강체부(rigid part)) 중의 하나에는 장착되지 않는다. 종래의 시스템에서는 진동기가 장착된 중량부에 의한 에너지 흡수를 통해 진동 에너지의 상당한 손실이 일어난다. 본 발명의 장착 방식에 의하면 모든 에너지가 도금 라인에 있는 인쇄회로 기판을 향해 전달될 수 있다. 이에 더하여, 종래의 시스템에 비해 에너지가 더욱 균일하게 전달된다.
진동 에너지가 제품에 전달되는 본 발명의 방식이 더욱 효율적이므로 도금 보이드가 현격히 감소된다.
본 발명은 또한 인쇄회로 기판의 홀을 통한 전해질의 유동(flow)을 개선함으로써, 스루홀(through hole) 및 블라인드 비아의 내부를 도금시키는 균일 전착성(throwing power)을 향상시킨다. 본 발명의 개선된 유동은 인쇄회로 기판을 따라 층류(laminar flow)를 증가시킴으로써 달성된다.
인쇄회로 기판을 따라 형성되는 층류는 패널의 일 측면에서 증가되어 스루홀 내에 감압을 형성한다. 이러한 감압으로 인해 전해질은 홀을 통해 패널의 다른 측면으로부터 흡입되어 보다 양호한 도금 분포를 형성한다. 배스(bath)의 운동에 의해, 층류는 패널의 일 측면에서 다른 측면으로 이동된다. 그에 따라, 감압도 역시 일 측면에서 다른 측면으로 이동되고, 이 때 전해질이 반대 방향에 있는 홀을 통해 흡입된다.
유동의 증가는, 첫째로, 특수 설계된 플로팅 쉴드(floating shield) 하부에 위치하는 이덕터(eductor) 시스템에 의해 발생된다. 얻어지는 이덕터 시스템은 벤튜리(venturi)처럼 작동하므로, 이덕터를 통해 펌핑되는 전해질의 체적은 이덕터를 빠져나갈 때 5배로 증가된다. 둘째로, 플로팅 쉴드의 특수한 설계 때문에 플로팅 쉴드 자체가 또한 벤튜리를 형성한다. 이러한 플로팅 쉴드를 빠져나가는 전해질은 표준 도금 설계에 비해 훨씬 고도의 양호한 층류를 갖는다.
도 1은 본 발명의 전해 도금 장치를 예시하는 도면이다.
도 2(A) 및 2(B)는 제조 라인의 부분적인 단부 도면이다.
도 3(A) 내지 3(E)는 본 발명의 층류 패턴을 예시하는 도면이다.
도 1에 예시된 바와 같이, 전해 도금 장치는 상부 로드(rod)(13)에 설치된 진동기(11)를 포함한다. 상부 로드(13)는 생산 라인의 v-새들(v-saddle)을 지지하는 데 사용되는 강성 로드(14)에 스프링 시스템(12)과 함께 장착된다. 스프링 시스템(12)은 상기 장치의 강체부에 의해 진동 에너지가 흡수되는 것을 방지한다.
상부 로드(13)는 진동기(11)로부터 진동 에너지를 운반하여 하부 로드(15)에 전달하기 위한 균질한 진동 에너지를 생성한다. 인쇄회로 기판이 고정되어 있는 클램프(16)는 하부 로드(15)에 연결되고, 가요성(flexible) 전류 공급 접속부(17)는 하부 로드(15)에 연결되어 있다.
도 1, 도 2(A) 및 2(B)에 예시된 바와 같이, 본 발명의 시스템은 벤튜리 유동 효과가 증대되는 특수 플로팅 쉴드(20)를 포함한다. 배스로부터 추가의 전해질을 흡입하도록 전해질은 파이프(21)를 통해 이덕터(22)로 공급된다.
도 2(A), 2(B) 및 도 3(A)∼3(B)에 예시된 바와 같이, 플로팅 쉴드(20)의 칸막이(23) 형상은 이덕터(22)의 벤튜리 효과를 높이도록 되어 있다. 칸막이(24)는 인쇄회로 기판 바로 밑에 위치하여 쉴드(20)의 위치에 따라 기판의 어느 일 측면으로 유동을 유도하는 작용을 한다. 칸막이(23)는 또한 인쇄회로 기판(31)을 따라 개선된 층류(26)를 형성하는 것을 보조한다.
층류(26)는, 도 2(A)에 나타낸 바와 같이, 저압 영역의 형성(즉, 베르누이 효과)을 일으켜 인쇄회로 기판(31)의 스루홀을 통해 증가된 전해질의 유동(33)을 흡입한다. 도 2(B)에 도시한 바와 같이, 플로팅 쉴드(20)가 수송 운동에 의해 이덕터(22)에 상대적으로 운동하면, 층류는 칸막이(23, 24)에 의해 인쇄회로 기판의 반대측으로 유도되고, 거기에서 유속이 증가되어 스루홀을 통해 상기 반대 방향으로 전해질의 유동(32)을 야기한다.
도 3(A)∼3(E)는 수송 메커니즘이 쉴드와 쉴드의 칸막이를 이동시킴으로써 층류 및 스루홀 유동이 이덕터(22)의 좌측(도 3(A)-3(B))로부터 중간(도 3(C))으로, 다시 우측(도 3(D)-3(E))으로 바뀌는 것을 나타낸다.
특정한 실시예를 참고하여 설명하였지만, 당업자는 본 발명의 범위 내에서 여러 가지 변형을 이룰 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명은 전해 도금조, 상기 도금조 내에 인쇄회로 기판을 위치시키는 수단, 및 인쇄회로 기판의 각각의 면에 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 수단을 구비한 임의의 전해 도금 시스템을 포함한다. 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 바람직한 수단은 벤튜리 형상의 칸막이 및 인쇄회로 기판 하부에 정렬된 칸막이를 구비한 플로팅 쉴드, 그리고 상기 플로팅 쉴드 하부의 복수의 이덕터를 포함한다. 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 수단은 플로팅 쉴드와 그의 칸막이를, 이덕터에 대해, 횡방향으로 왕복 이동시키는 수송 메커니즘(transport mechanism) 또는 이덕터를 이동시키는 메커니즘을 추가로 포함할 수 있다.
상기 도금 공정은, 진동기 및 진동 에너지가 도금 시스템의 고정된 부위에 의해 흡수되지 않도록 하는 스프링 장착 시스템을 이용함으로써 더욱 개선될 수 있다.
본 발명의 일 실시예는 인쇄회로 기판의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 전해 도금 시스템으로서, 전해질조, 상기 전해질조 상부의 하측 로드, 상기 하측 로드에 부착된 가요성 전류 공급 접속부, 상기 하측 로드에 부착된 적어도 하나의 인쇄회로 기판 클램프, 상기 인쇄회로 기판과 접촉하는 v-새들을 구비하고, 또한 벤튜리 형상의 칸막이를 포함하는 플로팅 쉴드, 상기 플로팅 쉴드 하부의 전해질조의 하측 부분에 설치되어 인쇄회로 기판을 가로질러 전해질의 층류를 발생시키는 적어도 하나의 이덕터, 및 상기 인쇄회로 기판의 일 측면으로부터 다른 측면으로 상기 층류를 교대시키는 수단을 포함한다. 이 시스템은 또한 하측 로드를 지지하는 상측 로드, 상측 로드 상에 설치되는 진동기, 및 상측 로드를 강성 구조물에 장착하기 위한 스프링 시스템을 추가로 포함할 수 있다. 플로팅 쉴드는 전해질의 유동을 인쇄회로 기판의 측면 중 어느 일 측면으로 유도하기 위해 인쇄회로 기판 바로 밑에 설치되는 칸막이를 추가로 포함할 수 있고, 상기 층류를 교대시키는 수단은 상기 쉴드 및 상기 쉴드의 칸막이를, 이덕터에 대해, 일 측면에서 다른 측면으로 이동시키는 수송 메커니즘에 의해 제공될 수 있다.
본 발명은 또한, 하측 지지 로드로 인쇄회로 기판을 지지하는 도금 라인, 상기 하측 로드를 지지하는 상측 지지 로드, 상기 상측 로드 상에 설치되는 진동기 및 상기 상측 로드를 강성 구조물에 장착하기 위한 스프링 시스템을 포함하는 인쇄회로 기판용 전해 도금 시스템과 같이 진동 에너지의 개선에 한정될 수 있다.
본 발명을 실시하는 방법은 인쇄회로 기판의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 전해 도금 방법으로서, 인쇄회로 기판을 전해질조 내에 위치시키는 단계 및 인쇄회로 기판의 양측면에 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 단계를 포함하는 전해 도금 방법을 포함한다. 전해질의 층류를 교대로 발생시키는 상기 단계는 인쇄회로 기판 하부에 벤튜리 형상의 칸막이 및 정렬된 칸막이를 구비한 플로팅 쉴드를 위치시키는 단계, 및 상기 플로팅 쉴드 하부의 복수의 이덕터를 동작시키는 단계를 포함할 수 있고, 상기 플로팅 쉴드와 그의 칸막이를, 이덕터에 대해, 일 측면에서 다른 측면으로 이동시키도록 수송 메커니즘을 이동시키는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 방법은 진동 에너지가 고정 지지체에 의해 흡수되는 것을 방지하기 위한 스프링 장착 시스템을 이용하여 상기 수송 메커니즘 상에 진동기를 장착함으로써 전해질조 내에서 인쇄회로 기판에 진동 에너지를 공급하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
인쇄회로 기판 내의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 또 다른 전해 도금 방법은, 전해질조를 제공하는 단계, 상기 전해질조 상부에 하측 로드를 위치시키는 단계, 가요성 접속부를 통해 상기 하측 로드에 전류를 공급하는 단계, 적어도 하나의 인쇄회로 기판을 상기 하측 로드에 클램프로 고정시키는 단계, 상기 인쇄회로 기판과 접촉하는 v-새들을 구비하며 추가로 상기 인쇄회로 기판 하부에 벤튜리 형상의 칸막이를 위치시키는 플로팅 쉴드 내에 상기 인쇄회로 기판을 수송하는 단계, 상기 플로팅 쉴드 하부에 상기 전해질조의 하측 부분 내에 위치한 적어도 하나의 이덕터를 이용하여 인쇄회로 기판을 가로질러 전해질의 층류를 발생시키는 단계, 및 상기 인쇄회로 기판의 일 측면에서 다른 측면으로 상기 층류를 교대시키는 단계를 포함한다. 이 방법은 상기 하측 로드를 상측 로드로 지지하는 단계, 상기 상측 로드에 진동 에너지를 공급하는 단계, 및 스프링 시스템을 이용하여 상기 진동 에너지를 고정 구조물로부터 분리시키는 단계를 추가로 포함할 수 있고, 또한 전해질의 유동을 상기 인쇄회로 기판의 어느 일 측면으로 유도하기 위해 상기 인쇄회로 기판 바로 밑에 칸막이를 제공하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 또한, 상기 층류를 교대시키기 위해, 수송 메커니즘을 이동시킴으로써 상기 플로팅 쉴드 및 그의 칸막이를, 상기 이덕터에 대해, 일 측면에서 다른 측면으로 이동시키는 공정을 이용할 수 있다.
본 발명의 인쇄회로 기판에 대한 또 다른 전해 도금 방법은, 도금 라인의 하측 지지 로드로 인쇄회로 기판을 지지하는 단계, 상측 로드로 상기 하측 로드를 지지하는 단계, 상기 상측 로드에 진동 에너지를 공급하는 단계, 및 스프링 시스템을 구비한 강성 구조물에 상기 상측 로드를 장착하는 단계를 포함한다.
이상과 같이 제시된 실시예에 대해 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 여러 가지 변형 및 개선이 이루어질 수 있으며, 본 발명은 오직 첨부된 청구의 범위에 의해서 한정됨을 이해할 것이다.

Claims (18)

  1. 인쇄회로 기판의 비아(via) 및 스루홀(through hole)을 도금하기 위한 전해 도금 장치로서,
    전해 도금조;
    상기 전해 도금조 내에 상기 인쇄회로 기판을 위치시키는 수단; 및
    전해질의 층류(laminar flow)를, 상기 인쇄회로 기판의 각각의 면에, 교대로(alternately) 발생시키는 수단을 포함하는 전해 도금 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    전해질의 층류를 교대로 발생시키는 상기 수단은, 상기 인쇄회로 기판 하부에 벤튜리(venturi) 형상의 칸막이(partition)와 정렬된 칸막이를 가진 플로팅 쉴드(floating shield) 및 상기 플로팅 쉴드 아래에 복수개의 이덕터(eductor)를 더 포함하고,
    전해질은 상기 이덕터로 공급되고, 상기 벤튜리 형상의 칸막이는 상기 이덕터의 벤튜리 효과를 강화하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    전해질의 층류를 교대로 발생시키는 상기 수단은, 상기 플로팅 쉴드 및 상기 플로팅 쉴드의 칸막이를, 상기 이덕터에 대해, 횡방향으로 왕복 이동시키는 수송 메커니즘(transport mechanism)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 전해 도금조 내에 상기 인쇄회로 기판을 위치시키는 상기 수단은, 진동기(vibrator), 및 진동 에너지가 상기 도금 장치의 고정부에 의해 흡수되는 것을 방지하기 위한 스프링-장착 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  5. 인쇄회로 기판의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 전해 도금 장치로서,
    전해질조;
    상기 전해질조 상부의 하측 로드;
    상기 하측 로드에 부착된 가요성(flexible) 전류 공급 접속부;
    상기 하측 로드에 부착된 적어도 하나의 인쇄회로 기판 클램프;
    상기 인쇄회로 기판과 접촉하는 v-새들을 구비하고, 또한 벤튜리 형상의 칸막이를 포함하는 플로팅 쉴드;
    상기 플로팅 쉴드 하부의 상기 전해질조의 하측 부분에 설치되어 상기 인쇄회로 기판을 가로질러 전해질의 층류를 발생시키기 위한 적어도 하나의 이덕터; 및
    상기 인쇄회로 기판의 일 면으로부터 다른 면으로 상기 층류를 교대시키는 수단을 포함하는 전해 도금 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 하측 로드를 지지하는 상측 로드;
    상기 상측 로드 상에 설치되는 진동기; 및
    상기 상측 로드를 강성 구조물(rigid structure)에 장착하기 위한 스프링 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 플로팅 쉴드는 전해질의 흐름을 상기 인쇄회로 기판의 양면(either side)으로 유도하기 위해 상기 인쇄회로 기판 바로 밑에 설치되는 칸막이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 층류를 교대시키는 상기 수단은 상기 쉴드 및 상기 쉴드의 칸막이를, 상기 이덕터에 대해, 횡방향으로 왕복 이동시키는 수송 메커니즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.
  9. 인쇄회로 기판용 전해 도금 장치로서,
    하측 지지 로드로 상기 인쇄회로 기판을 지지하는 도금 라인;
    상기 하측 로드를 지지하는 상측 지지 로드;
    상기 상측 로드 상에 설치되는 진동기; 및
    상기 상측 로드를 강성 구조물에 장착하기 위한 스프링 시스템
    을 포함하는 전해 도금 장치.
  10. 인쇄회로 기판 내의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 전해 도금 방법으로서,
    상기 인쇄회로 기판을 전해질조 내에 위치시키는 단계; 및
    전해질의 층류를, 상기 인쇄회로 기판의 각각의 면에, 교대로 발생시키는 단계를 포함하는 전해 도금 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    전해질의 층류를 교대로 발생시키는 단계는,
    벤튜리 형상의 칸막이 및 정렬된 칸막이를 구비한 플로팅 쉴드를 상기 인쇄회로 기판 하부에 위치시키는 단계, 및
    상기 플로팅 쉴드 아래에서 복수개의 이덕터를 동작시키는 단계를 더 포함하고,
    전해질은 상기 이덕터로 공급되고, 벤튜리 형상의 상기 칸막이는 상기 이덕터의 벤튜리 효과를 강화하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    전해질의 층류를 교대로 발생시키는 단계는,
    상기 플로팅 쉴드와 그의 칸막이를, 상기 이덕터에 대해, 왕복으로 이동시키도록 수송 메커니즘을 이동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    진동 에너지가 고정 지지체에 의해 흡수되는 것을 방지하기 위한 스프링 장착 시스템을 사용하는 상기 수송 메커니즘 상에 진동기를 장착함에 의해 상기 전해질조 내의 상기 인쇄회로 기판에 진동 에너지를 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  14. 인쇄회로 기판 내의 비아 및 스루홀을 도금하기 위한 전해 도금 방법으로서,
    전해질조를 제공하는 단계;
    상기 전해질조 상부에 하측 로드를 위치시키는 단계;
    가요성 접속부로 상기 하측 로드에 전류를 공급하는 단계;
    적어도 하나의 인쇄회로 기판을 상기 하측 로드에 클램프로 고정시키는 단계;
    상기 인쇄회로 기판과 접촉하는 v-새들을 구비하며 추가로 상기 인쇄회로 기판 하부에 벤튜리 형상의 칸막이를 위치시키는 플로팅 쉴드 내에 상기 인쇄회로 기판을 수송하는 단계;
    상기 플로팅 쉴드 아래에 상기 전해질조의 하측 부분에 위치한 적어도 하나의 이덕터를 이용하여 인쇄회로 기판을 가로질러 전해질의 층류를 발생시키는 단계; 및
    상기 인쇄회로 기판의 일 측면에서 다른 측면으로 상기 층류를 교대시키는 단계
    를 포함하는 전해 도금 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 하측 로드를 상측 로드로 지지하는 단계;
    상기 상측 로드에 진동 에너지를 공급하는 단계; 및
    스프링 시스템을 이용하여 상기 진동 에너지를 고정 구조물로부터 분리시키는 단계
    를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  16. 제14항에 있어서,
    전해질의 흐름을 상기 인쇄회로 기판의 양 면으로 유도하기 위해 상기 인쇄회로 기판 바로 밑에 칸막이를 제공하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 층류를 교대시키기 위해, 수송 메커니즘을 이동시킴으로써 상기 플로팅 쉴드 및 그의 칸막이를, 상기 이덕터에 대해, 왕복 이동시키는 것을 특징으로 하는 전해 도금 방법.
  18. 인쇄회로 기판에 대한 전해 도금 방법으로서,
    도금 라인의 하측 지지 로드로 상기 인쇄회로 기판을 지지하는 단계;
    상측 로드로 상기 하측 로드를 지지하는 단계;
    상기 상측 로드에 진동 에너지를 공급하는 단계; 및
    스프링 시스템을 이용하여 강성 구조물에 상기 상측 로드를 장착하는 단계
    를 포함하는 전해 도금 방법.
KR1020047005787A 2001-10-19 2002-10-21 전해 도금을 위한 장치 및 방법 KR100660086B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US34441701P 2001-10-19 2001-10-19
US60/344,417 2001-10-19
PCT/US2002/033530 WO2003033770A2 (en) 2001-10-19 2002-10-21 System and method for electrolytic plating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040058210A KR20040058210A (ko) 2004-07-03
KR100660086B1 true KR100660086B1 (ko) 2006-12-20

Family

ID=23350458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020047005787A KR100660086B1 (ko) 2001-10-19 2002-10-21 전해 도금을 위한 장치 및 방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6818115B2 (ko)
EP (1) EP1438446B1 (ko)
JP (1) JP2005506447A (ko)
KR (1) KR100660086B1 (ko)
CN (3) CN101570873B (ko)
AU (1) AU2002349972B2 (ko)
ES (1) ES2449076T3 (ko)
HK (1) HK1136011A1 (ko)
WO (1) WO2003033770A2 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4759834B2 (ja) * 2001-04-25 2011-08-31 凸版印刷株式会社 フィルムキャリア用電気めっき装置
US20050061660A1 (en) * 2002-10-18 2005-03-24 Kempen Hein Van System and method for electrolytic plating
EP1533400A1 (en) * 2003-11-20 2005-05-25 Process Automation International Limited A liquid delivery system for an electroplating apparatus, an electroplating apparatus with such a liquid delivery system, and a method of operating an electroplating apparatus
US7947161B2 (en) * 2004-03-19 2011-05-24 Faraday Technology, Inc. Method of operating an electroplating cell with hydrodynamics facilitating more uniform deposition on a workpiece with through holes
US7553401B2 (en) * 2004-03-19 2009-06-30 Faraday Technology, Inc. Electroplating cell with hydrodynamics facilitating more uniform deposition across a workpiece during plating
JP2011256444A (ja) * 2010-06-10 2011-12-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd 基板の処理方法および処理装置
NL2005480C2 (nl) * 2010-10-07 2012-04-11 Meco Equip Eng Inrichting voor het eenzijdig elektrolytisch behandelen van een vlak substraat.
CN103590079A (zh) * 2012-08-14 2014-02-19 亚洲电镀器材有限公司 一种电镀方法
CN103320844A (zh) * 2013-05-16 2013-09-25 陈焕宗 一种电镀工艺的面铜控制装置
KR101457060B1 (ko) * 2014-04-30 2014-10-31 (주)네오피엠씨 진동전달기능을 갖는 도금장치
CN105862098B (zh) * 2016-06-22 2018-01-12 苏州翔邦达机电有限公司 适用于pcb板电镀的浮架系统
JP2020147831A (ja) * 2019-03-15 2020-09-17 三菱マテリアル株式会社 電解めっき装置、及び、電解めっき方法
CN112822873A (zh) * 2019-11-15 2021-05-18 宇泰和股份有限公司 高纵深比电路板通孔化学处理/电化学处理装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3015282C2 (de) * 1980-04-21 1986-07-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zum partiellen Galvanisieren von leitenden oder leitend gemachten Oberflächen
US4634503A (en) * 1984-06-27 1987-01-06 Daniel Nogavich Immersion electroplating system
US4696729A (en) * 1986-02-28 1987-09-29 International Business Machines Electroplating cell
JPH04500838A (ja) * 1988-10-25 1992-02-13 ベロルススキ ポリテフニチェスキ インスティテュト 電気化学加工のための装置
US4879007B1 (en) * 1988-12-12 1999-05-25 Process Automation Int L Ltd Shield for plating bath
DE4106733A1 (de) * 1991-03-02 1992-09-03 Schering Ag Vorrichtung zum abblenden von feldlinien in einer galvanikanlage (iii)
DE4337724A1 (de) * 1993-11-05 1995-05-11 Hoellmueller Maschbau H Vorrichtung zur Beschichtung der Wandung von Bohrungen in elektrischen Leiterplatten oder Multilayern
JP2002121699A (ja) * 2000-05-25 2002-04-26 Nippon Techno Kk めっき浴の振動流動とパルス状めっき電流との組み合わせを用いた電気めっき方法
US20030010625A1 (en) * 2001-07-16 2003-01-16 Gramarossa Daniel J. Processing cells for wafers and other planar articles

Also Published As

Publication number Publication date
CN1571865A (zh) 2005-01-26
CN1962956A (zh) 2007-05-16
EP1438446A2 (en) 2004-07-21
CN100523305C (zh) 2009-08-05
EP1438446B1 (en) 2012-06-20
EP1438446A4 (en) 2006-03-29
US6818115B2 (en) 2004-11-16
WO2003033770A2 (en) 2003-04-24
HK1136011A1 (en) 2010-06-18
KR20040058210A (ko) 2004-07-03
ES2449076T3 (es) 2014-03-18
AU2002349972B2 (en) 2006-08-24
JP2005506447A (ja) 2005-03-03
US20030196904A1 (en) 2003-10-23
CN101570873A (zh) 2009-11-04
CN101570873B (zh) 2011-08-03
WO2003033770A3 (en) 2003-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100660086B1 (ko) 전해 도금을 위한 장치 및 방법
US8329006B2 (en) Electroplating cell with hydrodynamics facilitating more uniform deposition across a workpiece during plating
US8545687B2 (en) Apparatus and method for the electrolytic treatment of a plate-shaped product
US7947161B2 (en) Method of operating an electroplating cell with hydrodynamics facilitating more uniform deposition on a workpiece with through holes
US6261435B1 (en) Plating method
EP2167224B1 (en) Apparatus and method for the wet chemical treatment of products
AU2002349972A1 (en) System and method for electrolytic plating
JP2005506447A5 (ko)
ES2169530T3 (es) Dispositivo para el tratamiento electrolitico de material en forma de placas y procedimiento para el apantallado electrico de las zonas marginales de dicho material durante el tratamiento electrolitico.
KR102410787B1 (ko) 이동형 수직애노드가 장착된 도금장치
CA2079033A1 (en) Electroplating means for perforated printed circuit boards to be treated in a horizontal pass
KR101804457B1 (ko) 기포제거를 위한 도금용 진동발생장치
US20050061660A1 (en) System and method for electrolytic plating
JPH0354887A (ja) プリント基板の微小孔処理方法及びその装置
JP2004339590A (ja) 表面処理装置
KR102263628B1 (ko) 용해조
JPH0748587B2 (ja) プリント配線板の電気メッキ方法及びその装置
MORE et al. Gebhart et al.
JPH11220257A (ja) プリント配線板の製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20101126

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee