KR100651667B1 - The wrought aluminium alloy board material excellent in thermal conductivity and formability, and its manufacture method - Google Patents

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KR100651667B1 KR1020050013431A KR20050013431A KR100651667B1 KR 100651667 B1 KR100651667 B1 KR 100651667B1 KR 1020050013431 A KR1020050013431 A KR 1020050013431A KR 20050013431 A KR20050013431 A KR 20050013431A KR 100651667 B1 KR100651667 B1 KR 100651667B1
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Abstract

도전성, 열전도성, 프레스 성형에 있어서의 성형 가공성이 뛰어나고 또한, 높은 강도를 갖는 알루미늄 합금판재를 얻는다.An aluminum alloy sheet material having excellent electroconductivity, thermal conductivity and molding processability in press molding and having high strength is obtained.

질량%로, Si:0.2∼1.5%, Mg:0.2∼1.5%, Ti:0.015초(超)∼0.2%를 함유하고, 또한, Mn:0.02∼0.15%, Cr:0.02∼0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피불순물로 이루어지고, 또한, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상이다. 상기 성분의 알루미늄 합금재를 냉간 압연할 때에, 냉간 압연 도중에 500∼570℃의 용체화 처리를 행하고, 계속해서 최종 냉간 압연율 5∼40%의 냉간 압연후, 150∼190℃로 가열하는 소둔을 행한다. 뛰어난 도전율과 열전도성 및 높은 성형성능과 강도가 확보되고, 플라즈마 디스플레이, 전자부품 등의 이용에 적절한 재료를 얻을 수 있다.In mass%, Si: 0.2-1.5%, Mg: 0.2-1.5%, Ti: 0.015 sec.-0.2%, Mn: 0.02-0.15%, Cr: 0.02-0.14% Or two kinds are contained, remainder consists of Al and an unavoidable impurity, electrical conductivity is 50% IACS or more, and thermal conductivity is 200 w / m * K or more. When cold-rolling the aluminum alloy material of the said component, during the cold rolling, the solution treatment of 500-570 degreeC is performed, and after the cold rolling of the final cold rolling rate of 5-40%, the annealing heated to 150-190 degreeC is carried out. Do it. Excellent conductivity, thermal conductivity, high molding performance and strength can be ensured, and materials suitable for use in plasma displays, electronic components, and the like can be obtained.

Description

열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판 및 그 제조방법{THE WROUGHT ALUMINIUM ALLOY BOARD MATERIAL EXCELLENT IN THERMAL CONDUCTIVITY AND FORMABILITY, AND ITS MANUFACTURE METHOD}Aluminum alloy board with excellent thermal conductivity and formability and its manufacturing method {THE WROUGHT ALUMINIUM ALLOY BOARD MATERIAL EXCELLENT IN THERMAL CONDUCTIVITY AND FORMABILITY, AND ITS MANUFACTURE METHOD}

도1은 도전율과 열전도율의 상관관계를 나타내는 그래프이다.1 is a graph showing a correlation between electrical conductivity and thermal conductivity.

본 발명은, 플라즈마 디스플레이 등의 전자영상부품, 컴퓨터 등의 전자부품, 일반 가정용 전화(電化)제품 부품 등에 적절하며, 특히, 방열판, 케이스체로서의 사용에 적절한, 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판 및 그 알루미늄 합금판의 제조방법에 관한 것이다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable for electronic imaging parts such as plasma displays, electronic parts such as computers, and general household telephone product parts, and the like. In particular, an aluminum alloy plate having excellent thermal conductivity and formability, which is suitable for use as a heat sink and a case body. And a method for producing the aluminum alloy plate.

플라즈마 디스플레이는 영상을 비추는 영상부분과 전자부품이 집적한 부분으로 구성되고, 기능면에서 얇게 벽에 걸려지는 구조로 되어 있기 때문에 영상부분과 전자부품은 근접한 구조로 되고, 전자부품에의 열적영향을 최소한으로 할 필요가 있다. 영상을 비춰내는 영상부분은 발광소자의 집합체이며, 소자에는 고전압이 부하되기 때문에 발열량이 많아 주위에의 영향은 피할 수 없다. 또한, 선명한 영상을 비춰내는 플라즈마 디스플레이의 발열은, 전기회로로서 기능하는 구조물의 도전율 을 변화시키기 때문에, 정확하게 조정된 전자회로에의 노이즈의 원인이 될 뿐만 아니라, 사용되고 있는 반도체 전자부품에 중대한 영향을 미칠 가능성이 높다. 이 때문에 영상부분의 발열로 부터 뛰어난 기능을 자랑하는 전자부품을 보호할 목적으로, 영상부분과 전자부품 집적부분의 사이의 방열부품을 놓고, 영상부분의 발열을 분산시켜 국부에의 가열을 피하는 방열기구를 설치하고 있다.Plasma display is composed of an image part that illuminates an image and an integrated part of an electronic part, and has a structure that is thinly hung on the wall in terms of function, so that the image part and the electronic part are in close proximity, and the thermal effect on the electronic part is reduced. You need to do it minimally. The image portion that illuminates the image is a collection of light emitting elements, and since the high voltage is loaded on the elements, the amount of heat generated is large, and the influence on the surroundings is inevitable. In addition, the heat generated by the plasma display, which illuminates the clear image, changes the conductivity of the structure functioning as the electric circuit, and thus not only causes noise to the accurately adjusted electronic circuit, but also significantly affects the semiconductor electronic components used. It is likely to go. Therefore, in order to protect the electronic parts that have excellent functions from the heat generation of the image part, a heat dissipation part is placed between the image part and the electronic part integration part, and the heat of the image part is dispersed to avoid heating to the local part. We install hot air balloon.

그런데, 자동차용 외판재료 등에 널리 이용되고 있는 Al-Si-Mg 합금은, 압연조건, 열처리 조건을 조정함으로써 높은 도전율을 확보할 수 있는 것이 알려져 있고(예를 들면 비특허문헌 1이나 특허문헌 1,2), 이처럼 높은 도전율에 착안해서 전선이나 부스바 등에도 사용되고 있다. 또한, 도전율과 열전도율은 도1에 나타낸 바와 같이 높은 상관관계를 나타내고, 도전율이 높은 재료는 열전도성이 높은 재료라고 할 수 있다. 즉, 도전율이 높은 Al-Si-Mg 합금은 열전도성도 좋고, 상기 전자부품 집적부에 대하여, 영상부분의 발열을 차폐하고, 확산하기 위한 방열부재로서는 적절한 재료라고 할 수 있다. 또한, 방열부품은 동시에 영상부분과 전자부품의 집적부분의 중간에 위치하고, 구조부재로서 기능이 요구되고 강도와 성형성이 뛰어난 것도 필요하지만, Al-Si-Mg합금은 부품형상을 형성하기 위한 성형성도 구비하고 있다. 이 때문에 상기한 플라즈마 디스플레이의 방열판 재료로서 Al-Si-Mg 합금이 널리 이용되기에 이르렀다.By the way, it is known that the Al-Si-Mg alloy widely used for automobile exterior materials etc. can secure high electrical conductivity by adjusting rolling conditions and heat processing conditions (for example, Nonpatent literature 1, patent document 1, 2) In view of such high electrical conductivity, it is also used in electric wires and busbars. In addition, the electrical conductivity and the thermal conductivity show a high correlation as shown in Fig. 1, and the material having high conductivity can be said to be a material having high thermal conductivity. That is, the Al-Si-Mg alloy having high electrical conductivity has good thermal conductivity, and can be said to be a suitable material as a heat dissipation member for shielding and diffusing heat generated in the image portion with respect to the electronic component integrated portion. In addition, although the heat dissipation part is located at the same time between the image part and the integrated part of the electronic part, and also requires a function as a structural member and excellent strength and formability, Al-Si-Mg alloy is formed to form a part shape. It is also equipped with a castle. For this reason, Al-Si-Mg alloy is widely used as a heat sink material of said plasma display.

[비특헌 문헌1] "최근의 도전용 알루미늄 합금에 대해서", 스미토모덴키 기호, 쇼와 53년 1월 발행, 제112 호[Non-Conventional Document 1] "Regarding Recent Aluminum Alloys for Challenge," Sumitomo Denki Symbol, Published in January, 1976, No. 112

[특허문헌 1] 일본 특허공개 2000-226628호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-226628

[특허문헌 2] 일본 특허공개 2000-87198호 공보 [Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-87198

그러나, 현재 플라즈마 디스플레이용의 부품에 사용되고 있는 방열판용 재료는, 도전율의 향상과 강도의 확보에 중점이 놓여지고, 부품형상을 확보하는 양산성이 뛰어난 프레스 성형성은 충분하지 않고, 형상을 결정하는데 큰 제약조건으로 되어 있다. 특히 프레스 성형시의 인장변형 도입후의 굽힘 가공에서는 굽힘 외주부분에 갈라짐의 발생을 피할 수 없고, 주위의 형상에는 어울리지 않는 큰 굽힘 반경으로 굽힘 가공할 필요가 있다. 또한, 강도의 확보는 전자기기 등에 조합한 후, 구조물로서의 강도, 또한 충돌 등에 의한 흠집, 변형방지 등의 기능이 필요하며, 열전도성, 도전율이 뛰어나고, 또한 성형성이 높은 강도를 확보할 수 있는 경량의 알루미늄 합금의 개발이 기대되고 있다.However, the heat dissipation material currently used for components for plasma displays has a focus on improving conductivity and securing strength, and is not sufficiently press-formable, which is excellent in mass productivity to secure component shapes, and large in determining shapes. It is a constraint. Particularly, in bending after the introduction of tensile deformation during press molding, cracking cannot be avoided in the outer peripheral portion of the bending, and it is necessary to bend with a large bending radius which is not suitable for the surrounding shape. In addition, to secure the strength, combined with an electronic device or the like, the strength of the structure, the function of preventing scratches and deformation due to collision, etc., are required, and the thermal conductivity, the conductivity, and the formability can be ensured. Development of lightweight aluminum alloys is expected.

본 발명은 상기 사정을 배경으로서 이루어진 것이며, 성분의 적정화 또는 이것에 추가하여 제조조건의 적정화에 의해 열전도성, 도전율이 뛰어나고, 또한 성형성이 높은 강도가 얻어지는 알루미늄 합금판 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an aluminum alloy plate having excellent thermal conductivity and conductivity, and high formability, and a method for producing the same, by optimizing components or by optimizing manufacturing conditions. will be.

즉, 본 발명의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재 중, 청구항 1 기재의 발명은, 질량%로, Si:0.2~1.5%, Mg:0.2~1.5%, Ti:0.015초~0.2%와, Mn:0.02~0.15%, Cr:0.02~0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피 불순물로 이루어지고 또한, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상인 것을 특징으로 한다.That is, in the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of this invention, invention of Claim 1 is mass%, Si: 0.2-1.5%, Mg: 0.2-1.5%, Ti: 0.015 second-0.2%, It contains one kind or two kinds of Mn: 0.02 ~ 0.15%, Cr: 0.02 ~ 0.14%, the balance consists of Al and unavoidable impurities, the conductivity is 50% IACS or more and the thermal conductivity is 200w / mK or more It features.

청구항 2기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 1기재의 발명에 있어서, 또한, 질량%로 Cu:0.01~1%를 함유하는 것을 특징으로 한다.The invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of a 2nd base material is further characterized by containing Cu: 0.01 to 1% by mass% in invention of a 1st base material.

청구항 3기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은 청구항 1기재의 발명에 있어서, 또한, 질량%로 희토류원소:0.01~0.2%를 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 4기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은 청구항 2기재의 발명에 있어서, 또한, 질량%로 희토류원소:0.01~0.2%를 함유하는 것을 특징으로 한다.
The invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of the third substrate is characterized in that, in the invention of the first substrate, the rare earth element is contained in an amount of 0.01% to 0.2% by mass%.
The invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of the base material of claim 4 is characterized in that, in the invention of the base material of claim 2, the rare earth element is contained in a mass% of 0.01 to 0.2%.

청구항 5기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 1~청구항 4 중 어느 한 항 기재의 발명에 있어서, 또한, 질량%로 Be:0.0020~0.02%를 함유하는 것을 특징으로 한다.Invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity of a 5th base material and a moldability is the invention of any one of Claims 1-4, In addition, it contains Be: 0.0020 to 0.02% by mass%, It is characterized by the above-mentioned. .

청구항 6기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 1~청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 발명에 있어서, 인장시험에 있어서의 내력이 200MPa 이상, 180°굽힘 시험에 있어서의 굽힘 한계가 하기 (1)식을 만족하는 것을 특징으로 한다.As for invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity of a 6th base material, and a moldability, in the invention of any one of Claims 1-4, the yield strength in a tensile test is 200 Mpa or more and the bending in 180 degree bending test. The limit is characterized by satisfying the following formula (1).

y≤-0.23x3+1.0286x2-0.5786x+0.1 …(1) y≤-0.23x 3 + 1.0286x 2 -0.5786x + 0.1 ... (One)

단, x:판두께(mm), y=한계 굽힘반경(mm)
청구항 7기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 5기재의 발명에 있어서, 인장시험에 있어서의 내력이 200MPa 이상, 180°굽힘 시험에 있어서의 굽힘 한계가 하기 (1)식을 만족하는 것을 특징으로 한다.
y≤-0.23x3+1.0286x2-0.5786x+0.1 …(1)
단, x:판두께(mm), y=한계 굽힘반경(mm)
X: plate thickness (mm), y = limit bending radius (mm)
In the invention of the aluminum alloy sheet having excellent thermal conductivity and formability of the seventh substrate, in the invention of the fifth substrate, the yield strength in the tensile test is 200 MPa or more and the bending limit in the 180 ° bending test is represented by the following formula (1) It is characterized by satisfying.
y≤-0.23x 3 + 1.0286x 2 -0.5786x + 0.1 ... (One)
X: plate thickness (mm), y = limit bending radius (mm)

청구항 8기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 1~청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 발명에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 한다.
청구항 9기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 5기재의 발명에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 한다.
청구항 10기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은, 청구항 6기재의 발명에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 한다.
Invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of Claim 8 is used for the heat sink or case body for electric and electronic components in the invention as described in any one of Claims 1-4.
The invention of the aluminum alloy plate material which is excellent in the thermal conductivity and formability of Claim 9 is used for the heat sink or case body for electric and electronic components in invention of Claim 5, It is characterized by the above-mentioned.
The invention of the aluminum alloy plate material which is excellent in the thermal conductivity and formability of Claim 10 is used for the heat sink or case body for electric and electronic components in invention of Claim 6, It is characterized by the above-mentioned.

청구항 11기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 제조방법의 발명은, 질량%로 Si:0.2~1.5%, Mg:0.2~1.5%, Ti:0.015초~0.2%와, Mn:0.02~0.15%, Cr:0.02~0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피 불순물로 이루어진 알루미늄 합금재를 냉간 압연할 때에, 냉간 압연 도중에 500~570℃로 가열화하는 용체화 처리를 행하고, 이어서 최종 냉간 압연율 5~40%의 냉간 압연후, 배치식 소둔로 또는 연속 소둔로에 의해 150~190℃로 가열하는 소둔을 행하고, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상의 알루미늄 합금판을 얻는 것을 특징으로 한다.Claim 11 The invention of the manufacturing method of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of the substrate is Si: 0.2 to 1.5%, Mg: 0.2 to 1.5%, Ti: 0.015 seconds to 0.2%, Mn: 0.02 to The solution treatment which contains 0.15%, Cr: 0.02 to 0.14%, 1 type or 2 types and heats it to 500-570 degreeC during cold rolling, when the remainder cold-rolls the aluminum alloy material which consists of Al and an unavoidable impurity. Then, after cold rolling with a final cold rolling rate of 5 to 40%, annealing heated to 150 to 190 ° C by a batch annealing furnace or a continuous annealing furnace is performed, and the conductivity is 50% IACS or more and the thermal conductivity is 200 w / m. It is characterized by obtaining the aluminum alloy plate of K or more.

청구항12 기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 제조방법의 발명은, 청구항 11기재의 발명에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는 또한, 질량%로, Cu:0.01~1%를 함유하는 것을 특징으로 한다.Invention of the manufacturing method of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of Claim 12 WHEREIN: In the invention of Claim 11, the said aluminum alloy material also contains Cu: 0.01 to 1% by mass%, It is characterized by the above-mentioned. do.

청구항 13기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 제조방법의 발명은, 청구항 11 또는 12기재의 발명에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는, 또한 질량%로 희토류 원소: 0.01~0.2%를 함유하는 것을 특징으로 한다.The invention of the method for producing an aluminum alloy sheet material having excellent thermal conductivity and formability of a base material according to claim 13 is the invention of the base material according to claim 11 or 12, wherein the aluminum alloy material further contains a rare earth element: 0.01 to 0.2% by mass%. It features.

청구항 14기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은 청구항 11 또는 12기재의 발명에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는, 또한 질량%로 Be:0.0020~0.02%를 함유하는 것을 특징으로 한다.
청구항 15기재의 열전도율과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판재의 발명은 청구항 13기재의 발명에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는, 또한 질량%로 Be:0.0020~0.02%를 함유하는 것을 특징으로 한다.
Invention of the aluminum alloy plate material excellent in the heat conductivity and formability of Claim 14 is the invention of Claim 11 or 12 WHEREIN: The said aluminum alloy material is further characterized by containing Be: 0.0020 to 0.02% by mass%.
Invention of the aluminum alloy plate material excellent in the thermal conductivity and formability of Claim 15 is the invention of Claim 13 WHEREIN: The said aluminum alloy material is further characterized by containing Be: 0.0020 to 0.02% by mass%.

다음으로, 본 발명의 알루미늄 합금판 또는 그 제조방법에서 규정하는 합금성분 등의 조건에 대해서 설명한다.Next, the conditions, such as the alloying component prescribed | regulated by the aluminum alloy plate of this invention or its manufacturing method, are demonstrated.

Si:0.2~1.5%Si: 0.2 ~ 1.5%

Si와 Mg는 이 합금의 강도, 성형성, 도전율 등의 특성을 확보하는데 중요한 성분이다. Si량은 Mg량과의 밸런스로 성형후의 부품강도를 확보하지만 1.5%를 넘는 범위에서는 특히 도전율에의 영향이 크고, 또한 굽힘 가공성을 저해하는 요인이 된다. 한편, Si량이 0.2% 미만이면 성형후의 강도부족의 원인이 된다. 따라서, Si량을 0.2~1.5%의 범위내로 한다. 또한, 같은 이유로 하한을 0.4%, 상한을 1.1%로 하는 것이 바람직하다.Si and Mg are important components in securing the properties such as strength, formability and electrical conductivity of the alloy. The amount of Si secures the component strength after molding in balance with the amount of Mg, but in the range exceeding 1.5%, the influence on the electrical conductivity is particularly large, and the bending workability is hindered. On the other hand, when the amount of Si is less than 0.2%, it causes a lack of strength after molding. Therefore, the amount of Si is made into 0.2 to 1.5% of range. For the same reason, the lower limit is preferably 0.4% and the upper limit is 1.1%.

Mg:0.2~1.5%Mg: 0.2 ~ 1.5%

Mg는 인장강도를 향상시켜, 프레스 성형에 있어서의 갈라짐 한계를 향상시켜, 부품강도를 확보하는데 유효한 성분이다. Mg 함유량의 향상은 강도향상에 유효하게 되지만, 1.5%를 넘는 범위에서는 특히 도전율이 큰 저해요인이 된다. 또한, 0.2% 미만의 함유에서는 강도의 확보가 어렵다. 따라서, Mg 함유량을 0.2~1.5%의 범위내로 한다. 또한, 같은 이유로 하한을 0.4%, 상한을 0.8%로 하는 것이 바람직하다.Mg is an effective component for improving the tensile strength, improving the cracking limit in press molding, and securing the part strength. Although the Mg content is effective in improving the strength, in the range exceeding 1.5%, the electrical conductivity is particularly a large inhibitor. In addition, when the content is less than 0.2%, it is difficult to secure the strength. Therefore, Mg content is made into 0.2 to 1.5% of range. For the same reason, the lower limit is preferably 0.4% and the upper limit is 0.8%.

Ti:0.015초과~0.2%Ti: over 0.015% to 0.2%

Ti는 주조시의 슬래브 갈라짐을 방지하고, 또한, 결정입경을 미세화하여 굽힘, 연장, 수축 등의 가공시에 표면 거칠음을 방지하는 작용을 한다. 단, 0.015% 이하의 함유에서는 이들의 작용을 충분히 얻는 것이 어렵다. 한편, Ti를 0.2%를 넘어서 함유하면 도전율, 열전도율의 큰 저해요인이 되며, 또한 금속간 화합물이 증가하여 성형성이 나빠진다. 이 때문에, Ti함유량은 0.015초~0.2%로 정한다.Ti prevents slab cracking during casting, and also serves to reduce the surface roughness during processing such as bending, extension, and shrinkage by miniaturizing the grain size. However, with 0.015% or less of content, it is difficult to fully acquire these effects. On the other hand, when Ti is contained in excess of 0.2%, it becomes a large inhibitor of conductivity and thermal conductivity, and the intermetallic compound increases and the moldability worsens. For this reason, Ti content is set to 0.015 second-0.2%.

또한, 상기와 같은 이유에 의해, 하한을 0.04%, 상한을 0.10%로 정하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable to set a minimum as 0.04% and an upper limit as 0.10% for the same reason as mentioned above.

Cr:0.02~0.14%Cr: 0.02 ~ 0.14%

Mn:0.02~0.15%Mn: 0.02 ~ 0.15%

Cr의 미량첨가는 결정입의 미세화에 유효하며, 굽힘, 연장, 수축 등의 가공시에 표면 거칠음이 발생하는 것을 방지한다. Mn의 미량첨가는 결정입의 미세화에 유효하며, 굽힘, 연장, 수축 등의 가공성을 향상시킨다. 따라서, 성형성을 향상시키기 위해 Cr, Mn의 한쪽 또는 양쪽을 함유시킨다. 단, 각각이 0.02% 미만의 함유이면, 상기 작용이 충분히 얻어지지 않는다. 한편, Cr에서는 0.14%, Mn에서는 0.15%를 넘어서 함유하면, Fe와 금속간 화합물을 생성하여 굽힘, 연장, 수축 등 가공성을 저해한다. 따라서, Cr에서 0.02~0.14%, Mn에서 0.02~0.14%의 범위로 정한다. 또한, 같은 이유로 Cr의 하한을 0.02%, 상한을 0.06%에 정하는 것이 바람직하고, Mn의 하한을 0.04%, 상한을 0.10%로 정하는 것이 바람직하다. 또한, Cr, Mn의 양방을 함유시키는 경우에는, 양자의 합계된 함유량을 0.2% 이하로 한정하는 것이 바람직하다. 이것은 합계량에서 0.2%를 넘으면 용체화 처리시의 담금질 감수성에 영향을 주고, 최종제품의 강도, 또한 성형 가공성을 저해하는 요인이 되기 때문이다.Trace amounts of Cr are effective for miniaturization of grains and prevent surface roughness from occurring during processing such as bending, extension, and shrinkage. Trace amounts of Mn are effective for miniaturization of grains and improve workability such as bending, extension, and shrinkage. Therefore, one or both of Cr and Mn are contained to improve moldability. However, if each contains less than 0.02%, the said effect cannot fully be obtained. On the other hand, when it exceeds 0.14% in Cr and 0.15% in Mn, Fe and an intermetallic compound are produced and workability, such as bending, extension, and shrinkage, is inhibited. Therefore, it is set in the range of 0.02 to 0.14% in Cr and 0.02 to 0.14% in Mn. For the same reason, the lower limit of Cr is preferably set to 0.02% and the upper limit to 0.06%, and the lower limit of Mn is preferably set to 0.04% and the upper limit to 0.10%. In addition, when it contains both Cr and Mn, it is preferable to limit the total content of both to 0.2% or less. This is because if the total amount exceeds 0.2%, it will affect the quenching sensitivity during the solution treatment, and this will cause the strength of the final product and the moldability to be impaired.

Fe: 0.3% 이하Fe: 0.3% or less

Fe는 결정입경의 미세화 효과를 기대할 수 있지만, 0.3%를 넘으면 성형성에의 저해요인이 된다. 따라서 Fe 함유량은 0.3% 이하로 한다. 또한, 상기 작용을 충분히 얻기 위해서는 Fe 함유량은 0.2% 이상으로 하는 것이 바람직하다.Fe can be expected to have a finer grain size, but if it exceeds 0.3%, Fe is a deterrent to moldability. Therefore, Fe content is made into 0.3% or less. In addition, in order to fully acquire the said effect, it is preferable to make Fe content into 0.2% or more.

Cu: 0.01~1%Cu: 0.01 ~ 1%

Cu는, 강도와 성형성을 확보하기 위해서 소망에 의해 함유시킨다. 단, 1%를 넘으면 성형성 및 도전율 저하요인이 되고, O.01% 미만에서는 상기 작용을 충분히 얻을 수 없다. 따라서, Cu를 함유시킬 경우, 그 함유량을 0.01∼1%의 범위내로 한다. 또한, 같은 이유로 하한을 0.02%, 상한을 0.2%로 하는 것이 바람직하다.Cu is contained as desired in order to ensure strength and formability. However, if it exceeds 1%, moldability and conductivity lowering factors are caused, and if it is less than 0.01%, the above effect cannot be sufficiently obtained. Therefore, when it contains Cu, the content is made into 0.01 to 1% of range. For the same reason, the lower limit is preferably 0.02% and the upper limit is 0.2%.

희토류 원소: 0.01∼0.2%Rare Earth Element: 0.01 to 0.2%

희토류 원소는 결정입을 미세화해서 정출물 사이즈를 미세화하는 작용이 있기 때문에 소망에 의해 함유시킨다. 이 작용을 얻기 위해서는 0.01% 이상의 함유가 필요하다. 한편, 0.2%를 넘어서 함유시키면, 정출물로서 존재하여 성형성을 저해하는 요인이 되기 때문에, 희토류 원소를 함유시킬 경우, 그 함유량을 0.01∼0.2%로 규정한다. 또한, 같은 이유로 하한을 0.02%, 상한을 0.1%로 하는 것이 바람직하다.Rare earth elements are included as desired because they have the effect of making the grain size finer and the crystallized substance size smaller. In order to acquire this effect, 0.01% or more of content is required. On the other hand, when it exceeds 0.2%, since it exists as a crystallized substance and becomes a factor which inhibits moldability, when it contains a rare earth element, the content is prescribed | regulated to 0.01 to 0.2%. For the same reason, the lower limit is preferably 0.02% and the upper limit is 0.1%.

또한, 희토류 원소를 함유시킬 경우, 1종 또는 복수종의 희토류 원소를 함유시켜도 좋고, 또한, 미슈메탈의 상태로 함유시키는 것이어도 좋다.When the rare earth element is contained, one or more kinds of rare earth elements may be contained, or may be contained in the state of mischmetal.

Be:0.0020∼0.02% Be: 0.0020 to 0.02%

Be는 주조의 생산성과 열간 압연중 또는 연속 주조 압연중의 산화를 방지하는 작용이 있는 것 외에, 시효 경화성을 향상시키는 작용이 있고, 소망에 의해 함유시킨다. 이들의 작용을 얻기 위해서는 0.0020% 이상의 함유가 필요하며, 한편, 0.02%를 넘어서 함유시켜도 그 효과는 개선되는 일은 없기 때문에, Be를 함유시킬 경우, 그 함유량을 0.0020∼0.02%로 규정한다. 또한, 같은 이유로 하한을 0.005%, 상한을 0.008%로 하는 것이 바람직하다.Be has a function of preventing the productivity of casting and oxidation during hot rolling or continuous casting rolling, and also has an action of improving aging hardenability, and it is desired to be contained. In order to obtain these effects, the content is required to be 0.0020% or more. On the other hand, since the effect is not improved even if the content exceeds 0.02%, the content is defined as 0.0020 to 0.02% when Be is contained. For the same reason, the lower limit is preferably 0.005% and the upper limit is 0.008%.

제조 조건Manufacture conditions

본 발명에서는, 열간 압연을 거쳐 얻어진 알루미늄 합금판 또는 열간 압연을 거치지 않고 연속주조 압연에 의해 얻어진 알루미늄 합금판을, 이후, 냉간 압연할 때의 제조 조건을 정한다.In this invention, the manufacturing conditions at the time of cold-rolling the aluminum alloy plate obtained by hot rolling or the aluminum alloy plate obtained by continuous casting rolling without hot rolling are defined next.

냉간 압연 도중에의 용체화 처리(500∼570℃)Solution treatment during cold rolling (500 to 570 ° C)

최종 판두께로부터 환산하여, 5∼40%의 냉간 압연율을 남기고 용체화 처리를 실시한다. 이 때의 용체화 처리 조건은 500℃∼570℃의 온도범위로 한다. 용체화 처리 온도가 500℃ 미만이면, 충분한 용체화 처리 효과는 얻을 수 없고, 또한, 570℃를 초과하는 온도에서는 공정 용융이 발생할 우려가 있다. 또한, 같은 이유로 하한을 540℃로 하는 것이 바람직하다. 용체화 처리후는, 예를 들면, 공냉 또는 수냉에 의해 1.0℃/sec 이상의 냉각 속도로 담금질을 행한다. 냉각 속도가 1.0℃/sec 미만에서는 담금질 효과를 충분히 얻을 수 없다. 용체화 처리에 의해 용질원자의 고용량(固溶量)이 많아지고, 최종의 소둔공정에서 시효에 의한 강도를 향상시킬 수 있다. Converted from the final sheet thickness, the solution treatment is carried out leaving a cold rolling rate of 5 to 40%. The solution treatment conditions at this time are made into the temperature range of 500 degreeC-570 degreeC. If the solution treatment temperature is less than 500 ° C, sufficient solution treatment effect cannot be obtained, and process melting may occur at a temperature exceeding 570 ° C. Moreover, it is preferable to make a minimum into 540 degreeC for the same reason. After the solution treatment, for example, quenching is performed at a cooling rate of 1.0 ° C / sec or more by air cooling or water cooling. If the cooling rate is less than 1.0 ° C / sec, the hardening effect cannot be sufficiently obtained. By the solution treatment, the high capacity of the solute atoms increases, and the strength due to aging can be improved in the final annealing step.

용체화 처리후, 냉연율 5∼40%의 냉간 압연을 행한다. 이 압연의 목적은, 주로 도전율과 강도의 확보에 있고, 압연율 5% 미만에서는 용체화 처리에 의해 저하된 도전율의 개선은 충분히 얻을 수 없고, 내력도 200MPa를 밑도는 것이 된다. 40%를 초과하는 압연에서는 신장율이 저하되기 때문에 성형 가공성의 장해가 된다. 따라서, 용체화 처리후의 냉연율(이하 최종 냉연율이라고 한다)은 5∼40%의 범위내에 있도록 한다. 또한, 상기와 같은 이유로 최종 냉연율의 하한을 10%, 상한을 20%로 하는 것이 바람직하다.After the solution treatment, cold rolling with a cold rolling ratio of 5 to 40% is performed. The purpose of this rolling is mainly to secure the electrical conductivity and strength, and when the rolling rate is less than 5%, the improvement of the conductivity lowered by the solution treatment cannot be sufficiently obtained, and the yield strength is less than 200 MPa. In rolling exceeding 40%, since elongation rate falls, it becomes the obstacle of molding workability. Therefore, the cold rolling rate (hereinafter referred to as final cold rolling rate) after the solution treatment is in the range of 5 to 40%. In addition, it is preferable that the lower limit of the final cold rolling rate be 10% and the upper limit be 20% for the same reason as above.

냉간 압연후 소둔(150∼190℃)Annealing after cold rolling (150 ~ 190 ℃)

냉간 압연을 행한 후에 소둔을 행해 석출에 의한 강도의 향상과 동시에 도전율과 성형 가공성을 확보한다. 소둔 온도 150℃ 미만에서는 강도, 도전율의 향상, 충분한 굽힘가공 성능은 얻을 수 없고, 190℃를 초과하는 조건에서는 굽힘 가공성, 도전율의 향상은 얻을 수 있지만 강도의 저하는 피할 수 없다. 따라서, 이 소둔에서의 가열 온도는 150∼190℃로 한다.After cold rolling, annealing is performed to improve the strength by precipitation and to secure conductivity and moldability. When the annealing temperature is lower than 150 ° C., the strength, the electrical conductivity, and sufficient bending performance cannot be obtained. Under conditions exceeding 190 ° C., the bending workability and the electrical conductivity can be improved, but the decrease in strength cannot be avoided. Therefore, the heating temperature in this annealing is 150-190 degreeC.

이하에, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described.

본 발명에서 이용하는 알루미늄 합금은 소정의 성분이 되도록 조정해서 통상의 방법에 의해 용제함으로써 얻어지지만, 본 발명으로서는 알루미늄 합금을 얻기 위한 수단이 특별히 한정되는 것이 아니다. 상기 알루미늄 합금은 이후, 주조하여 슬래브로 하고, 또한 열간 압연에 의해 냉간 압연에 제공하는 알루미늄 합금판을 얻는 것이어도 좋고, 또한, 연속주조 압연에 의해 상기 알루미늄 합금으로부터 냉간 압연에 제공하는 알루미늄 합금판을 얻는 것이어도 좋다. 즉, 본원 발명으로서는, 냉간 압연에 제공하는 알루미늄 합금판의 제조 방법이 특정의 것에 한정되는 것이 아니다.Although the aluminum alloy used by this invention is obtained by adjusting so that it may become a predetermined component and solvent by a conventional method, as for this invention, the means for obtaining an aluminum alloy is not specifically limited. The aluminum alloy may then be cast to form a slab and obtain an aluminum alloy sheet to be subjected to cold rolling by hot rolling, and further, an aluminum alloy sheet to be subjected to cold rolling from the aluminum alloy by continuous casting rolling. It may be to obtain. That is, as this invention, the manufacturing method of the aluminum alloy plate used for cold rolling is not limited to a specific thing.

또한, 주조, 열간 압연에 의해 상기 알루미늄 합금판을 얻을 경우, 상기 열간 압연 전에는, 주조시의 합금성분을 균일하게 분산시키기 위해서 균질화 처리를 행하는 것이 바람직하다. 이 균질화 처리는, 450∼550℃의 온도로 4시간 이상 20시간이하로 행하는 것이 바람직하다. 또한, 균질처리 후, 열간 압연에의 투입온도는, 성형성을 확보하기 위해서 450∼550℃로 하는 것이 바람직하다. 열간 압연온도 450℃미만에서는 압연하중이 높고, 압연중의 끝부 갈라짐의 원인이 되고, 550℃를 넘 는 온도에서는 압연롤 표면에의 탄 흔적을 발생시킨다. 열간 압연의 종료 온도는 250∼300℃가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 280∼300℃의 온도로 한다.In addition, when obtaining the said aluminum alloy plate by casting and hot rolling, it is preferable to perform a homogenization process in order to disperse | distribute the alloy component at the time of casting uniformly before the said hot rolling. It is preferable that this homogenization process is performed at the temperature of 450-550 degreeC for 4 hours or more and 20 hours or less. Moreover, in order to ensure moldability, it is preferable to set the temperature of injection | throwing-in to hot rolling after a homogeneous process as 450-550 degreeC. If the hot rolling temperature is lower than 450 ° C., the rolling load is high, which causes cracking at the end of the rolling. At temperatures exceeding 550 ° C., burn marks on the surface of the rolling roll are generated. As for the completion | finish temperature of hot rolling, 250-300 degreeC is preferable, More preferably, let it be the temperature of 280-300 degreeC.

이 후, 냉간 압연을 행한다. 이때는 상기와 같이 냉간 압연 도중에 5∼40%의 냉간율을 남기고 500∼570℃의 온도로 용체화 처리를 실시한다. 그 후에, 최종냉간 압연율에 의해 냉간 압연을 행해서 최종 냉연판두께로 한다. 냉간 압연후에는, 도전율과 성형성을 확보하기 위해서, 배치 소둔로, 또는 연속 소둔로에 의해 소둔을 행한다. 이 소둔에 있어서의 가열온도는, 150℃∼190℃에서의 소둔을 행하고, 200MPa 이상의 내력과 50% IACS 이상의 도전율과 양호한 성형성을 확보한다.After this, cold rolling is performed. At this time, the solution treatment is performed at a temperature of 500 to 570 ° C. while leaving a cold ratio of 5 to 40% during cold rolling as described above. Thereafter, cold rolling is performed at the final cold rolling rate to obtain a final cold rolled sheet thickness. After cold rolling, annealing is performed by a batch annealing furnace or a continuous annealing furnace in order to secure electrical conductivity and formability. The heating temperature in this annealing is performed by annealing at 150 ° C to 190 ° C to ensure a yield strength of 200 MPa or more, a conductivity of 50% IACS or more, and good moldability.

얻어진 알루미늄 합금판은, 특정의 용도에서의 사용에 한정되는 것은 아니지만, 적절하게는 전자영상부품, 전자부품, 일반 가정용 전화제품 부품 등에 사용되고, 특히 이들 용도에 있어서의 방열판, 케이스체로서의 사용에 적합하다.Although the obtained aluminum alloy plate is not limited to use for a specific use, it is suitably used for electronic image parts, electronic parts, general household telephone product parts, etc., and is especially suitable for use as a heat sink and a case body in these uses. Do.

본원 발명에 있어서의 알루미늄 합금판은, 상기의 용도를 따라서 필요한 가공이 실시된다. 상기 가공으로서는 굽힘가공, 연장가공, 수축가공 등이 있고, 이들이 복합되는 경우도 있다. 본원 발명으로서는, 상기 가공 내용이 특별히 한정되는 것이 아니다. 그리고, 본원 발명에 있어서의 알루미늄 합금판은, 하기 (1)식으로 나타내는 뛰어난 굽힘 가공성을 얻을 수 있다.The aluminum alloy plate in this invention is processed according to said use. Examples of the processing include bending processing, extension processing, shrinkage processing, and the like, which may be combined. As this invention, the said process content is not specifically limited. And the aluminum alloy plate in this invention can obtain the outstanding bending workability shown by following formula (1).

y≤-0.23x3+1.0286x2-0.5786x+0.1…(1)y≤-0.23x 3 + 1.0286x 2 -0.5786x + 0.1... (One)

단, x;판두께(mm), y;한계 굽힘반경(mm)However, x; plate thickness (mm), y; limit bending radius (mm)

(실시예 1)(Example 1)

이하에, 본 발명의 실시예를 비교예와 비교하면서 설명한다.Hereinafter, the Example of this invention is described, comparing with a comparative example.

반연속 주조에 의해 표1에 나타내는 합금성분으로 두께44mm, 폭250mm, 길이400mm의 슬래브를 주조하고, 560℃×8hr의 균질처리후, 면삭편면 5mm를 행하고, 면삭후 510℃까지 가열을 행하고 열간 압연에서 두께7.0mm의 판재를 얻었다.The slab of thickness 44mm, width 250mm, and length 400mm is casted by the alloy components shown in Table 1 by semi-continuous casting. After homogeneous treatment at 560 ° C. × 8hr, 5 mm of faceted surface is cut, and the surface is heated to 510 ° C. and hot The sheet | seat of thickness 7.0mm was obtained by rolling.

이들의 판재에 냉간 압연을 행하여 소정두께로 한 후, 가열 속도5℃/min 이상에서, 530∼540℃×40초의 용체화 처리후, 5℃/sec 이상의 냉각속도로 담금질을 행하고, 다시 표2에 나타내는 최종 냉연율로 냉간 압연을 행하고, 최종적으로 두께1.0mm×폭180mm×L의 판재를 얻었다. 압연 후 머플로(muffle kiln)에 의해 온도150∼210℃×4hr의 소둔 처리를 행하고 시험재로 했다.Cold rolling is carried out to these sheets to obtain a predetermined thickness, and then quenched at a cooling rate of 5 ° C./sec or higher at a heating rate of 5 ° C./min or higher, and then solution solution for 530 to 540 ° C. × 40 sec. Cold rolling was performed at the final cold rolling ratio shown in the drawings, and finally a sheet material having a thickness of 1.0 mm × width of 180 mm × L was obtained. After rolling, annealing was performed at a temperature of 150 to 210 ° C. × 4 hr using a muffle kiln to prepare a test material.

상기에서 얻어진 시험재에 대해서 JISH 4000에 규정하는 5호 시험편을 압연 방향과 평행하게 채취하고, 인장강도, 내력, 신장율을 측정했다. 또한, 성형성에 대해서는 압연방향과 평행하게 채취한 폭 20mm의 시험편을 이용하여 내측 굽힘 반경 0.5mm, 180°굽힘을 행하고, 시험후의 굽힘 외주면의 갈라짐, 표면 거칠기의 상황을 육안 확인에 의해 이하에 나타내는 1∼5의 5단계로 평가를 행했다. 굽힘 한계는 내측 굽힘 반경을 바꾸고, 180°굽힘을 행하고, 갈라짐의 발생이 없는, 표면 거칠음이 없는(육안 확인 3이상) 최소 반경을 굽힘 한계로 했다.About the test material obtained above, No. 5 test piece prescribed | regulated to JISH 4000 was extract | collected in parallel with a rolling direction, and tensile strength, proof strength, and elongation rate were measured. In addition, about formability, the inside bending radius of 0.5 mm and 180 degree bending is carried out using the test piece of width 20mm taken in parallel with a rolling direction, and the state of the crack and the surface roughness of the bending outer peripheral surface after a test is shown by visual confirmation below. Evaluation was carried out in five steps of 1 to 5. The bending limit was changed to the inner bending radius, bent 180 degrees, and the bending radius was defined as the minimum radius without the occurrence of cracking and no surface roughness (visual confirmation 3 or more).

평가 방법, 굽힘 외주면을 육안 확인에서 1∼5 단계평가(표중의 수치는 n=2의 평균).Evaluation method and 1-5 step evaluation by visual confirmation of the outer peripheral surface of a bending (a numerical value in a table is an average of n = 2).

평가 1: 양호한 외주면.Evaluation 1: Good outer peripheral surface.

평가 2: 미약하게 외주면에 표면 거칠기를 관측.Evaluation 2: Weakly observed surface roughness on the outer circumferential surface.

평가 3: 표면 거칠기의 발생(합격).Evaluation 3: generation of surface roughness (pass).

평가 4: 미약하게 네킹의 발생.Evaluation 4: Minor occurrence of necking.

평가 5: 네킹, 갈라짐의 발생.Evaluation 5: necking, occurrence of cracks.

다음으로, 도전율은 압연 방향과 평행하게 판두께×폭 10mm×길이 550mm의 시험편을 채취하고, 더블 브리지법에 의해 비저항을 측정하고, 순동의 비저항값을 100으로서 도전율을 산출했다.Next, as for the electrical conductivity, the test piece of plate | board thickness x width 10mm x length 550mm was taken in parallel with the rolling direction, the specific resistance was measured by the double bridge method, and the electrical conductivity was computed as 100 pure copper specific resistance value.

No.No. 알루미늄 합금성분(질량%)Aluminum alloy component (mass%) SiSi MgMg FeFe TiTi MnMn CrCr CuCu 희토류Rare earths BeBe AlAl 발 명 용 합 금 Inventive Alloy AA 0.400.40 0.490.49 0.170.17 0.020.02 0.070.07 -- -- -- -- glass BB 0.410.41 0.520.52 0.170.17 0.020.02 -- 0.050.05 -- -- -- glass CC 0.450.45 0.500.50 0.170.17 0.030.03 0.070.07 0.050.05 -- -- -- glass DD 0.440.44 0.500.50 0.170.17 0.030.03 0.070.07 0.050.05 0.10.1 -- -- glass EE 0.420.42 0.510.51 0.170.17 0.020.02 0.120.12 0.110.11 -- -- -- glass FF 0.400.40 0.500.50 0.170.17 0.100.10 0.070.07 -- -- -- -- glass GG 0.450.45 0.500.50 0.170.17 0.030.03 0.070.07 -- -- 0.10.1 -- glass HH 0.450.45 0.500.50 0.170.17 0.030.03 0.070.07 -- -- 0.10.1 0.0050.005 glass 비 교 용 합 금Comparative Alloy aa 0.410.41 0.520.52 0.170.17 0.020.02 -- -- -- -- -- glass bb 0.130.13 0.490.49 0.520.52 0.040.04 0.010.01 -- 0.130.13 -- -- glass cc 0.900.90 0.510.51 0.280.28 0.010.01 0.050.05 0.210.21 0.030.03 -- -- glass dd 0.450.45 0.520.52 0.170.17 0.30.3 0.070.07 -- -- -- -- glass ee 0.430.43 0.510.51 0.170.17 0.030.03 0.20.2 -- -- -- -- glass

시험 No.Test No. 합금 No.Alloy No. 최종냉연율(%)Final cold rolling rate (%) 소둔(℃)Annealed (℃) 인장강도(MPa)Tensile Strength (MPa) 내력 (MPa)Load capacity (MPa) 신장 (%)kidney (%) 굽힘 육안 확인평가Bending visual confirmation 굽힘 한계반경(mm)Bending radius (mm) 도전율 (%IACS)Conductivity (% IACS) 본 발 명    Invention 1One AA 12.212.2 150150 246246 202202 16.816.8 22 00 50.050.0 22 AA 12.412.4 170170 264264 236236 14.014.0 22 00 51.551.5 33 AA 11.811.8 190190 237237 212212 11.311.3 33 0.30.3 53.953.9 44 AA 15.315.3 150150 261261 212212 17.017.0 22 00 50.050.0 55 AA 15.315.3 170170 266266 237237 14.214.2 22 00 51.751.7 66 AA 15.215.2 190190 240240 211211 10.910.9 33 0.30.3 54.054.0 77 BB 32.732.7 150150 269269 227227 14.314.3 22 00 53.253.2 88 BB 32.132.1 170170 274274 247247 11.411.4 33 0.30.3 54.954.9 99 BB 31.731.7 190190 239239 212212 11.011.0 33 0.30.3 57.157.1 1010 CC 38.838.8 150150 288288 250250 15.215.2 22 00 53.753.7 1111 DD 15.015.0 170170 260260 240240 15.015.0 22 00 51.951.9 1212 EE 3333 170170 272272 238238 15.815.8 22 00 54.054.0 1313 FF 3131 160160 280280 251251 12.012.0 33 0.30.3 52.052.0 1414 GG 2626 165165 275275 245245 11.711.7 33 0.30.3 51.051.0 1515 HH 1919 180180 245245 217217 14.014.0 22 00 53.053.0

시험 No.Test No. 합금 No.Alloy No. 최종냉연율(%)Final cold rolling rate (%) 소둔(℃)Annealed (℃) 인장강도(MPa)Tensile Strength (MPa) 내력 (MPa)Load capacity (MPa) 신장 (%)kidney (%) 굽힘 육안 확인평가Bending visual confirmation 굽힘 한계반경(mm)Bending radius (mm) 도전율 (%IACS)Conductivity (% IACS) 비 교 예         Comparative Example 1One aa 12.412.4 210* 210 * 216216 188188 11.711.7 33 0.00.0 55.055.0 22 aa 15.815.8 210* 210 * 213213 188188 11.611.6 33 0.00.0 54.754.7 33 aa 15.915.9 없음* None * 192192 170170 11.311.3 33 0.00.0 49.149.1 44 aa 48.8* 48.8 * 150150 288288 250250 5.25.2 33 0.00.0 53.753.7 55 aa 49.3* 49.3 * 170170 280280 259259 6.36.3 44 0.00.0 56.456.4 66 aa 48.8*48.8 * 200* 200 * 234234 211211 8.78.7 44 1.01.0 58.958.9 77 aa 48.7*48.7 * 190190 244244 222222 7.27.2 44 1.01.0 58.558.5 88 aa 49.3*49.3 * 170170 280280 259259 6.36.3 33 0.50.5 56.456.4 99 aa 12.612.6 없음* None * 183183 163163 14.514.5 33 0.50.5 49.249.2 1010 AA 12.612.6 없음* None * 183183 163163 14.514.5 22 00 49.249.2 1111 AA 12.412.4 210* 210 * 216216 188188 11.711.7 33 0.50.5 55.055.0 1212 AA 48.7*48.7 * 190190 244244 222222 7.27.2 55 >1.5> 1.5 58.558.5 1313 AA 12.612.6 없음* None * 183183 163163 14.514.5 22 00 49.249.2 1414 AA 48.8*48.8 * 200* 200 * 234234 211211 8.78.7 44 1.01.0 58.958.9 1515 BB 32.232.2 210* 210 * 217217 193193 9.19.1 44 1.01.0 57.057.0 1616 CC 48.6*48.6 * 없음* None * 222222 209209 5.85.8 44 1.01.0 52.552.5 1717 CC 57.9*57.9 * 150150 300300 261261 8.88.8 55 >1.5> 1.5 47.347.3 1818 CC 57.4*57.4 * 200* 200 * 237237 216216 7.47.4 44 1.01.0 55.455.4 1919 CC 57.4*57.4 * 190190 247247 225225 5.95.9 55 >1.5> 1.5 55.055.0 2020 CC 57.7*57.7 * 150150 300300 261261 8.88.8 55 >1.5> 1.5 47.347.3 2121 CC 57.3*57.3 * 170170 285285 261261 7.67.6 55 >1.5> 1.5 51.751.7 2222 bb 55 170170 259259 212212 10.010.0 33 1.01.0 48.048.0 2323 cc 99 170170 261261 230230 11.011.0 33 0.50.5 49.049.0 2424 dd 99 170170 253253 236236 15.015.0 33 0.50.5 49.049.0 2525 ee 1515 170170 267267 242242 13.013.0 44 0.50.5 52.652.6

* 본 발명 범위 외* Outside the scope of the present invention

표2에 나타낸 바와 같이, 본원 발명 조성의 알루미늄 합금판인 발명재는, 도전율, 열전도성, 강도, 굽힘 가공성 모두 뛰어난 특성을 갖고 있다. 특히, 발명예는 150℃ 이상의 소둔처리에서 모두 순알루미늄 합금 1100-H24에 가까운 높은 도전율과 인장시험 강도 230MPa 이상을 갖고, 굽힘 시험에 의해 높은 성형성능을 확보할 수 있는 것을 확인했다.As shown in Table 2, the invention material which is the aluminum alloy plate of this invention composition has the outstanding characteristic in all of electrical conductivity, thermal conductivity, strength, and bending workability. In particular, the invention examples confirmed that all of the annealing treatments at 150 ° C or higher had high electrical conductivity close to pure aluminum alloy 1100-H24 and tensile test strength of 230 MPa or more, and high bending performance could be secured by the bending test.

한편, 본원 발명범위를 벗어난 비교예에서는 표3에 나타낸 바와 같이 내력(200MPa 이상), 굽힘 가공성, 도전율 모두에 있어서 명백히 떨어지고, 이들 모두 뛰어난 본원 발명의 목적을 달성하는 것은 불가능했다.On the other hand, in the comparative examples outside the scope of the present invention, as shown in Table 3, the strengths (200 MPa or more), bending workability, and electrical conductivity were all inferior, and all of them were impossible to achieve the object of the present invention.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판에 의하면, 질량%로, Si:0.2∼1.5%, Mg:0.2∼1.5%, Ti:0.015초∼0.2%를 함유하고, 또한 Mn:0.02∼0.15%, Cr:0.02∼0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부(殘部)가 Al 및 불가피 불순물로 이루어지고, 또한 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상이므로, 뛰어난 도전율과 열전도성 및 높은 굽힘 성형성능이 확보되어, 플라즈마 디스플레이, 전자부품 등의 이용에 크게 공헌할 수 있다.As described above, according to the aluminum alloy plate excellent in the thermal conductivity and formability of the present invention, the content of Si is 0.2 to 1.5%, Mg: 0.2 to 1.5%, and Ti: 0.015 seconds to 0.2%. It contains 1 type or 2 types of Mn: 0.02-0.15%, Cr: 0.02-0.14%, remainder consists of Al and an unavoidable impurity, electrical conductivity is 50% IACS or more, and thermal conductivity is 200w / m * Since it is more than K, excellent electrical conductivity, thermal conductivity, and high bending molding performance are ensured, and it can greatly contribute to the use of a plasma display, an electronic component, etc.

또한, 본 발명의 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금판의 제조 방법에 의하면, 질량%로, Si:0.2∼1.5%, Mg:0.2∼1.5%, Ti:0.015초∼0.2%와, Mn:0.02∼0.15%, Cr:0.02∼0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피 불순물로 이루어진 알루미늄 합금재를 냉간 압연할 때에, 냉간 압연 도중에 500∼570℃의 용체화 처리를 행하고, 계속해서 최종 냉간 압연율 5∼40%의 냉간 압연후, 150∼190℃로 가열하는 소둔을 행하므로, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상으로, 도전성, 열전도성, 강도, 굽힘 가공성이 뛰어난 알루미늄 합금판을 얻는 것이 가능하다.Moreover, according to the manufacturing method of the aluminum alloy plate excellent in the thermal conductivity and moldability of this invention, in mass%, Si: 0.2-1.5%, Mg: 0.2-1.5%, Ti: 0.015 second-0.2%, and Mn: 0.02 When cold-rolling an aluminum alloy material composed of Al and an unavoidable impurity containing one or two of -0.15% and Cr: 0.02-0.14%, the solution solution is subjected to a solution treatment at 500-570 ° C during cold rolling. Then, after cold rolling with a final cold rolling rate of 5 to 40%, annealing is performed at 150 to 190 ° C., so that the conductivity is 50% IACS or more, the thermal conductivity is 200 w / m · K or more, and the conductivity, thermal conductivity, It is possible to obtain an aluminum alloy plate excellent in strength and bending workability.

Claims (15)

질량%로, Si:0.2∼1.5%, Mg:0.2∼1.5%, Ti:0.015초∼0.2%를 함유하고, 또한, Mn:0.02∼0.15%, Cr:0.02∼0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피불순물로 이루어지고, 또한, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상인 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.1% or 2 types of Si: 0.2-1.5%, Mg: 0.2-1.5%, Ti: 0.015 second-0.2% by mass%, Mn: 0.02-0.15%, Cr: 0.02-0.14% The aluminum alloy electrolytic plate excellent in thermal conductivity and formability, wherein the remainder is made of Al and an unavoidable impurity, and the electrical conductivity is 50% IACS or more and the thermal conductivity is 200 w / m · K or more. 제1항에 있어서, 질량%로, Cu:0.01∼1%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy whole plate excellent in thermal conductivity and formability of Claim 1 which further contains Cu: 0.01 to 1% by mass. 제1항에 있어서, 질량%로 희토류원소:0.01∼0.2%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy telescopic plate according to claim 1, which further contains a rare earth element: 0.01 to 0.2% by mass%. 제2항에 있어서, 질량%로 희토류원소:0.01∼0.2%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.3. The aluminum alloy body plate excellent in thermal conductivity and formability according to claim 2, further comprising: rare earth element: 0.01 to 0.2% by mass. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 질량%로 Be:0.0020∼0.02%를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy electrical board according to any one of claims 1 to 4, further comprising Be: 0.0020 to 0.02% by mass%. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 인장시험에 있어서의 내력이 200MPa 이상, 180°굽힘 시험에 있어서의 굽힘 한계가 하기 (1)식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The thermal conductivity and formability according to any one of claims 1 to 4, wherein the bending strength in the tensile strength test of 200 MPa or more and the 180 ° bending test satisfies the following formula (1). This outstanding aluminum alloy body plate. y≤-0.23x3+1.0286x2-0.5786x+0.1…(1)y≤-0.23x 3 + 1.0286x 2 -0.5786x + 0.1... (One) 단, x: 판두께(mm), y: 한계굽힘 반경(mm)X: sheet thickness (mm), y: limit bending radius (mm) 제5항에 있어서, 인장시험에 있어서의 내력이 200MPa 이상, 180°굽힘 시험에 있어서의 굽힘 한계가 하기 (1)식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy electroplating plate with excellent thermal conductivity and formability according to claim 5, wherein the bending strength in the tensile test of 200 MPa or more and the 180 ° bending test satisfies the following formula (1). y≤-0.23x3+1.0286x2-0.5786x+0.1…(1)y≤-0.23x 3 + 1.0286x 2 -0.5786x + 0.1... (One) 단, x: 판두께(mm), y: 한계굽힘 반경(mm)X: sheet thickness (mm), y: limit bending radius (mm) 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy teleboard according to any one of claims 1 to 4, which is used for heat dissipation plates or case bodies for electric and electronic parts. 제5항에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판.The aluminum alloy telescopic plate according to claim 5, which is used for a heat sink or a case body for electric and electronic parts. 제6항에 있어서, 전기ㆍ전자부품용의 방열판 또는 케이스체에 이용되는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판. The aluminum alloy body plate excellent in thermal conductivity and formability of Claim 6 used for the heat sink or case body for electric and electronic components. 질량%로, Si:0.2∼1.5%, Mg:0.2∼1.5%, Ti:0.015초∼0.2%와, Mn:0.02∼0.15%, Cr:0.02∼0.14%의 1종 또는 2종을 함유하고, 잔부가 Al 및 불가피 불순물로 이루어진 알루미늄 합금재를 냉간 압연할 때에, 냉간 압연 도중에 500∼570℃로 가열하는 용체화 처리를 행하고, 그 후 공냉 또는 수냉에 의해 1.0℃/sec 이상의 냉각 속도로 담금질을 행하고, 이어서 최종 냉간 압연율 5∼40%의 냉간 압연후, 배치식 소둔로 또는 연속 소둔로에 의해 150∼190℃로 가열하는 소둔을 행하고, 도전율이 50% IACS 이상, 열전도율이 200w/mㆍK 이상의 알루미늄 합금판을 얻는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판의 제조 방법.In mass%, Si: 0.2-1.5%, Mg: 0.2-1.5%, Ti: 0.015 sec.-0.2%, Mn: 0.02-0.15%, Cr: 0.02-0.14%, 1 type or 2 types are contained, When the remainder is cold rolled an aluminum alloy material composed of Al and unavoidable impurities, a solution treatment for heating to 500 to 570 ° C is performed during cold rolling, and then quenching is performed at a cooling rate of 1.0 ° C / sec or more by air cooling or water cooling. Then, after cold rolling with a final cold rolling rate of 5 to 40%, annealing heated to 150 to 190 ° C by a batch annealing furnace or continuous annealing furnace is performed, and the electrical conductivity is 50% IACS or more and the thermal conductivity is 200 w / m. A method for producing an aluminum alloy whole body plate having excellent thermal conductivity and formability, comprising obtaining an aluminum alloy plate of K or more. 제11항에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는, 또한, 질량%로, Cu:0.01∼1%를 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판의 제조 방법.12. The method for producing an aluminum alloy whole body plate with excellent thermal conductivity and formability according to claim 11, wherein the aluminum alloy material further contains Cu: 0.01 to 1% by mass. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는 또한, 질량%로 희토류 원소:0.01∼0.2%를 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판의 제조 방법.The method for producing an aluminum alloy whole body plate with excellent thermal conductivity and formability according to claim 11 or 12, wherein the aluminum alloy material further contains a rare earth element: 0.01 to 0.2% by mass%. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 알루미늄 합금재는, 또한, 질량%로 Be:0.0020∼0.02%를 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판의 제조 방법.The said aluminum alloy material contains Be: 0.0020 to 0.02% by mass%, The manufacturing method of the aluminum alloy body plate excellent in the thermal conductivity and moldability of Claim 11 or 12 characterized by the above-mentioned. 제13항에 있어서, 상기 알루미늄 합금재료는, 또한, 질량%로 Be:0.0020∼0.02%를 함유하는 것을 특징으로 하는 열전도성과 성형성이 뛰어난 알루미늄 합금전신판의 제조 방법. The method for producing an aluminum alloy whole body plate with excellent thermal conductivity and formability according to claim 13, wherein the aluminum alloy material further contains Be: 0.0020 to 0.02% by mass.
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