KR100646734B1 - 무기 레프리커의 발사체의 탄도를 보정하는 장치 - Google Patents

무기 레프리커의 발사체의 탄도를 보정하는 장치 Download PDF

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Abstract

무기 레프리커의 발사체의 탄도를 보정하는 장치를 제공한다. 본 발명의 무기 레프리커의 캐논에서 배출되는 발사체의 탄도 보정 장치는, 캐논의 발사체를 보유하는 제1 보스(6d)를 형성하는 제1 핀(3d), 캐논의 발사체를 보유하기 위한 제2 보스(6g)를 형성하는 제2 핀(3g)을 포함하고, 제1 및 제2 핀은 캐논의 중앙 C을 통과하는 수직 축 XX의 양측에 대칭으로 위치하고 있다.

Description

무기 레프리커의 발사체의 탄도를 보정하는 장치{DEVICE FOR CORRECTING THE TRAJECTORY OF PROJECTILES IN A WEAPON REPLICA}
도1은 본 발명에 따른 탄도 보정 장치의 실시예를 나타낸 단면도,
도2는 본 발명의 탄도 보정 장치의 제2 실시예를 나타낸 정면도,
도3a 및 3b는 본 발명의 장치의 다른 조정을 위해 얻어진 발사체의 충격을 나타낸 타겟의 측면도, 및
도4는 본 발명의 탄도 보정 장치의 변형예를 나타낸 단면도이다.
본 발명은 약 6밀리미터의 직경을 가진 매우 가벼운 플라스틱 볼을 발사하는, "에어 소프트 건 ®" 또는 "소프트에어 ®" 타입 무기 레프리커의 발사체의 탄도를 보정하기 위한 장치에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 무기 레프리커의 캐논에서 배출되는 플라스틱 발사체의 탄도를 보정하기 위한 장치에 관한 것이다. 발사체의 탄도 보정은 기다란 무기 레프리커나 짧은 아암 레프리커 상에서, 수직이나 수평으로 동일하게 행해질 수 있다.
본 발명은 스프링 장전식 또는 전기식의 기다란 아암, 특히 전기식 라이플 등의 기다란 아암 레프리커의 분야에 응용할 수 있다.
본 발명은, 특히 발사체가 플라스틱 재료의 볼인 무기 레프리커에 적용된다. 또한, 본 발명은 소형 아암 레프리커에도 적용될 수 있다.
무기 레프리커의 분야에서, 성인 및/또는 아동용 장난감을 제조하기 위한 목적으로 여러 가지 모델의 화기들이 복제되고 있다. 이들 무기 레프리커는 진짜 무기의 볼 또는 납 총알 대신에, 플라스틱 볼 등의 플라스틱 발사체를 발사하는 무기들이다. 이러한 경우, 무기 레프리커는 레프리커 자체의 제조에서 유래하는 결점을 가진다. 사격 시스템 또는 캐논에 위치하는 이러한 결점은 무기에서 배출되는 중에 발사체의 편향을 야기하게 된다. 예컨대, 무기에서 배출되어, 발사체는 좌측 또는 우측으로, 또는 심지어 싱향 또는 하향으로 편향될 수 있다. 실제로 이 결점은 불가피하고 단순히 제조 공차에 의한 것이다. 특히, 이러한 결점들은 사격 범위가 긴 라이플 타입의 긴 무기 레프리커에서 심각하게 된다. 실제로 일반인은 발사체가 커버하는 거리가 멀수록, 발사체 탄도의 편향이 더욱 현저한 것으로 이해하고 있다.
현재, 가장 긴 무기 레프리커에서, 발사체의 탄도에 보정이 이루어지고 있지 않다.
그러나, 무기 레프리커의 캐논에서 배출되는 발사체의 탄도를 수직으로 보정하기 위한 시스템은 존재하고 있다. HOP UP ®시스템이라 하는 이 시스템은 캐논 중앙의 수직의 입구에서, 무기 레프리커의 내측에 배치된 고무 핀으로 구성된다. 더 구체적으로, 고무 핀은 캐논의 상부에서, 무기 캐논의 중앙부와 교차하는 수직축 상에 위치한다. 이 고무 핀은 발사체를 보유하여 배향시키는 기능을 가진다. 실제로, 이 고무 핀은, 무기 캐논에서 배출되기 전에, 사격 시스템에 의해 돌출되는 발사체를 얼마간 보유한다. 캐논에서 배출되는 중에 발사체를 보유하는 작용은 발사체의 배출 탄도에 회전 효과를 제공한다. 이 회전 효과는 결과적으로 발사체를 상승시키는, 즉 발사체 탄도를 상향으로 변화시키게 된다. 그러나, 발사체의 중량 자체는, 캐논에서 배출된 후의 짧은 시간에, 발사체의 수평 탄도를 생성하는, 발사체 탄도의 계획적인 상승을 상쇄하여 버린다.
상기한 설명으로부터 알 수 있는 바와 같이, HOP UP 시스템은 발사체 탄도의 수직 보정 만을 허용한다. 이러한 경우, 상기한 바와 같이, 무기 레프리커의 제조상의 결점은 수직 및 수평 양쪽의 탄도 결함을 야기할 수 있다.
본 발명의 목적은 상기한 시스템의 단점을 해결하는 것이다. 이 목적을 위해, 본 발명은 전기식의 기다란 아암의 캐논에서 배출되는 발사체의 탄도를 보정하기 위한 장치를 제안하며, 이 보정은 수직 또는 수직 및 수평 양쪽으로 될 수 있다. 이를 위해, 본 발명의 장치는 캐논 중앙을 통과하는 수직축의 양측에 대칭으로 위치한 2개의 고무 핀을 배치하고 있다.
더 구체적으로, 본 발명은 캐논에서 발사체를 보유하는 제1 보스를 형성하는 제1 핀을 포함하는, 레프리커의 캐논에서 배출되는 발사체의 탄도를 보정하는 장치에 관한 것이다.
캐논에서 발사체를 보유하는 제2 보스를 형성하는 제2 핀을 포함하며, 제1 및 제2 핀이 캐논의 중앙을 통과하는 수직축의 양측에 대칭으로 위치하는 것을 특 징으로 한다.
바람직하게도, 캐논의 제1 및 제2 보스의 높이는 조정 가능하며, 따라서 사격 정확도를 최적화하도록 볼에 주어지는 효과에 대한 모든 조정을 행할 수 있게 된다.
도1은 전기식의 긴 아암의 레프리커, 예컨대 라이플의 레프리커의 캐논의 단면을 나타낸 정면도이다. 이러한 전기식의 긴 아암의 레프리커는, 더 간단하게 아암 또는 아암 레프리커라 하며, 본 발명의 탄도 보정 장치가 장착된다. 도1에서, 참조 부호 1은 아암 캐논이다. 캐논은 내측면(1i) 및 외측면(1e)을 포함한다. 이 캐논에는, 그의 내측면(1i)을 따라, 캐논 조인트(2)가 장착된다. 캐논 조인트(2)는 통상 고무 등의 탄성 재료로 구성된다.
캐논의 중앙에 나타낸 지점 C는, 수직 축선 XX, 및 수평 축선 HH가 통과하는 캐논의 기하학적 중심을 나타내고 있다.
본 발명에 따르면, 캐논(1)에는 발사체 탄도 보정 장치가 장착된다. 이 장치는 각각 캐논(1) 내측에서 제1 보스(6d) 및 제2 보스(6g)를 형성하는, 제1 핀(3d)(우측 핀) 및 제2 핀(3g)(좌측 핀)을 포함한다. 이 핀들(3d,3g)은 수평 축 HH 위에서, 수직 축 XX의 양 측면에 대칭으로 배치된다. 도1의 실시예에서, 핀들(3d,3g)은 수직 축 XX에 대해 약 40°의 각도로 배치된다.
핀들(3d,3g)의 나사들은 캐논(1)을 교차하여 캐논 내측으로 도입된다. 또한, 그 나사는 캐논의 지지부 및 캐논 자체를 교차하여 도입될 수 있다. 후자의 경우, 무기 레프리커의 과녁 근처에 조정 놉이 배치되도록 할 수 있다. 이로써, 발사자는 계속적으로 타겟에 겨냥하는 중에 보스들의 높이를 용이하게 조정할 수 있게 된다.
도1의 실시예에서, 각 핀(3d,3g)은 캐논의 조인트(2)로 들어가서 조인트상으로의 압력에 의해 보스(6d,6g)를 형성하는 나사(4d,4g)를 포함한다. 이 실시예에서, 나사(4d,4g) 각각의 상부에는 조인트(2)로 들어가는 나사의 높이를 조정할 수 있도록 하는 놉(5d,5g)이 형성되어 있다. 따라서, 각 나사가 캐논(1)으로 얼마간 조여질 때, 조인트(2)로 얼마간 들어가게 되어 얼마간의 크기로 될 수 있는 보스를 형성한다.
따라서, 보스의 높이 조정 시스템은 회전식이다.
또한, 각 나사의 조인트(2)로의 높이 조정에 의해 각 보스의 높이를 조절하게 된다. 따라서, 보스(6d,6g)는 동일한 높이, 또는 반대로 다른 높이를 가질 수 있다.
각 보스의 기능은 발사체가 캐논 밖으로 배출될 때 어느 정도 발사체를 보유하는 것이다. 이와 같이 보유함에 의해 캐논에서 빠져나가는 발사체의 탄도가 변화될 수 있게 한다. 보스의 높이들이 다르게 되면 탄도를 수평으로 변화시킬 수 있게 된다. 또한, 보스에 의해 발사체를 수직으로 변화시킬 수 있게 된다. 보스의 높이들을 다르게 함으로써 발사체의 탄도를 수평으로, 즉 우측 또는 좌측으로 변화시킬 수 있다. 실제로, 보스가 낮은 높이를 가질 때 발사체의 통과 중에 발사체 상에서의 효과를 감소시키며, 반대로, 보스의 높이가 높을 때, 그의 통과 중의 발사체 상에서의 효과를 증대시킨다.
보스(6d,6g)가 동일한 높이를 가지면, 즉 핀(3d)의 놉과 핀(3g)의 놉이 동일하게 조정되면, 발사체의 탄도는 수평으로 변화되지 않고; 수직 평면에서만 보정된다. 한편, 보스(6d,6g)가 다른 높이를 가지면, 이는 수평 및 수직 평면에서 발사체의 탄도에 영향을 미치게 된다.
특히, 좌측 보스(6g)가 우측 보스(6d)보다 높으면, 사격은 좌측으로 배향된다. 반대로, 우측 보스(6d)가 좌측 보스(6g)보다 높으면, 사격은 우측으로 배향된다.
사격 배향의 예를 도2에 나타낸다. 더 구체적으로, 도2는 3발의 발사체 사격이 실행된 타겟을 나타내고 있다.
제1 사격 T1의 결과는 발사체가 수직으로만 보정되었음을 나타낸다. 따라서, 우측 보스(6d) 및 좌측 보스(6g)는 동일한 경우이다.
제2 사격 T2의 결과는 수직축 XX의 우측으로 배향되어 있다. 이는 우측 보스(6d)의 높이가 좌측 보스(6g)보다 높았던 것을 나타낸다.
반대로, 제3 사격 T3의 결과는 수직축 XX의 좌측으로 위치되어 있다. 이는 좌측 보스(6g)의 높이가 우측 보스(6d)보다 높았던 것을 나타낸다.
따라서, 도2는 보스(6d,6g)의 높이를 변화시킴에 의해 수평 및 수직 평면에서 발사체의 탄도를 변화시킬 수 있음을 나타내고 있다. 전체 공간에서의 발사체 탄도의 보정에 의해 무기 레프리커의 탄도의 결함을 실제로 모두 보정할 수 있음을 알 수 있다.
도3a는 본 발명의 장치의 제2 실시예를 나타내는 측면도이다. 이 실시예에 서, 참조 부호 8은 조정 핀이다. 조정 핀(8)은 고무 등의 플라스틱 재료로 되며 예컨대 금속의 탄성 스트립(10)상에 장착된 러그(9)를 포함한다. 러그(9)는 임의의 고정 수단, 예컨대 점착 또는 드릴링에 의해 탄성 스트립(10)의 극단들 중 하나에 고정된다. 탄성 스트립(10)은 일정 길이, 예컨대 길이의 절반이 금속 등으로 된 제어 로드(11)에 고정되어 있다.
러그(9)의 통과를 허용하도록 캐논(1)에 오리피스(13)가 형성된다. 러그(9)는 발사자에 의해 선택된, 오리피스(13)의 위치에 보유된다. 따라서, 러그(9)는 무기의 캐논 내측에 보스를 형성한다. 이 보스의 높이는 탄성 스트립(10)과 연관된 제어 로드(11)에 의해 제어된다. 더 구체적으로, 탄성 스트립(10)은 러그(9)를 오리피스(13)내에 얼마간 완전하게 보유한다. 이를 위해, 탄성 스트립(10)은 그 스트립이 고정되어 있는 제어 로드(11)에서 연장된다. 따라서, 제어 로드가 발사자를 향해 더 당겨지면, 탄성 스트립(10)이 더 연장되고 러그(9)가 오리피스(13)내에 덜 완전하게 도입됨으로써, 보스를 짧아지게 한다. 반대로, 제어 로드가 캐논 지지부(7)를 향해 더 밀려지면, 탄성 스트립(10)이 더 느슨해지고 러그(9)가 더 완전하게 오리피스(13)내로 진입하여 보스를 커지게 한다. 따라서, 제어 로드(11)가 캐논(1)을 향해 최대로 밀려질 때, 탄성 스트립(10)은 캐논(1)의 외측면에 위치하며, 결과적으로 러그(9)를 캐논(1) 내측으로 돌출시켜 진입시키게 되며, 탄성 스트립의 가요성에 의해 발사될 수 있는 상태에서, 약간 큰 볼을 저지시킬 어떠한 위험이 없는 상태로 보스가 최대 높이를 가지도록 한다. 한편, 제어 로드(11)가 발사자를 향해 최대로 당겨질 때, 탄성 스트립(10)은 최대로 신장(도3a에 도시된 바와 같이)되며, 이로써 러그가 오리피스(13)에서 최대로 상승되게 되며, 보스가 형성되지 않는다.
제어 로드(11)의 이러한 밀어냄 또는 당김 조작을 용이하게 하도록, 제어 로드는 예컨대 수평축 HH에 대해 90°각도를 따라 접혀지는 제어 로드의 연장부로 될 수 있는 레버(12)를 포함할 수 있다. 이 경우, 도3b에 도시된 바와 같이, 레버(12)는 무기의 프레임(14)에 형성된 타원형 오리피스(15)를 교차하게 된다.
레버(12)를 얼마간 밀거나 또는 당기는 것에 의해, 발사자는 러그(9)에 의해 형성된 보스의 높이에서 직접 작용하게 된다. 이 실시예에서는 보스의 선형적 높이 조정 시스템이 얻어진다. 이러한 선형적 조정은 발사자에 의한 측정을 더 용이하게 하는 장점을 가진다. 실제로, 타원형 오리피스(15)에서 레버(12)를 볼 수 있게 되므로 발사자는 보스의 레벨을 시각적으로 알 수 있고, 즉 보스가 영, 낮음, 평균, 높음, 최대 및 보스 중간의 모든 레벨을 인지할 수 있다.
도3a 및 3b는 싱글 보스 및 그 보스의 싱글 높이 조정 시스템을 나타낸다. 물론, 제1 실시예(도2에 도시됨)와 같이, 제2 실시예에 따른 탄도 보정 장치도 2개의 대칭의 보스를 포함하며, 각 보스의 높이는 개별적인 제어 시스템(제어 로드, 탄성 스트립 등)에 의해 조정된다.
어떤 실시예가 선택되더라도, 탄도 보정 장치는 발사체가 캐논의 입구에서, 외측을 향해 돌출되는 위치 직후에 배치된다. 제1 실시예에서, 보스 조정 시스템은, 발사체가 돌출되는 위치에서 실제로, 무기의 외측에 위치한다. 제2 실시예에서, 보스 조정 시스템은 이송될 수 있는 장점, 즉 예컨대 발사자에 근접하게, 무기의 선택된 위치에 배치될 수 있다.
본 발명의 변형에서, 탄도 보정 장치는 조정 불가능하게 될 수 있다. 이로써 경제적으로 무기 레프리커를 장비할 수 있다. 이 경우, 보정 장치는 축 XX의 양측상의, 캐논의 상부에 2개의 보스가 위치한다. 그 2개의 보스(6d,6g)는 그들의 높이가 조정 불가능하다는 점을 제외하면 도1에 나타낸 것들과 동일하다. 그 보스는 캐논(1)의 내측면에 형성된 고무 재료의 반구형으로 제조된다. 이 변형예에서, 효율적인 회전 중에, 싱글 보스가 볼을 보유하고, 사격축의 좌측 또는 우측으로 약간 이동시킬 수 있는 공지된 것 보다 양호하게 볼을 보유하게 된다. 따라서, 이 장치는 사격의 산란을 감소시키게 되어, 일련의 사격 중에 더 양호한 사격 그룹을 제공한다.
다른 변형예에서, 캐논(1)의 내측면의 보스(6d,6g)의 위치는 조정 가능하다. 이 변형은 도4에 나타내진다. 이 변형예에서, 보스들은 전의 변형예의 것들과 동일하고, 보정 장치는 2개의 보스(6d,6g)로부터 동일한 거리에, 캐논(1)에 고정된 놉(16)을 포함한다. 캐논(또는 2개의 보스를 포함하는 캐논의 부분)은 회전이 자유롭고, 놉(16)은 캐논(1)을 캐논 지지부(7)에서 선회시킬 수 있으며, 결과적으로 보스(6d,6g)를 축 XX에 대해 이동시킬 수 있게 된다.
이러한 축 XX의 좌측 또는 우측으로의 전체 또는 부분적인 캐논의 회전에 의해 보정될 축 XX의 좌측 또는 우측으로 사격을 행할 수 있게 된다. 즉, 이러한 캐논의 회전에 의해 볼의 탄도를 수평으로 보정되도록 할 수 있다.

Claims (11)

  1. 캐논의 발사체를 보유하도록 제1 보스(6d)를 형성하는 제1 핀(3d)을 포함하는, 무기 레프리커의 캐논에서 배출되는 발사체용 탄도 보정 장치에 있어서,
    캐논의 발사체를 보유하도록 제2 보스(6g)를 형성하는 제2 핀(3g)을 포함하며, 제1 및 제2 핀은 캐논의 중앙을 통과하는 수평축 HH 위에서, 캐논의 중앙 C을 통과하는 수직 축 XX의 양측에 대칭으로 위치하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 캐논의 제1 및 제2 보스의 높이는 조정 가능한 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  3. 제1항 또는 2항에 있어서, 제1 및 제2 핀은 각각 조정 놉(5d,5g)과 함께 나사(4d,4g)를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  4. 제3항에 있어서, 핀의 각 나사는 캐논의 탄성 재료로 된 조인트상으로 밀려지며, 보스를 형성하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  5. 제1항 또는 2항에 있어서, 제1 및 제2 핀은 각각 탄성 스트립(10)상에 고정된 러그(9)를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  6. 제5항에 있어서, 캐논은 각 러그에 대해, 러그의 통로를 형성하는 오리피스(13)를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  7. 제5항에 있어서, 탄성 스트립(10)은 제어 로드(11)에 의해 변형되는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  8. 제5항에 있어서, 러그는 탄성 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  9. 제5항에 있어서, 탄성 스트립은 금속인 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  10. 제1항에 있어서, 캐논 내의 보스의 위치는 조정 가능한 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
  11. 제10항에 있어서, 2개의 보스로부터 동일한 거리에, 캐논 상에 고정된 조정 놉을 포함하는 것을 특징으로 하는 탄도 보정 장치.
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