KR100644749B1 - Copper clad laminate and multi layer board - Google Patents

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노부유끼 이케구찌
오창건
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Abstract

A copper clad laminate used in a thin film type of printed circuit board is provided to have less bending or distortion of the laminate during reflow treatment and to be employed in fabricating microfine wiring by fabricating outermost insulation layer and internal insulation layer both of which comprise thermosetting resin compositions with different glass transition temperatures. The copper clad laminate comprises: an outermost insulation layer which includes thermosetting resin composition having glass transition temperature higher than upper most temperature at reflow treatment; and an internal insulation layer which includes alternative thermosetting resin composition having glass transition temperature lower than the upper most temperature at reflow treatment. The reflow treatment has elasticity higher than 2000 kgf/mm^2. The outermost insulation layer has the glass transition temperature 10deg.C higher than the upper most temperature of the reflow treatment. The internal insulation layer contains polyamide fibrous woven cloth as a reinforcing base.

Description

동박적층판 및 다층 인쇄회로 기판{COPPER CLAD LAMINATE AND MULTI LAYER BOARD}Copper Clad Laminates and Multilayer Printed Circuit Boards {COPPER CLAD LAMINATE AND MULTI LAYER BOARD}

본 발명은 동박적층판 및 다층 인쇄회로 기판에 관한 것이다. 특히 박형 인쇄회로기판에 이용할 수 있는 동박적층판과 박형 인쇄회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a copper clad laminate and a multilayer printed circuit board. In particular, it relates to a copper foil laminated board and a thin printed circuit board that can be used in a thin printed circuit board.

최근에 전자기기가 더욱더 소형화, 박형화, 경량화되고 있어, 이에 사용되는 인쇄회로기판도 더 얇은 두께의 것이 요구되고 있다. 또 이 인쇄회로기판의 가공 중에 취급이나 가공 공정에서의 장치상의 문제에 의하여 기판이 비틀어지거나 휘어지는 등의 불량이 많아 제품수율이 좋지 못했다. 더욱이 환경적인 측면에서 무할로겐화, 무연 솔더를 이용한 인쇄회로기판이 요구되고 있는데, 이 무연솔더를 이용하는 경우 리플로우 시 온도가 기존보다 높아 반도체 칩, 특히 플립 칩의 탑재 등의 접속공정에 있어 기판이 휘어지거나 비틀어지는 문제가 자주 발생하는 단점이 있었다. 이러한 문제점을 개선하기 위한 방법으로, 일본 특개평 제08-125310호 또는 일본 특개평 제08-102580호에 반도체 칩의 열팽창율(2.5ppm/℃)에 가깝고 탄성율이 높은 세라믹 기판을 이용하는 방법이 개시되어 있다. 그러나 이 방법에 의하 면 제조비용이 상승하고, 기판의 무게가 무거우며, 더욱이 고밀도 배선을 형성하기 곤란한 점이 있어 미세 인쇄회로기판에는 거의 사용되고 있지 않다. 또 다른 개선 방안으로 일본 특개 제2002-249606호에 유기기판으로 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 사용한 다층 인쇄회로 기판이 개시되어 있다. 그러나 이 방법도 리플로우 처리 시 수지의 사용방법에 대한 고안이 없어, 기판의 휘어짐, 비틀어짐에 대한 문제는 여전히 남아 있다. 또한 인쇄회로기판에 미세배선을 형성하기 위해서는 종래의 서브트랙티브(subtractive) 공정으로는 한계가 있다. In recent years, electronic devices have become smaller, thinner, and lighter, and printed circuit boards used for them are also required to have a thinner thickness. In addition, the yield of the product was not good due to a large number of defects such as twisting and bending of the substrate due to problems in handling or processing during processing of the printed circuit board. In addition, environmentally demanding printed circuit boards using halogen-free and lead-free solders are required. In the case of using lead-free solders, the reflow temperature is higher than that of the conventional semiconductor chip, especially in the process of mounting semiconductor chips, especially flip chips. There was a drawback that the problem of bending or twisting frequently occurs. As a method for improving this problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-125310 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-102580 discloses a method of using a ceramic substrate having a high elastic modulus close to the thermal expansion rate (2.5 ppm / ° C) of a semiconductor chip. It is. However, this method increases the manufacturing cost, increases the weight of the substrate, and makes it difficult to form high-density wiring, which is rarely used in fine printed circuit boards. As a further improvement, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-249606 discloses a multilayer printed circuit board using a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric as an organic substrate. However, this method also does not devise a method of using the resin in the reflow treatment, the problem of bending and twisting the substrate still remains. In addition, there is a limit to the conventional subtractive (subtractive) process to form a fine wiring on the printed circuit board.

본 발명은 상술한 문제점을 개선하여 리플로우 처리 시 휘어짐, 비틀림이 작은 동박적층판과 인쇄회로기판을 제공한다. 또한 미세배선을 형성할 수 있는 인쇄회로기판을 제공한다.The present invention improves the above-described problems and provides a copper clad laminate and a printed circuit board having small warpage and torsion during reflow processing. It also provides a printed circuit board that can form a fine wiring.

본 발명의 일 측면에 따르면, 리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 리플로우 처리시의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 내측 절연층을 포함하는 동박적층판을 제시할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the outermost insulating layer comprising a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of at least the highest temperature at the time of the reflow treatment, and located inside the outermost insulating layer or less than the maximum temperature at the time of the reflow treatment The copper clad laminated board containing the inner insulation layer containing the thermosetting resin composition which has a glass transition temperature of can be proposed.

여기서 상기 최외측 절연층과 상기 내측 절연층의 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 것이 바람직하고, 상기 최외측 절연층은 상기 리플로우 처리 시의 최고온도보다 10℃이상 높은 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하다. 또 여기서 상기 내측 절연층은 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 보강 기재로 포함하는 것이 바람직하다.Herein, the elastic modulus of the outermost insulating layer and the inner insulating layer during reflow treatment is preferably 2000 kgf / mm 2 or more, and the outermost insulating layer has a glass transition temperature of 10 ° C. or more higher than the maximum temperature during the reflow treatment. It is preferable. In addition, it is preferable that the said inner insulation layer contains a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric as a reinforcement base material.

또 여기서 상기 최외측 절연층과 상기 내측 절연층의 포함하는 총 절연층의 두께가 0.05 내지 0.5mm인 것이 바람직하다. 바람직한 실시예에 따르면, 상기 열경화성 수지 조성물은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스 말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 함유 폴리페닐렌 에테르 수지 및 이들의 난연화된 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 수지를 포함할 수 있다.In addition, the thickness of the total insulating layer including the outermost insulating layer and the inner insulating layer is preferably 0.05 to 0.5 mm. According to a preferred embodiment, the thermosetting resin composition is at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, cyanic acid ester resins, bis maleimide resins, polyimide resins, functional group-containing polyphenylene ether resins and flame retardant resins thereof It may include.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 동박적층판을 이용한 플립 칩 탑재용 인쇄회로 기판을 제시할 수 있다.According to another aspect of the present invention, it is possible to provide a flip chip mounting printed circuit board using the copper-clad laminate.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 상기 리플로우 처리시의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 내측 절연층은 포함하는 인쇄회로기판을 제시할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the outermost insulating layer comprising a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of at least the highest temperature at the time of reflow treatment, and is located inside the outermost insulating layer, the highest at the time of reflow treatment A printed circuit board may include an inner insulation layer including a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of less than or equal to a temperature.

여기서 상기 최외측 절연층과 상기 내층 절연층의 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 것이 바람직하고, 상기 최외측 절연층은 상기 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃이상 높은 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하다. 또 여기서 상기 내측 절연층은 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 보강 기재로 포함하는 것이 바람직하다.Herein, the elasticity modulus of the outermost insulating layer and the inner layer insulating layer during reflow treatment is preferably 2000 kgf / mm 2 or more, and the outermost insulating layer has a glass transition temperature of 10 ° C. or more higher than the maximum temperature during the reflow treatment. It is preferable. In addition, it is preferable that the said inner insulation layer contains a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric as a reinforcement base material.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 열경화성 수지 조성물로 에디티브 방식으로 회로를 형성할 수 있는 수지를 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 제1 내부 절연층을 포함하는 인쇄회로 기판을 제시할 수 있다.According to another aspect of the invention, the outermost insulating layer comprising a resin capable of forming a circuit in an additive manner with a thermosetting resin composition, and located inside the outermost insulating layer or more than the maximum temperature at the time of reflow treatment A printed circuit board may include a first internal insulating layer including a thermosetting resin composition having a glass transition temperature.

여기서 상기 최외측 절연층과 상기 제1 내부 절연층은 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 것이 바람직하다.Herein, the outermost insulating layer and the first inner insulating layer preferably have elastic modulus of 2000 kgf / mm 2 or more during reflow treatment.

또 바람직한 실시예에 따르면 상기 제1 내부 절연층의 내측에 형성되고, 상기 리플로우 처리의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 제2 내부 절연층을 더 포함할 수 있다. 여기서 상기 제2 내부 절연층은 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 것이 바람직하다.According to a preferred embodiment may further include a second inner insulating layer formed on the inside of the first inner insulating layer, and comprising a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of less than the maximum temperature of the reflow treatment. Herein, the second internal insulating layer preferably has a modulus of elasticity of 2000 kgf / mm 2 or more during reflow treatment.

여기서 상기 제1 내부 절연층은 상기 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃ 이상의 높은 유리전이온도를 가지는 것이 바람직하고, 상기 최외측 절연층은 기재에 의해 보강되어 있는 것이 바람직하며, 바람직한 실시예에 따르면 상기 기재 보강된 절연층을 솔더 레지스트로 이용할 수 있다.Here, the first inner insulating layer preferably has a glass transition temperature of 10 ° C. or higher than the highest temperature at the time of the reflow treatment, and the outermost insulating layer is preferably reinforced by a base material. According to this, the substrate-reinforced insulating layer may be used as a solder resist.

또 여기서 상기 최외측 절연층과 상기 제1 내측 절연층을 포함하는 총 절연층의 두께가 0.05 내지 0.5mm인 것이 바람직하다. 바람직한 실시예에 따르면, 상기 열경화성 수지 조성물은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스 말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 함유 폴리페닐렌 에테르 수지 및 이들의 난연화된 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 수지를 포함할 수 있다.In addition, the thickness of the total insulating layer including the outermost insulating layer and the first inner insulating layer is preferably 0.05 to 0.5mm. According to a preferred embodiment, the thermosetting resin composition is at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, cyanic acid ester resins, bis maleimide resins, polyimide resins, functional group-containing polyphenylene ether resins and flame retardant resins thereof It may include.

이하, 본 발명에 따른 동박적층판에 관하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, a copper foil laminate according to the present invention will be described in detail.

본 발명의 동박적층판을 구성하는 열경화성 수지 조성물로는 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 함유 폴리페닐렌 에테르 수지 등을 들 수 있으며, 이들 공지의 수지를 단독 또는 2종류이상 배합하여 사용할 수 있다. 도체 회로간의 이동을 방지하기 위하여 시안산 에스테르 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한 상술한 수지들에 브롬이 부가되어 난연화된 수지도 사용할 수 있다. 무용제로 사용하는 경우에는 공지의 실온에서 액상인 수지를 첨가하여 사용하는 것이 바람직하다. As a thermosetting resin composition which comprises the copper clad laminated board of this invention, a well-known thing can be used generally. For example, an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a bismaleimide resin, a polyimide resin, a functional group containing polyphenylene ether resin, etc. are mentioned, These well-known resin can be used individually or in mixture of 2 or more types. In order to prevent the movement between conductor circuits, it is preferable to use a cyanate ester resin composition. In addition, bromine is added to the above-mentioned resins, and flame retardant resins can also be used. When using with no solvent, it is preferable to add and use a liquid resin at well-known room temperature.

리플로우 처리시 최고온도는 240 내지 280℃로 대략 260℃ 전후이나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 이는 구체적인 공정의 조건에 따라 결정된다. 따라서 이러한 열경화성 수지 조성물 중 유리전이온도가 리플로우 처리 시 최고온도 이상인 수지도 구체적인 공정의 조건에 맞추어 적합한 수지를 선택할 수 있다. 이러한 수지의 예로, 반드시 이에 한정되는 것은 아니나, 비스말레이드 트리아진 수지나 이와 다른 수지와의 혼합수지를 들 수 있다. The maximum temperature during the reflow treatment is about 240 to 280 ° C., about 260 ° C., but is not limited thereto, and this is determined according to specific process conditions. Therefore, a resin having a glass transition temperature of at least the highest temperature at the time of reflow treatment among these thermosetting resin compositions may be selected according to the specific process conditions. Examples of such resins include, but are not necessarily limited to, bismalade triazine resins and mixed resins with other resins.

또 유리전이온도가 리플로우 처리 시 최고온도 이하인 수지도 구체적인 공정에 잇어서 리플로우 처리 시 최고온도에 따라 선택할 수 있다. 이러한 수지의 예로, 반드시 이에 한정되는 것은 아니나, 대부분의 에폭시 수지가 이에 해당한다.In addition, the resin whose glass transition temperature is below the maximum temperature in the reflow process is also in the specific process, so it can be selected according to the maximum temperature in the reflow process. Examples of such resins include, but are not necessarily limited to, most epoxy resins.

일반적으로 동박적층판이나 인쇄회로기판의 절연층을 구성하는 수지는 단일 물질로 사용되는 경우는 드물고, 소망하는 물성과 가격을 고려하여 적절히 배합하여 사용하고 있으므로 유리전이온도의 조건을 만족하는 수지이면 제한없이 사용할 수 있다.이들 열경화성 수지 조성물의 특성에 크게 영향을 미치지 않는 범위에서 공지의 다양한 첨가물을 혼합할 수 있다. 예를 들면 상술한 열경화성 수지 조성물 이외의 열경화성 수지, 열가소성 수지, 공지의 무기, 유기 충전제, 염료, 증점제, 윤활제, 소포제, 분산제, 레벨링제, 광택제, 중합 개시제 등의 각종 첨가제가 소망하는 목적이나 용도에 따라 첨가될 수 있다. 또한 난연제로도 예를 들면 인, 브롬으로 난연화된 화합물, 무할로겐 타입, 난연화되지 않은 것 등이 사용 가능하다. 또 이 난연제는 분자 내에 관능기가 존재하거나 존재하지 않는 것 모두 사용 가능하다. In general, the resin constituting the insulating layer of a copper clad laminate or a printed circuit board is rarely used as a single material, and is suitably used in consideration of desired physical properties and price, so it is limited if the resin satisfies the conditions of glass transition temperature. Various known additives can be mixed in a range that does not significantly affect the properties of these thermosetting resin compositions. For example, for the purpose or use of various additives such as thermosetting resins, thermoplastic resins, known inorganic, organic fillers, dyes, thickeners, lubricants, antifoaming agents, dispersing agents, leveling agents, brightening agents, and polymerization initiators other than the above-mentioned thermosetting resin compositions. Can be added accordingly. In addition, as the flame retardant, for example, a compound flame retarded with phosphorus, bromine, a halogen-free type, a non-flame retardant, and the like can be used. Moreover, this flame retardant can use all the functional groups which exist or do not exist in a molecule | numerator.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 수지 그 자체를 가열하여 경화할 수 있지만, 경화속도가 늦고 생산성이 떨어지기 때문에 공지의 경화제, 열경화성 촉매를 적정량 더 포함할 수 있다.The thermosetting resin composition of the present invention may be cured by heating the resin itself, but may further include a suitable amount of a known curing agent and a thermosetting catalyst because the curing rate is slow and productivity is poor.

또 이 열경화성 수지 조성물에 보강 기재를 사용할 수 있다. 이 보강 기재로는 공지의 유기, 무기의 기재를 들 수 있다. 상기 기재는 특별히 한정되는 것을 아니나 예를 들면, 유기기재로 폴리옥사졸(polyoxazole) 섬유, 전방향족 폴리아미드 섬유, 액정 폴리에스테르 섬유 등을 사용하여 제직된 직포, 부직포 등이 있다. 또 무기 기재의 예로, E, S, T, NE, D 유리 등의 공지의 유리섬유 직포, 부직포와 이들의 혼방포를 들 수 있다. 이 중 직포가 바람직하다. 이러한 섬유들의 직포로 개방되어 섬유의 분포가 균일하게 된 타입 또는 무연사를 이용하여 휘어짐에 대응 하도록 한 것(일본 아사히 슈에벨<주> 제작) 등이 바람직하게 사용될 수 있다. Moreover, a reinforcing base material can be used for this thermosetting resin composition. As this reinforcing base material, well-known organic and inorganic base materials are mentioned. The substrate is not particularly limited, but examples thereof include a woven fabric and a nonwoven fabric which are woven using polyoxazole fibers, wholly aromatic polyamide fibers, liquid crystal polyester fibers, and the like as organic substrates. Moreover, as an example of an inorganic base material, well-known glass fiber woven fabrics, nonwoven fabrics, such as E, S, T, NE, and D glass, and these mixed fabrics are mentioned. Of these, woven fabrics are preferred. It is preferable to use a type such that the fibers are opened to a woven fabric so that the distribution of the fibers is uniform, or to bend using a non-twisted yarn (manufactured by Asahi Shuebel Co., Ltd., Japan).

또 내부에 형성되는 절연층의 보강 기재로 전방향족 폴리아미드 섬유를 이용한 직포를 사용하는 것이 바람직하다. 이를 사용하면 기판 전체의 열팽창을 억제할 수 있기 때문이다. 또 이 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 사용하는 경우 후 단계에서 구멍내기 가공, 절단 등은 레이저를 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to use the woven fabric which used wholly aromatic polyamide fiber as a reinforcement base material of the insulating layer formed inside. This is because the thermal expansion of the entire substrate can be suppressed by using this. Moreover, when using this wholly aromatic polyamide fiber woven fabric, it is preferable to use a laser for punching processing, cutting | disconnection, etc. in a later step.

또한 필름 형상의 기재로 공지의 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면 폴리이미드 필름, 폴리옥사졸 필름, 전방향족 폴리 아미드 필름, 액정 폴리에스테르 필름 등의 내열 필름이 사용될 수 있다. 다만 PET 필름과 같은 이형 필름을 사용되기 부적합하다. 이들 기재는 수지와의 밀착성을 향상시키기 위하여 가재의 표면에 공지된 처리를 가할 수 있다.Moreover, a well-known thing can be used as a film-shaped base material, For example, heat resistant films, such as a polyimide film, a polyoxazole film, a wholly aromatic polyamide film, and a liquid crystalline polyester film, can be used. However, it is not suitable to use a release film such as PET film. These base materials can apply a well-known process to the surface of a crawfish, in order to improve adhesiveness with resin.

이러한 기재로 보강된 프리플레그(prepreg)를 사용하여, 이들을 적층하여 동박적층판을 형성한다. 적층의 조건은 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로 온도 100 내지 300℃, 압력 5 내지 50 ㎏f/㎠에서, 바람직하게는 진공 하에서 30분 내지 3시간 적층한다. 적층의 구성은 특별히 한정되지 않으나, 적어도 최외측 절연층은 경화 시 동적 기계특성 측정(Dynamic Mechanical Analyzing, DMA)에 의한 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도 이상인 열경화성 수지 조성물을 포함하는 것이 바람직하다. 이때 이 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃이상 높은 것이 바람직하고, 이 온도차가 클수록 바람직하다. 다만 경제적인 측면에서 제조원가가 상승하기 때문에 열경화성 수지 조성물의 선정시 이를 고려하게 된다. 유리전이온도 전후에서 수지 조성물의 상태가 유리 상태에서 고무 상태로 변화하게 되는데, 리플로우 처리 온도인 260℃보다 높은 유리전이온도를 가지는 수지를 사용하면 칩 실장시에도 유리 상태를 유지하므로 기판의 휨이나 변형이 줄어들게 됩니다. 따라서 이러한 소망하는 효과를 얻기 위해서는 이 온도차이인 10℃ 이상의 차이가 나는 것이 바람직하다. Using a prepreg reinforced with such a substrate, these are laminated to form a copper clad laminate. Although the conditions of lamination are not specifically limited, Generally lamination | stacking is carried out at the temperature of 100-300 degreeC and the pressure of 5-50 kgf / cm <2>, Preferably it is 30 minutes-3 hours under vacuum. Although the structure of lamination is not specifically limited, It is preferable that at least the outermost insulating layer contains the thermosetting resin composition whose glass transition temperature by dynamic mechanical analyzing (DMA) at the time of hardening is more than the maximum temperature at the time of reflow process. Do. At this time, it is preferable that this glass transition temperature is 10 degreeC or more higher than the maximum temperature at the time of reflow process, and it is so preferable that this temperature difference is large. However, since the manufacturing cost rises in an economic aspect, this is considered when selecting the thermosetting resin composition. Before and after the glass transition temperature, the resin composition changes from a glass state to a rubber state. When using a resin having a glass transition temperature higher than the reflow treatment temperature of 260 ° C., the glass state is maintained even when the chip is mounted. Or deformation will be reduced. Therefore, in order to obtain such a desired effect, it is preferable that the difference of 10 degreeC or more which is this temperature difference differs.

또 내측 절연층은 DMA에 의한 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도 이하인 열경화성 수지 조성물을 포함하는 것이 바람직하다. 내측이란 상술한 외측과 상반된 의미로 동박적층판의 중심에 가까운 쪽을 말한다. 여기서는 내측 절연층은 중심층인 것이 더 바람직하다. 이렇게 유리전이온도가 상이한 열경화성 수지 조성물을 포함하는 절연층으로 적층하면 리플로우 처리 시 온도에서 외측 절연층은 열팽창율이 적다. 따라서 내측이 이 리플로우 처리시의 온도에서 연화하기 때문에 고무상태가 되어 열팽창율이 커져도, 낮은 열팽창율을 가지는 외측 절연층에 의해 열팽창이 억제되어 동박적층판 자체의 휘어짐이나 뒤틀림은 작아진다. 또한 냉각 시에 내측의 수지 조성물이 응력을 흡수하여 냉각 후의 휘어짐도 작아진다. 따라서 휘어짐이나 비틀어짐이 매우 작은 동박적층판을 얻을 수 있으며, 이는 실장 시 그 영향이 극히 적은 장점이 있다. 부품의 실장 방법 중 와이어 본딩에서도 사용할 수 있음은 물론이고, 플립 칩 본딩에 의한 리플로우 퍼니스(reflow furance)를 통해 접속하는 경우에 본 발명의 동박적층판이나 인쇄회로기판을 사용하는 것이 바람직한 효과를 거둘 수 있다. Moreover, it is preferable that the inner side insulating layer contains the thermosetting resin composition whose glass transition temperature by DMA is below the maximum temperature at the time of reflow process. The inner side means a side close to the center of the copper clad laminate in a meaning opposite to the outer side described above. It is more preferable here that an inner insulation layer is a center layer. Thus, when laminated with an insulating layer containing a thermosetting resin composition having a different glass transition temperature, the outer insulating layer has a low thermal expansion rate at a temperature during reflow treatment. Therefore, since the inner side softens at the temperature at the time of this reflow treatment, even if it becomes a rubber state and the thermal expansion rate becomes large, thermal expansion is suppressed by the outer insulating layer having a low thermal expansion rate, and the warping and the warping of the copper clad laminate itself become small. Moreover, at the time of cooling, the inside resin composition absorbs a stress, and the curvature after cooling also becomes small. Therefore, a copper foil laminated plate having a very small warpage or twist can be obtained, which has an advantage that the effect of mounting is extremely small. Of course, it can be used for wire bonding among components mounting methods, and in case of connecting through reflow furance by flip chip bonding, it is preferable to use the copper clad laminate or the printed circuit board of the present invention. Can be.

이때 각 절연층은 기재 보강된 프리플레그를 사용하는 것이 바람직하지만, 외측의 절연층의 경우 열경화성 수지 조성물 단독으로 사용하더라도 무방하다. 이 때 기재 보강을 위하여 다른 수지 조성물이나 보충 기재를 포함하는 것이 바람직하다. 이는 리플로우 처리시의 최고 온도에서 최외측 절연층의 탄성률이 2000㎏f/㎠이상인 것이 기판전체의 휘어지거나 비틀어지는 것을 방지할 수 있는데, 이러한 탄성율은 다른 수지 조성물이나 보충기재를 더 포함하는 경우 보장될 수 있기 때문이다. 여기서 탄성율은 DMA에 의해 측정될 수 있다. At this time, it is preferable to use the substrate-reinforced preflag for each insulation layer, but in the case of the outer insulation layer, you may use only a thermosetting resin composition. At this time, it is preferable to include another resin composition or a supplementary base material for substrate reinforcement. This can prevent the outermost insulating layer having a modulus of elasticity of 2000 kgf / cm 2 or more at the maximum temperature during reflow treatment, which can prevent bending or twisting of the entire substrate. Such elastic modulus further includes other resin compositions or supplementary materials. Because it can be guaranteed. The elastic modulus here can be measured by DMA.

본 발명의 동박적층판은 공지의 방법으로 가공되어 인쇄회로기판을 형성할 수 있다. 또한 이를 이용하여 다층 인쇄회로기판을 형성할 수도 있다. 이하 본 발명의 인쇄회로기판에 관하여 상세히 설명하기로 한다. 다만 본 발명의 인쇄회로기판을 구성하는 열경화성 수지 조성물과 보충기재, 첨가제, 적층조건 등의 일반적 내용은 상술한 동박적층판의 경우와 차이가 없어, 이에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다.The copper-clad laminate of the present invention can be processed by a known method to form a printed circuit board. Also, the multilayer printed circuit board may be formed using the same. Hereinafter, the printed circuit board of the present invention will be described in detail. However, the general contents of the thermosetting resin composition, the supplementary base material, the additives, and the laminating conditions constituting the printed circuit board of the present invention are not different from those of the above-described copper foil laminated plate, and thus the repeated description thereof will be omitted.

본 발명의 일 측면에 따르면 미세배선, 즉 극세밀 회로폭, 도체회로 간의 간격을 형성하기 위하여, 최외측 수지층은 에디티브 방식으로 배선 형성이 가능한 열경화성 수지 조성물로 형성된다. 여기서 에디티브 방식이란 패턴을 형성하려는 부분만 남기고 그 이외의 부분은 모두 도금 레지스트를 도포한 상태에서 무전해 도금을 형성하여 배선패턴을 형성하는 방법을 의미한다. 여기서 다층 인쇄회로기판의 경우 최외층은 미세배선을 형성하기 위해 에디티브방식으로 회로형성이 가능한 열경화성 수지 조성물로 절연층을 형성한다. 또 그 아래에 절연층은 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도 이상인 열경화성 수지 조성물을 포함한다. 이 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃이상인 것이 바람직하다. 이보다 더 내측에 형성되는 절연층은 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도 이하인 열경화성 수지 조성물을 포함한다. 이러한 절연층은 리플로우 처리시의 최고 온도에서 탄성율이 2000㎏f/㎠이상이 되도록 기재 보강하거나 열경화성 수지 조성물의 종류를 선택하거나, 무기 충전제 등의 첨가제를 첨가하는 것이 바람직하다. 이 경우 최외측의 에디티브용 열경화성 수지 조성물에도 기재 보강하여 뒤틀어짐이나 휘어짐을 억제할 수 있도록 하는 것이 보다 바람직하다. 회로를 형성하기 전에 에디티브 열경화성 수지 조성물을 포함하는 절연층에 동도금을 부착하기 위하여 절연층을 조화(roughening), 즉 절연층의 표면에 조도를 형성시켜 표면을 거칠게 하여 Cu와 수지 간의 접착력을 향상시키는데, 조화된 끝이 보강기재와 접촉하지 않도록 열경화성 수지 조성물의 두께를 형성한다.According to an aspect of the present invention, the outermost resin layer is formed of a thermosetting resin composition capable of forming wirings in an additive manner in order to form fine wirings, that is, ultrafine circuit widths and gaps between conductor circuits. Here, the additive method means a method of forming a wiring pattern by forming an electroless plating in a state where only a portion to form a pattern is formed and all other portions are coated with a plating resist. Here, in the case of a multilayer printed circuit board, an outermost layer forms an insulating layer with a thermosetting resin composition capable of forming a circuit in an additive manner in order to form fine wiring. Moreover, the insulating layer below contains the thermosetting resin composition whose glass transition temperature is more than the maximum temperature at the time of reflow process. It is preferable that this glass transition temperature is 10 degreeC or more than the maximum temperature at the time of reflow process. The insulating layer formed further inside of this contains a thermosetting resin composition whose glass transition temperature is below the maximum temperature at the time of reflow process. It is preferable that such an insulating layer is reinforced with a base material so that an elasticity modulus may be 2000 kgf / cm <2> or more at the maximum temperature at the time of a reflow process, selects the kind of thermosetting resin composition, or adds additives, such as an inorganic filler. In this case, it is more preferable that the outermost thermosetting resin composition for the additive can be reinforced with a base material to suppress warpage and warpage. In order to apply copper plating to the insulating layer containing the additive thermosetting resin composition before forming the circuit, the insulating layer is roughened, that is, roughness is formed on the surface of the insulating layer to roughen the surface to improve adhesion between Cu and the resin. The thickness of the thermosetting resin composition is formed so that the roughened end does not contact the reinforcing base material.

상술한 동박적층판에서와 같이 기재 보강된 프리플레그를 사용하여 동박 다층적층판을 적층한다. 적층의 구성은 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 경화 시 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도보다 낮은 열경화성 수지 조성물로 내측 기판을 제작하고, 바람직하게는 이들을 흑색 산화동 처리, 맥크사의 CZ처리 등을 실시한다. 이 기판의 양면에 경화 시 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도보다 높은, 바람직하게는 10℃이상 높은 열경화성 수지 조성물로 절연층을 형성한다. 이 면의 외측에 동박층이나 다른 절연층이 형성되어도 무관하다. 다만 최외측 절연층은 열경화성 수지 조성물을 에디티브방식으로 형성하고, 이 최외측 절연층의 내부에 경화 시 유리전이온도가 리플로우 처리시의 최고온도보다 높은, 바람직하게는 10℃이상 높은 열경화성 수지 조성물로 절연층을 형성한다. 이들 절연 층은 모두 기재 보강된 프리플레그를 사용하는 것이 바람직하지만, 일부층은 수지 조성물만으로 구성된 절연층을 형성할 수도 있다. 여기서 이들 절연층은 리플로우 처리시의 최고온도에서 탄성율이 2000㎏f/㎠ 이상인 것이 기판의 휘어짐이나 뒤틀림을 방지하기 위하여 더 바람직하다. 적층조건은 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로 온도 100 내지 300℃, 압력 5 내지 50 ㎏f/㎠에서, 바람직하게는 진공 하에서 30분 내지 3시간 적층한다. 본 발명의 동박 다층적층판은 공지의 방법으로 가공하여 다층 인쇄회로기판을 형성할 수 있다. 이 때 기재로 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 사용하였을 경우 구멍 뚫기, 절단 등의 가공은 레이저를 이용하는 것이 바람직하다.The copper foil multilayer laminate is laminated using a pre-strength reinforced substrate as in the above copper foil laminate. The configuration of the lamination is not limited to this, but for example, an inner substrate is made of a thermosetting resin composition having a glass transition temperature at curing lower than the maximum temperature at the time of reflow treatment, preferably black copper oxide treatment and CZ treatment of Mack's company. Etc. On both sides of this substrate, an insulating layer is formed of a thermosetting resin composition having a glass transition temperature upon curing higher than the highest temperature during reflow treatment, preferably 10 ° C or more. A copper foil layer or another insulating layer may be formed outside of this surface. However, the outermost insulating layer forms a thermosetting resin composition in an additive manner, and the glass transition temperature at the time of curing inside the outermost insulating layer is higher than the maximum temperature at the reflow treatment, preferably 10 ° C. or higher. The insulating layer is formed from the composition. It is preferable that all of these insulating layers use the substrate-reinforced preflag, but some layers may form the insulating layer which consists only of a resin composition. Here, it is more preferable that these insulating layers have an elastic modulus of 2000 kgf / cm 2 or more at the highest temperature during reflow treatment in order to prevent warpage or distortion of the substrate. Although lamination conditions are not specifically limited, Generally lamination | stacking is carried out at the temperature of 100-300 degreeC and the pressure of 5-50 kgf / cm <2>, Preferably it is 30 minutes-3 hours under vacuum. The copper foil multilayer laminate of the present invention can be processed by a known method to form a multilayer printed circuit board. In this case, when a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric is used as the substrate, it is preferable to use a laser for processing such as drilling and cutting.

이렇게 최외측이 에디티브법으로 회로 형성하는 경우 라인/스페이스=30/30㎛ 이하의 극세밀 회로폭, 회로간의 간격을 형성시킬 수 있다. 이러한 미세배선은 서브트랙티브법에 의해서는 얻어지기 어렵다.Thus, when the outermost circuit is formed by the additive method, a very fine circuit width and a space between circuits of line / space = 30/30 µm or less can be formed. Such fine wiring is difficult to obtain by the subtractive method.

이하 본 발명에 따른 동박적층판과 다층인쇄회로기판을 실시예들과 비교예들로 보다 구체적으로 설명한다. 여기서 '부'는 특별히 기재하지 않는 한 중량부를 나타낸다.Hereinafter, a copper foil laminate and a multilayer printed circuit board according to the present invention will be described in more detail with examples and comparative examples. "Part" shows a weight part unless there is particular notice.

[실시예 1-1] 동박적층판 및 인쇄회로기판의 형성Example 1-1 Formation of Copper Clad Laminated Plates and Printed Circuit Boards

2,2,-비스(4-시아네이트페닐)프로판모노머 450부를 160℃에서 용융시키고, 교반하면서 4.5시간 반응시켜, 모노머와 프리폴리머(prepolymer)의 혼합물을 얻었다. 이것을 메틸에틸케톤에 용해하고, 이것에 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명:에피코트 1001, 재팬에폭시레진<주> 제작) 300부, 페놀노볼락형 에폭시 수지(상품 명:DEN-431, 다우화학<주> 제작) 100부, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지(상품명:ESCN-220 F, 스미토모 화학공업<주> 제작) 150부를 배합하였다. 여기에 소성 탈크(상품명:BST200, 일본탈크<주> 제작) 1000부를 더하고, 경화 촉매로서 옥틸산 아연을 0.2부 메틸에틸 케톤에 용해하여 첨가하고, 잘 교반하여 얻어진 화합물을 바니쉬(varnish) A로 하였다.450 parts of 2,2, -bis (4-cyanatephenyl) propane monomers were melted at 160 degreeC, and it reacted for 4.5 hours, stirring, and the mixture of a monomer and a prepolymer was obtained. This is dissolved in methyl ethyl ketone, and 300 parts of bisphenol A type epoxy resin (brand name: Epicoat 1001, Japan epoxy resin Co., Ltd. product), phenol novolak type epoxy resin (brand name: DEN-431, Dow Chemical < 100 parts and 150 parts of cresol novolak-type epoxy resins (brand name: ESCN-220F, Sumitomo Chemical Co., Ltd. make) were mix | blended. 1000 parts of calcined talc (trade name: BST200, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.) was added thereto, and zinc octylate was dissolved in 0.2 parts of methyl ethyl ketone and added as a curing catalyst, and the compound obtained by stirring well was varnish A. It was.

이 바니쉬 A를 두께 0.02㎜의 유리 직포에 함침, 건조하여, 성형 후의 두께가 30㎛가 되도록 수지량을 부착시킨 후 겔화 시간(at170℃) 121초의 프리플레그 B를 제작하였다. 이 프리플레그 B는 250℃·2시간 경화한 후의 DMA에 의한 유리 전이 온도는 236℃이었다. 이 프리플레그 B를 1매 이용, 그 양측에 경화 후의 두께가 40㎛(유리 직포 두께 0.03㎜)가 되도록 제작한 비스 말레이미드-시안산 에스테르 수지 조성물을 이용하여 제작한 250℃·2시간 경화후의 DMA에 의한 유리 전이 온도가 270℃인 프리플레그 C (상품명: BN300GF, 미츠이 화학<주> 제작)를 각 1매 배치하였다. 이 프리플레그 C의 양 외측에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 250℃·, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 적층 성형하여 절연층 두께 110㎛의 다층의 양면 동박적층판 D를 제작하였다. 이 동박적층판 D의 표면과 이면에 두께 30㎛의 필름 타입의 UV선택 열경화형 레지스트를 이용하여 영구보호피막을 형성하고, 니켈 도금, 금 도금을 실시하여 인쇄회로기판을 제작하였다. 이 평가 결과를 표 1에 나타낸다.This varnish A was impregnated and dried in a 0.02 mm-thick glass woven fabric, and after attaching the resin amount so that the thickness after molding might be 30 m, prepreg B having a gelation time (at170 ° C) of 121 seconds was produced. The glass transition temperature by DMA after this preflag B hardened 250 degreeC * 2 hours was 236 degreeC. After using 1 piece of this preflag B and the bismaleimide-cyanate ester resin composition produced so that the thickness after hardening may be 40 micrometers (glass woven fabric thickness 0.03mm) on both sides, 250 degreeC after 2 hours of hardening Each of prepreg C (brand name: BN300GF, Mitsui Chemicals Co., Ltd.) whose glass transition temperature by DMA is 270 degreeC was arrange | positioned. The electrolytic copper foil with a thickness of 12 micrometers was provided on both outer sides of this preflag C, and it laminated | stacked for 2 hours under the vacuum of 250 degreeC and 5 mmHg or less, and produced the multilayer double-sided copper foil laminated board D of 110 micrometers of insulating layer thicknesses. A printed circuit board was fabricated by forming a permanent protective film on the surface and the back surface of the copper-clad laminate D using a UV-type thermosetting resist of a film type having a thickness of 30 µm, followed by nickel plating and gold plating. Table 1 shows the results of this evaluation.

[실시예 1-2] 동박적층판 및 인쇄회로기판의 형성 Example 1-2 Formation of Copper Clad Laminated Plate and Printed Circuit Board

실시예 1-1의 바니쉬 A를 이용, 이를 두께 0.1㎜의 전방향족 폴리아미드 섬유 직포에 함침, 건조하여, 겔화 시간 134초에서 적층 후의 두께가 110㎛가 되도록 제작한 프리플레그 E를 제작하였다. 이 프리플레그 1매의 양측에 실시예 1-1의 프리플레그 C를 각 1매를 배치하였다. 이 프리플레그 C의 양 외측에, 두께 12㎛의 전해동박을 배치하여 실시예 1-1과 동일하게 적층 성형하여 절연층 두께 190㎛의 양면 동박적층판 F를 제작하였고, 이것을 이용하여 실시예 1-1과 동일한 조건과 단계를 거쳐 인쇄회로 기판을 형성한다. 단, 구멍 내기, 절단은 UV-YAG 레이저를 사용한다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Using varnish A of Example 1-1, prepreg E was produced by impregnating and drying the 0.1mm-thick wholly aromatic polyamide fiber woven fabric to a thickness of 110 占 퐉 after lamination at 134 seconds for gelation time. Each prepreg C of Example 1-1 was arrange | positioned at both sides of this one prepreg. Electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm was disposed on both outer sides of the preflag C, and laminated molding was performed in the same manner as in Example 1-1 to prepare a double-sided copper foil laminated sheet F having an insulating layer thickness of 190 µm, using Example 1-1. The printed circuit board is formed through the same conditions and steps as described above. However, for drilling and cutting, use UV-YAG laser. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 1-3] 동박적층판 및 인쇄회로기판의 형성Example 1-3 Formation of Copper Clad Laminated Plate and Printed Circuit Board

실시예 1-1의 양면 동박적층판 D를 이용하여, 여기에 정법으로 그 양면에 회로를 형성하고, 흑색 산화동 처리를 실시하여 기판 G를 제작하였다. 이 기판 G 2매 이용하여, 그 사이에 실시예 1-1의 프리플레그 B를 2매 넣고, 최외측에는 실시예 1-1에서 사용한 프리플레그 C를 각 1매 배치하였다. 이 프리플레그의 외측에는 두께 12㎛의 전해 동박을 배치하고, 250℃에서 동일하게 적층 성형하여, 절연층 두께 0.36㎜의 6층의 동박 다층적층판 H를 제작하였다. 이 동박 다층적층판 H를 이용하여 실시예 1과 동일하게 인쇄회로기판을 제작하였다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Using the double-sided copper-clad laminate D of Example 1-1, a circuit was formed on both surfaces thereof by a regular method, and black copper oxide treatment was performed to prepare a substrate G. Using two board | substrates G, two preflags B of Example 1-1 were inserted in between, and each prepreg C used in Example 1-1 was arrange | positioned at the outermost side. The electrolytic copper foil of thickness 12micrometer was arrange | positioned at the outer side of this preflag, it laminated | stacked-molded similarly at 250 degreeC, and produced six copper foil multilayer laminated boards H with an insulation layer thickness of 0.36 mm. Using this copper foil multilayer laminate H, a printed circuit board was fabricated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 2-1] 인쇄회로기판의 형성Example 2-1 Formation of Printed Circuit Board

실시예 1-1의 프리플레그 B를 1매 이용하여, 그 양측에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 190℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 절연층 두께 30㎛의 양면 동박적층판 I를 제작하였다. 이 양면에 회로를 형성하고, 흑색 산화동 처리를 실시한 후, 이 양면에 실시예 1-1의 프리플레그 C를 각 1매 배치하였다. 이 프리플레그 C의 양 외측에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 250℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 적층 성형하여 절연층 두께 110㎛의 다층의 양면 동박 적층판J를 제작하였다. 이 표면과 이면에 두께 30㎛의 필름 타입의 UV선택 열경화형 레지스트를 이용하여 영구보호피막을 형성하고, 니켈 도금, 금 도금을 실시하여 프린트 배선판을 제작하였다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Using 1 piece of preflag B of Example 1-1, the electrolytic copper foil of 12 micrometers in thickness was put on both sides, and it laminated | stacked for 1.5 hours under the vacuum of 190 degreeC and 5 mmHg or less, and double-sided copper foil of 30 micrometers of insulation layers Laminate I was produced. After forming a circuit on both surfaces and performing a black copper oxide process, each prepreg C of Example 1-1 was arrange | positioned on this both surfaces. The electrolytic copper foil with a thickness of 12 micrometers was provided on both outer sides of this preflag C, and it laminated | stacked and molded for 2 hours under the vacuum of 250 degreeC and 5 mmHg or less, and produced the multilayer double-sided copper foil laminated board J with an insulation layer thickness of 110 micrometers. On the front and back surfaces, a permanent protective film was formed using a film-type UV selective thermosetting resist having a thickness of 30 µm, and nickel-plated and gold-plated were printed to prepare a printed wiring board. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 2-2] 인쇄회로기판의 형성Example 2-2 Formation of Printed Circuit Board

실시예 1-1의 바니쉬 A를 이용, 이를 두께 0.1㎜의 전방향족 폴리아미드 섬유 직포에 함침, 건조하여, 겔화 시간 134초에서 적층 후의 두께가 120㎛가 되도록 제작한 프리플레그 K를 제작하였다. 이 프리플레그 K 1매 이용, 그 양측에 두께 12㎛의 전해 동박을 배치하여 실시예 2-1과 동일하게 적층 성형하여 절연층 두께 120㎛의 양면 동박적층판 L를 제작하였다. 이 양면 동박적층판 L의 양면에 회로를 형성하고, 맥크사의 CZ 처리를 실시하고, 그 양 외측에, 성형 후의 두께가 125μ가 되도록 실시예 1-1의 프리플레그 C을 각 1매 배치하였다. 이를 동일하게 적층 성형하여 4층의 동박다층판 M를 제작하였다. 이 동박다층판 M을 이용하여 실시예 1-1과 동일한 단계를 거쳐 다층 인쇄회로기판을 제작하였다. 단, 구멍 내기, 절단은 UV- Vanadate 레이저를 사용하였다. 상기 절연층 만의 두께는 370㎛이었다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.The varnish A of Example 1-1 was used to impregnate and dry the 0.1mm-thick wholly aromatic polyamide fiber woven fabric, and to prepare the preflag K which produced 120 micrometers of thickness after lamination | stacking in 134 second of gelation time. Using this 1 piece of preflag K, the electrolytic copper foil of thickness 12micrometer was arrange | positioned on both sides, it laminated | stacked and molded like Example 2-1, and produced the double-sided copper foil laminated board L of 120 micrometers of insulating layer thicknesses. Forming a circuit on both surfaces of the double-side copper-clad laminate L, and subjected to CZ processing maekkeu's, and that on both outer sides, carried in a thickness of 125 μ is formed such that in Example 1-1 was placed in a pre-flag C every 1 each. The laminate molding was performed in the same manner to produce four layers of copper foil multilayer boards M. Using this copper foil multilayer board M, a multilayer printed circuit board was manufactured through the same steps as in Example 1-1. However, for drilling and cutting, UV-Vanadate laser was used. The thickness of only the said insulating layer was 370 micrometers. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 3-1] 인쇄회로기판의 형성Example 3-1 Formation of Printed Circuit Board

실시예 1-1의 프리플레그 B를 1매 이용하여, 그 양측에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 190℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 절연층 두께 35㎛의 양면 동박적층판 N을 제작하였다. 이 양면 동박적층판 N의 표면의 동박을 두께 3㎛까지 에칭으로 제거하고, 그 표면에서부터 탄산 가스 레이저로 지름 100㎛의 관통공을 형성하고, 데스미어(desmear) 처리한다. 이 관통공을 포함한 동박적층판의 표면을 부전해동도금 0.5㎛, 전기동도금 15㎛를 부착시킨 후 표면과 이면에 회로를 형성하고, 흑색 산화동 처리를 가하여 기판 O를 형성하였다. 이 기판 O의 양면에 성형 후 두께가 40㎛가 되도록 제작한 230℃, 2시간 경화 후의 DMA에 의한 유리전이온도가 298℃인 프리플레그 P(상품명: BN-300, 미츠이 화학<주>제)를 각 1 매 배치하였다. 이 프리플레그 P의 양 외측에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 250℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 적층 성형하여 절연층 두께 115㎛의 4층의 양면 동박 적층판 Q를 제작하였다. 이 동박 적층판 Q의 표면을 동박 두께가 3㎛까지 에칭하여 제거하고 그 위에 UV-YAG 레이저로 직경 60㎛의 블라인드 비아를 뚫어 동도금으로 그 구멍 내를 충전하였다. 이 에칭된 동박 적층판 Q의 양면에 회로를 형성하여 흑색 산화동 처리를 한 후, 이 양면에 두께 60㎛의 세미 에디티브용 열경화성 수지 조성물 P(상품명: ABF GX13, 아지노모토<주>제)를 각 1 매 배치하고, 170℃, 20㎏f/㎠, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 80분간 적층 성형하였다. 이 양 표면에 UV-YAG 레이저로 직경이 60㎛의 블라인드 비아를 뚫어 이 구멍 내를 동도금으로 충전하였다. 그 후 양면에 라인/스페이스=25/25㎛의 회로를 형성하여 6층 양면 동박다층적층판 S를 제작하였다. 이 양면 동박다층적층판 S의 회로에 맥크사의 CZ처리를 가한 후, 그 외측에 두께 40㎛의 프리플레그 P를 각 1매 배치하였다. 그 외측에 두께 50㎛의 불소 수지 필름을 배치하여 동일하게 적층 성형하여 솔더 레지스트로 사용하였다. 불소 수지 필름을 박리한 후 기판 위에 UV-YAG 레이저를 조사하여 플립 팁 접촉용 패드 및 핸더 볼용 패드를 동박에 이를 때 까지 뚫었다. 그 후 플라즈마 장치에 넣어 금속 표면을 처리한 후 , 니켈 도금, 금 도금을 부착시켜 플립 팁 탑재용 인쇄회로기판을 제작하였다. 총 절연층의 두께는 솔더 레지스트를 포함하여 315㎛였다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다Using one piece of prepreg B of Example 1-1, the electrolytic copper foil of 12 micrometers in thickness was put on both sides, and it laminated | stacked and molded under 190 degreeC and 5 mmHg or less for 1.5 hours, and double-sided copper foil of 35 micrometers of insulating layer thicknesses Laminated plate N was produced. The copper foil on the surface of this double-sided copper foil laminated plate N is removed by etching to thickness of 3 micrometers, the through-hole of 100 micrometers in diameter is formed with a carbon dioxide gas laser from the surface, and is desmear-processed. After the surface of the copper-clad laminate including the through hole was attached with 0.5 µm of electrolytic copper plating and 15 µm of electroplating, a circuit was formed on the front and back surfaces, and a black copper oxide treatment was applied to form the substrate O. Preflag P (trade name: BN-300, manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd.) having a glass transition temperature of 298 ° C. at 230 ° C. and 2 hours of curing after DMA, which was formed on both sides of the substrate O to have a thickness of 40 μm. 1 piece each. The electrolytic copper foil with a thickness of 12 micrometers was provided on both outer sides of this preflag P, and it laminated | stacked for 2 hours under the vacuum of 250 degreeC and 5 mmHg or less, and produced the four-layer double-sided copper foil laminated board Q of 115 micrometers of insulation layer thicknesses. The surface of this copper foil laminated board Q was etched and removed to 3 micrometers of copper foil thickness, and the inside of the hole was filled with copper plating through the blind via of diameter 60micrometer by UV-YAG laser on it. After a circuit was formed on both surfaces of this etched copper foil laminated plate Q, and black copper oxide process was carried out, the thermosetting resin composition P (brand name: ABF GX13, the product made by Ajinomoto Co., Ltd.) of semi-additives with a thickness of 60 micrometers was formed on each of these 1 each. Each batch was laminated and molded for 80 minutes under a vacuum of 170 ° C., 20 kgf / cm 2, and 5 mmHg or less. Both surfaces were filled with blind vias having a diameter of 60 µm by UV-YAG laser to fill the holes with copper plating. Then, the circuit of line / space = 25/25 micrometers was formed in both surfaces, and the 6-layer double-sided copper foil multilayer laminated board S was produced. After applying the CZ process of Mack company to the circuit of this double-sided copper foil multilayer laminated board S, each preflag P of 40 micrometers in thickness was arrange | positioned outside. A 50-micrometer-thick fluororesin film was placed on the outer side, and laminated molding was performed in the same manner, and used as a solder resist. After peeling off the fluororesin film, the substrate was irradiated with a UV-YAG laser to pierce the pad for flip tip contact and the pad for handball until the copper foil was reached. Thereafter, the metal surface was treated in a plasma apparatus, and then nickel-plated and gold-plated were attached to prepare a flip-tip mounted printed circuit board. The total insulation layer thickness was 315 μm including solder resist. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 3-2] 인쇄회로기판의 형성Example 3-2 Formation of Printed Circuit Board

실시예 3-1의 기판 O의 양면에 실시예 2-2의 프리플레그 K를 각 1매 이용하여 두께 12㎛의 전해 동박을 배치하여, 실시예 3-1과 동일하게 적층 성형하여 절연층 두께 275㎛의 양면 동박적층판 T를 제작하였다. 이 양면 동박적층판 T의 양면에 회로를 형성하고, 맥크사의 CZ 처리를 가하고, 그 양 외측에, 성형 후의 두께가 40㎛가 되는 실시예 3-1의 프리플레그 P를 각 1매 배치하였다. 이들을 동일하게 적층 성형하여 4층의 동박다층판 U를 제작하였다. 이 동박다층판 U의 양면의 동박을 두께가 3㎛까지 에칭하여 제거하고 그 위에 UV-YAG 레이저로 직경 60㎛의 블라인드 비아를 뚫어 동도금으로 그 구멍 내를 충전하였다. 이 에칭된 동박 적층판 U의 양면에 회로를 형성하여 맥크사의 CZ처리를 한 후, 이 양면에 두께 40㎛의 세미 에디티브용 프리플레그 W(상품명: ABF GX02S, 아지노모토<주>제)를 각 1 매 배치하고, 170℃, 20㎏f/㎠, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 80분간 적층 성형하였다. 이 양 표면에 UV-YAG 레이저로 직경이 60㎛의 블라인드 비아를 뚫어 이 구멍 내를 동도금으로 충전하였다. 그 후 양면에 라인/스페이스=25/25㎛의 회로를 형성하여 6층 양면 동박다층적층판 X를 제작하였다. 이 양면 동박다층적층판 X 표면에 두께 30㎛의 시트상의 UV 선택열경화성 솔더 레지스트를 배치하여, 80℃로 라이네이트 접착한 후 정법에서 귀금속 도금을 실시하는 부분을 현상 제거하여 그 후에 니켈 도금, 금 도금을 실시하여 다층 인쇄회로기판을 제작하였다. 단, 구멍 내기, 절단은 UV-Vanadate 레이저를 사용하였다. 상기 절연층 만의 두께는 370㎛이었다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.An electrolytic copper foil having a thickness of 12 µm was placed on each of both surfaces of the substrate O of Example 3-1 using one preflag K of Example 2-2, and laminated and molded in the same manner as in Example 3-1 to form an insulating layer. 275 micrometers double-sided copper clad laminated board T was produced. Circuits were formed on both surfaces of this double-sided copper-clad laminated board T, CZ treatment of Mack Corporation was applied, and each prepreg P of Example 3-1 in which the thickness after molding becomes 40 micrometers was arrange | positioned at each outside. These were laminated | molded similarly and the four-layer copper foil multilayer board U was produced. The copper foil of both surfaces of this copper foil multilayer board U was etched and removed to 3 micrometers in thickness, and the inside of the hole was filled with copper plating through the blind via of diameter of 60 micrometers by UV-YAG laser on it. After circuits were formed on both sides of the etched copper foil laminate U and subjected to CZ treatment, Mack's pre-preg W (trade name: ABF GX02S, manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.) having a thickness of 40 µm was applied to each of the two surfaces. Each batch was laminated and molded for 80 minutes under a vacuum of 170 ° C., 20 kgf / cm 2, and 5 mmHg or less. Both surfaces were filled with blind vias having a diameter of 60 µm by UV-YAG laser to fill the holes with copper plating. Then, the circuit of line / space = 25/25 micrometers was formed in both surfaces, and the 6-layer double-sided copper foil multilayer laminated board X was produced. A sheet-like UV selective thermosetting solder resist having a thickness of 30 µm was placed on the double-sided copper foil multilayer laminate X surface, and after the laminate was bonded at 80 ° C., the development of noble metal plating in the conventional method was removed, followed by nickel plating and gold plating. The multilayer printed circuit board was fabricated. However, the hole was cut and UV-Vanadate laser was used. The thickness of only the said insulating layer was 370 micrometers. The evaluation results are shown in Table 1.

[실시예 3-3] 인쇄회로기판의 형성Example 3-3 Formation of Printed Circuit Board

두께 40㎛의 절연층에 두께 35㎛의 캐리어 동박을 부착한 동박 두께 3㎛의 양면동박적층판 Y(상품명: CCL-HL890, 경화 후의 DMA에 의한 Tg:270℃, 미츠비시 가스 화학<주>제)의 한 면의 캐리어 동박을 박리 제거한 후, 이 표면에 UV-YAG 레이저로 직경이 60㎛의 블라인드 비아를 뚫어 이 구멍 내를 동도금으로 충전하였다. 그 후에 양면에 회로를 형성하고, CZ 처리 후에 이 양면에 실시예 3-2의 두께 40㎛의 세미 에디티브용 프리플레그 W를 각 1 매 배치하고, 동일한 방법으로 적층 성형 한 후, 이 양 표면에 UV-YAG 레이저로 직경이 50㎛의 블라인드 비아를 뚫어 이 구멍 내를 동도금으로 충전하였다. 그 후 양면에 라인/스페이스=25/25㎛의 회로를 형성하였다. 솔더 레지스트용으로 두께 40㎛의 프리플레그 P를 표면과 이면에 각 1매 배치하고, 그 외측에 두께 50㎛의 불소 수지 필름을 두고, 230℃, 20㎏f/㎠, 5㎜Hg 이하에서 1.5시간 적층 성형하였다. 이 후 UV-YAG 레이저로 귀금속 도금을 실시하는 부분을 동박까지 뚫어 니켈 도금, 금 도금을 실시하여 인쇄회로기판을 제작하였다. 이 절연층 만의 두께는 200㎛이다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Double-sided copper-clad laminate Y having a copper foil thickness of 3 μm with a carrier copper foil having a thickness of 35 μm attached to an insulating layer having a thickness of 40 μm (trade name: CCL-HL890, Tg by DMA after curing: manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) After peeling off and removing the carrier copper foil of one side of this, the inside of this hole was filled with the blind via of 60 micrometers diameter by UV-YAG laser, and the inside of this hole was filled with copper plating. Thereafter, circuits were formed on both sides, and after CZ treatment, one sheet of each semi-additive preflag W having a thickness of 40 μm in Example 3-2 was placed on each of these surfaces, and laminated and molded in the same manner. The hole was filled with a blind via having a diameter of 50 μm by UV-YAG laser to fill the hole with copper plating. Thereafter, circuits of line / space = 25/25 mu m were formed on both surfaces. One piece of prepreg P having a thickness of 40 μm is disposed on the front and back surfaces of the solder resist, and a fluorine resin film having a thickness of 50 μm is placed on the outer side thereof, and the thickness is 1.5 at 230 ° C., 20 kgf / cm 2 and 5 mmHg or less. Time laminated molding. Afterwards, a printed circuit board was manufactured by performing nickel plating and gold plating by drilling a portion of the noble metal plating with a UV-YAG laser to copper foil. The thickness of only this insulating layer is 200 µm. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1-1]Comparative Example 1-1

실시예 1-1의 바니쉬 A를 이용하여 두께 100㎛의 유리 직포 기재에 함침, 건조하여, 겔화 시간 127초에서 성형 후의 두께가 110㎛가 되도록 제작한 프리플레그 B'를 얻었다. 이 프리플레그 B'을 1 매 배치하고, 동일하게 적층 성형하여 두께 110㎛의 동박적층판 C'을 제작하였고, 이것을 이용하여 실시예 1-1과 동일하게 인쇄 회로기판을 제조하였다. 그 평가 결과를 표 1에 기재하였다.The varnish A of Example 1-1 was used to impregnate and dry a glass cloth substrate having a thickness of 100 µm to obtain a preflag B 'produced in a gelation time of 127 seconds so that the thickness after molding was 110 µm. One piece of this preflag B 'was placed and laminated molding was performed to produce a copper foil laminated plate C' having a thickness of 110 µm, and a printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1-1. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1-2]Comparative Example 1-2

실시예 1-1의 바니쉬 A를 이용하여 두께 30㎛의 유리 직포 기재에 함침, 건조하여 겔화 시간 122초에서 성형 후의 두께가 40㎛가 되도록 제작한 프리플레그 D'을 얻었다. 실시예 1-1의 프리플레그 B를 1매 이용하여, 그 양 외측에 프리플레그 D'을 각 1매 배치하고 그 외측에 12㎛의 전해 동박을 배치하고, 동일하게 적층 성형한 두께 110㎛의 동박적측판 E'을 제작하였다. 이를 이용하여 실시예 1과 동일하게 인쇄회로기판을 제작하였다. 그 평가 결과를 표 1에 기재하였다.The varnish A of Example 1-1 was used to impregnate and dry a 30-micrometer-thick glass woven fabric base material, to obtain a preflag D 'produced in a gelation time of 122 seconds so that the thickness after molding was 40 µm. Using one preflag B of Example 1-1, one prepreg D 'was arranged on both sides thereof, and a 12 μm electrolytic copper foil was placed on the outside thereof. The copper clad side plate E 'was produced. Using this, a printed circuit board was manufactured in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1-3]Comparative Example 1-3

실시예 1-1의 프리플레그 C를 3매 이용하여 동일하게 적층 성형하여 절연층 두께 120㎛의 동박적층판 F'을 제작하고, 이를 이용하여 동일하게 인쇄회로기판을 제작하였다. 그 평가 결과를 표 1에 기재하였다.Three preflags C of Example 1-1 were laminated and formed in the same manner to prepare a copper-clad laminate F 'having an insulating layer thickness of 120 μm, and a printed circuit board was manufactured using the same. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1-4][Comparative Example 1-4]

실시예 1-3에 있어서 모두 적층용으로 프리플레그 B를 이용한 6층의 동다층판을 제작하고 동일하게 인쇄회로기판을 제작하였다. 평가 결과를 표 1에 기재하였다.In Example 1-3, the six-layer copper multilayer board using the preflag B was produced for lamination, and the printed circuit board was similarly manufactured. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 1-5]Comparative Example 1-5

실시예 1-2에 있어서, 전방향족 폴리아미드 섬유 직포의 프리플레그 G'를 2매 사용하여 동일하게 적층 성형하여, 절연층 두께 220㎛의 양면 동박적층판을 제작하고 이것을 이용하여 동일하게 인쇄회로기판으로 하였다. 평가결과를 표 1에 기재하였다.In Example 1-2, two preflags G 'of the wholly aromatic polyamide fiber woven fabric were laminated and molded in the same manner to prepare a double-sided copper-clad laminate having an insulating layer thickness of 220 µm, and the printed circuit board was used in the same manner. It was made. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 2-1]Comparative Example 2-1

실시예 2-1에 있어서, 바니쉬 A를, 두께 30㎛의 유리 직포 기재에 함침, 건조하여, 겔화 시간 125초에서 성형 후의 두께가 40㎛가 되도록 제작한 프리플레그 H'를 얻었다. 실시예 2-1의 양면 동적층판 I의 양면에 회로를 형성하고, 흑색 산화동 처리를 실시한 후, 그 양면에 프리플레그 H'를 각 1매 배치하고, 190℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 절연층의 총두께가 110㎛인 다층의 양면 동박 적층판 I'를 제작하였다. 이것을 이용하여 실시예 2-1과 동일하게 하여 다층 프린트 배선판으로 하였다. 평가결과를 표 1에 기재하였다.In Example 2-1, varnish A was impregnated into a 30-micrometer-thick glass woven fabric base material, and it dried, and obtained prepreg H 'which produced the thickness after shaping to be 40 micrometers in 125 second of gelation time. After the circuits were formed on both surfaces of the double-sided dynamic layer plate I of Example 2-1 and subjected to black copper oxide treatment, one piece of prepreg H 'was placed on each of the two surfaces, and the temperature was 1.5 ° C at 190 ° C and 5 mmHg or less. It laminated by time and produced the multilayer double-sided copper foil laminated board I 'whose total thickness of an insulating layer is 110 micrometers. Using this, it was carried out similarly to Example 2-1, and set it as the multilayer printed wiring board. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 2-2]Comparative Example 2-2

실시예 2-1에 있어서, 양면 동박 12㎛의 절연층 두께가 30㎛인 동박적층판 J'(상표명: HL890. 미츠비시 가스 화학<주> 제작)의 양면에 회로를 형성한 후, 흑색 산화동 처리를 실시하고, 그 양면에 실시예 1-1에서 사용한 프리플레그 C를 각 1매 사용하여, 동일하게 적층 성형하여 절연층 두께 110㎛의 다층의 양면 동박 적층판 K'를 제작하고, 이것을 이용하여 동일하게 다층 프린트 배선판으로 하였다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.In Example 2-1, after forming a circuit on both surfaces of copper foil laminated board J '(trade name: HL890, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) whose insulating layer thickness of 12 micrometers of double-side copper foils is 30 micrometers, black copper oxide process is performed It carried out, it laminated | stacked similarly using each prepreg C used in Example 1-1 on both surfaces, and produced the multilayer double-sided copper foil laminated board K 'with an insulation layer thickness of 110 micrometers, and uses it similarly. It was set as the multilayer printed wiring board. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 2-3]Comparative Example 2-3

실시예 2-2에 있어서, 양면 동적층판 L의 양면에 회로를 형성하고, 맥크사의 CZ 처리를 실시한 후, 이 양면에 프리플레그 K를 각 1매 배치하고, 190℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 모두 전방향족 폴리아미드 직포 기 재이고, 열경화성 수지 조성물도 동일한 것을 사용한 절연층 총두께 360㎛의 다층의 양면 동박 적층판 L'를 제작하였다. 이것을 이용하여 동일하게 다층 프린트 배선판으로 하였다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.In Example 2-2, after forming a circuit on both surfaces of the double-sided dynamic laminated board L, and performing CZ process of Mack Corporation, 1 piece of preflag K is arrange | positioned on this both surfaces, and it is 190 degreeC and 5 mmHg or less vacuum It laminated | stacked-molded under 1.5 hours, and produced the multilayer double-sided copper foil laminated board L 'of 360 micrometers of insulating layer total thickness using the same thing as a wholly aromatic polyamide woven base material, and the thermosetting resin composition. Using this, it was set as the multilayer printed wiring board similarly. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 3-1]Comparative Example 3-1

실시예 3-3에 대하여 바니쉬 A를 이용하여 두께 30㎛의 유리직포기재에 함침, 건조하고 겔화시간 125초로 성형 후 두께가 40㎛가 되도록 제작한 프리플레그 M'을 얻었다. 이 프리플레그 M' 1매를 이용하여 양면에 두께 12㎛의 전해동액을 배치하여, 실시에 3-1과 같이 적층 성형한 양면 동박적층판 N'을 얻었다. 이 동박적층판의 한 면의 동박을 3㎛까지 에칭한 후, 동일하게 블라인드 비아 구멍을 형성하고, 그 후 반대면의 동박도 동일하게 거의 같은 두께로 에칭하고 나서, 블라인드 비아 내를 동도금으로 충전하였다. 이 양면에 회로를 형성하고 흑색 산화동 처리를 행한 후, 이 양면에 프리플레그 M'을 각각 1매 배치하고, 190℃, 5㎜Hg 이하의 진공 하에서 1.5시간 적층 성형하여 양면 동박다층적층판 N'을 제작하였다. 이를 이용하여 표면에 일반의 40㎛의 UV선택열경화형 솔더 레지스트를 도포, 건조하여 노광, 현상해 양면에 영구보호피막을 형성하였다. 이 인쇄회로기판의 절연층의 총 두께는 200㎛였다. 평가결과를 표 1에 기재하였다.About Example 3-3, the prepreg M 'produced by impregnating and drying a 30-micrometer-thick glass woven base material with varnish A, and having a thickness of 40 micrometers after shaping | molding with 125 second gelation time was obtained. The electrolytic copper liquid with a thickness of 12 micrometers was arrange | positioned on both surfaces using this preflag M 'piece, and the double-sided copper foil laminated board N' formed by laminating like Example 3-1 was obtained. After etching the copper foil of one side of this copper clad laminated board to 3 micrometers, a blind via hole was formed similarly, copper foil of the opposite side was also etched in substantially the same thickness, and the inside of the blind via was filled with copper plating. . After forming a circuit on both surfaces and performing black copper oxide processing, one prepreg M 'was arrange | positioned on each both surfaces, and it laminated | stacked-molded at 190 degreeC and 5 mmHg or less for 1.5 hours, and double-sided copper foil multilayer laminated board N' was formed. Produced. Using this, a general 40 µm UV selective thermosetting solder resist was applied to the surface, dried, and exposed and developed to form a permanent protective film on both sides. The total thickness of the insulating layer of this printed circuit board was 200 mu m. The evaluation results are shown in Table 1.

[비교예 3-2]Comparative Example 3-2

실시예 3-1에 대하여 내측판 이외에는 모두 60㎛의 세미 에디티브용 수지 조성물 시트를 사용하여 이것을 2회 빌트업 하여 6층 인쇄회로기판으로 하였다. 이 표면에 두께 40㎛가 되도록 일반의 UV 선택열경화형 솔더 레지스트를 도포, 건조하여, 노광, 현상해 양면에 영구보호피막을 형성하였다. 이 인쇄회로기판의 절연층의 총 두께는 315㎛였다. 평가결과를 표 1에 기재하였다.In Example 3-1, except for the inner side plate, all of them were built up twice using a 60-μm semi-additive resin composition sheet to obtain a six-layer printed circuit board. A general UV selective thermosetting solder resist was applied to this surface to have a thickness of 40 µm, dried, and exposed and developed to form a permanent protective film on both surfaces. The total thickness of the insulating layer of this printed circuit board was 315 mu m. The evaluation results are shown in Table 1.

[측정방법][How to measure]

(1) 휘어짐·비틀어짐(1) warping and twisting

워크 사이즈 250 x 250㎜ 안에, 30 x 30㎜ 사이즈의 프린트 배선판을 36개 부착하여, 각 실시예, 비교예의 구성으로 다층 프린트 배선판을 제작하였다. 이 다층 프린트 배선판 단독을 개별적으로 떼어낸 것, 프린트 배선판의 중앙에 13 x 13㎜의 플립 칩을 리플로우 퍼니스를 통하여 탑재한 것의 휘어짐·비틀어짐을 측정하고, 그 최대값을 나타낸다. 여기서, 리플로우 퍼니스는 최고 온도가 260℃이다.36 printed wiring boards of a 30x30 mm size were affixed in the work size 250x250 mm, and the multilayer printed wiring board was produced by the structure of each Example and a comparative example. The warp and twist of the multilayer printed wiring board alone and the one mounted with a 13 x 13 mm flip chip in the center of the printed wiring board through the reflow furnace are measured, and the maximum value is shown. Here, the reflow furnace has a maximum temperature of 260 ° C.

(2) 탄성률(2) modulus of elasticity

 각 실시예, 비교예의 구성으로 동박을 사용하지 않고, 동일하게 적층하여 적층판을 제작하고, DMA법으로 측정하여 260℃인 때의 탄성률을 나타내었다.In the structure of each Example and a comparative example, without using copper foil, it laminated | stacked similarly and produced the laminated board, measured by DMA method, and showed the elasticity modulus at 260 degreeC.

<표 1> 인쇄회로기판의 비틀어짐 및 휘어짐(㎛)<Table 1> Twisting and Warping of Printed Circuit Board (㎛)

구분division 인쇄회로기판 단독Printed circuit board alone 플립 칩 탑재 후After flip chip mounting 탄성율(㎏f/㎠) 260℃Elastic modulus (kgf / ㎠) 260 ℃ 실시예 1-1Example 1-1 < 100<100 189189 22132213 실시예 1-2Example 1-2 < 100<100 161161 21692169 실시예 1-3Example 1-3 < 100<100 155155 20672067 비교예 1-1Comparative Example 1-1 < 100<100 721721 14781478 비교예 1-2Comparative Example 1-2 < 100<100 433433 16011601 비교예 1-3Comparative Example 1-3 < 100<100 319319 21082108 비교예 1-4Comparative Example 1-4 < 100<100 381381 15551555 비교예 1-5Comparative Example 1-5 < 100<100 368368 13891389 실시예 2-1Example 2-1 < 100<100 183183 22212221 실시예 2-2Example 2-2 < 100<100 118118 21972197 비교예 2-1Comparative Example 2-1 < 100<100 441441 16081608 비교예 2-2Comparative Example 2-2 < 100<100 339339 21052105 비교예 2-3Comparative Example 2-3 < 100<100 355355 14771477 실시예 3-1Example 3-1 <50<50 7878 20172017 실시예 3-2Example 3-2 <50<50 6767 22232223 실시예 3-3Example 3-3 <50<50 100100 23192319 비교예 3-1Comparative Example 3-1 <50<50 597597 13201320 비교예 3-2Comparative Example 3-2 <50<50 713713 11061106

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 물론이다.The present invention is not limited to the above embodiments, and many variations are possible by those skilled in the art within the spirit of the present invention.

상술한 바와 같이 본 발명의 일 측면에 따른 동박적층판과 인쇄회로기판은 유리전이온도가 상이한 열경화성 수지 조성물을 포함하여 반도체 칩을 플립 칩 본딩에서 리플로우 퍼니스을 통하여 접속하는 경우 기판의 휘어짐이나 비틀림이 매우 적어 안정적으로 실장 할 수 있다. 이외에 와이어 본딩 등에 의한 다른 실장에서도 휘어짐이나 비틀림이 매우 적은 것은 물론이다. 본 발명의 다른 일 측면에 따르면 최외층이 에디티브법으로 회로형성이 가능하여 라인/스페이스=30/30㎛ 이하의 세밀한 회로폭과 회로간 간격을 가지는 미세배선을 형성할 수 있다. As described above, the copper-clad laminate and the printed circuit board according to an aspect of the present invention include a thermosetting resin composition having a different glass transition temperature, and thus, when the semiconductor chip is connected through a reflow furnace in flip chip bonding, the bending and twisting of the substrate are very high. It can be mounted stably. In addition, of course, the bending and torsion are very small in other mounting by wire bonding. According to another aspect of the present invention, the outermost layer can form a circuit by the additive method, thereby forming a fine wiring having a fine circuit width and an interval between circuits with a line / space = 30/30 μm or less.

본 발명에 따라 형성된 고밀도 다층 인쇄회로기판은 반도체 칩을 탑재 접속하여 주로 소형, 경량의 반도체 플라스틱 패키지 등에 사용될 수 있고, 메인보드용 으로 사용할 수 있음은 물론이다. The high density multilayer printed circuit board formed in accordance with the present invention can be mainly used in a small, lightweight semiconductor plastic package, etc. by mounting and connecting a semiconductor chip, of course, can be used for the main board.

Claims (20)

리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 리플로우 처리시의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 내측 절연층을 포함하는 동박적층판.The outermost insulating layer containing the thermosetting resin composition which has a glass transition temperature more than the maximum temperature at the time of reflow processing, and the thermosetting resin which is located inside the outermost insulating layer and has the glass transition temperature below the maximum temperature at the time of reflow processing. Copper clad laminated board comprising an inner insulating layer comprising a composition. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 최외측 절연층과 상기 내측 절연층의 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 동박적층판.A copper clad laminate having an elastic modulus of at least 2000 kgf / mm 2 during reflow treatment of the outermost insulating layer and the inner insulating layer. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 최외측 절연층은 상기 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃이상 높은 유리전이온도를 가지는 동박적층판.And said outermost insulating layer has a glass transition temperature that is at least 10 [deg.] C. higher than the highest temperature during said reflow process. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 내측 절연층은 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 보강 기재로 포함하 는 동박적층판.The inner insulation layer is a copper clad laminate comprising a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric as a reinforcing substrate. 삭제delete 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 열경화성 수지 조성물은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스 말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 함유 폴리페닐렌 에테르 수지 및 이들의 난연화된 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 수지를 포함하는 동박적층판.The thermosetting resin composition is a copper-clad laminate comprising at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, cyanic acid ester resins, bis maleimide resins, polyimide resins, functional group-containing polyphenylene ether resins and flame retardant resins thereof. 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 동박적층판을 이용한 플립 칩 탑재용 인쇄회로 기판.A printed circuit board for flip chip mounting using the copper clad laminate. 리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 상기 리플로우 처리시의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 내측 절연층은 포함하는 인쇄회로기판.The outermost insulating layer containing the thermosetting resin composition which has a glass transition temperature more than the maximum temperature at the time of reflow processing, and the thermosetting property which is located inside the outermost insulating layer and has the glass transition temperature below the maximum temperature at the time of said reflow processing. A printed circuit board comprising an inner insulating layer comprising a resin composition. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 최외측 절연층과 상기 내층 절연층의 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 인쇄회로기판.The elasticity modulus of the outermost insulating layer and the inner layer insulating layer in the reflow process is more than 2000kgf / mm2. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 최외측 절연층은 상기 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃이상 높은 유리전이온도를 가지는 인쇄회로기판.The outermost insulating layer is a printed circuit board having a glass transition temperature 10 ℃ or more higher than the maximum temperature during the reflow process. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 내측 절연층은 전방향족 폴리아미드 섬유 직포를 보강 기재로 포함하는 인쇄회로기판.The inner insulation layer is a printed circuit board comprising a wholly aromatic polyamide fiber woven fabric as a reinforcing substrate. 열경화성 수지 조성물로 에디티브 방식으로 회로를 형성할 수 있는 수지를 포함하는 최외측 절연층과, 상기 최외측 절연층의 내측에 위치하고 리플로우 처리시의 최고온도 이상의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 제1 내부 절연층을 포함하는 인쇄회로 기판.A thermosetting resin composition having an outermost insulating layer containing a resin capable of forming a circuit in an additive manner with a thermosetting resin composition, and having a glass transition temperature of at least the highest temperature at the time of reflow treatment, which is located inside the outermost insulating layer. A printed circuit board comprising a first internal insulating layer comprising a. 청구항 12에 있어서,The method according to claim 12, 상기 최외측 절연층과 상기 제1 내부 절연층은 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 인쇄회로기판.The outermost insulating layer and the first inner insulating layer has a modulus of elasticity of at least 2000 kgf / mm 2 during reflow treatment. 청구항 12에 있어서,The method according to claim 12, 상기 제1 내부 절연층의 내측에 형성되고, 상기 리플로우 처리의 최고온도 이하의 유리전이온도를 가지는 열경화성 수지 조성물을 포함하는 제2 내부 절연층을 더 포함하는 인쇄회로기판.And a second inner insulation layer formed inside the first inner insulation layer, the second inner insulation layer including a thermosetting resin composition having a glass transition temperature below a maximum temperature of the reflow process. 청구항 14에 있어서,The method according to claim 14, 상기 제2 내부 절연층은 리플로우 처리 시 탄성율은 2000kgf/㎟이상인 인쇄회로기판.The second internal insulating layer has a modulus of elasticity of at least 2000 kgf / mm 2 during reflow. 청구항 12에 있어서,The method according to claim 12, 상기 제1 내부 절연층은 상기 리플로우 처리시의 최고온도보다 10℃ 이상의 높은 유리전이온도를 가지는 인쇄회로기판.And the first internal insulating layer has a glass transition temperature of 10 ° C. or higher than a maximum temperature during the reflow process. 청구항 12에 있어서,The method according to claim 12, 상기 최외측 절연층은 기재에 의해 보강되어 있는 인쇄회로기판.The outermost insulating layer is a printed circuit board reinforced by a substrate. 청구항 17에 있어서,The method according to claim 17, 상기 기재 보강된 절연층을 솔더 레지스트로 이용한 인쇄회로기판.Printed circuit board using the substrate reinforced insulating layer as a solder resist. 삭제delete 청구항 8 내지 18 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 to 18, 상기 열경화성 수지 조성물은 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스 말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 관능기 함유 폴리페닐렌 에테르 수지 및 이들의 난연화된 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 수지를 포함하는 인쇄회로기판.The thermosetting resin composition is a printed circuit board comprising at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a bis maleimide resin, a polyimide resin, a functional group-containing polyphenylene ether resin, and flame retardant resins thereof. .
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