KR100642677B1 - Ultrasonic probe and preparing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 초음파 탐촉자 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 초음파 탐촉자는, 압전 단결정 웨이퍼의 초음파 송수신면과 그 반대쪽 면에 위치되는 두 전극(제1 전극 및 제2 전극)이, 상기 압전 단결정의 각각 다른 측면으로부터 소정 거리 안쪽 위치에서 압전 단결정 웨이퍼의 주 표면상에 형성된 홈(groove)에 의해 분리되어 있는 구조를 가지며, 이에 따라 접지용 전극판은 상기 압전 단결정의 측면에서 제1 전극에 접합되고 신호용 인쇄회로기판은 직각으로 접힌 말단 구조로 상기 압전 단결정 웨이퍼의 주 표면 상의 제2 전극에 고정 접합될 수 있으므로, 우수한 압전 특성을 나타내면서도 홈 형성에 의한 전극 분리에 의해 불필요한 진동 발생이 효과적으로 억제될 수 있다.The present invention relates to an ultrasonic transducer and a method of manufacturing the same, and the ultrasonic transducer according to the present invention includes two electrodes (a first electrode and a second electrode) positioned on an ultrasonic transceiving surface and an opposite surface of a piezoelectric single crystal wafer. It has a structure separated by grooves formed on the main surface of the piezoelectric single crystal wafer at a predetermined distance inward from each other side of the single crystal, so that the grounding electrode plate is connected to the first electrode on the side of the piezoelectric single crystal. Since the bonded and signal printed circuit board can be fixedly bonded to the second electrode on the main surface of the piezoelectric single crystal wafer in a terminal structure folded at right angles, an unnecessary vibration can be effectively generated by electrode separation due to groove formation while exhibiting excellent piezoelectric characteristics. Can be suppressed.
Description
도 1은 본 발명에 따른 초음파 탐촉자의 사시도이고,1 is a perspective view of an ultrasonic probe according to the present invention,
도 2a 내지 도 2c는 본 발명에 따른 초음파 탐촉자의 제조에 있어서 단결정 웨이퍼 상에 전극 및 전극분리부(홈)을 형성하는 과정을 보여주는 도이고,2A to 2C are views illustrating a process of forming an electrode and an electrode separator (groove) on a single crystal wafer in manufacturing an ultrasonic probe according to the present invention.
도 3a 내지 3d는 본 발명에 따라 전극층이 형성된 웨이퍼를 이용한 초음파 탐촉자의 제조과정을 보여주는 도이고,3A to 3D are views illustrating a manufacturing process of an ultrasonic probe using a wafer having an electrode layer according to the present invention;
도 4a 및 4b는 실시예 및 비교예에 따라 전극을 형성한 경우의 초음파 탐촉자의 진동 특성을 비교하여 나타낸 도이다.4A and 4B are diagrams showing the vibration characteristics of the ultrasonic probe when the electrode is formed according to the Examples and Comparative Examples.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10: 웨이퍼 10: wafer
10a: 웨이퍼의 제1 주면 10b: 웨이퍼의 제2 주면10a: first principal plane of
10c: 웨이퍼의 제1 측면 10d: 웨이퍼의 제2 측면10c: first side of the
20": 전극층20 ": electrode layer
20: 제1 전극층 20': 제2 전극층20: first electrode layer 20 ': second electrode layer
30: 전극층 상의 분리부로서의 홈 40: 후면층 30: groove as separator on electrode layer 40: back layer
50: 접지용 전극판 60: 신호용 유연성 인쇄회로기판 50: grounding electrode plate 60: signal flexible printed circuit board
70: 에폭시 페이스트 80: 음향정합층70: epoxy paste 80: acoustic matching layer
100: 전극층이 형성된 웨이퍼100: wafer on which electrode layer is formed
본 발명은 새로운 초음파 탐촉자 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 특히 고온처리가 필요 없고 진동발생이 감소된 우수한 성능의 초음파 탐촉자에 관한 것이다.The present invention relates to a novel ultrasonic transducer and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an ultrasonic transducer having excellent performance with no high temperature treatment and reduced vibration.
최근 납 지르코니아 티타네이트 (Pb(Zr,Ti)O3, 이하 PZT) 보다 뛰어난 물성의 압전 재료를 요구하게 되었으며, 그러한 재료로서, 납 지르코니아 니오베이트-납 티타네이트 (Pb(Zn1/3 Nb2/3)O3-PbTiO3, 이하 PZN-PT) 또는 납 마그네슘 니오베이트-납 티타네이트 (Pb(Mg1/3 Nb2/3)O3-PbTiO3, 이하 PMN-PT) 압전 단결정이 개발되었다.Recently, there has been a demand for piezoelectric materials of superior properties to lead zirconia titanate (Pb (Zr, Ti) O 3 , hereinafter PZT), and such materials include lead zirconia niobate-lead titanate (Pb (Zn 1/3 Nb 2). / 3) O 3 -PbTiO 3, below PZN-PT) or lead magnesium niobate-lead titanate (Pb (Mg 1/3 Nb 2/3) O 3 -PbTiO 3, hereinafter PMN-PT) single crystal piezoelectric developed It became.
이들 압전 단결정은 기존의 PZT 세라믹스보다 전기-음향 변환 효율을 나타내는 전기기계 결합계수(k33)가 약 20%, 발·수신 성능을 좌우하는 압전계수(d33)가 약 2배 이상의 성능 향상을 나타내고 있다. 그러나 상기 PMN-PT 단결정은 상전이 온도가 PZT보다 낮아 열에 매우 약하다는 단점이 있다. PZT의 경우 상전이 온도가 200 내지 385℃ 범위인데 반해 예를 들어 0.67PMN-0.33PT의 경우 상전이 온도가 150℃ 정도이다. 따라서, 이들 압전 단결정에 상전이 온도 보다 높은 열이 가해지게 되면 분극 처리가 풀려 진동을 할 수 없게 된다. 상기와 같이 낮은 상전이 온도로 인해, 상기 PMN-PT 단결정은 탐촉자 제작 공정에서 발생 할 수 있는 열에 대해 매우 민감하며, 각 스택(stack) 들의 접착에 필요한 경화공정 중 가해지는 열에 의해서도 영향받기 쉽다.These piezoelectric single crystals have an electromechanical coupling coefficient (k 33 ) that exhibits electro-acoustic conversion efficiency over conventional PZT ceramics, and the piezoelectric coefficient (d 33 ), which determines the emission and reception performance, is about two times better. It is shown. However, the PMN-PT single crystal has a disadvantage in that its phase transition temperature is lower than that of PZT, which is very weak to heat. In the case of PZT, the phase transition temperature is in the range of 200 to 385 ° C, whereas for example, 0.67PMN-0.33PT, the phase transition temperature is about 150 ° C. Therefore, when heat higher than the phase transition temperature is applied to these piezoelectric single crystals, the polarization treatment is released and vibration is impossible. Due to the low phase transition temperature as described above, the PMN-PT single crystal is very sensitive to the heat generated in the transducer manufacturing process and is also affected by the heat applied during the curing process required for bonding of the stacks.
한편, 탐촉자의 제조 공정에서 일반적으로 웨이퍼와 유연성 인쇄회로기판(FPCB, flexible printed circuit board)의 전기적 연결을 위해서는 솔더링(soldering) 공정을 이용하거나 에폭시 페이스트 접착 공정을 이용한다. 솔더링 공정을 이용하는 경우는 작업이 간단하지만 공정상 가해지는 열이 문제가 되며, 에폭시 페이스트를 이용하는 경우는 웨이퍼에 과도한 열을 가할 필요가 없다는 장점이 있지만 웨이퍼와 후면층(backing layer) 사이에 층이 삽입됨으로 인해 탐촉자의 특성에 안 좋은 영향을 줄 수 있고, 또한 정밀하게 FPCB를 제작하여 접착하여야 하므로 많은 비용이 드는 단점이 있다.Meanwhile, in the manufacturing process of the probe, a soldering process or an epoxy paste bonding process is generally used for electrical connection between the wafer and the flexible printed circuit board (FPCB). The soldering process is simple, but the heat applied to the process is a problem, and the use of epoxy paste does not require excessive heat on the wafer, but there is a layer between the wafer and the backing layer. Due to the insertion, the characteristics of the transducer may be adversely affected, and also, since the FPCB needs to be precisely manufactured and bonded, there is a disadvantage in that the cost is high.
최근에는 일반 에폭시 페이스트 보다 전도성이 우수한 은 에폭시 페이스트를 이용하여 삽입되는 에폭시 층의 두께를 줄이고자 하고 있지만, 상기 문제는 여전히 해결되지 않고 있다.Recently, it has been attempted to reduce the thickness of the epoxy layer inserted using silver epoxy paste, which is more conductive than ordinary epoxy paste, but the problem is still not solved.
따라서, 본 발명의 목적은, 압전 단결정 웨이퍼를 이용하여 탐촉자를 제작하 는데 있어서 탐촉자의 성능에 영향을 주지 않으면서도 웨이퍼에 전기적으로 잘 연결할 수 있는 새로운 전극 디자인 및 FPCB 결합 방법을 제공하는데 있다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel electrode design and FPCB bonding method capable of electrically connecting to a wafer without affecting the performance of the transducer in fabricating the transducer using a piezoelectric single crystal wafer.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 In order to achieve the above object, in the present invention
(A) 제1 주면, 제2 주면, 제1 측면 및 제2 측면을 구비한 압전 단결정 기판, (A) a piezoelectric single crystal substrate having a first main surface, a second main surface, a first side surface, and a second side surface,
(B) 상기 압전 단결정 기판의 제1 주면 및 제2 주면 상에 각각, 상기 압전 단결정 기판의 제2 측면 및 제1 측면으로부터 소정 거리 이격되어 압전 단결정 기판의 길이 방향으로 연장되어 형성된 두 개의 홈에 의해 서로 구별되는, (a) 압전 단결정 기판의 제1 측면과 제2 주면의 일부 및 제1 주면을 실질적으로 덮고 있는 제1 전극층 및 (b) 압전 단결정 기판의 제2 측면과 제1 주면의 일부 및 제2 주면을 실질적으로 덮고 있는 제2 전극층,(B) two grooves formed on the first main surface and the second main surface of the piezoelectric single crystal substrate, respectively, spaced apart from the second side surface and the first side surface of the piezoelectric single crystal substrate and extending in the longitudinal direction of the piezoelectric single crystal substrate. (A) a part of the first side and the second main surface of the piezoelectric single crystal substrate and a first electrode layer substantially covering the first main surface, and (b) a part of the second side and the first main surface of the piezoelectric single crystal substrate And a second electrode layer substantially covering the second main surface,
(C) 상기 압전 단결정 기판의 제2 주면 상에 위치한 전극층에 접합된 후면층,(C) a back layer bonded to the electrode layer located on the second main surface of the piezoelectric single crystal substrate,
(D) 상기 압전 단결정 기판의 제1 측면 상에 위치한 제1 전극층에 접합된 접지용 전극판, 및(D) an electrode plate for ground bonded to the first electrode layer on the first side of the piezoelectric single crystal substrate, and
(E) 말단부가 직각으로 접혀, 상기 압전 단결정 기판의 제2 측면 상의 제2 전극층을 지나 제1 주면에 위치한 홈 앞에서 제2 전극층에 접합된, 신호용 유연성 인쇄회로기판을 포함하는 구조를 가짐을 특징으로 하는 초음파 탐촉자를 제공한다.(E) the terminal portion is folded at right angles and has a structure including a flexible printed circuit board for signaling, past the second electrode layer on the second side of the piezoelectric single crystal substrate and bonded to the second electrode layer in front of a groove located on the first main surface. An ultrasonic transducer is provided.
또한, 본 발명에서는In the present invention,
(1) 압전 단결정 기판의 제1 주면, 제2 주면, 제1 측면 및 제2 측면에 전극층을 증착시키고,(1) depositing an electrode layer on the first main surface, the second main surface, the first side, and the second side of the piezoelectric single crystal substrate,
(2) 상기 압전 단결정 기판의 제1 주면 및 제2 주면 상의 전극층에 각각 제2 측면 및 제1 측면으로부터 소정 거리 이격된 위치에서 상기 압전 단결정 기판의 길이 방향으로 홈(groove)을 형성하여, 상기 단계 1)에서 형성된 전극층을 제1 전극층과 제2 전극층으로 분리하고,(2) grooves are formed in the longitudinal direction of the piezoelectric single crystal substrate at positions spaced apart from the second side surface and the first side surface on the first main surface and the electrode layer on the second main surface of the piezoelectric single crystal substrate, respectively, The electrode layer formed in step 1) is separated into a first electrode layer and a second electrode layer,
(3) 상기 압전 단결정 기판의 제2 주면 상에 위치한 전극층에 후면층(backing layer)을 형성하고, (3) forming a backing layer on the electrode layer located on the second main surface of the piezoelectric single crystal substrate,
(4) 상기 압전 단결정 기판의 제1 측면 상에 위치한 제1 전극층에는 접지용 전극판을 접합시키고, 제2 전극층에는, 상기 압전 단결정 기판의 제2 측면 상의 제2 전극층을 지나 제1 주면에 위치한 홈 앞에서 말단부가 직각으로 접힌 구조의 신호용 유연성 인쇄회로기판을 접합시키는 것을 포함하는, 초음파 탐촉자의 제조방법을 제공한다.(4) A grounding electrode plate is bonded to the first electrode layer located on the first side of the piezoelectric single crystal substrate, and the second electrode layer is positioned on the first main surface past the second electrode layer on the second side of the piezoelectric single crystal substrate. Provided is a method of manufacturing an ultrasonic probe, comprising bonding a flexible printed circuit board for a signal having a structure in which a distal end is folded at right angles in front of a groove.
이하, 본 발명을 보다 상세히 기술한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
초음파 탐촉자는 일반적으로 압전 단결정을 이용한 웨이퍼, 상기 웨이퍼의 초음파 송/수신면과 그 반대쪽 상에 위치된 한 쌍의 전극을 형성한 초음파 송/수신 소자, 송/수신 면과 연결된 전극 위에 형성된 음향 정합층, 상기 초음파 송수신면 상의 전극과 그 반대쪽 면 상의 전극에 각각 연결된 접지용 전극판(ground electrode plate)과 신호용 유연성 인쇄회로기판(flexible printed circuit board)을 포함한다. 또한, 상기 음향 정합층 위에는 음향 정합층 전체를 덮을 수 있도록 음향 렌즈가 위치되게 된다.Ultrasonic transducers generally include a wafer using a piezoelectric single crystal, an ultrasonic transmitting / receiving element having a pair of electrodes positioned on the opposite side of the ultrasonic transmitting / receiving surface of the wafer, and an acoustic matching layer formed on the electrode connected to the transmitting / receiving surface And a ground electrode plate and a flexible printed circuit board for signaling, respectively, connected to the electrodes on the ultrasonic transceiving surface and the electrodes on the opposite side thereof. In addition, an acoustic lens is positioned on the acoustic matching layer to cover the entire acoustic matching layer.
본 발명에 따른 초음파 탐촉자는, 압전 단결정 웨이퍼의 초음파 송수신면과 그 반대쪽 면에 위치되는 두 전극(제1 전극 및 제2 전극)이, 상기 압전 단결정의 각각 다른 측면으로부터 전극층과 접지전극판 또는 인쇄회로기판의 결합을 위한 에폭시 페이스트 도포 거리 이상의 안쪽 위치에 형성된 홈(groove)에 의해 분리되어 있는 구조를 가지며, 이에 따라 접지용 전극판은 상기 압전 단결정의 측부 상에서 제1 전극에 접합되고 신호용 인쇄회로기판은 직각으로 접힌 말단 구조로 제2 전극에 고정 접합됨을 특징으로 한다.The ultrasonic probe according to the present invention is characterized in that two electrodes (first electrode and second electrode) positioned on the ultrasonic transceiving surface of the piezoelectric single crystal wafer and on the opposite side thereof have an electrode layer and a ground electrode plate or printed from each other side of the piezoelectric single crystal. It has a structure separated by a groove formed in the inner position of the epoxy paste coating distance for bonding the circuit board, so that the grounding electrode plate is bonded to the first electrode on the side of the piezoelectric single crystal and the signal printed circuit The substrate is fixedly bonded to the second electrode in a terminal structure folded at right angles.
본 발명에 따른 초음파 탐촉자는 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같은 공정에 의하여 제조할 수 있다.The ultrasonic probe according to the present invention can be manufactured by a process as shown in FIGS. 2 and 3.
우선, 도 2a와 같이 제1 주면(10a), 제2 주면(10b), 제1 측면(10c) 및 제2 측면(10d)을 가진 압전 단결정 웨이퍼 기판(10)을 준비하여, 도 2b에서와 같이, 단결정 웨이퍼의 상기 네 면(10a, 10b, 10c 및 10d)에 스퍼터링(sputtering), 전자-빔(electronic-beam), 열 증발(thermal evaporation) 또는 전해도금(electro plating)의 방법을 통해서 전극층(20'')을 증착시킨다.First, as shown in FIG. 2A, a piezoelectric single
본 발명의 초음파 탐촉자에 사용되는 단결정 기판은 20 내지 500,000㎛ 범위, 바람직하게는 50 내지 400㎛ 범위의 두께를 갖는다. 상기 전극층은 각각 크롬, 구리, 니켈, 금 등의 전도성 막으로 구성될 수 있으며, 전극 두께는 100 내지 10,000Å 범위일 수 있다.The single crystal substrate used in the ultrasonic probe of the present invention has a thickness in the range of 20 to 500,000 μm, preferably in the range of 50 to 400 μm. The electrode layer may be composed of a conductive film, such as chromium, copper, nickel, gold, respectively, the electrode thickness may be in the range of 100 to 10,000Å.
이어서, 도 2c에서와 같이, 상기 압전 단결정 웨이퍼의 제1 주면 및 제2 주 면 상의 전극층에 각각 홈(30,30')을 내어 전극층(20")을 2개의 전극층(20,20')으로 분리(isolation)시킨다. 이러한 분리는 예를 들면 다이싱 톱(dicing saw)을 이용하여 일정 깊이의 홈을 냄으로써 수행할 수 있다. 구체적으로, 상기 홈(30,30')은 각각, 상기 압전 단결정 웨이퍼의 제2 측면 및 제1 측면으로부터, 소정 거리 안쪽에 위치되며, 전극층을 (a) 압전 단결정 웨이퍼의 제1 측면과 제2 주면의 일부 및 제1 주면을 실질적으로 덮고 있는 제1 전극층과 (b) 압전 단결정 웨이퍼의 제2 측면과 제1 주면의 일부 및 제2 주면을 실질적으로 덮고 있는 제2 전극층으로 분리하게 된다. 상기 제1 전극층은 추후 접지용 전극판과, 상기 제2 전극층은 추후 신호용 FPCB와 결합하게 된다. Subsequently, as shown in FIG. 2C,
상기 홈(30,30')은 각각 웨이퍼의 측면으로부터 예를 들면 전극층과 접지용 전극판 또는 인쇄회로기판(FPCB)의 결합을 위한 접착제 도포 거리 이상의 안쪽 위치에, 예를 들면 1 내지 1.5 mm 정도 안쪽 위치에서 형성되는 것이 접착제 도포 공간 부여에 바람직하다. 상기 홈은 또한 웨이퍼 두께의 70 내지 80% 범위의 깊이까지 형성되는 것이 진동 발생 억제 면에서 바람직하다. 상기 접착제로는 에폭시 페이스트, 바람직하게는 은 에폭시 페이스트를 사용할 수 있다.The
이어서, 도 3a에 도시한 바와 같이, 전극층이 형성된 웨이퍼(100)에, 즉 상기 압전 단결정 웨이퍼의 제2 주면 상에 위치한 전극층에, 통상의 방법으로 후면층(backing layer)(40)을 형성한 다음, 도 3b 및 3c에서와 같이, 은 에폭시 페이스트(70)를 사용하여, 상기 압전 단결정 웨이퍼의 제1 측면(10c) 상에 위치한 제1 전극층(20)에는 접지용 전극판(50)을 접합시키고, 제2 전극층(20')에는 신호용 유연성 인쇄회로기판(FPCB)(60)을 접합시키되, 이 신호용 FPCB(60)은 상기 압전 단결정 기판의 제2 측면(10d) 상의 제2 전극층을 지나 제1 주면(10a)에 위치한 홈(30)을 넘어가지 않는 한도 내에서 제2 전극층(20)에 접합시킨다. 이때 신호용 FPCB는 말단부가 직각으로 접혀 고정되며, 이는 웨이퍼의 진동에 큰 영향을 주지 않는다.Subsequently, as shown in FIG. 3A, a
이어서, 도 3d에서와 같이 상기 압전 단결정 웨이퍼의 제1 주면 상에 위치한 전극층 위에 음향정합층(80)을 접착하고, 그 위에 음향 렌즈를 덮어 본 발명에 따른 초음파 탐촉자를 완성하게 된다. 상기 음향정합층은 1층 이상일 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 3D, the
본 발명에 따른 제작 공정에 의해 초음파 탐촉자를 제조하게 되면 효과적인 진동특성을 보이게 되며 이는 넓은 대역폭과 높은 감도를 가지게 하는 등의 잇점이 있다. When the ultrasonic transducer is manufactured by the manufacturing process according to the present invention, an effective vibration characteristic is shown, which has advantages such as wide bandwidth and high sensitivity.
본 발명에 따른 초음파 탐촉자에 사용될 수 있는 압전 단결정은 예를 들면 통상의 강유전성 압전 단결정으로서, 예를 들면 하기 화학식 1의 조성을 가진 물질을 비롯한 PMN-PT인 것이 바람직하며, 이에 국한되는 것은 아니다.The piezoelectric single crystal that can be used in the ultrasonic probe according to the present invention is, for example, a conventional ferroelectric piezoelectric single crystal, for example, preferably PMN-PT including, but not limited to, a material having a composition of
상기 식에서, [A]는 납 마그네슘 나이오베이트[Pb(Mg1/3Nb2/3)O3] 또는 납 아연 나이오베이트[Pb(Zn1/3 Nb2/3)O3]이고, [B]는 납 타이타네이트[PbTiO3 ]이며, [C]는 리튬 탄탈레이트[LiTaO3] 또는 리튬 나이오베이트[LiNbO3]이고, [P]는 백금, 금, 은, 팔 라디움 및 로디움으로 이루어진 군 중에서 선택된 하나의 금속이며, [N]은 니켈, 코발트, 철, 스트론티움, 스칸디움, 루쎄니움, 구리 및 카드뮴으로 이루어진 군 중에서 선택된 하나의 금속의 산화물이고, x는 0.65 내지 0.98 범위의 수이며, y는 0.01 내지 0.34 범위의 수이고, z는 0.01 내지 0.1 범위의 수이며, p 및 n은 각각 0.01 내지 5 범위의 수이다.Wherein [A] is lead magnesium niobate [Pb (Mg 1/3 Nb 2/3 ) O 3 ] or lead zinc niobate [Pb (Zn 1/3 Nb 2/3 ) O 3 ], [B] is lead titanate [PbTiO 3 ], [C] is lithium tantalate [LiTaO 3 ] or lithium niobate [LiNbO 3 ], [P] is platinum, gold, silver, palladium and One metal selected from the group consisting of rhodium, [N] is an oxide of one metal selected from the group consisting of nickel, cobalt, iron, strontium, scandium, ruthenium, copper and cadmium, x is 0.65 A number ranging from 0.01 to 0.34, y is a number ranging from 0.01 to 0.34, z is a number ranging from 0.01 to 0.1, and p and n are each numbers ranging from 0.01 to 5, respectively.
상기 화학식 1의 조성을 갖는 압전 단결정은 한국 등록특허 제 392754 호에 개시된 바와 같이 제조될 수 있으며, 실온에서 5500 이상의 유전상수 값과 -20∼90℃의 넓은 온도범위에서 낮은 온도계수를 지닌, 우수한 온도 특성을 갖는다.The piezoelectric single crystal having the composition of
본 발명의 초음파 탐촉자는 상기 화학식 1의 조성을 갖는 압전 단결정을 압전 요소로 사용할 경우, 분극시 대략 1,000 내지 10,000 범위의 상대유전상수를 얻을 수 있다. 상기 화학식 1의 압전 단결정으로 구성된 압전 요소는 상용화되고 있는 PZT계 세라믹으로 이루어진 압전 요소에 비해 상대유전상수가 크기 때문에 송/수신 회로와의 매칭을 쉽게 얻을 수 있어, 케이블이나 기기의 부유용량(stray capacitance)으로 생기는 손실이 감소하며, 이에 따라 고감도의 신호를 얻을 수 있다. 본 발명에 따른 초음파 송/수신 소자에서, 면방향 (001)을 갖는 송/수신 표면에서 발산되는 음속은 1,200 내지 4,000 m/s (주파수 상수: 1,400 ∼ 2,000 Hz.m)이며, 전기기계 결합계수(k33')가 80 ∼ 95%로서 크다. When the ultrasonic probe of the present invention uses a piezoelectric single crystal having the composition of
본 발명의 초음파 탐촉자는 의료용 초음파 진단기 또는 군사용/산업용 초음파 변환기에 적용될 수 있다.The ultrasonic probe of the present invention can be applied to medical ultrasonic diagnostics or military / industrial ultrasonic transducers.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 단, 아래의 실시예가 본 발명을 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, an Example is given and this invention is demonstrated in detail. However, the following examples do not limit the present invention.
실시예Example
도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같은 공정으로 도 1에 도시한 바와 같은 초음파 탐촉자를 제작하였다.An ultrasonic probe as shown in FIG. 1 was manufactured by the process as shown in FIGS. 2 and 3.
우선, 0.4 내지 0.5 mm의 두께, 25-20 mm x 15-20 mm의 크기의 <001>면 압전 단결정 웨이퍼(10)를 준비하고(도 2a 참조), 단결정 웨이퍼의 제1 주면(10a), 제2 주면(10b), 제1 측면(10c) 및 제2 측면(10d)에 전자-빔(electronic-beam) 증착법을 통해서 전극층(20")(Cr/Cu/Au)을 1000 내지 2000Å 두께로 증착시켰다(도 2b 참조). 이어서, 상기 압전 단결정 기판의 제1 주면(10a) 및 제2 주면(10b) 상의 전극층에 다이싱 톱(dicing saw)으로 각각 홈(30,30')을 내어 전극층(20")을 2개의 전극층(20,20')으로 분리하였다(도 2c 참조). 이때, 홈(30,30')은 각각, 제2 측면(10d) 및 제1 측면(10c)으로부터 1-1.5mm 안쪽 위치에 형성하였으며, 각 홈의 깊이는 0.25-0.35mm였다.First, a <001> plane piezoelectric
이어서, 전극층이 형성된 웨이퍼(100)에, 상기 압전 단결정 기판의 제2 주면 상에 위치한 전극층 쪽에, 후면층(backing layer)(40)을 에폭시 페이스트를 이용하여 접착한 다음, 은 에폭시 페이스트(70)를 사용하여 상기 압전 단결정 기판의 제1 측면 상에 위치한 제1 전극층(20)에는 접지용 전극판을 접합시키고, 제2 전극층(20')에는 신호용 유연성 인쇄회로기판을 접합시켰다. 이때 신호용 FPCB는 상기 전극 분리용 홈(30)을 넘어가지 않는 한도 내에서 직각으로 접어 고정시켰다. Subsequently, a
이어서, 상기 압전 단결정 기판의 제1 주면 상에 위치한 전극층 쪽에 음향정합층(80)을 접착하고, 그 위에 음향 렌즈를 덮어 본 발명에 따른 초음파 탐촉자를 완성하였다.Subsequently, the
비교예Comparative example
종래의 마스킹 방법에 따라, 전극을 입히기 전에 전극 단리될 부분에 마스킹 테이프를 붙혀서 전극 코팅 한 후 마스킹 테이프를 제거하여 단리부를 만드는 방법에 의해 전극을 형성한 것을 제외하고는, 실시예와 동일하게 수행하여 초음파 탐촉자를 제조하였다.According to the conventional masking method, it is performed in the same manner as in the embodiment, except that the electrode is formed by attaching a masking tape to a portion to be isolated and coating the electrode before removing the electrode, and then removing the masking tape to form an isolation part. To prepare an ultrasonic transducer.
시험예 Test Example
본 발명에 따라 상기 실시예 및 비교예에서와 같이 전극을 형성한 경우의 진동 특성을 공진, 반공진 방법으로 측정하여 비교하였으며, 그 결과를 도 4a 및 4b에 나타내었다. According to the present invention, the vibration characteristics when the electrode was formed as in the above Examples and Comparative Examples were measured and compared by resonance and anti-resonance methods, and the results are shown in FIGS. 4A and 4B.
도 4b의 기존 방식에 따라 전극 단리부가 형성된 웨이퍼의 진동 특성을 보면 원치 않는 진동이 발생하는 것을 볼 수 있다(점선 내부). 이에 반해 본 발명에 따라 개선된 전극 단리부 형성법을 적용한 경우는 도 4a에서 보는 바와 같이 여분의 진동이 없어진 것을 볼 수 있다.When the vibration characteristics of the wafer in which the electrode isolator is formed according to the conventional method of FIG. 4B can be seen, unwanted vibrations occur (inside dashed lines). On the contrary, when the improved electrode isolator forming method is applied according to the present invention, it can be seen that excess vibration is eliminated as shown in FIG. 4A.
또한, 상기 실시예 및 비교예에 따라 제작된 탐촉자에 대한 특성을 비교하였으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다. In addition, the characteristics of the transducers manufactured according to the above Examples and Comparative Examples were compared, and the results are shown in Table 1 below.
상기 표에서 알 수 있듯이, 일반적인 마스킹 방법으로 전극단리부를 형성한 경우 본 발명에 따라 형성한 경우에 비해 최종 제작된 탐촉자에 있어서 감도도 떨어지고 대역폭도 더 낮다.As can be seen from the above table, when the electrode isolator is formed by a general masking method, the sensitivity is also lowered and the bandwidth is lower in the final manufactured transducer than in the case of forming the electrode according to the present invention.
본 발명에 따른 새로운 구조의 전극층 형성을 포함하는 초음파 탐촉자 제작 방법은 낮은 온도에서 전기적 접합을 수행할 수 있는 은 에폭시 페이스트를 이용하여 진동 발생없이 안정된 초음파 탐촉자를 제공할 수 있다.Ultrasonic transducer manufacturing method including the electrode structure of the novel structure according to the present invention can provide a stable ultrasonic transducer without generating vibration by using a silver epoxy paste capable of performing electrical bonding at a low temperature.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications or changes of the present invention can be easily carried out by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be seen to be included in the scope of the present invention.
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6456038A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-02 | Yokogawa Medical Syst | Ultrasonic probe |
JPH03153199A (en) * | 1989-11-10 | 1991-07-01 | Fujitsu Ltd | Ultrasonic probe |
JPH04156833A (en) * | 1990-10-19 | 1992-05-29 | Fujitsu Ltd | Ultrasonic probe |
JPH053598A (en) * | 1991-06-18 | 1993-01-08 | Toshiba Corp | Method for producing ultrasonic probe |
JPH06178393A (en) * | 1992-12-11 | 1994-06-24 | Aloka Co Ltd | Ultrasonic wave vibrator and its manufacture |
JPH119599A (en) | 1997-06-27 | 1999-01-19 | Toshiba Corp | Ultrasonic probe |
KR20030082303A (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-22 | 주식회사 프로소닉 | Ultrasonic transducer array |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6456038A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-02 | Yokogawa Medical Syst | Ultrasonic probe |
JPH03153199A (en) * | 1989-11-10 | 1991-07-01 | Fujitsu Ltd | Ultrasonic probe |
JPH04156833A (en) * | 1990-10-19 | 1992-05-29 | Fujitsu Ltd | Ultrasonic probe |
JPH053598A (en) * | 1991-06-18 | 1993-01-08 | Toshiba Corp | Method for producing ultrasonic probe |
JPH06178393A (en) * | 1992-12-11 | 1994-06-24 | Aloka Co Ltd | Ultrasonic wave vibrator and its manufacture |
JPH119599A (en) | 1997-06-27 | 1999-01-19 | Toshiba Corp | Ultrasonic probe |
KR20030082303A (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-22 | 주식회사 프로소닉 | Ultrasonic transducer array |
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