KR100636335B1 - 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지의 재생 장치 - Google Patents
반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지의 재생 장치 Download PDFInfo
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- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
- B28D5/007—Use, recovery or regeneration of abrasive mediums
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Abstract
Description
Claims (12)
- 제1분리기, 제2분리기 및 제3분리기를 포함하여 이루어지되,폐슬러지를 공급받아 상기 제1분리기에서 연마재+절삭분과 절삭분+절삭유로 분리하는 제1분리단계;상기 제1분리단계에서 분리된 연마재+절삭분에 솔벤트를 첨가하는 솔벤트첨가단계;상기 솔벤트첨가단계를 거쳐 만들어진 연마재+절삭분+솔벤트를 상기 제2분리기에서 연마재와 절삭분+솔벤트로 분리하는 제2분리단계; 및상기 제1분리기에서 분리된 절삭분+절삭유를 상기 제3분리기에서 절삭분과 절삭유로 분리하는 제3분리단계;를 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항에 있어서,연마재 회수를 위하여, 상기 제2분리기에서 분리된 연마재를 건조하는 연마재건조기를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제2항에 있어서,재생탱크를 구비하고,상기 재생탱크는 연마재건조기로부터 이송되어온 연마재와 상기 제3분리기에서 분리된 절삭유를 혼합하여 연마재+절삭유로 재생하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제3항에 있어서,상기 재생탱크에서의 연마재와 절삭유의 혼합 비율을 일정하게 유지할 수 있도록, 상기 연마재건조기와 상기 재생탱크 사이에 계량기를 구비하여 상기 재생탱크에 공급되는 연마재의 중량을 계량하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2분리기에서 분리된 연마재를 선별하여 큰 사이즈의 연마재는 상기 솔벤트첨가단계로 반송하는 선별기를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제5항에 있어서,상기 선별기 후단에 분쇄기를 구비하고,제어에 따라 상기 선별기에서 선별 과정을 수행하지 않고, 출하를 위하여 연마재를 상기 분쇄기에서 분쇄하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2분리기에서 분리된 절삭분+솔벤트와 상기 제3분리기에서 분리된 절삭분으로부터 절삭분을 회수하고, 회수된 절삭분을 SiC 합성 공정의 원료로 이용하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항에 있어서,상기 제2분리기에서 분리된 연마재를 건조하여 회수된 솔벤트와 상기 제2분리기에서 분리된 절삭분+솔벤트를 증류하여 회수된 솔벤트를 상기 솔벤트첨가단계에 공급하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1분리기의 전단에 제1열교환기가 구비되어, 폐슬러지가 상기 제1분리기에 공급되기에 앞서 1차 가온 되도록 하고,상기 제3분리기의 전단에 제2열교환기가 구비되어, 상기 제1분리단계에서 분리된 절삭분+절삭유가 상기 제3분리기에 공급되기에 앞서 2차 가온 되도록 하되,상기 제3분리기에서 분리된 절삭유의 열에너지를 재생하여 상기 제1열교환기의 열원으로 공급하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1분리기 및 상기 제3분리기는 원심 분리기이고,상기 제1분리기로 공급되는 폐슬러지의 온도에 따라 상기 제1분리기의 회전수를 가변 제어하는 제1콘트롤러와,상기 제3분리기로 공급되는 절삭분+절삭유의 온도에 따라 상기 제3분리기의 회전수를 가변 제어하는 제2콘트롤러를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2분리기는 원심 분리기, 하이드로사이클론 또는 중력침강 분리기인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제3분리기에서 분리된 절삭유에 포함되어 있는 미량의 절삭분을 추가적으로 분리하기 위하여, 상기 제3분리기로부터 배출된 절삭유를 다시 상기 제3분리기로 반송하여 절삭유와 절삭분으로 재분리하는 과정을 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조시 발생하는 폐슬러지 재생 장치.
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