KR100619335B1 - 근접장을 이용한 광변조기 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 근접장을 이용한 공간 광변조기에 관한 것으로서, 소정의 제 1 굴절률을 갖고, 일측면을 통하여 외부 광원으로부터 입사되는 입사광을 투과시키는 광 투과성 기판; 제 1 굴절률 보다 작은 제 2 굴절률을 갖고 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 입사광에 대한 전반사를 수행하여 근접장 영역을 형성하는 근접장 형성 부재; 및 제 2 굴절률보다 큰 제 3 굴절률을 갖고 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 근접장 영역에 접근 및 이탈함으로써 근접장을 변화시키는 구동 엘리먼트를 포함하여 구성되어 있다.
광변조기, 광 투과성 기판, 근접장 형성 부재, 구동 엘리먼트, 근접장, 굴절률, 반사, 회절.

Description

근접장을 이용한 광변조기{Optical modulator using a near-field }
도 1은 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기를 도시하는 도면.
도 2는 종래 기술의 정전기 방식 격자 광 변조기가 변형되지 않는 상태에서 입사광을 반사시키는 것을 도시하는 도면.
도 3은 종래 기술의 격자 광 변조기가 정전기력에 의해 변형된 상태에서 입사광을 회절시키는 것을 도시하는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 구동 엘리먼트가 근접장에 소정 거리 이격되어 위치한 광변조기의 단면도
도 5는 본 발명에 따른 구동 엘리먼트가 근접장 내부에 위치한 광변조기의 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 광 입사 수단이 부착되는 광 투과성 기판의 일측 상면도.
도 7(도 7a 및 도 7b)은 본 발명의 일실시예에 따른 구동 엘리먼트가 부착되는 광 투과성 기판의 일측 하면도.
도 8(도 8a 및 도 8b)는 본 발명의 다른 일실시예에 따른 구동 엘리먼트가 부착되는 광 투과성 기판의 다른 일측 하면도.
도 9(도 9a 및 도 9b)는 본 발명의 또 다른 일실시예에 따른 구동 엘리먼트가 부착되는 광 투과성 기판의 또 다른 일측 하면도.
도 10은 본 발명에 따른 광변조기를 구성하는 광 투과성 기판의 일측면에 의해 수행되는 입사광의 반사 및 회절을 설명하기 위한 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 광투과성 기판
200 : 근접장 형성 부재
210 : 근접장
300 : 구동 엘리먼트
310 : 하부 지지대
320 : 하부 전극층
330 : 압전층
340 : 상부 전극층
350 : 마이크로 미러층
400 : 광 입사 수단
1000 : 광변조기
본 발명은 근접장을 이용한 공간 광변조기에 관한 것으로서, 상이한 굴절률을 갖고 상호 접합되는 두 매질 사이에 형성되는 근접장을 변화시켜 입사광에 대한 반사 및 회절을 수행하는 근접장을 이용한 공간 광변조기에 관한 것이다.
일반적으로, 광신호처리는 많은 데이타 양과 실시간 처리가 불가능한 기존의 디지탈 정보처리와는 달리 고속성과 병렬처리 능력, 대용량의 정보처리의 장점을 지니고 있으며, 공간 광변조이론을 이용하여 이진위상 필터 설계 및 제작, 광논리게이트, 광증폭기 등과 영상처리 기법, 광소자, 광변조기 등의 연구가 진행되고 있다.
이중 공간 광변조기는 광메모리, 광디스플레이, 프린터, 광인터커넥션, 홀로그램 등의 분야에 사용되며, 이를 이용한 표시장치의 개발 연구가 진행되고 있다.
이러한 공간 광변조기로는 일예로 도 1에 도시된 바와 같은 반사형 변형 가능 격자 광변조기(10)이다. 이러한 광변조기(10)는 블룸 등의 미국특허번호 제 5,311,360호에 개시되어 있다. 광변조기(10)는 반사 표면부를 가지며 기판(16) 상부에 부유(suspended)하는 다수의 일정하게 이격하는 변형 가능 반사형 리본(18)을 포함한다. 절연층(11)이 실리콘 기판(16)상에 증착된다. 다음으로, 희생 이산화실리콘 막(12) 및 저응력 질화실리콘 막(14)의 증착이 후속한다.
질화물 막(14)은 리본(18)으로부터 패터닝되고 이산화실리콘층(12)의 일부가 에칭되어 리본(18)이 질화물 프레임(20)에 의해 산화물 스페이서층(12)상에 유지되도록 한다.
단일 파장 λ0를 가진 광을 변조시키기 위해, 변조기는 리본(18)의 두께와 산화물 스페이서(12)의 두께가 λ0/4가 되도록 설계된다.
리본(18)상의 반사 표면(22)과 기판(16)의 반사 표면 사이의 수직 거리 d로 한정된 이러한 변조기(10)의 격자 진폭은 리본(18)(제 1 전극으로서의 역할을 하는 리본(16)의 반사 표면(22))과 기판(16)(제 2 전극으로서의 역할을 하는 기판(16) 하부의 전도막(24)) 사이에 전압을 인가함으로써 제어된다.
변형되지 않은 상태에서, 즉, 어떠한 전압도 인가되지 않은 상태에서, 격자 진폭은 λ0/2와 같고, 리본과 기판으로부터 반사된 광 사이의 전체 경로차는 λ0와 같아서, 이러한 반사광에 위상을 보강시킨다.
따라서, 변형되지 않은 상태에서, 광변조기(10)는 평면거울로서 광을 반사한다. 변형되지 않은 상태가 입사광과 반사광을 도시하는 도 2에 20으로서 표시된다.
적정 전압이 리본(18)과 기판(16) 사이에 인가될 때, 정전기력이 리본(18)을 기판(16) 표면 방향으로 다운(down) 위치로 변형시킨다. 다운 위치에서, 격자 진폭은 λ0/4와 같게 변한다. 전체 경로차는 파장의 1/2이고, 변형된 리본(18)으로부터 반사된 광과 기판(16)으로부터 반사된 광이 상쇄 간섭을 하게 된다.
이러한 간섭의 결과, 변조기는 입사광(26)을 회절시킨다. 변형된 상태가 +/- 회절모드(D+1, D-1)로 회절된 광을 도시하는 도 3에 각각 28과 30으로 표시된다.
그러나, 상술한 바와 같은 종래의 광변조기는 리본이 동작하지 않은 상태에서도 리본과 리본 사이에 갭(gap)이 항상 존재하고, 이에 의거하여 상기 리본 사이의 갭에 입사되는 광에 대한 손실이 발생한다는 문제점이 있었다.
또한, 종래의 광변조기는 리본과 리본 사이의 갭에 의하여 발생하는 광손실을 최소화 하기 위하여 상기 갭(gap)을 최대한 줄여야 하는 복잡한 공정으로 인하여 구조가 복잡하고, 생산성이 저하될 뿐만 아이라 정확도가 감소된다는 문제점이 있었다.
또한, 종래의 광변조기는 리본이 동작하지 않은 경우에도 리본 사이의 갭에 의하여 어느 정도의 회절 현상이 항상 발생하고, 이에 의거하여 양호한 콘트라스트(contrast)를 제공할 수 없었다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 상이한 굴절률을 갖고 상호 접합되는 두 매질 사이에 형성되는 근접장을 변화시켜 입사광에 대한 반사 및 회절을 수행하는 근접장을 이용한 공간 광변조기를 제공하는 데 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 근접장을 이용한 광변조기는, 소정의 제 1 굴절률을 갖고, 일측면을 통하여 외부 광원으로부터 입사되는 입사광을 투과시키는 광 투과성 기판; 상기 제 1 굴절률 보다 작은 제 2 굴절률을 갖고, 상기 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 입사광에 대한 전반사를 수행하여 근접장을 형성하는 근접장 형성 부재; 및 상기 제 2 굴절률보다 큰 제 3 굴절률을 갖고, 상기 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 근접장에 접근 및 이탈함으로써 근접장을 변화시키는 구동 엘리먼트를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 근접장을 이용한 광변조기의 구성 및 동작을 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 근접장을 이용한 광변조기는 상이한 굴절률을 갖는 두 매질 사이에 발생하는 입사광의 내부 전반사에 의하여 형성되는 근접장을 변환시켜 입사광에 대한 반사 및 회절을 수행하는 것으로서, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 광 투과성 기판(100), 근접장 형성 부재(200) 및 구동 엘리먼트(300)를 포함하여 구성되어 있다.
이때, 본 발명에 따른 근접장을 이용한 광변조기는, 도 6에 도시된 바와 같이, 광 투과성 기판(100)의 일측면에 입사광의 입사각을 임계각(critical angle)이상이 되도록 조절하여 입사광을 근접장 형성 부재로 입사시키는 광입사 수단(400)인 프리즘을 더 형성하여 구성될 수 도 있다.
여기서, 도 4는 본 발명에 따른 구동 엘리먼트가 근접장 영역에 소정 거리 이격되어 위치한 광변조기의 단면도 이고, 도 5는 본 발명에 따른 구동 엘리먼트가 근접장 내부에 위치한 광변조기의 단면도 이다.
광 투과성 기판(100)은, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 일측면을 통하여 입사되는 입사광을 다른 일측면에 접합되어 형성된 소정의 제 2 굴절률(n2)을 갖는 근접장 형성 부재(200)로 입사시키는 역할을 수행하는 것으로서, 소정의 제 1 굴절률(n1)을 갖는 유리 또는 석영 등의 광투과성 매질로 구성되어 있다.
여기서, 광 투과성 기판(100)의 제 1 굴절률(n1)은 근접장 형성 부재(200)의 제 2 굴절률(n2)보다 큰 값을 갖고, 이에 의하여 광 투과성 기판(100)의 일측면을 통하여 입사되는 입사광은 굴절률의 차로 인하여 근접장 형성 부재(200)로 입사하여 내부 전반사를 수행하게 된다.
이때, 근접장 형성 부재(200)는 제 1 굴절률(n1)보다 작은 제 2 굴절률(n2)을 갖는 공기 등의 근접장 형성 매질로 구성되고, 입사광에 대한 내부 전반사에 의하여 광 투과성 기판(100)과의 접합면 부근에 입사광의 반사 및 회절에 영향을 미치는 근접장(210)을 발생시키는 역할을 수행한다.
또한, 광 투과성 기판(100)의 다른 일측면에는, 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 소정의 MEMS 공정에 의하여 전기적으로 구동 가능한 제 3 굴절률(n3)을 갖는 매질로 구성된 복수의 구동 엘리먼트(300)가 형성되어 있다.
이때, 구동 엘리먼트(300)는 근접장 형성 부재(200)의 제 2 굴절률(n2)보다 큰 제 3 굴절률(n3)을 갖는 부재로 구성되고, 구동 전압에 연동하여 근접장 형성 부재(200) 내부에 형성된 근접장(210)에 소정 거리 이격 및 근접 구동하여 상기 근접장(210)을 변화시키는 역할을 수행한다.
이하, 도 7 내지 도 9를 참조하여 상기 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되는 구동 엘리먼트의 구조를 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명에 따른 상기 제 3 굴절률(n3)을 갖는 구동 엘리먼트(300)는, 도 7a에 도시된 바와 같이, 양측 단부가 광 투과성 기판(100)에 부착된 상태로 하부 지지대(310)가 도출된 형상으로 구성되어 있다.
이때, 상기 하부 지지대(310)는 근접장(210)이 형성되는 제 2 굴절률(n2)을 갖는 근접장 형성 부재(200)가 광 투과성 기판(100)의 다른 일측면에 접합되어 형성될 수 있도록 하는 에어 스페이스를 제공할 뿐만 아니라 상기 구동 엘리먼트 (300)의 상·하 구동을 가능하게 한다.
여기서, 상기 하부 지지대(310)는 광 투과성 기판(100)을 통하여 입사되는 입사광을 반사시킬 수 있는 반사부재, 보다 구체적으로는 SiO2, Si3N4, Si, ZrO2, Al2O3 등의 재료로 구성되어 있다.
상기 하부 지지대(310)의 일측면상에는 외부 전원으로부터 인가되는 구동 전원을 인가받기 위한 하부 전극층(320)이 전체 영역에 적층되어 있다.
이때, 상기 하부 전극층(320)은 외부 전원으로부터 소정의 구동 전압을 입력받은 후, 이를 후술하는 압전층(330)에 인가시키는 역할을 수행하는 것으로서, Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극 재료를 스퍼터링 또는 증착공정에 의하여 상기 하부 지지대(310)의 일측면상에에 형성된다.
또한, 하부 전극층(320)에는 외부 전극층, 보다 구체적으로는 상기 하부 전극층(320) 및 후술하는 상부 전극층(340)을 통하여 인가되는 구동 전압에 의하여 수축 및 팽창하여 상·하 구동력을 발생시키는 압전층(330)이 형성되어 있다.
이때, 상기 압전층(330)은 인가되는 구동 전원에 연동하여 발생하는 압전 현상에 의하여 상·하 방향 또는 좌·우 방향으로 길이가 변화하는 소정의 압전부재, 보다 구체적으로는, PzT, PNN-PT, ZnO. Pb, Zr 또는 타이타늄 등의 압전부재로 구성되어 있고, 여기서, 상기 압전층(330)은 상술한 바와 같은 압전부재를 습식(스크린 프린팅, Sol-Gel coting 등) 및 건식 방법(스퍼터링, Evaporation, Vapor Deposition 등)을 통하여 0.01~20.0㎛ 범위로 상기 하부 전극층(320)에 형성된다.
또한, 압전층(330)에는 하부 전극층(320)과 함께 외부 전원으로부터 인가되는 구동 전원을 상기 압전층(330)에 공급하는 상부 전극층(340)이 형성되어 있다.
이때, 상부 전극층(340)은 하부 전극층(320)과 함께 외부 전원으로부터 구동 전압을 입력받은 후, 이를 상기 압전층(330)에 인가시키는 역할을 수행하는 것으로서, Pt, Ta/Pt, Ni, Au, Al, RuO2 등의 전극 재료를 스퍼터링 또는 증착공정에 의하여 상기 압전층(330)상에 형성된다.
또한, 상기 하부 지지대(310)의 다른 일측면, 보다 구체적으로는 광 투과성 기판(100)에 직접 대향하는 다른 일측면상에는, 도 7b에 도시된 바와 같이, 외부로부터 입사되는 입사광에 대한 반사 및 회절을 더욱 강화시키기 위하여 소정의 광반사 물질인 Al, Au, Ag, Pt, Au/Cr로 구성된 마이크로 미러층(350)을 더 형성시킬 수 도 있다.
여기서, 상기 마이크로 미러층(350)은 하부 지지대(310)의 일측면에 전체적으로 형성되거나 또는 특정 부분에만 형성될 수 도 있다는 점에 유의 하여야 한다.
본 발명에 따른 광 투과성 기판의 다른 일측면상에 형성되는 구동 엘리먼트는, 도 8a에 도시된 바와 같이, 양측 단부가 광 투과성 기판(100)에 부착된 상태로 하부 지지대(310)가 도출된 형상으로 구성되어 있고, 이에 의거하여 근접장(210)이 형성되는 제 2 굴절률을 갖는 근접장 형성 부재(200)가 광 투과성 기판(100)의 다른 일측면에 접합될 수 있는 에어 스페이스를 제공할 뿐만 아니라 상기 구동 엘리 먼트(300)의 상·하 구동을 가능하게 한다.
이때, 상기 하부 지지대(310)는 광 투과성 기판(100)을 통하여 입사되는 입사광을 반사시킬 수 있는 반사부재, 보다 구체적으로는 금속 등의 반사부재로 구성되어 있다.
상기 하부 지지대(310)의 일측면상에는 외부 전원으로부터 인가되는 구동 전원을 인가받기 위한 하부 전극층(320)이 하부 지지대(310)의 양측 단부에 적층되어 있고, 상기 하부 전극층(320)에는 외부로부터 인가되는 구동 전원에 연동하여 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 층(330)이 형성되어 있으며, 상기 압전층(330)상에는 상기 하부 전극층(320)과 함께 외부 전원으로부터 공급되는 구동 전원을 상기 압전층(330)에 공급하는 상부 전극층(340)이 형성되어 있다.
또한, 상기 하부 지지대(310)의 다른 일측면, 보다 구체적으로는 광 투과성 기판(100)에 직접 대향하는 다른 일측면상에는, 도 8b에 도시된 바와 같이, 상기 입사광에 대한 반사율을 증가시키기 위하여 마이크로 미러층(350)을 형성시킬 수 도 있다.
여기서, 상기 마이크로 미러층(350)은 하부 지지대(310)의 일측면에 전체적으로 형성되거나 또는 특정 부분에만 형성될 수 도 있다는 점에 유의 하여야 한다.
본 발명에 따른 제 2 굴절률을 갖는 매질을 개재하여 광 투과성 기판의 다른 일측면상에 형성되는 구동 엘리먼트는, 도 9a에 도시된 바와 같이, 양측 단부가 광 투과성 기판(100)에 부착된 상태로 하부 지지대(310)가 도출된 형상으로 구성되어 있고, 이에 의거하여 근접장(210)이 형성되는 제 2 굴절률(n2)을 갖는 근접장 형성 부재(200)가 광 투과성 기판(100)의 다른 일측면에 접합될 수 있는 에어 스페이스를 제공할 뿐만 아니라 상기 구동 엘리먼트(300)의 상·하 구동을 가능하게 한다.
이때, 상기 하부 지지대(310)는 광 투과성 기판(100)을 통하여 입사되는 입사광을 반사시킬 수 있는 반사부재, 보다 구체적으로는 금속 등의 반사부재로 구성되어 있다.
하부 지지대(310)의 일측면상에는 외부 전원으로부터 인가되는 구동 전원을 인가받기 위한 하부 전극층(320)이 상기 하부 지지대(310)의 중심부에 적층되어 있고, 상기 하부 전극층(320)에는 외부로부터 인가되는 구동 전원에 연동하여 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전층(330)이 형성되어 있으며, 상기 압전층(330)에는 상기 하부 전극층(320)과 함께 외부 전원으로부터 공급되는 구동 전원을 상기 압전층(330)에 인가시키기 위한 상부 전극층(340)이 형성되어 있다.
또한, 상기 하부 지지대(310)의 다른 일측면, 보다 구체적으로는 광 투과성 기판(100)에 직접 대향하는 다른 일측면상에는, 도 9b에 도시된 바와 같이, 상기 입사광에 대한 반사율을 증가시키기 위하여 마이크로 미러층(350)이 더 형성되어 구성 될 수 도 있다.
여기서, 상기 마이크로 미러층(350)은 하부 지지대(310)의 일측면에 전체적으로 형성되거나 또는 특정 부분에만 형성될 수 도 있다는 점에 유의 하여야 한다.
이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 상술한 바와 같이 구성된 근접장을 이용한 광변조기의 동작을 보다 구체적으로 설명한다.
도 4에 도시된 바와 같이, 구동 엘리먼트(300)를 구성하는 하부 및 상부 전극층(320)(340)에 외부 전원으로부터 구동 전원이 인가되지 않는 경우, 구동 엘리먼트(300)는 제 2 굴절률(n2)을 갖는 근접장 형성 부재(200)의 소정 영역에 형성되는 근접장(210)에 소정 거리 이격되어 위치하게 된다.
이때, 상기 구동 엘리먼트(300)는 근접장(210)에는 영향을 미치지 않게 되어 입사광에 대한 내부 전반사 조건을 만족시키고, 이에 의하여 광 투과성 기판(100)은 입사광에 대한 내부 전반사만을 수행하는 반사체로서의 역할을 수행한다.
그러나, 구동 엘리먼트(300)를 구성하는 하부 및 상부 전극층(320),(340)에 외부 전원으로부터 구동 전원이 인가되는 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 구동 엘리먼트(300)는 제 2 굴절률(n2)을 갖는 근접장 형성 부재(200)의 소정 영역에 형성되는 근접장(210)에 근접하거나 또는 내부에 위치하도록 구동된다.
이때, 상기 구동 엘리먼트(300)는 근접장(210)에 영향을 미처 입사광에 대한 내부 전반사 조건을 어긋나게 하고, 이에 의하여 광 투과성 기판(100)은 도 10에 도시된 바와 같이 입사광을 반사 및 회절시키는 회절체로서의 역할을 수행하여 소정의 회절계수, 예를 들면 0차 또는 ±1차의 회절계수를 갖는 반사광 및 회절광을 형성하게 된다.
여기서, 반사광 및 회절광의 강도 변화는 구동 엘리먼트가 근접장 영역에 근접하는 정도에 의하여 변화되되, 상기 구동 엘리먼트가 근접장에 인접할 수록 반사광 및 회절광의 강도 변화는 더욱 커지게 된다.
상기한 바와 같이, 본 발명은 상이한 굴절률을 갖는 두 매질에 의하여 형성되는 근접장을 변화시켜 입사광에 대한 반사, 감쇄 및 회절을 수행함으로써, 종래 의 광변조기를 구성하는 구동 엘리먼트 사이의 갭이 존재하지 않게 되고, 이에 의거하여 상기 갭에 의하여 발생하는 광 손실을 줄일 수 있다는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명은 구동 엘리먼트 사이의 갭에 의하여 발생하는 광 손실을 줄이기 위하여 상기 갭을 최대한 줄여야 하는 까다로운 공정이 필요없고, 이에 의거하여 제작이 용이하여 생산 효율을 증가시킬 수 있다는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명은 구동 엘리먼트 근접장에 인접하지 않는 경우 종래의 광변조기를 구성하는 구동 엘리먼트 사이의 갭에 의한 회절 현상이 발생하지 않고, 이에 의거하여 입사광이 회절되는 경우 우수한 콘트라스트(contrast)를 제공할 수 있다는 효과를 제공한다.
여기에서, 상술한 본 발명에서는 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만 , 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경할 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (6)

  1. 소정의 제 1 굴절률을 갖고, 일측면을 통하여 외부 광원으로부터 입사되는 입사광을 투과시키는 광 투과성 기판;
    상기 제 1 굴절률 보다 작은 제 2 굴절률을 갖고, 상기 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 입사광에 대한 전반사를 수행하여 근접장을 형성하는 근접장 형성 부재; 및
    상기 제 2 굴절률보다 큰 제 3 굴절률을 갖고, 상기 광 투과성 기판의 다른 일측면에 형성되어 근접장에 접근 및 이탈함으로써 상기 근접장을 변화시키는 구동 엘리먼트
    를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 입사광의 입사각을 임계각(critical angle) 이상이 되도록 조절하여 상기 입사광을 근접장 형성 부재로 입사시키는 광입사 수단을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 광입사 수단은 프리즘인 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 근접장 형성 부재는 공기인 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 엘리먼트가 근접장 영역으로부터 소정 거리 이격되어 있는 경우, 상기 광 투과성 기판은 입사광에 대한 전반사를 수행하는 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동 엘리먼트가 근접장 영역에 근접 하거나 또는 내부에 위치하여 상기 근접장을 변화시키는 경우, 상기 광 투과성 기판은 입사광에 대한 회절을 수행하여 소정의 반사 및 회절광을 형성하는 것을 특징으로 하는 근접장을 이용한 광변조기.
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