KR100616136B1 - 화학 기상 증착 장치용 기화기 - Google Patents
화학 기상 증착 장치용 기화기 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 박막 증착에 사용되는 원료를 기상 원료로 기화시키는 기화기에 있어서,원료를 증발시키는 증발실과,일 단부에서 원료를 공급받아 타 단부의 원료 주입구를 통하여 상기 증발실로 원료를 주입하는 원료 주입관과,일 단부에서 운반 가스를 공급받아 타 단부의 운반 가스 주입구를 통하여 상기 증발실로 운반 가스를 주입하는 운반 가스 주입관과,일 단부가 상기 증발실의 배출구와 연결된 기화실과,상기 증발실과 기화실을 가열하는 가열기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1에 있어서, 상기 가열기는 증발실에서 상기 원료 주입관의 원료 주입구가 존재하는 영역과 그 아래 영역만을 가열하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 원료 주입관은 원료 주입구가 증발실 중간에 위치하도록 상기 증발실의 상단부를 관통하도록 설치된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 원료 주입구는 상기 증발실 배출구 와 운반 가스 주입구보다 낮은 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 4에 있어서, 상기 운반 가스 주입구는 증발실 배출구보다 높은 증발실의 상단 측부에 형성된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 증발실은 중공 원통 형상이며 하단부가 원추형인 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 기화실은 나선형으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 7에 있어서, 상기 기화실의 타 단부인 기화실 출구는 증발실 배출구보다 아래에 형성된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 기화실은 증발실을 둘러싸는 나선형으로 이루어지고, 상기 가열기는 증발실과 기화실 사이에 배치된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 9에 있어서, 상기 기화실의 외측부는 단열 처리된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 운반 가스 주입관에는 밸브 및 압력 측정기가 마련되어 운반 가스의 유량과 압력을 제어하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 운반 가스 주입관에는 온도 측정기가 마련되어 증발실에 주입되는 운반 가스의 온도를 측정하여, 증발실에 소정 온도의 운반 가스가 주입되도록 하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 원료 주입관에는 밸브가 마련되어 운반 가스 및 원료 흐름을 제어하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 원료 주입관 일단부에는 다수의 서로 다른 원료 공급원이 연결되고, 각각의 원료 공급원과 원료 주입관의 일단부 사이에는 밸브가 각각 마련된 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 증발실과 기화실 내의 온도를 측정하는 온도 측정기와, 상기 온도 측정기에서 측정된 온도를 바탕으로 가열기의 온도를 제어하는 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 기화실의 타 단부인 기화실 출구에 인접하게 형성된 기화기 출구와, 상기 기화실의 출구에 인접하게 형성되고 기화기의 외부로 연결되는 배기구와, 상기 기화실의 출구가 상기 기화기 출구 또는 배기구와 선택적으로 연통되도록 절환하는 절환 밸브와, 상기 기화기 출구에는 상기 절환 밸브와 인접하게 형성된 개폐 가능한 퍼지 가스 유입구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기화기.
- 청구항 16에 있어서, 상기 절환 밸브에 의해 상기 기화실의 출구가 상기 기화기 출구와 연통되도록 절환되면 상기 퍼지 가스 유입구는 폐쇄되고, 상기 기화실의 출구가 상기 배기구와 연통되도록 절환되면 상기 퍼지 가스 유입구는 개방되도록, 상기 절환 밸브와 퍼지 가스 유입구의 개폐 밸브는 서로 연동하는 것을 특징으로 하는 기화기.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101321808B1 (ko) | 2010-10-04 | 2013-10-28 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 성막 장치 및 성막 재료 공급 방법 |
US10538843B2 (en) | 2016-02-18 | 2020-01-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Vaporizer and thin film deposition apparatus including the same |
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JPH06310444A (ja) * | 1993-04-27 | 1994-11-04 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 液体原料用cvd装置 |
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- 2005-03-17 KR KR1020050022025A patent/KR100616136B1/ko active IP Right Grant
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