KR100612274B1 - 유전층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유전층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은, 기판에 일방향을 따라 전극을 형성하는 단계, 전극이 형성된 기판을 세정하는 단계, 기판상에 유전체 페이스트(paste)를 도포하는 단계, 유전체 페이스트를 건조하는 단계, 그리고 유전체 페이스트를 소성하여 단일층으로 된 유전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 본 발명을 통하여 그 내부에 기포가 적고 투과율이 우수한 플라즈마 디스플레이 패널용 유전층을 형성할 수 있다.
유전층, 기포, 유전체 페이스트, 플라즈마 디스플레이 패널
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 유전층이 도포된 플라즈마 디스플레이 패널 상판을 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 하나의 기판에 다수의 플라즈마 디스플레이 패널 유닛을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널 상판을 나타낸 사시도이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예와 종래 기술의 비교예의 유전층을 비교하여 나타낸 단면 SEM 사진들이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 실시예와 종래 기술의 비교예의 유전층을 비교하여 나타낸 전극부 부근의 단면 SEM 사진들이다.
도 7은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유전층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 플라즈마 방전에 의한 하부기판 또는 방전에 의해 여기된 형광체에 의해 화상을 형성하는 장치로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전공간에 설치된 두 전극에 소정의 전압을 인가하여 이들 사이에서 플라즈마 방전이 일어나도록 하고, 이 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성한다.
이와 같은 플라즈마 디스플레이는 크게 교류형(AC type), 직류형(DC type) 및 혼합형(Hybrid type)으로 나누어진다. 도 7은 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 분해 사시도이다. 도 7을 참조하면, 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 하부기판(111), 하부기판(111) 위에 형성된 다수의 어드레스 전극(115), 이 어드레스 전극(115)이 형성된 하부기판(111) 위에 형성된 유전층(119), 이 유전층(119) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 크로스 토크(cross talk)를 방지하는 다수의 격벽(123)과 격벽(123) 표면에 형성된 형광체층(125)을 포함한다.
다수의 방전유지전극(117)은 하부기판(111) 상에 형성된 다수의 어드레스 전극(115)과 소정 간격으로 이격되어 직교하도록 상부기판(113) 하부에 형성된다. 그리고 유전층(121) 및 MgO 보호막(127)이 순차적으로 방전유지전극(117)을 덮고 있다.
전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전층 형성에 있어서는 통상적으로 스크린 인쇄법을 사용하여 왔다. 스크린 인쇄법은 유전체 페이스트를 스크린 마스크를 통하여 전극이 형성된 기판 위에 도포하는 공정으로서, 인쇄기를 하나만 사용하고 스크린 마스크와 페이스트를 교환하면서 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 모든 구성요소들을 형성할 수 있다. 스크린 인쇄법에서는 스퀴즈(squeezer)에 유전체 페이스트를 도포한 다음, 스크린 마스크상에서 왕복시키면서 스크린 마스크 개구부를 통하여 유전체 페이스트를 토출시켜 유전층을 인쇄한다. 다음으로 인쇄한 유전층을 건조 및 소성함으로써 유전층을 형성한다.
그러나 전술한 스크린 인쇄법은 원하는 두께의 유전층을 얻기 위하여 상기 공정을 다수회 반복해야 하므로, 여러층으로 도포된 각 유전층의 사이에 기포가 발생하여 방전 특성에 나쁜 영향을 미칠 뿐만 아니라 공정 반복으로 인하여 유전층의 두께가 균일하지 않아 유전 특성이 서로 다르게 되어 휘도 특성을 저하시킬 우려가 있다. 또한, 유전층 형성시 가장자리 영역에서 단차가 생기므로, 단차 부위상에 프릿이 도포되는 경우 프릿과 기판과의 접착력을 약화시켜서 봉착 후 누설(leak)이 발생하는 등의 문제점이 생길 수 있다.
그리고 전술한 바와 같이 건조 및 소성 공정을 계속적으로 반복함에 따라 공정 시간이 길어질 뿐만 아니라 이와 더불어 공정 비용도 증가하는 문제점이 있다. 또한, 스크린 마스크의 메쉬 형상이 유전층상에 그대로 남아서 표면의 평활성을 저 하시킬 뿐만 아니라 스퀴즈가 마모되므로 수시로 교체가 필요하다.
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 플라즈마 디스플레이 패널에 유전층 형성시 전술한 스크린 인쇄법의 문제점을 해결하여 플라즈마 디스플레이 패널을 좀더 효율적으로 제조하고자 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은, 기판에 일방향을 따라 전극을 형성하는 단계, 전극이 형성된 기판을 세정하는 단계, 기판상에 유전체 페이스트(paste)를 도포하는 단계, 유전체 페이스트를 건조하는 단계, 그리고 유전체 페이스트를 소성하여 단일층으로 된 유전층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 유전체 페이스트를 도포하는 단계에서는 유전체 페이스트를 코터(coater) 또는 라미네이션 시트(lamination sheet) 형태로 도포하는 것이 바람직하다.
전술한 전극을 형성하는 단계에서의 전극은 방전유지전극인 것이 바람직하다.
그리고 전술한 기판상에 유전체 페이스트를 도포하는 단계에서, 유전체 페이스트는 평균 입경이 0.7㎛ 내지 2.0㎛인 유전체 분말을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 전술한 유전층을 형성하는 단계는, 유전체 페이스트를 350℃ 내지 450℃에서 10분 내지 30분 동안 소성하여 바인더를 제거하는 단계를 포함하는 것이 바 람직하다.
그리고 전술한 유전층을 형성하는 단계는, 유전체 페이스트를 550℃ 내지 580℃에서 10분 내지 30분 동안 소성할 수 있다.
전술한 전극을 형성하는 단계에서는 하나의 기판에 다수의 전극 유닛(unit)을 형성할 수 있다.
여기서, 유전층을 형성하는 단계 후에는 각 플라즈마 디스플레이 패널 유닛별로 절단하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 또한 전술한 방법으로 제조한 플라즈마 디스플레이 패널을 특징으로 한다.
여기서, 전극이 뻗은 방향에 대하여 수직으로 자른 유전층의 단면 높이는 기판의 적어도 한쪽 단부 부근에서 균일할 수 있다.
또한, 유전층의 에지(edge)부는 비단차(非段差) 형태로 형성하는 것이 바람직하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 유전층이 도포된 플라즈마 디스플레이 패널 상판을 나타내는 개략적인 사시도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서, 상판(11)상에는 일방향(도면의 x축 방향)을 따라 연장되는 다수의 방전유지전극들(15)이 형성되며 이러한 방전유지전극들(15)상에 유전층(13)이 형성되어 있다. 후속 공정에서는 유전층(13) 상에 MgO 보호막(미도시)을 형성하여 유전층을 보호하는 동시에 이차전자방출계수를 높인다.
도시하지는 않았지만, 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 상판(11)에 대응하여 플라즈마 디스플레이 패널의 하판이 배치되며, 이 하판의 상판(11)과 마주보는 면에는 방전유지전극들(15)과 연장방향으로 교차하는 방향(도면의 y축 방향)을 따라 다수의 어드레스전극(미도시)들이 형성된다.
이들 각각의 어드레스전극들과 방전유지전극들(15)이 교차하는 지점에서 화소가 형성되며, 이들 각 화소들이 모여서 표시영역을 형성한다. 즉, 표시영역은 상판(11)과 하판의 사이공간의 양 기판이 중첩되는 영역 내에 어드레스전극들과 방전유지전극들(15)이 교차하여 이루어지면서 이들 전극에 인가되는 구동전압으로 인하여 표시방전이 일어날 수 있는 영역으로 정의될 수 있다.
도시하지 않았지만, 표시영역에는 각 화소들을 별도의 방전셀로 구획하면서 상판(11) 및 하판을 지지하는 다수의 격벽들이 형성되고, 이들 방전셀의 내부에는 가시광선을 발생시키는데 필요한 형광체가 도포된다.
도 1에 도시한 바와 같이, 유전층(13)으로 덮이지 않은 표시영역 경계 외부는 방전을 일으키지 않는 비표시영역으로 정의할 수 있으며, 각 전극들의 단자부가 형성되어 이를 단자부들은 FPC(flexible printed circuit, 연성회로기판)와 같은 전기적 연결수단을 통해 구동회로부(미도시)와 연결된다. 도 1에 도시한 바와 같이, FPC(미도시)와의 접속을 위하여 유전층(13)은 방전유지전극(15)의 단자부를 덮지 않도록 도포한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서는, 방전유지전극으로부터 구동 신호를 인가받아 어드레스전극과의 사이에 어드레스 방전을 일으켜 서 유전층에 벽전하를 형성하고, 어드레스 방전에 의해 선택된 방전셀들에서 방전유지전극에 교반적으로 공급되는 교류 신호에 의하여 한 쌍의 방전유지전극들간에 서스테인 방전을 일으킨다. 이에 따라 방전셀을 형성하는 방전 공간에 충진된 방전 가스가 여기되고 천이되면서 자외선이 발생하고, 자외선에 의한 형광체의 여기로 가시광선을 발생시켜서 화상을 구현하게 된다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 코터(200)를 이용하여 유전체 페이스트(27)를 기판(21)상에 도포하는 공정을 나타낸 도면으로서, 전극(25)의 단자부가 덮이지 않도록 유전체 페이스트(27)를 도포하여 유전층을 형성한다. 본 발명의 제1 실시예에 따른 공정에서는 기판(21)상에 코터(200)를 이용하여 유전체 페이스트(27)를 좀더 효율적으로 도포할 수 있도록 기판(21)을 이동시키면서 그 반대 방향으로 코터(200)를 이동시켜 유전체 페이스트를 도포할 수 있다. 코터(200)의 헤드에 존재하는 유전체 페이스트(27)를 일정한 압력으로 밀어서 헤드 하부에 존재하는 노즐을 통하여 유전체 페이스트(27)를 토출하면서 기판(21)상에 도포한다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따라 유전체 페이스트가 인쇄된 라미네이션 시트(lamination sheet)를 이용하여 기판(31)상에 유전층을 형성하는 공정을 나타낸 도면으로서, 전극(35)의 단자부가 라미네이션 시트로 된 유전체 페이스트(37)로 덮이지 않도록 유전체 페이스트(37)를 도포하여 유전층을 형성한다. 이 경우, 기판(31)을 이동시키면서 기판(31)상에 라미네이션 시트를 부착하기 위하여 구동 롤러(300, 310, 320)를 도 3에 도시한 화살표 방향으로 동시에 구동한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 하나의 기판에 다수의 플라즈마 디스플 레이 패널 유닛을 형성하는 것을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4에 도시한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 한 기판(41)에 4개의 플라즈마 디스플레이 패널을 형성한 상태를 나타낸다. 여기서, 한 기판에 형성될 수 있는 각 플라즈마 디스플레이 패널을 유닛(unit)으로 정의하며, 도 4에 도시한 바와 같은 각 전극(45)의 군은 전극 유닛으로 정의한다. 따라서 도 1에 도시한 기판은 하판과 결합하여 총 4개의 플라즈마 디스플레이 패널 유닛으로 이루어지며, 상판 자체만으로는 4개의 전극 유닛으로 이루어져 있고, 그 상부에 유전층(43)이 형성되어 있다.
전술한 바와 같이, 하나의 기판으로부터 다수의 플라즈마 디스플레이 패널 유닛을 형성하는 경우, 유전층을 도포한 후 각 플라즈마 디스플레이 패널 유닛별로 절단하여 플라즈마 디스플레이 패널 하판과 봉착 및 면취 공정을 거쳐서 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있다. 특히, 도 4에 도시한 바와 같이, 서로 인접한 2개의 플라즈마 디스플레이 패널 유닛에 연속으로 유전체 페이스트를 도포하여 유전층을 형성할 수 있으므로 플라즈마 디스플레이 패널을 대량으로 제조할 수 있다.
이와 같이, 유전층이 서로 인접한 플라즈마 디스플레이 패널 유닛간에 연속하여 형성됨으로 인하여, 전극이 뻗은 방향에 대하여 유전층을 수직으로 잘라 보면, 수직으로 자른 유전층의 단면 높이는 기판의 적어도 한쪽 단부 부근에서 균일하다.
도 4에 도시한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 유닛의 수는 단지 본 발명을 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 4개 이외의 다수의 플라즈마 디스플레이 패널 유닛을 형성하는 경우에도 본 발명을 적용할 수 있다.
도 1 내지 도 4에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널은 다음과 같은 제조 방법을 통하여 제조한다.
먼저, 기판에 일방향을 따라 전극을 형성한다. 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 방전유지전극을 형성하는 경우에도 적용할 수 있지만, 플라즈마 디스플레이 패널 하판에 어드레스전극을 형성하는 경우에도 적용할 수 있다. 다음으로, 유전체 페이스트 도포를 위하여 전극이 형성된 기판을 세정한다. 세정 후에는 유전체 페이스트를 전극이 형성된 기판상에 도포한다. 유전체 페이스트는 코터 또는 라미네이션 시트를 이용하여 도포할 수 있다.
여기서 유전체 페이스트는 유전체 분말에 바인더를 혼합하여 형성하며, 유전체 분말의 평균 입경은 0.7㎛ 내지 2.0㎛가 바람직하다. 일반적으로 유전체 분말의 평균 입경이 작으면 소결에는 유리하나 유전체 분말의 평균 입경이 0.7㎛ 미만이면 페이스트 제조 과정에서 점도의 상승과 입자의 응집 등으로 문제를 일으킬 수 있다. 또한, 유전체 분말의 평균 입경이 2.0㎛를 넘는 경우에는 입자가 조대해져서 유전층의 수축 및 치밀화가 어려워지는 문제점이 있다. 특히 높은 온도로 유전체 페이스트를 소성하는 경우, 기포의 성장이 가속화되어 유전층의 투과율이 크게 감소된다. 본 발명의 일 실시예에서 사용하는 유전체 페이스트는 PbO, B2O3, SiO
2, Al2O3,BaO 및 ZnO 중에서 어느 하나 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
유전체 페이스트를 기판상에 도포한 다음에는 기판을 건조로에 넣고 유전체 페이스트를 건조시킨다. 유전체 페이스트를 건조한 다음에는 소성로에 기판을 넣고 유전체 페이스트를 소성한다. 유전체 페이스트의 소성시에는 유전체 페이스트를 350℃ 내지 450℃의 온도에서 10분 내지 30분 동안 소성하여 바인더(binder)를 제거할 수 있다. 다음에, 유전체 페이스트를 550℃ 내지 580℃에서 10분 내지 30분 동안 소성할 수 있다. 전술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에서는 비교적 낮은 온도에서 단시간에 소성 공정을 행함으로써 내부를 치밀화한다.
유전층의 형성시, 소성 시간 및 소성 온도가 증가할수록 유전체 페이스트내에 존재하는 기포가 점차 합체하여 크게 성장하므로 유전체의 투과율이 저하된다. 따라서 본 발명과 같이 비교적 낮은 온도에서 단시간에 소성을 행함으로써, 기포의 발생을 최대한 억제해 준다. 종래의 스크린 인쇄법에서는 유전체 페이스트를 도포하는 경우, 스크린 마스크로 인하여 유전층 표면의 조도가 불량하여 장시간 소성하면서 표면을 레벨링(leveling)을 해야 하므로, 유전층내에 기포가 다량으로 발생하였던 것에 비해, 본 발명은 코터 또는 라미네이션 시트를 사용하여 유전체 페이스트를 도포함으로써 유전체 페이스트의 표면이 어느 정도 평탄화되어, 소성 온도를 낮추고 소성 시간을 짧게 하여도 무방하다.
본 발명에서는 특히 유전층을 단일층으로 형성하는 데 이점이 있다. 즉, 코터 또는 라미네이션 시트를 이용하는 경우, 도포하는 유전체 페이스트의 두께를 80㎛ 내지 120㎛로 조절하여 최종적인 유전층의 두께를 제어할 수 있으므로, 또다시 유전체 페이스트 도포, 건조 및 소성을 거치지 않고 한번에 유전층을 형성할 수 있어서 공정 시간이 단축될 뿐만 아니라 공정 비용도 절감되는 이점이 있다. 따라서 본 발명에서는 인쇄, 건조 및 소성 공정을 1회만 행하여 신뢰성이 우수한 유전층을 얻을 수 있다.
전술한 방법을 통하여 유전층의 에지(edge)부는 비단차(非段差) 형태로 깨끗하게 형성된다. 여기서, 비단차라는 것은 유전층에 단차(段差)가 형성되지 않고 유전층이 한 층으로 형성된다는 것을 의미한다. 종래에는 유전층을 여러회 도포함으로 인하여 유전층의 에지(edge)부에 단차가 형성되었지만, 본 발명에서는 상기한 바와 같이 1회 공정을 통하여 유전층을 형성하므로, 유전층의 에지부를 비단차 형태로 형성할 수 있다. 따라서 유전층 에지부 상에 프릿을 도포하여 플라즈마 디스플레이 패널의 상판 및 하판을 접합하는 경우, 에지부를 비단차 형태로 형성함으로써 프릿이 완전하게 유전층에 밀접하게 되어 방전가스의 누출(leak)을 좀더 완벽하게 차단할 수 있다.
본 발명은 특히 벽전하를 생성하기 위해 투과율이 좋아야 하는 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 바람직하다. 플라즈마 디스플레이 패널 상판은 방전유지전극을 구비하며, 절연성, 평활성, 고투과율, 저기포성 및 전극과의 저반응성을 요구하는 바, 본 발명을 통하여 이러한 요구사항을 모두 충족시킬 수 있다.
이하에서는 실험예를 통하여 전술한 본 발명의 실시예에 대하여 좀더 상세하게 설명한다. 이러한 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
실험예 1
실험예 1에서는 본 발명과 종래 기술과의 비교를 통하여 유전층에 존재하는 기포를 관찰하였다. 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 서로 다른 방법으로 유전층을 형성하여 수직으로 자른 후 유전층 단면을 SEM(scanning electron microscope, 주사전자현미경)으로 관찰하였다.
실시예 1
본 발명의 실시예에서는 방전유지전극이 형성된 42인치용 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 28.4wt%의 SiO2, 69.8wt%의 PbO 및 1.8w%의 B2O3로 이루어진 유전체 페이스트를 코터로 도포한 후, 100~200℃로 10분간 건조로에서 건조하고, 소성로에서 400℃에서 10분간 유지하고 550℃에서 10분간 유지하여 유전층을 형성하였다.
비교예
비교예에서는 방전유지전극이 형성된 42인치용 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 28.4wt%의 SiO2, 69.8wt%의 PbO 및 1.8w%의 B2O3로 이루어진 유전체 페이스트를 스크린 인쇄하여 도포한 후, 150~200℃로 10분간 건조로에서 건조하고, 소성로에서 560℃ 내지 600℃에서 15분간 유지한 후에 전술한 과정을 한 번 다시 반복하여 유전층을 형성하였다.
이와 같은 실험에 따른 본 발명의 실시예와 종래 기술인 비교예에 따른 유전층을 분석하여 다음의 표 1과 같은 결과를 얻었으며, 도 5a 및 도 5b에 각각 그 단면 SEM 사진을 나타낸다.
표 1에서는 투과율은 550nm를 기준으로 하였다. 표 1의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 유전층이 비교예에 따른 유전층에 비하여 투과율이 우수할 뿐만 아니라, 표면 조도가 낮고 내전압도 높은 것을 알 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예에 따른 유전층의 특성이 종래의 비교예에 비하여 우수하다는 것을 확인할 수 있었다. 이는 도 5a의 본 발명의 실시예에 따른 유전층 단면 SEM 사진 및 도 5b의 스크린 인쇄법에 의한 비교예에 따른 유전층 단면 SEM 사진을 통해서도 확인할 수 있다. 즉, 도 5a에는 유전층내에 기포의 형성이 비교적 적은데 비해, 도 5b에는 유전층내에 많은 기포가 형성되어 있음을 확인할 수 있다.
실험예 2
실험예 2에서는 전술한 실험예 1의 실시예와 동일한 조건으로 유전층을 도포하되 라미네이션 장치를 사용하여 유전층을 형성하는 실시예 2를 추가하였으며, 유전층을 잘라서 유전층과 전극이 접한 부분의 단면을 SEM으로 관찰하였다.
실시예 1
전술한 실험예 1의 실시예와 동일하다.
실시예 2
본 발명의 실시예에서는 방전유지전극이 형성된 42인치용 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 라미네이션 장치를 이용하여 28.4wt%의 SiO2, 69.8wt%의 PbO 및 1.8w%의 B2O3로 이루어진 유전체 페이스트로 이루어진 라미네이션 시트를 도포한 후, 100~200℃로 10분간 건조로에서 건조하고, 소성로에서 400℃에서 10분간 유지하고 550℃에서 10분간 유지하여 유전층을 형성하였다.
비교예
전술한 실험예 1의 비교예와 동일하다.
실험예 2에서의 유전층 단면 SEM 사진을 도 6a 내지 도 6c에 나타낸다. 도 6a는 본 발명의 제1 실시예에 따라 코터로 유전층을 도포한 경우의 SEM 사진이고, 도 6b는 본 발명의 제2 실시예에 따라 라미네이션 시트로 유전층을 도포한 경우의 SEM 사진이며, 도 6c는 비교예로서 스크린 인쇄법을 통하여 유전층을 도포한 경우의 SEM 사진이다.
도 6a 내지 도 6c로부터 알 수 있는 바와 같이, 도 6a 및 도 6b의 경우 유전층 표면이 매끄럽고 내부 조직이 균일하고 치밀하게 형성된 것을 관찰할 수 있지만, 도 6c의 경우 유전층 표면이 평탄하지 못할 뿐만 아니라 내부 조직이 불균일하고 치밀하지 않게 형성되는 것을 확인할 수 있었다.
따라서 본 발명이 종래의 유전층 형성 방법에 비하여 매우 우수하다는 것을 확인할 수 있었다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 유전층을 단일층으로 형성하므로 유전층을 다층으로 형성하는 경우의 문제점인 기포 등의 발생을 크게 저감시킬 수 있어서 유전층의 투과율이 향상되는 이점이 있으며, 이로 인하여 유전층의 벽전하 생성이 용이해진다.
그리고 본 발명은 코터 또는 라미네이션 시트를 사용하여 유전체 페이스트를 도포하므로, 유전층의 두께를 제어하여 한번에 유전층을 형성할 수 있어서 공정 시간이 단축될 뿐만 아니라 공정 비용도 절감된다.
그리고 본 발명은 방전유지전극이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 상판에 적용하여, 절연성, 평활성, 고투과율, 저기포성 및 전극과의 저반응성 등 유전층 특성에 필요한 조건을 충족시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 유전층을 한번에 연속하여 형성할 수 있으므로, 특히 하나의 기판으로부터 다수의 플라즈마 디스플레이 패널을 형성하는 경우에 적합하여 대량으로 플라즈마 디스플레이 패널을 제조할 수 있는 이점이 있다.
그리고 낮은 온도에서 단시간에 유전층을 건조 및 소성할 수 있고, 인쇄, 건조 및 소성이 한번에 이루어지므로 인하여 공정 비용이 절감될 뿐만 아니라 공정 시간이 줄어드는 이점이 있다.
또한, 유전층의 에지부를 비단차 형태로 형성하므로, 유전층 에지부 상에 프릿을 도포하여 플라즈마 디스플레이 패널의 상판 및 하판을 접합하는 경우, 에지부 를 비단차 형태로 형성함으로써 프릿이 완전하게 유전층에 밀접하게 되어 방전가스의 누출(leak)을 좀더 완벽하게 차단할 수 있은 이점이 있다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
Claims (12)
- 기판에 일방향을 따라 전극을 형성하는 단계;상기 전극이 형성된 기판을 세정하는 단계;상기 기판상에 라미네이션 시트 형태로 유전체 페이스트(paste)를 도포하는 단계;상기 유전체 페이스트를 건조하는 단계; 및상기 유전체 페이스트를 소성하여 단일층으로 된 유전층을 형성하는 단계;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)의 제조 방법.
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,상기 전극을 형성하는 단계에서, 상기 전극은 방전유지전극인 플라즈마 디스 플레이 패널의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 기판상에 유전체 페이스트(paste)를 도포하는 단계에서, 상기 유전체 페이스트는 평균 입경이 0.7㎛ 내지 2.0㎛인 유전체 분말을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 유전층을 형성하는 단계는, 상기 유전체 페이스트를 350℃ 내지 450℃에서 10분 내지 30분 동안 소성하여 바인더를 제거하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 유전층을 형성하는 단계는, 상기 유전체 페이스트를 550℃ 내지 580℃에서 10분 내지 30분 동안 소성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 전극을 형성하는 단계에서, 하나의 기판에 다수의 전극 유닛(unit)을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
- 제8항에 있어서,상기 유전층을 형성하는 단계 후, 각 플라즈마 디스플레이 패널 유닛별로 절단하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
- 제1항, 또는 제4항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조한 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,상기 유전층의 에지(edge)부는 비단차(非段差) 형태로 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
- 제10항에 있어서,상기 전극이 뻗은 방향에 대하여 수직으로 자른 유전층의 단면 높이는 상기 기판의 적어도 한쪽 단부 부근에서 균일한 플라즈마 디스플레이 패널.
- 삭제
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