KR100549455B1 - 공작물의 진공처리 공정 및 그 시스템과 모듈 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 처리장치에 공작물들을 적재하는 단계, 스테이션 배치로 그룹지원진 상기 공작물들을 상기 장치의 적어도 한 진공 스테이션에서 표면처리하는 단계; 및 자유롭게 프로그램가능한 공정 제어기 유니트에 의해서 적어도 상기 공정의 타이밍을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리공정; 스테이션 배치로서 그룹지워진 공작물들을 위한 적어도 하나의 진공 처리 스테이션, 상기 진공 스테이션에 공작물들을 공급하기 위한 이송 시스템, 및 그 출력이 상기 이송 시스템용 드라이브 장치에 작동상 연결되는 한편 상기 처리 시스템의 동작시간을 제어함과 아울러 자유롭게 제어될 수 있는 공정 제어기 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템; 및 관통해서 공작물들을 공급하는 한편 공작물들을 처리하기 위한 개구들이 포함된 체임버벽을 구비하는 체임버, 상기 체임버내에서 상기 개구들에 대해 사용되는 상기 체임버내의 이송 시스템, 및 그 출력이 상기 이송 시스템의 적어도 한 액츄에이터에 작동상 연결되는 한편 상기 개구들중 적어도 두개에 설치된 진공 스테이션들에 의해 접수되는 공작물들의 배치들의 크기가 자유롭게 선정될 수 있는 공정 제어기 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리모듈 등을 제공해준다.

Description

표면처리된 공작물의 제조방법 및 그 장치

본 발명은, 특허청구범위 제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 또는 제 4 항의 포괄적 기재에 따른 공작물의 진공처리공정에 관한 것일 뿐만아니라 특허청구범위 제 15 항, 제 16 항, 제 17 항 또는 제 18 항의 포괄적 기재에 따른 공작물의 진공처리공정설비에 관한 것이다.

몇개의 공작물들로 이루어진 그룹을 이하에서는 "배치(batch)"라 칭하기로 한다.

전체의 배치들을 동시에 진공처리하는 기술은 오래전부터 공지되어 왔다. 상기한 전통적인 진공처리공정은, 진공체임버에 배치를 적재시키고, 상기 진공체임버에서 공기를 빼내며, 또한 상기 진공체임버내에서 상기 배치를 처리하는 것으로 이루어져 있다. 상기 처리공정이 끝난 후에, 상기 진공체임버는 배기되며 개방되는 한편 처리된 상기 배치는 외부로 옮겨 진다.

이러한 방법은, 보통 정상 분위기내의 매개 상들을 가지고서 연속적으로 배치 처리가 수행될 수 있는 공정들에 제한적으로 적용된다. 이것은, 전부나 대부분이 소정의 청결요건을 충족시켜 주어야 하는 일련의 단계들을 필요로 하는 공작물들에 대해서는 상기한 공정이 적용될 수 없다는 것을 의미한다. 상기한 타입의 임계적 공정들이 연쇄된 경우에 대해서는, 공작물들이 진공로크(vacuum lock)를 통해서 적재되며, 아울러 진공로크를 이탈하는 일이 없이 에칭공정, 세정공정, 가열공정 또는 냉각공정 뿐만아니라 CVD, LPCVD, PECVD, PVD를 포함한 주지의 진공 엔지니어닝 기술에서의 코팅공정과 같은 일련의 처리공정단계들을 거치게 된다.

예를들어, 미합중국 특허 제 5 344 542 호로부터 공지된 기술은, 중앙을 향해 배치된 진공 이송 체임버를 통해서 적재로크 호퍼 스테이션(station)으로부터 이송체임버내에서 사용되는 몇개의 연계된 처리스테이션들로 공작물들을 보내주는 것으로서, 이 목적을 달성하기 위해 이송 로봇이 이송 체임버내에서 사용된다. 이송 체임버를 통과하여 처리 스테이션에서 행해지는 개별적인 처리단계들 사이에서 상호오염이 발생되는 것을 최소화하기 위해서, 상기 처리스테이션들은 밸브들에 의해 상기 이송체임버에 대해서 진공적으로 격리되어 있다. 상기 공작물들은 상기 이송체임버를 경유해서 소정의 공정스테이션으로 개별적으로 이송될 수 있다.

만일 특정한 충족요건들을 만족시키는 다른 타입의 처리 스테이션들이 상기 이송 체임버에 플랜지된다면, 이 공정은 개별적인 공작물들이 개별적인 처리 스테이션을 거처야 하는 시간 시퀀스에 관한 다른 충족요건들을 필요로 하게 되는 한편 개별적인 공작물들이 대응하는 처리 스테이션을 거쳐야 하는 처리시간에 관한 다른 충족요건들을 필요로 하게 된다. 개별적인 공작물들이 소정의 처리를 거치게 함에 있어 유연성을 가지도록 하기 위해서, 미합중국 특허 제 5 344 542 호에서는, 로봇 설비들이, 상기 처리 스테이션에서 상기 로봇설비들에 의해 지원되는 시간시퀀스를 자유롭게 조절할 수 있는 처리 제어기와 협력하도록 하는 기술이 제안되어 있다. 진공상태하에서의 고도로 복잡하며 임계적인 공작물처리, 특히 미합중국 특허 제 5 344 542 호와 관련하여 논의된 바와같이 오염에 고도로 민감한 처리단계들에 대해 단일 공작물 처리 원리를 적용하는 기술이 또한 미합중국 특허 제 5 019 233 호로부터 공지되어 있다. 그러나, 적재로크에 적재된 후 공작물들은 우선 조절되어야 한다, 즉 그 후에 공작물들이 흡수된 배출가스들을 오염물로서 고도의 임계적인 공정들에 유입시키지 않는 방식으로 탈가스되어야 한다는 사실이 또한 알려져 있다. 미합중국 특허 제 5 019 233 호에 따라 공작물들이 진공로크를 통해 적재될 때 상기 공작물들에 필요한 조절이 실시된다면 비교적 긴 조절시간이 필요해진다. 상기 진공로크는 처리 시퀀스에 있어서 가장 처리속도가 더딘 요소가 되는 한편 해당하는 처리공장의 처리량을 현저하게 제한한다.

상기한 문제는, 두개의 적재로크가 병렬로 작동되는 방식에 의해서 해결된다. 공작물 배치는, 공작물이 조절된 후 두번째 진공로크로 이송되게 되어 있는 첫번째 적재로크로 이송된다. 이미 다음번 배치가 상기 첫번째 진공로크에 적재되어 조절되는 동안에, 두번째 진공로크로부터 한번에 한개의 공작물이 중앙 이송체임버를 통해서 적정한 처리 스테이션으로 사용자가 선택한 시퀀스에 따라 분배된다. 상기 처리 스테이션에서의 고도로 예민한 공정단계들을 순차적으로 처리하기 위해서 전술한 단일 공작물 처리공정이 여전이 수행된다. 단지 진공로크를 통해 적재하기 위해서 뿐만아니라 상기 공작물들을 제거하는 한편 조절하기 위해서도 공작물들이 배치들로 그룹화된다. 유럽특허 제 0 608 629 호에 따르면 유사한 공정이 수행됨을 알 수 있다. 기본적으로 상기 공정에서도 공작물들은 개별적이며 임계적인 진공처리단계들을 거쳐야 한다. 또한, 이 경우에 있어서도 상기 진공로크를 통해서 공작물들을 배치방식으로 적재하며 제거한다는 전술한 개념이 여전히 유지된다.

상기 특허출원에 따르면 박유리기판(薄琉璃基板)이 처리된다. 상기 기판들이 갑작스런 온도변화에 노출된다면 중대한 파손문제가 있게 된다고 일컬어 지고 있다. 그러나, 그러한 유리기판들이 단일 공작물 처리모드에서 개별적이면서 점차적으로 가열되며 냉각된다면, 미합중국 특허 제 5 019 233 호에서 이미 언급된 바와같이 전체시스템의 처리량이 감소되게 된다. 미합중국 특허 제 5 019 233 호의 경우에 있어서와 같이 역시 처리시퀀스의 가장 느린 단계들, 즉 점진적 가열 및 냉각이 여전이 배치모드에서 수행된다. 그외에, 상기한 것들은 오히려 비임계적인 공정단계들이다. 또한, 상기 출원에 따르면, 공작물 배치는 진공로크를 통해서 적재되며 또한 전재된 배치는 가열스테이션에서 배치상태에서 서서히 가열된다. 그러나, 그 뒤를 이어서 상기 공작물들은 다양한 처리스테이션으로 개별적으로 이송되어 대기로 배출되기 전 점진적 냉각이 이루어지는 배출체임버내에서 배치상태로 모아 진다.

이미 제시된 바와같이, 개별적으로 복잡한 공정단계 시퀀스를 필요로 하는 각 공작물을 처리한다는, 즉 한번에 하나의 공작물을 처리한다는 개념이 체계적으로 수행된다. 이와같이 하는 주된 이유중 하나는, 공정단계들이 복잡한 시퀀스를 가지는 한편 처리되는 공작물이 값비싼 경우에 오직 개별적 공작물 처리방식이 공정의 실패시 최소한의 공작물에 피해가 미치도록 제한해 주는 동시에 공정을 적정하게 제어함과 아울러 공정시퀀스를 제어하고 모니터하며 또한 재생하기 위해 적합하다는 지배적인 견해에 기인한다.

이제까지 알려진 한도내에서는, 독일 특허 제 44 12 902 호가, 역시 고도로 예민한 공작물 처리공정에 있어서 공작물들이 배치모드로 진공로크를 거쳐 적재되거나 제거되어야 할 뿐만아니라 중앙의 이송체임버에 배치로서 보내지며, 상기 중앙의 이송체임버로부터 공작물들이 배치로서 다양한 처리 스테이션으로 보내져서 다루어지는 것을 제안한 첫번째 출원이다. 처리량을 더욱 더 증대시키기 위해서, 몇개의 동일하거나 동일하게 작동되는 처리 스테이션들이 병렬로 동작된다.

첫번째 측면에서 본 발명은 최후에 언급된 타입의 공정이나 시스템과 동종의 것이다. 전술한 바와같이 상기 공작물들은 몇개의 동일한 처리 스테이션에 병렬로 배치모드로서 진공로크를 거쳐서 적재되는 한편 제거되고, 이송되며 또한 투입된다.

본 발명의 목적은, 소정의 유연성을 유지하는 범위내에서 매우 임계적이며 고도로 다양한 공정단계들이 복잡한 시퀀스로 실행되어야 하는 상황하에서도 상기 공작물처리에 있어서 높은 생산성을 유지하는 반면에 이 방식에 대해 다양한 공정 시퀀스들에 대한 고도의 적응유연성을 제공하고자 하는 것이다.

공작물이 배치모드로 피복되거나 부식되어 표면처리되는 적어도 한개의 진공스테이션이 존재할 때, 상기 목적은, 공작물을 대응하는 진공 스테이션으로 공급하는 한편 대응하는 진공 스테이션에서 공작물을 제거하는 타이밍이 자유롭게 조절될 수 있는 공정제어기에 의해 달성된다.

상기한 사항은, 고도로 복잡한 처리공정 시퀀스에 대한 처리단계의 조절가능한 시퀀스에 의해서 본 발명이 달성하고자 하는 공작물의 배치처리방식은 심지어 유연하게 선택될 수 있는 어려운 처리단계들을 가지고서도 효율적으로 수행될 수 없다는 지배적인 견해와 단절되는 것이다.

본 발명에 따른 공정과 특허청구범위 제 1 항과 제 15 항에 따른 대응 처리설비는 각각 같은 기본장치를 사용해서 사용자정의에 따르거나 개별적인 제품씨리즈의 충족요건에 일치하도록 다양한 다른 배치처리 공정이나 심지어 처리 시퀀스를 선택적으로 구성하는 것을 가능하게 해준다. 같은 기본적 배치구성을 가지는 한편 이에 따른 높은 처리량에도 불구하고 오직 단일 공작물 처리 시스템에 대해서 알려진 구성상 유연성의 이점은 달성될 수 있으며, 또한 이와같이 해서 과거에는 단일 공작물치리의 배타적 영역이었던 배치모드를 사용한 공정단계, 특히 공정단계 시퀀스를 수행하는 것이 가능하게 된다.

하나의 동일한 시스템에 대한 적용상 유연성이 제공되기 때문에 본 발명의 두번째 측면은 다음의 통찰에 기초를 두고 있다: 만일 하나의 처리시스템상에서 전술한 개념과 일치하도록 공작물들이 배치로서 적재되는 두개나 그 이상의 진공 스테이션이 설정된다면, 하나나 다른 설정된 진공 스테이션상의 배치 크기가 그 타입과 실행노력에 따라서 다른 진공 스테이션상에서 보다 작아져야 한다.

이러한 측면에서 미합중국 특허 제 5 590 994 호가 참조되어야 한다. 상기 특허에서 공지된 시스템상에서는 이러한 의미에서 첫번째 진공스테이션은 공작물의 배치를 유지하는 이송 회전지지대(transport carrousel)를 특징으로 하는 이송스테이션이 된다. 공작물들이 이송회전지지대 배치로부터 단일 공작물 모드로서 개별적인 처리 스테이션으로 공급되게 되어 있는 다음의 이송 로봇을 향하여 이동되기 전에, 공작물들은 이송 회전지지대 배치에 의해서 큰 조절 체임버내에 놓여진다. 거기에는 전술한 이송체임버에서 보다 훨씬 더 큰 공작물 배치가 수용된다. 상기 조절 체임버는 싸이클적으로 작동된다, 다시말해서 동시에 앞에서 조절된 공작물이 후퇴하는 동안에 공작물이 상기 이송 체임버로부터 상기 조절 체임버로 삽입된다. 이것은, 다른 크기의 배치들을 수용하는 배치모드 진공 스테이션을 사용하는 것이 매우 유익할 수 있다는 사실이 상기 특허에서 실현되었다는 것을 보여준다. 그러나, 언급된 바와같이 다른 배치크기를 가진 두개의 진공 스테이션 사이에서의 이송 뿐만아니라 처리가 단일 공작물 모드에서 수행된다.

이러한 두번째 측면하에서 본 시스템의 목적은 항상 다른 배치 크기에 대해 적어도 두개의 진공스테이션이 제공되는 전술한 타입의 공정을 조절하는 것이고, 그 결과 공지된 시스템에서의 단일 공작물 이송 및 처리공정을 사용하는 경우보다 전체 시스템상 더 높은 처리량이 달성된다. 특허정구범위 제 2 항에 따른 공정 및 특허청구범위 제 16 항에 따른 설비를 사용해서, 배치모드로서 다른 배치크기를 수용하는 스테이션으로 이송하거나 그 스테이션으로부터 이송함에 의해서, 즉 상기 스테이션으로 한번에 하나의 공작물을 이송하는 것이 아니라 동시에 몇개의 공작물을 이송배치에 의해 이송함에 의해서 본 시스템의 목적이 달성된다.

이것은, 여전히 체계적으로 배치취급 원리를 따르면서도 설정된 진공 스테이션 타입에 따라서 다른 배치크기들을 처리하는 가능성을 계속 보유하고 있다. 이러한 방식에 있어서는, 예를들어 진공로크로서 설계된 진공스테이션이 매우 큰 배치를 위해 설계될 수 있으며, 또한 상기 이송로봇은 진공로크 배치로부터 일부분과 유사한 보다 작은 배치를 제거해주는 한편 모든 진공로크 배치의 공작물들이 동시에 처리될 수 없는 방식으로 설계되어야 하는 대응 처리스테이션으로 그 배치를 이송해준다.

추후에 설명되는 바와같이, 본 발명의 추가적인 단계는 공정제어하에서 각각의 이송된 배치의 크기를 역시 변화시키는 것으로서, 상기 공정제어는 다른 배치크기를 수용하는 몇개의 진공 스테이션을 가진 시스템에 있어서 전체 공정 시퀀스를 최적화할 가능성 즉, 특정방향 배치로의 이송이 달성되어야 만 하는 배치쏘스의 함수로서 전체 공정 시퀀스를 최적화할 가능성을 제공해준다. 때때로 또한 "배치크기 1" 및 결과적인 단일 공작물 모드가 제어될 수 있는 본 발명의 이러한 측면은 각각 특허청구범위 제 3 항과 제 17 항에 특정되어 있다.

이러한 세번째 측면하에서 최상의 처리량과 함께 최대의 적용 유연성을 달성하고자 하는 본 발명은, 예를들어 미합중국 특허 제 5 590 994 호에 기초한 바와같이, 하나나 같은 이송 배치 크기가 가장 바람직한 것이 아니어서 다른 배치 크기의 진공 스테이션을 사용해서 그러한 다른 배치 크기들을 가진 적어도 두 개의 진공 스테이션들이 제공될 수 있음을 의식하고 있다. 예를들어, 만일 적재되는 하나의 진공스테이션이 아홉의 배치크기를 위해 설계되며 또한 두번째 것은 열의 배치크기를 위해 설계된다면 그것이 셋이나 다섯일 경우에는 하나의 같은 이송배치 크기는 두 스테이션에 대해서 고정적으로 사용되기에 적합하지 않음이 분명하다. 이러한 측면하에서, 본 발명은, 특허청구범위 제 3 항에 기재된 바에 따라 공작물들이 배치들로서 수용되는 적어도 두개의 진공 스테이션을 포함하는 공작물 처리 공정에 있어서, 상기 진공 스테이션들을 그 크기가 제어될 수 있는 공작물들의 배치 형태로 적재하거나 제거하는 것을 제안한다. 이러한 두개의 스테이션들이 예를들어 같은 이송로봇에 의해 적재된다면, 예를들어 로봇에 의해 집어지는 공작물의 수가 각 작동싸이클에 대해서 제어될 수 있게 해주는 수단을 제공하는 것이 제안된다.

상기 측면에 따라 설계된 시스템이 특허청구범위 제 17 항에 특정된다.

또한 여기에서 이송배치 크기 시퀀스는 공정제어기에 의해 자유롭게 정의되는 것이 바람직하며, 또한 상기 상기 크기 시퀀스는 스테이션 배치 크기와 공정단계 시퀀스와 같은 변수에 기초한 제어기에 의해서 최적화된다. 필요하다면 이미 언급된 바와같이 이송배치 크기를 단일 공작물로 감소시키는 것이 가능하다.

본 발명의 네번째 측면하에서, 만일 하나의 같은 기본적 장치구성이 다른 전체 구성을 이루기 위해 사용된다면, - 상기 세번째 측면하에서 언급된 바와같이 - 진공스테이션이 다른 배치크기를 위해 설계될 수 있다는 사실에 주목하여야 한다는 것이 인정된다. 특허청구범위 제 4 항 및 제 18 항에 기재된 바에 따르면 스테이션 배치의 공작물의 수가 공정제어기에 의해 자유롭게 정의된다는 사실이 제시된다. 예를들어 열의 배치크기를 가진 진공스테이션이 이송체임버의 작업 개구중 어느 하나에 설정되거나 다섯의 스테이션 배치크기를 가진 진공스테이션이 다른 작업개구에 설정되게 되면, 공정제어기에 대응하는 작업개구에서 기대되는 스테이션 배치크기에 관련된 정보가 경우에 따른 기준으로 주어지기 때문에 상기 사항은 본 발명에 따라서 쉽게 수용될 수 있다; 이때 상기 제어기는 최적의 이송 배치크기를 고정된 양 또는 가변적인 양으로 계산할 수 있다.

공정과 관련하여 모든 측면을 고려한 본 발명의 다른 바람직한 실시예들이 특허청구범위 제 5 항 내지 제 14 항에 특정되어 있으며, 또한 본 발명에 따른 장치의 바람직한 설계예들이 특허청구범위 제 19 항 내지 제 25 항에 특정되어 있다.

필요하다면, 개별적인 공정단계가 다른 단계들에 의해 오염되는 가능성을 배제하는 방식에 따라서 바람직하게는 적어도 설정된 진공스테이션들의 일부가 서로에 대해 진공적으로 분리된다.

본 발명에 따른 공정과 이에 대응되는 설비는 반도체 웨이퍼, 메모리 디스크, 액티브 표시장치용 기판과 같이 평평한 공작물 디스크로서 기본적으로는 2차원의 평평한 공작물과 3차원의 공작물을 처리하기에 특히 적합하며, 상기 3차원 공작물은 예를들어 기계요소, 특히 금속절삭과 금속성형 및 내마모코팅을 위한 공구들을 포함한다.

상기한 모든 측면에 입각한 본 발명은 실시예로서 사용되는 도면들에 의해서 이하에 설명된다.

개략적인 순서도인 도 1에서는 본 발명의 첫번째 측면에 따른 첫번째 공정 원리가 도시되어 있다.

CVD, PECVD, LPCVD, PVD 처리 뿐만아니라 이송, 진공로크를 통한 적재와 제거 같은 기존의 처리단계들이 여기에서는 관심의 대상이 아닌 시퀀스로 수행될 수 있도록 되어있는 공작물용의 복잡한 진공 처리공정이 도 1의 부공정블록에 요약되어 있다. 적어도 전체 공정중 하나의 추가적 부분이 적어도 두개의 개략적으로 나타낸 진공처리 스테이션들(3a 및 3b)에서 수행된다. 예를들어 CVD, PECVD, LPCVD, PVD 피복 스테이션, 에칭 스테이션, 세정 스테이션 등이 될 수 있는 두 처리 스테이션(3a) 및 (3b)가 한개의 스테이션 공작물 배치(5a) 또는 (5b)를 수용하기 위해서 설계되어 있다. 이송(T_13a)은 부공정(1)과 진공스테이션(3a) 사이에서 일어나고, 역으로 이송(T_3a1)은 스테이션(3a)으로부터 잔여공정(1)으로 발생하며, 또한 유사한 과정이 잔여공정(1)과 처리스테이션(3b) 사이에서 일어나게 된다. 처리스테이션(3a, 3b)간의 어떤 이송도 도 1에 도시된 바와같이 부공정(1)내에서 일어나게 된다.

본 발명에 따르면, 개략적으로 공정 제어기를 나타내는 (T_xy(t)) 함수의 블록(7)에 의해 표시되는 바와같이, 이송운동의 시간시퀀스가 적어도 부공정(1)과 바람직하게는 적어도 2개의 배치 처리스테이션(3a), (3b) 사이에서 제어되도록 해주는 공정제어(7)가 제공된다. 상기 시간 시퀀스(T_xy(t))는 자유롭게 정의될 수 있기 때문에, 처리스테이션(3a)과 처리스테이션(3b)에 공작물이 적재되거나 제거되는 전체공정상의 적정 시점이 응용상의 요구에 따라서 선택될 수 있다.

추후에 설명되는 바와같이, 적재와 제거공정 자체는 스테이션 배치의 크기와 같거나 다른 크기의 배치들 내지 이송 배치들을 사용해서 바람직하게는 스테이션들(3a, 3b)상에서 실현되거나, 또는 상기 공정 자체는 예를들어 급속 시퀀스로 바람직하게는 배치들(5a, 5b)중 하나를 모으기 위해서 단일 공작물들을 대응하는 스테이션(3)으로 적재함에 의해서 단일 공작물 이송 모드로 수행될 수 있다. 상기 공작물들은 홀더나 매거진중 어느 하나에 의해서 함께 이송될 수 있고, 이것은 특히 이송공작물 배치를 규정하는 캐리어 매거진에 의해서 배치 이송을 하는 경우에 해당하며, 또한 이 경우에 매거진은 처리되는 공작물의 형태에 대응하여 설계된다.

이미 언급된 바와같이, 시퀀스 제어는 부공정(1)에서 뿐만아니라 구체적으로 도시되지 않은 다른 진공 스테이션들상에서도 자유롭게 정의될 수 있고, 이것은 필요하다면 처리 스테이션(3a, 3b)이나 또 다른 스테이션에 관한 시퀀스 명세에 부가하여 정의될 수 도 있다.

물론, 두개 이상의 진공 스테이션이 제공되고, 그 스테이션 배치의 크기는 자유롭게 정해질 수 있으며, 또한 그 이송 배치의 크기도 가변적인 값이나 고정된 값으로 정해질 수 있다. 완전한 공정에 있어서, 단지 단일 공작물 모드에서 동작할 수 있는 스테이션들이 존재할 수 있으며, 또한 상기 스테이션들은 정상 분위기에서 동작하는 진공 스테이션의 상류나 하류에 배열되어 있다. 만일 몇몇의 단일 공작물 스테이션이 존재한다면 몇몇의 상기 단일 공작물 스테이션을 병렬로 동작시킴에 의해서 소정의 높은 처리량이 달성될 수 있다.

도 1에서 "IN"과 "OUT"으로 표시되어 있는 바와같이 전체 진공처리 설비에 공작물들을 적재하며 제거하는 작업은 공작물 배치들을 적재하거나 제거함에 의해서 양호하게 수행된다. 그것에 의해서, 입력 이송 매거진과 같은 주변 환경으로부터 입력 부하로크를 통해서 진공설비로 각각의 배치들을 이송해주거나 출력 부하로크를 통해서 진공설비로부터 최종적으로 주변 환경에 있는 접수매거진으로 각각의 배치들을 이송해주는 입력/출력 핸들러(handler)는 예를들어 매거진내의 입력/출력 배치의 공작물의 수를 진공설비내에서 처리되는 배치중의 공작물의 수로 유연하게 조절해줄 수 있다. 이에 더하여, 상기 핸들러는 입력/출력 매거진내에 있는 공작물 무더기의 피치와 같은 공작물의 공간적 배열을 예를들어 진공설비내에서 취급되는 배치의 피치와 같은 공작물의 배열로 조절해줄 수 있다. 이와같이, 예를들어 입력/출력 핸들러는 주변 환경에 있는 매거진의 피치인 매거진의 고정부내의 공작물의 상호거리를 진공설비에서 처리되는 배치의 피치와 같은 공작물의 배열로 조절해줄 수 있다. 상기한 바에 의해서, 다른 수의 공작물이나 다르게 배열된 공작물을 가진 배치 매거진을 사용해서 상기한 설비에 공급되거나 상기한 설비로부터 공급되는 공작물을 처리하기 위해서 본 발명에 따른 하나의 같은 진공설비를 사용하는 것이 가능해진다.

도 1과 유사하게 도 2는 본 발명의 두번째 측면에 입각한 발명에 따른 공정을 보여준다. 블록(1)은 현재에는 직접적인 관심의 대상이 되지않는 전체 공정의 일부를 보여주고, 상기 블록(1)에서는 주변 환경에서 자동되는 한편 예를들어 입력/출력 공작물 매거진을 포함하는 입력 및 출력 스테이션들에 추가적 임과 아울러 그러한 주변 환경 입력/출력 체임버들과 진공 설비 사이의 개별적인 적재로크 체임버에 추가적으로 세정 스테이션들·에칭 스테이션들·코팅 스테이션들·코팅 스테이션들 및 특히 CVD·PECVD·LPCVD과 PVD스테이션들 같은 진공 스테이션들이 제공되며, 또한 진공 스테이션들은 이송 스테이션들내에 있는 대응 이송 장치들에 의해서 도움을 받는다. 도 2에 도시된 스테이션(30a와 30b)들은, 상기한 타입의 스테이션들로서 주변의 접수입력 또는 출력 공작물 매거진에서 동작하는 적재/제거 스테이션들이 될 수도 있고, 인접한 주변의 입력/출력 스테이션들을 전체 진공처리설비의 진공 스테이션들에 상호 연결시켜주는 장착로크 스테이션들이 될 수도 있으며, 또한 세정 스테이션들, 에칭 스테이션들, 코팅 스테이션들 또는 이송 스테이션들과 같은 진공 스테이션들이 될 수도 있다. 두개의 진공 스테이션들(30a와 30b)은 각각 다른 크기(n_a와 n_b)를 가진 각 스테이션 배치들을 수용할 수 있도록 설계된다. 상기 공작물들은 이송 배치(B_a1, B_a2 또는 B_b1, B_b2)에 의해서 스테이션들(30)과 진공 부공정(1) 사이에서 이송된다. 심지어 스테이션(30a와 30b)에서의 배치 크기가 예를들어 스테이션의 타입에 따라 달라진다고 할지라도 적어도 고려되는 스테이션들과 부공정(1)에 관련해서 진정한 배치동작과 그 결과에 따른 고처리량이 달성되는 효과가 있다. 스테이션 배치 크기(n_a와 n_b)가 바라는 바 대로 변화될 수 있을 뿐만아니라 이송 배치(B_a1, B_a2 또는 B_b1, B_b2)가 역기 바라는 바 대로 변화될 수 있는 도 2에 도시된 일반적 경우에 있어서, 스테이션 배치 크기들에 기초하여 부공정(1)내에 하나나 두개의 완충 스테이션이 제공되어야 한다. 이것은 일례로서 설명되는 바, 상기 예에 있어서 도 2의 스테이션(30a)으로부터 배치(50a)는 이송되게 되며, 여기에서

a) n_a = 3.5·n_b

b) n_a = 3·n_b

c) n_a = 2·n_b

"측정 유니트" B_a2을 가지고 우리는 다음과 같은 것을 얻는다:

a₁) B_b1 = 3/7·B_a2

b₂) n_b = 6/7·B_a2

c₂) n_a = 3·B_a2

도 3은, 부공정(1)상의 완충 스테이션(32)이 배치 크기(B_a2)를 가진 스테이션(30a)에 의해서 도 1에 따라 적재되며, 또한 거기에서 몇개의 스테이션(30b)은 이송 배치크기(B_b1)로 적재된다. 일예로서 제시된 다음 테이블에서 어떤 배치 크기가 측정 유니트(B_a2)에 놓여질 것인가에 대한 설명이 단계적으로 이루어진다.

상기 사실로부터 17 이송단계후에 스테이션(30b)중 세개가 완전히 채워지게되는 한편 이송 배치의 크기(B_a2)중 3/7은 완충 스테이션에 머물르게 된다는 사실이 분명해진다. 단지 스테이션(30a)으로부터 스테이션(30b)으로 다음 이송을 실시해줌에 따라서 완충 스테이션(32)은 도 3에 도시된 바와같이 다시 비워지게 되며, 다시말해서 만일 스테이션(30)로부터의 두 스테이션 배치(50a)가 스테이션(30b)를 위한 일곱개의 배치로 이송되는 경우에 비워지게 여기에서는 목표 스테이션으로 간주되는 스테이션(30b)에 있는 공작물들이 그 동안에 처리 시간에 기초해서 전방으로 이송될 수 있으며, 이 사실은 상기 테이블에 따라 공정을 제어하기 위해서는 공정이 전체로서 고려되어야 하는 한편 필요한 이송 단계들과 그 시간 시퀀스가 최적화될 필요가 있다는 것을 의미한다는 것이 명백해진다.

물론 만일 균일한 이송 배치 크기가 사용된다면, 다시말해 도 2에 따라 B_a1 = B_a2 = B_b2 = B_b1이 선정된다면 상황은 단순해지나 처리량이 반드시 최고가 되지는 않으며, 상기한 경우에 스테이션 배치 크기는 이송 배치 크기의 정수배가 되는 것이 바람직하다.

장치 구성과 관련하여 본 발명에 의해 추구되는 유연성의 테두리내에서 특히 공작물들이 배치 모드로 놓여지는 처리 스테이션 사이의 공작물 이송이 이송 배치들에 의해 이루어진다는 본 발명의 개념을 따르게 될때, 최적의 다른 배치 크기의 스테이션을 가진 더욱 복잡한 시스템 구성을 가지고서는, 모든 스테이션들에 적합한 일반적으로 적용가능한 이송 배치 크기가 발견되기 어렵다는 사실이 명백해진다. 모든 구성의 진공 스테이션들이나 이러한 스테이션들의 몇몇이 서로 다른 스테이션 배치 크기로 스테이션들로 배치들을 이송하거나 상기 스테이션들로부터 배치들을 이송하는 로봇을 가진 중앙 이송 스테이션 주위에 그룹지워진다면 이것은 특히 문제가 된다. 상기한 본 발명의 측면을 수용해서 고처리량을 실현하며, 또한 이송이 이송 배치에 의해 수행될때의 공정 시퀀스 최적화와 관련해서는 본 발명의 한 측면으로서 이송 배치 크기를 조절가능하게 해주는 것이 제안된다. 이것은 도 4의 도움을 받아 개략적으로 설명된다.

도 4에 따라서, 진공 처리 시스템이, 개략적으로 도시된 이송 로봇(42)을 구비한 이송체임버(40)를 포함하고 있다고 가정한다. 몇개의 스테이션들(43a 내지 43c)이 도시된 바와같이 이송체임버(40)와 연결되어 있으며, 상기 스테이션들(43a에서 43c)은 각각의 입력/출력 매거진에서의 공작물 배치를 위한 입력/출력 매거진과 같은 주변환경 스테이션들일 수 있으며, 특히 적재로크 스테이션들이나 어떤 종류의 진공 처리 또는 이송 스테이션들일 수 있다. 특히 진공 스테이션들인 도시된 스테이션들(43x)는 각각 서로 다른 배치 크기들(n_a, n_b 및 n_c)을 가진 스테이션 배치들을 수용하도록 설계되어 있다. 상기 공작물들은 배치 모드로 진공 스테이션들(43) 사이에서 이송되는 바, 다시말해서 로봇(42)은 진공 스테이션의 하나에서 하나의 공작물 배치(B_T)를 집어 들 수 있으며 그것을 다른 것들의 하나로 공급할 수 있다. 접수 스테이션들(43)의 변화하는 용량을 최고로 수용하기 위해서, 예를들어 스테이션(43c)에 있는 커다란 배치(n_c)로부터 크기(n_b)의 배치가 스테이션(43b)로 공급될 수 있는 한편 배치 크기(n_a)에 해당하는 배치가 점선으로 표시된 바와같이 스테이션(43b)으로 공급되도록 하기 위해서 상기 이송 배치의 크기는 도 4에 개략적으로 도시된 바와같이 공정제어기에 의해 변화된다.

제안된 바와같이, 기본적 구성을 가진 시스템은 설치된 스테이션들(특히 진공 스테이션들)의 수, 타입과 설계 및 대응 스테이션들이 구성된 스테이션 배치 크기와 관련된 적용상의 필요요건들에대해 유연성있게 적용할 수 있으며, 이것은 다시말해서 시스템의 작동중에 고정되거나 제어됨을 막론하고 도 2 또는 도 4에 따른 변수들(n_a, n_b)이나 도 2에 따른 (B_a1에서 B_a2)와 같은 이송 배치의 크기(B_T)가 전체 공정에 할당된 공정 제어(47)에 의해서 자유롭게 정의될 수 있음을 말한다. 이러한 목적을 달성하기 위해서 도 2는 공정제어(27)를 포함하고 있으며, 상기 공정제어(27)상에서는 스테이션(30)들이 처리되는 시간 시퀀스(T), 제공되는 스테이션들의 스테이션 배치의 크기들(n), 또는 제공되는 스테이션들로의 또는 스테이션들로부터의 이송 배치의 크기들(B)이 자유롭게 프로그램될 수 있다. 도 4의 공정제어(47)을 가지고서 제어되는 스테이션들(43)의 취급 시퀀스(T), 그 스테이션 배치의 크기들(n), 또는 이송 배치의 크기들(B_T)가 구성된 전체 시스템에 대응하여 자유롭게 정의될 수 있다.

본 발명에 따른 공정들과 관련하여 본 발명에 따른 기본 원리들이 전문가가 공정제어에 관한 기술범위내에서 상기 개념을 쉽게 실시할 수 있도록 하는 방식으로 도 1 내지 도 4에 의해 설명이 된 다음에는, 간단화된 한편 부분적으로 도식화된 형태의 추가적인 도면들이 상기 공정의 원리들이 개별적이나 조합적으로 실현되는 시스템의 예들을 소개하게 된다.

도 5는 본 발명에 따른 다음의 기본 원리들이 실현되는 선형 시스템을 개략적으로 보여준다.

- 공작물들이 배치 처리 스테이션들에 공급될 수 있는 시간 시퀀스(T)가 공정제어기에 의해 자유롭게 정의될 수 있다.

- 스테이션들이 다른 크기들의 스테이션 배치들을 위해서 제공되며, 또한 이러한 스테이션들에 대한 이송과 이러한 스테이션들로부터의 이송이 이송 배치(B_T)에 의해 발생한다. 상기한 스테이션들은 예를들어 각각의 적재로크 체임버를 가지고서 진공설비에 적재하거나 진공설비로부터 제거하기 위한 입력/출력 스테이션들과 같이 주변 환경에서 작동하는 스테이션들일 수 있으며, 또는 상기 스테이션들은 특히 진공작동 스테이션들일 수 있다.

- 이송 배치들의 크기는 제어할 수 있다.

- 제공되는 스테이션들의 스테이션 배치 크기에 따른 공작물들의 수는 공정제어기에 의해 자유롭게 제어될 수 있다.

- 또한, 하나나 몇개의 이송 배치의 크기들이나 그들의 시간 시퀀스는 역시 공정제어기를 사용하여 자유롭게 제어될 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 개별적인 원리나 상기 원리들의 조합은 물론 도 5의 도움을 받아 설명되는 상기 선형 시스템상에서 실현될 수 있다.

도 5에 개략적으로 도시된 시스템의 기본적 구성은 구동 유니트(53)와 대응하는 제어 입력(S₅₃)을 가진 구동 왕복 선형 컨베이어(51)를 포함하고 있다. (GF)에서 점선으로 제시된 기본적 시스템 구성은 또한 하나의 도시된 경계벽(57)을 가진 이송 체임버(55)를 포함하고 있으며, 상기 경계벽(57)에는 특히 진공 스테이션들과 같은 플랜지 스테이션들을 위한 적당한 작업개구들(59)이 제공된다. 이송 체임버(55)내의 이송장치의 일부를 이루는 적어도 몇몇의 작업개구들(59)에는 각각 푸시로드 장치(61a와 61b)가 제공된다.

상기 이송 푸시로드 유니트(61)는 서로 독립적으로 연장되거나 후퇴할 수 있는 횡단 이송 푸시로드(63)를 특징으로 한다. 푸시로드 설비(61)상의 푸시로드들(63)이 연장되거나 후퇴되는 것을 제어하거나 그러한 운동이 일어나는 시간 시퀀스를 제어하기 위해서, 상기 장치(61)은 각각 제어입력(S_61a 및 S_61b)에 의해 개략적으로 표시된 바와같이 제어될 수 있다.

적용상의 필요나 공작물 처리 단계들의 필요한 시퀀스에 대응해서, 소정의 스테이션들(65a 및 65b)이 필요에 따라 시스템의 기본적 구성(GF)에 존재하는 개구(59)에 플랜지된다; 필요하지 않은 개구들은 커버(도시되지 않음)에 의해 밀폐된다. 예를들어, 스테이션(65a)는 각 주변 환경의 입력/출력 스테이션에 연계된 CVD 코팅 스테이션이나 입력/출력 적재로크 스테이션들일 수 있으며, 반면에 스테이션(65b)는 예를들어 스퍼터 에치 스테이션일 수 있다. 만일 예를들어 CVD 코팅 스테이션으로 설계된다면, 스테이션(65a)은 다이어그램에 예시된 한편 단지 1차원으로 관찰되는 바대로 크기(n_a)의 스테이션 배치에 대한 배치 처리를 실시할 수 있으며, 이때 (n_a)는 예를들어 네개의 공작물(67)일 수 있다. 만일 예를들어 스퍼터 에치 스테이션으로 설계되는 한편 스퍼터 에치 처리의 제한적인 유효 분배에 따르면, 예를들어 스테이션(65b)은, 예를들어 보다 작으며 또한 예를들어 일차원으로 도시된 바와같이 2개의 공작물을 포함하는 공작물 숫자(n_b)로서 하나의 스테이션 배치를 처리하기 위해 설계된다. 선형 컨베이어(51)이 운반하는 공작물들(67)이 공작물 개구(59)나 상기 개구들에 플랜지된 스테이션들에 까지 밀어 올려지거나 상기 개구(59)나 상기 개구들에 플랜지된 스테이션들로부터 후퇴되도록 하기위해서 상기 선형 컨베이어(51)는 푸시 로드들(63)이 관통하여 이동하도록 해주며, 또한 상기 푸시 로드들(63)이 선형 컨베이어(51)의 왕복 운동성을 해치지 않으면서 공정의 계속중에 처리 위치에 공작물들을 유지하도록 해준다.

기본적 구성(GF)은 스테이션 배치의 크기(n)에 기초한 선형 컨베이어(51)의 필요한 작동 시퀀스(T)와 아울러 개획된 이송 배치의 크기(B_T)가 자유롭게 정의되는 공정 제어 유니트(69)를 특징으로 한다. 물론, 많은 변수들이 포함되는 만큼 많은 변수들이 전체 공정 제어가 초과 결정요인이 되는 것을 피하기 위해 필요해진다.

쉽게 알 수 있는 바와같이 그러한 시스템 구성은 고도로 유연하게 설계될 수 있으며, 또한 다양한 충족요건을 위해서나 이송 시퀀스나 이송 배치의 크기의 조절을 통해서 제공된 스테이션에서의 서로 다른 배치의 크기(n)가 수용될 수 있다.

이러한 설명들은 전문자들에게 다수의 변경레들을 허용할 수 있음이 분명하다. 예를들어, 단지 도시된 이송 푸시로드 장치(61)의 하나를 실시하는 것이 가능하지만 그 장치에 선형 컨베이어(51)에 대해 독립적인 운동성을 부여해주는 제어 스위치 파워 스테이지 및 드라이브를 장착하는 것이 가능하다. 일단 공작물 배치들이 대응하는 스테이션들에 있는 처리위치에 도달하면, 공작물 배치들은, 현재 움직이는 푸시로드 장치(61)에 의해 다시 실제적으로 들어올려 질 때까지 푸시로드 장치(61)의 동작에 대해 독립적으로 상기 처리위치에 남아 있게 된다. 도 5에 도시된 선형 시스템의 또 다른 예에 있어서 푸시로드 장치(61)가 선형 컨베이어(51) 대신에 개구들(59)을 따라서 선형적으로 이동하게 되며, 또한 필요로 하는 스테이션 배치의 크기에 따라 조절가능한 배치 크기로서 상기한 개구들을 위해 동작하게 된다.

도 6 및 도 7에는 본 발명에 따른 또 다른 시스템이 도시되어 있으며, 이 경우 상기 시스템은 환형 시스템이다. 이하에서 설명되는 바와같이 전술한 기초 원리들 모두는 개별적이거나 필요한 조합에 의해서 실행될 수 있다. 특히 도 6에 도시된 바와같이 상기 시스템의 기본적 구성은 이송 로봇(72)이 장착된 이송 체임버(70)를 특징으로 한다. 로봇은 모터에 의해서 축(A₇₂)주위를 제어가능한 각도로 회전이 될 수 있으며, 이를 위해서 제어입력(S₇₄)이 도 7에 도시된 바와같이 회전 드라이브(74)에 제공된다.

공작물 홀더(80)로 이루어진 두개나 그 이상의 배치 캐리어(76)가 회전축(A₇₂)이나 캐리어(75) 주위에 방위각상으로 분포되어 있다. 도 7에 도시된 바와같이 첫번째 배치 캐리어(76a)는 세개의 공작물(77)로 된 배치를 수용할 수 있는 용량을 가지고 있다. 캐리어(75)와 관련하여, 배치 캐리어(76a)는 도 7에서 양쪽 화살표(R)로 표시된 바와같이 밀봉된 선형 드라이브(78a)에 의하여 예컨데 방사상으로 신장되거나 후퇴될 수 있다. 두번째 배치 캐리어(76b)는 네개의 공작물로 된 한개 배치를 수용할 수 있는 한편 역시 밀봉된 드라이브(78b)에 의해서 방사상으로 신장되거나 후퇴될 수도 있다. 상기 캐리어는 각도상 엇갈린 형태로 상기 지지부(74)상에 설치될 수 있으며, 이것은 상기 밀봉된 드라이브(78)의 스트로크에 따라서 필수적인 것이 아닐 수 있다. 도시된 실시예에서, 세 번째 배치 캐리어(76c)는 지지부(74)상에 다시 필요에 따라 각도상 엇갈린 형태로 설치되어 있다.

도 7에 도시된 바와같이 제어입력(S₇₈)이 드라이브(78)의 신장운동과 후퇴운동을 제어하기 위해서 제공된다. 기본적 시스템 구성에 있어서, 진공 스테이션이나 필요시 정상 압력 스테이션들이 플랜지될 수 있는 몇몇의 작업개구(82)가 다시 제공되며, 또한 이 경우 (84)로 도시된 바와같이 사용되지 않는 작업개구들은 커버들에 의해 진공이 유지되도록 설치될 수 있다.

이미 설명된 바와같이, 도 7은 배치 캐리어(76)가 방사상 드라이브(78)를 통해서 신장되거나 후퇴되도록 해주는 이송로봇(72)을 도시한다. 대응하는 진공 스테이션(86)의 공작물 캐리어(88)상에 공작물을 재치하기 위해서, 도 7에 도시된 제거나 픽업 스트로크(H)에 대응하는 상대운동이 로봇장치(72)와 스테이션(86) 사이에서 시작된다. 만일 예를들어 배치 캐리어(76a)가 더 아래에 위치한 다른 스테이션(86b)에 재치되는 것이 필요한 배치를 스테이션들(86a)에서 픽업한다면, 상대적으로 긴 스트로크를 가진 운동이 도 7에 도시된 (K)에 대응하는 방향에서 이루어져야 한다. 개략적으로 도시된 바와같이 상기 운동들은 제어되는 상대적 드라이브(90)에 의해서 수행되며, 이때 물론 제공된 스테이션들(86) 뿐만아니라 로봇(72)은 소정요건에 대응하는 방향으로 서로에 대해 상대적으로 움직이는 방식으로 설계된다. 만일 방사상 드라이브(78)로 표시된 바와같이 대응하는 이송 배치 캐리어(76)가 방향(R)으로 충분히 신장될 수 있다면, 도 7에 따른 x/y 방향에 있어서 로봇장치(72)의 추가적 운동성을 구비하는 것이 필요하지 않게 될 것이다.

도 6에 도시된 바와같이 추가적인 이송로봇 장치(72a)가 제공될 수 있으며, 이 장치는 적재로크 스테이션(86o)과 입력/출력 스테이션(73) 사이에서 상호동작하게 되는 한편 주변 환경으로부터 적재로크 스테이션(86o)으로 공작물을 적재하거나 적재로크 스테이션(86o)으로부터 공작물을 적재하게 된다. 상기 공작물들은 예를들어 이송 매거진을 사용하는 상기 스테이션(73)으로의 입력이거나 상기 스테이션(73)으로부터의 출력을 이루게 된다. 상기 로봇(72a)은, 각각 상기 공작물들을 적재로크 스테이션(86o)을 통해서 진공설비로 공급하기 위해서 공작물들을 제거하는 한편 공작물들을 주변 환경에 있는 이송 매거진상으로 되돌려 놓기 위해 공작물들을 적재로크 스테이션(86o)을 통해서 진공설비로부터 제거해준다. 도 7과 도 8a 내지 8d에 도시된 로봇들은 모두, 공작물들을 개별적인 배치상태에서 하나나 그 이상의 적재로크 스테이션을 통해서 주변 환경으로부터 진공설비로 적재하거나 그 역으로 적재하기 위해 도 6에 따른 로봇(72a)으로 사용될 수 있다.

도 8a는 로봇설비(72)의 실시예를 보여주며, 상기 실시예에서 이송 배치 캐리어(76c 내지 76f)는 각도상 엇갈린 형태로 지지부(75)상에 견고하게 배치된다. 상기 이송 배치 캐리어들은 스트로크(K)로 소정의 작동 높이까지 움직여지며, 또한 상기 공작물들은 이어서 짧은 스트로크(H)로 대응하는 스테이션들로부터 제거되거나 상기 스테이션들로 재치된다. 방사상의 신장성 부족으로 인하여, 상기 로봇설비(72)는 x/y에 의해 표시되는 한편 스테이션(86)의 공간적 배치의 함수로서 제어되는 바와같이 x/y평면에서 움직여진다.

만일 도 8a에 따른 로봇이 도 6의 로봇(72a)으로 사용된다면 단지 배치 캐리어(76o)와 같은 하나의 이송 배치 캐리어가 제공될 수 있다.

도 8b에 따른 로봇 설비의 실시예에 따르면 지지대(75)상에 제공된 각 공작물 홀더(80)는 할당된 방사상 드라이브(78o)의 제어하에서 개별적으로 신장되거나 후퇴될 수 있다. 이것은 도 7에 도시된 실시예와 유사하게 배치 캐리어(76)의 고도로 유연한 구성을 가능하게 하여, 죠인트 이송 배치 이동 설비로부터 필요한 수의 단일 공작물 홀더들(80)을 신장시키거나 후퇴시킴에 의해서 동작중에 상기 구성을 변화시킬 수 있다.

또한 여기에는 다양한 높이로 배치된 스테이션들을 지원하기 위한 제어된 큰 스트로크(K)가 필요하게 되며, 또한 개별적인 공작물들을 집어들거나 놓아두기 위해서는 제어된 작은 스트로크(H)가 제공된다. 상기한 구성에 있어서는 축(A72)에 수직한 평면인 방향 x/y로의 로봇설비(72)의 소요 이동성이 필요하지 않게 된다. 도 8b에 따른 로봇은 주변 환경 입력/출력 스테이션(73)과 적재로크 스테이션(86o) 사이에서 공작물 배치들을 이송하기 위해서 도 6에 도시된 로봇(72a)으로서 사용될 수 있다.

도 8c는 로봇 설비(72)를 도시하고 있고, 상기 로봇 설비(72)에서 상기 배치 캐리어와 공작물 홀더(80) 사이의 거리는 유연하게 정해질 수 있는 한편 시스템 구성과 아울러 정의될 수 있으며, 그 거리는 공정중에 고정될 수 도 있고 가변적일 수도 있다. 이러한 방식으로 스테이션들은 사용될 수 있으며, 상기 스테이션에서는 예를들어 도 7에 표시된 바와같이 대응하는 단일 공작물 홀더 거리(a')가 다를 수 있다. 물론, 도 8c에 따른 가변적이며 제어가능한 단일 공작물 홀더 거리의 실현은 도 7, 도 8a 및 도 8b에 도시된 모든 실시예들과 결부될 수 있다. 도 8d에서는 예를들어 도 8b와 도 8c에 따른 실시예들의 고도로 유연한 조합이 도시되어 있다. 여섯 개의 도시된 공작물 홀더들(30)중 세 개는 이송 배치 캐리어(76g)까지 결합적으로 신장되는 한편 그것에 의해 상기 단일 공작물 홀더 거리가 감소되며, 반면에 다른 세 개의 공작물 홀더들(80')은 정지해서 지정을 대기하게 된다.

다시, 도 8c와 도 8d에 따른 로봇설비는 또한 도 6의 진공 이송 로봇설비에 대한 주변으로 사용될 수도 있다. 그것에 의해서, 특히 도 8d에 도시된 바와같은 로봇을 가지고서, 스테이션(73)에서의 입력/출력 매거진의 다른 피치들이 지원되거나 그러한 로봇설비(72a)에 의해서 적재로크 스테이션(86o)과 이에 이어진 진공 장치들내에 있는 공작물 배치 고정부의 표준 피치와 서로 상관관계를 갖게 된다.

물론, 이것은 전문가들에게 어떻게 다른 이송 배치 캐리어들이 로봇설비에서 유연하게 결합될 수 있는 가 하는 것과 어떻게 필요한 운동이 소정의 스테이션들로의 배치 픽업과 상기 소정의 스테이션들로부터의 이동에 부가하여 실현될 수 있는 가에 대하여 많은 다양하고 가능한 실시예들을 알려준다. 본 발명에 따른 기본적인 제안은 시스템 작동중에 그것이 고정되거나 가변적이거나 간에 이송 배치의 크기를 조절가능하게 하는 것이고, 필요한 경우에는 로봇상의 소위 피치 너비를 변화시키거나 스테이션 배치들에서 필요하다면 예컨데 도 8d에 도시된 공작물 피치 거리를 조절하는 것이다.

도 6으로 되돌아가서 예컨데 가열 체임버나 냉각 체임버(86c)에 부가하여 두 개의 PECVD 체임버와 같은 두 개의 공작물 처리 체임버 뿐만아니라 출구 진공 로크(86o)를 구비한 기본적 시스템 구성을 가정해보자.

도 7에 따르면 상기 스테이션들이나 체임버들(86)의 하나인 스테이션(86a)은 예를들어 열둘의 배치 용량(n_a)을 갖을 수 있고, 체임버(86b)의 배치 용량(n_b)은 예를들어 셋일 수 있으며, 반면에 하나의 추가적 체임버상의 배치 크기는 예를들어 다섯일 수 있다. 체임버(86)내의 대응하는 배치들의 공작물들은 도시된 바와같이 개별적인 공작물 홀더들(88)위에 놓여지는 바, 여기에서 인접한 스테이션(86)으로부터의 배치 픽업이나 배치 제거는 로봇 설비(72)상의 할당된 드라이브(78)에 의해서 공작물 홀더(80)를 피관측 체임버(86)로 후퇴시킴에 의해서 수행되며, 또한 상기 공작물들은 예를들어 로봇 설비(72)에 상대적으로 피관측 체임버(86)의 상대 상승운동(H)를 통해서 체임버(86)의 배치 캐리어들(89)위에 놓여진다. 상기 이동은 체임버(86)에 상대적인 로봇 설비의 상승 운동을 통해서 수행된다. 이동운동(H)은 체임버(86)나 로봇(72)의 운동을 통하여 실현된다.

도 7에 도시된 바와같이, 세 개 공작물로 된 이송 배치의 크기는 이송 배치 캐리어(76a)를 신장시킴에 의해서 로봇 설비(72)를 사용해서 예컨데 배치 크기(n_a)를 가진 체임버(86a)와 같은 도시된 열두개의 공작물들로부터 픽업될 수 있다. 로봇(72)의 제어된 하강운동 - (K) 스트로크 - (드라이브는 도시되지 않음)을 통해서 상기 이송 배치 캐리어(76a)는 목적 스테이션(86b)과 일직선을 이루게 되는 한편 로봇 설비(72)의 회전운동에 의해서 픽업 개구와 반대편에 놓여지게 된다. 드라이브(78a)에 의해서 세 개로 된 배치가 스테이션(86b)으로 이동하게 된다. 로봇설비를 사용해서 몇 개의 이송 배치들을 동시에 이동시키는 것이 쉽게 이루어질 수 있다.

도 6에서 볼 수 있는 바와같이, 상기 시스템에는 설치된 방사상 드라이브(78)를 위한 상기 제어입력(S₇₈), 도 7의 (ω₇₂)에 대응하는 회전 증분의 각을 위한 제어입력(S₇₄), 및 로봇 설비(72)와 대응하는 체임버(86) 사이의 상대 스트로크(H 또는 K)를 위한 제어입력(Z)이 제공된다.

공정 제어기(94)가 제공되고, 상기 제어기에서는 시스템 구성 절차의 일부로서 대응하는 스테이션들에 할당된 스테이션 배치 크기· 대응하는 스테이션들에 적용되는 시퀀스(T) 및 대응하는 이송 배치 크기(B_T)가 입력되며, 또한 상기 최대 이송 배치 크기(B_T)가 특정된 스테이션 배치 크기와 최대로 확인된 스테이션 동작 시퀀스에 기초하여 공정 제어 유니트(94)에 의해서 자동적으로 계산된다.

여기에서 준수해야 되는 원리는, 로봇 설비상에서 비교적 큰 수의 공작물 홀더들이 제공되고, 상기 홀더들은 할당된 방사상 드라이브(78)의 선택적 작동을 통해서 선택적으로 제어되는 한편 이송 배치 캐리어들과 연결되며, 또한 이러한 목적을 위해서 피치 크기나 심지어 그 변화 패턴(a(t))가 자유롭게 정의될 수 있다. 본 발명의 기초를 이루는 모든 원리들이 개별적으로나 소정의 조합에 의해 구현되는 본 발명에 따른 또 다른 시스템이 도 9에 개략적으로 도시되어 있다. 이 시스템은 역시 본 발명의 모든 전기 기본 원리들에 따라서 실현될 수 있다. 이제까지 논의된 실시예들에 있어서는 배치를 형성하는 공작물들이 개별적으로 이송되는 것으로 설명되었지만, 도 9에 따른 시스템은 개별적인 공작물들을 포함하는 한편 상기한 시스템과 사용이 가능한 배치 매거진들을 수용내지 이송하도록 설계되어 있다. 이제까지의 설명으로 볼 때, 도 9에 도시된 시스템은 많은 자세한 설명을 필요로 하지 않는다. 상기 기본 구성은, 이송 로봇(102) 및 이송 체임버(100)의 벽에 있는 다수의 작업개구들을 구비한 이송 체임버(100)를 포함하고 있다. 로봇(102)이, 개략적으로 도시된 제어입력(S₁₀₂)의 제어하에 축(A₁₀₂)의 둘레에서 드라이브에 의해 회동될 수 있는 방식으로 상기 이송 체임버내에 설치된다. 입력(S104)를 통하여 제어되는 선형의 밀봉된 드라이브와 같은 방사상 드라이브(104)는 상기 스테이션들을 구동하기 위해서 기본적 시스템 구성상에 형성된 진공 스테이션들(108)로부터나 진공 스테이션들(108)을 향해서 반경방향으로 픽업 엘리먼트(106)의 진입과 후퇴를 허용한다. 여기에서는 개별적인 공작물들로부터 모여진 배치들 대신에 배치 매거진들이 처리된다.

도면에 도시된 스테이션(108)내에 제공된 바와같은 그러한 배치 매거진은 예를들어 캐리어 드럼(110)을 포함하며, 상기 드럼의 외주에는 몇몇의 공작물(112)이 정위치에 유지된다. 상기 배치 매거진들은 쌓여질 수 있으며, 또한 제어입력(S114)상에서 제어될 수 있는 축방향 드라이브(114)·입력(S102)상에서 제어될 수 있는 회전 드라이브(105) 및 입력(S104)에서 제어될 수 있는 방사상 드라이브(104)를 사용함에 의해서 하나나 둘 또는 어떠한 수의 배치 매거진 유니트(110)가 도면에 도시된 예컨데 스테이션(116)을 위해서와 같이 픽업되는(접수 엘리먼트(106))상의 점선에 의해 도시된 바와같이) 한편 이송되고 놓여진다.

역시 여기에는 공정 제어 유니트(118)가 사용되고, 시스템의 기본 구성이 제공된 진공 스테이션들상에서 처리되는 매거진 배치의 크기들은 개별적인 진공 스테이션들을 위한 동작 시퀀스들인 시퀀스(T)와 함께 자유롭게 정의될 수 있으며, 또한 그들로부터 공정 유니트(118)는 로봇(102)의 회전 드라이브·방사상 드라이브(104) 및 축상 드라이브(114)를 위해 정확한 시퀀스에서 필요한 제어신호를 결정하여 출력한다. 공작물의 처리공정중에 그들의 축(A110) 둘레를 회동하는 매거진 배치 유니트(110)를 하나의 제공된 진공 스테이션이나 다른 진공 스테이션에 제공하는 것은 매우 유익하며, 이러한 것은 쌓여진 배치 매거진(110)들이 서로 간에는 회동하지 않으면서도 축방향으로 이탈시킬 수 있음과 아울러 대응하는 진공 스테이션상에 제공된 드라이브 모터(120)에 의해서 회동하게 되는 방식에 의해서 쉽게 달성될 수 있다.

이것은, 특히 예들들어 밀링 커터들·가역적인 팁스 및 드릴들인 공구들 및 금속 가공이나 성형을 위한 일반 공구들과 같은 작은 공작물들의 처리, 특히 내마모 코팅과 같은 표면처리 또는 안경과 렌즈와 같은 광학적 공작물의 처리등을 가능하게 해준다.

도 10은 도 9의 배치 매거진(110)과 유사하지만 3-차원 처리를 필요로 하는 일반적인 공작물인 예컨데 밀링커터나 드릴등을 수용하도록 되어있는 배치 매거진을 일예로서 도시하고 있다. 상기한 유니트(110a)는 바람직하게는 원형인 상부 및 하부판들(130 및 134)로 구성되어 있으며, 상기 하부판들 각각 뒤틀리지 않도록 상기 연결 앵커(138, connecting anchor)에 연결되어 있다. 상기 판들(134 및 130)은 캠들이나 리세스 링크들(136 및 137)을 구비하고 있으며, 또한 상기 판들은 상기 링크들을 통해서 도 10에 도시된 바와같이 회전 드라이브(139)에 연결될 수 있거나 모든 쌓여진 유니트로 회전운동을 위한 토오크를 보내줄 수 있다. 판들(130, 134)에 대하여 회전운동을 하지 않고서 (141)에 도시된 바와같이 동작중에 정위치에 고정된 중앙 앵커(132)가 제공된다. 배치 매거진(110a)의 앵커(132)상에는 기어(140)와 같은 회전 전달부가 존재하며, 또한 하부나 상부 케이지 판(130이나 134)의 외주에는 기어 휠들(146)위에서 회전이 될 수 있는 한편 그 위에 드릴, 그라인더, 밀링커터 등과 같은 많은 수의 공작물들(147)이 정위치에 유지되는 캐리어 트리들(144)이 제공된다. 이것은, 처리중에 각각의 개별적인 트리(144)가 그 자신의 축(A144)의 주위를 선회함과 아울러 모든 트리들이 케이지(130, 134, 138)와 함께 축(A110)의 주위를 연계되어 회전함을 의미하는 것이다.

본 발명에 따른 또 다른 시스템이 도 11에 도시되어 있다. 상기 시스템은, 바람직하게는 이송 체임버 펌프 장치(201)를 통해서 펌핑되는 적어도 하나의 이송 체임버(200)를 포함하고 있다. 이송 로봇은 이송 체임버(200)내에 설치된다. 상기 도면에 도시된 개념에 있어서는, 이송 로봇(203)이 드라이브 모터(205)에 의해서 축(D)의 둘레에서 회전할 수 있는 방식으로 설치되며, 또한 상기 로봇은 회전축(D)에 대해 반경방향에서 사각으로 지지되는 아암(207)이나 도시된 바와같이 수직으로 지지된 아암(207)을 특징으로 한다. 벨로우즈 장치(209)에 의해 진공적으로 격리된 선형 드라이브(도시되지 않음)에 의해서, 아암(207)은 스트로크(R)에 따라 반경방향으로 신장되거나 후퇴될 수 있다. 수용판(211)은 상기 아암의 최단부에 설치된다. 아암(207)을 가진 로봇(203)은 도 6, 7, 8b에 도시된 로봇(72)과 본질적으로 같은 설계로 되어있다. 필요하다면 밸브들(215)에 의해 폐쇄될 수 있는 몇개(도시된 것은 7개이다)의 관통 개구(213)가 이송 체임버(200)의 벽을 따라서 분포되어 있다. 수행되는 처리 단계의 시퀀스에 대응하여, 진공 스테이션들(217)이 개구(213)로 플랜지된다. 상기 도면은, 밸브(215a)가 움직이지 않고 영구히 폐쇄되거나 개구(213a)가 커버로 밀봉되기(도시되지 않음) 때문에 실시예에서는 사용되지 않는 할당된 밸브(215a)를 구비한 개구(213a)를 도시한다.

상기 스테이션들(217)은 또한 공작물들의 배치를 위한 광역 이송 시스템을 구축하기 위해서 추가적인 이송 체임버를 포함할 수 있다. 도시된 구성에서 볼 수 있는 바와같이, 예를들어 스테이션은 적재로크와 출구 진공 로크(219)를 포함하고 있다. 다른 스테이션들은, 요구되는 공정에 대응하여 CVD, PECVD, PVD, 가열 또는 냉각 스테이션으로 구성되거나 상기한 바와같이 추가적인 이송 스테이션들이나 진공 로크 스테이션들로 구성될 수 있다. 도시된 설계에 있어서는 공작물들(221)이 구형 돔 배치 매거진(223)상에 있는 진공 로크 스테이션(219)으로 적재된다. 대응하는 밸브(215)가 개방된 후에, 실시예로서 도시된 여섯개의 공작물 디스크들을 구비한 배치 매거진(223)이 진공 로크 스테이션(219)에 의해서 그것이 고정된 이송 아암(207)위에 존재하는 판(211)으로 이송된다. 만일 존재한다면 할당된 밸브(215)가 개방된 후에, 선정된 공정이나 공정 단계 시퀀스에 입각해서 상기 배치가 스테이션(217)에 시퀀스적으로 도입된다. 배치 매거진(223)이 대응하는 스테이션(217)내에 놓여진 후에, 판(211)을 구비한 아암(207)이 후퇴하게 되는 한편 상기 할당된 진공 로크 밸브(215)가 다시 폐쇄된다. 스테이션들(217)의 하나에 도시된 바와같이, 예를들어 구형 돔상에 분포되어 동시적인 공정이나 공작물(221)의 처리를 위해서 사용되는 예를들어 스퍼터 쏘스와 같은 몇몇의 처리쏘스들이 처리 스테이션내에 제공된다. (227)에 점선으로 도시된 바와같이 이 경우에 있어서 상기 매거진(223)을 스테이션(215)의 회전 드라이브(227)상에 재치시키는 것과 아울러 양방향 화살표(ω)에 의해 개략적으로 도시된 바와같이 그러한 스테이션에서 처리중에 공작물들(221)을 가진 매거진(223)을 회전시키는 것이 쉽게 가능해진다.

도 11을 살펴보면, 당업자들은, 스테이션들(215)이 로봇 장치의 회전축(D)에 수직한 몇개의 큰 원형 평면을 따라서 배열될 수 있는 한편 이러한 방식으로 배치 매거진(223)의 재치와 픽업을 위해서 (H)에 따른 짧은 스트로크 드라이브 뿐만아니라 (K)에 따른 상승 드라이브가 예를들어 도 7에 대한 설명과 같은 설명에 따라서 제공될 수 있다. 이에 더하여, 몇개의 배치 매거진들이 동시에 처리될 수 있도록 하기 위해서 상기 로봇은 도 8c나 8d와 유사한 가변적인 피치를 가진 몇개의 아암(207)을 특징으로 할 수 있다. 예를들어 도 7에 따른 시스템내의 개별적인 공작물의 위치에 배치 매거진이 도 9에 따는 시스템과 관련하여 이미 설명된 바와같이 사용되며, 또한 몇개의 배치 매거진들을 포함하는 "수퍼 배치"들이 취급될 수도 있다.

아울러, 적어도 하나의 아암(207)의 회전각들(±φ(t))에 대한 타임 시퀀스, 그 스트로크(R(t))에 대한 타임 시퀀스 및 만일 적용가능하다면 스트로크(K(t), H(t)가 입력되는 제어기(230)가 제공된다. 상기 공정 제어기(230)는 또한 입력된 회전각 시퀀스, 스트로크 시퀀스 및 픽업과 재치운동의 함수로서 할당된 밸브(215)의 개폐운동을 제어한다. 밸브들(215)는, 스테이션들과 이송 체임버(201) 사이와 결과적으로는 스테이션들(217)간에 고립이나 격리를 필요로 하는 가의 여부에 입각하여 제어된다. 필요하지 않은 이송 체임버상의 작업 개구들은 진공상태로 유지된다(215a).

상기 진공 스테이션들은 그러한 공지 스테이션들, 부분적으로는 분위기 압력하의 CVD를 위한 스테이션들과 같이 진공상태하에서 작동되는 스테이션들, 또는 이송 스테이션들과 진공 로크 스테이션들과 같은 코팅 스테이션·에칭 스테이션들·세정 스테이션 및 조정 스테이션들 등을 포함하는 LPCVD·PECVD와 PVD를 위한 스테이션들로 구성될 수 있다. 요구조건에 입각해서, 상기 스테이션들은 서로 진공적으로 격리되며, 특히 몇개의 그러한 스테이션들에 대해 사용되는 이송 체임버와 관련해서는 예를들어 진공이 견고하게 유지되거나 래비린스 씰등과 같은 압력 스테이지 밀봉을 통하는 방식에 의해서 실제 공정에 의해 요구되는 정도까지 격리된다. 적당한 진공 밸브와 같이 이러한 요청에 있어서 취해지는 단계들은 공지되어 있다. 본 발명에 따른 처리공정이나 본 발명에 따라 작동되는 장치들을 사용하면, 기본적으로 2-차원적인 평면 공작물과 3-차원적 공작물 뿐만아니라 예컨데 액티브 매트릭스 표시장치의 제조를 위해 사용되는 반도체 웨이퍼·메모리 디스크·유리 기판과 같은 공작물들이 처리된다. 특히 기계 요소나 금속 절삭이나 성형을 위한 공구들이 3-차원적으로 처리되며, 상기 요소나 공구에는 특히 마모 방지 코팅이 적용되게 된다. 본 발명에 따른 기본적 원리들이 어떻게 실현되는 가를 보여주기 위해서 다수의 가능한 시스템 타입들이 개략적으로 소개되었다. 특히 로봇 장치와 같은 장치의 상세한 설계와 관련해서, 선형 또는 원형 시스템이 만들어지는 가의 여부에 따라 당업자들에게 많은 가능례들이 채택될 수 있다는 것은 말할 나위가 없다. 아울러, 대규모 생산시스템의 테두리내에서 상기 시스템의 단지 일부가 또한 본 발명에 따른 "위성(종속) 시스템(system satellite)"으로서 실제상 설계되며 작동될 수 있다는 사실이 강조되어야 한다.

본 발명은, 소정의 유연성을 유지하는 범위내에서 매우 임계적이며 고도로 다양한 공정단계들이 복잡한 시퀀스로 실행되어야 하는 상황하에서도 상기 공작물처리에 있어서 높은 생산성을 유지하는 반면에 이 방식에 다양한 공정시퀀스들에 대한 고도의 적응유연성을 제공해준다.

본 발명은, 항상 다른 배치 크기에 대해 적어도 두개의 진공스테이션이 제공되는 타입의 공정을 조절해주고, 그 결과 공지된 시스템에서의 단일 공작물 이송 및 처리공정을 사용하는 경우보다 전체 시스템에서의 더 높은 처리량을 달성하게 해준다.

본 발명은, 공정제어하에서 각각의 이송된 배치의 크기를 변화시킬 수 있도록 해주어 다른 배치크기를 수용하는 몇개의 진공스테이션을 가진 시스템에 있어서 전체 공정시퀀스를 최적화할 가능성을 실현해준다.

본 발명은, 스테이션 배치의 공작물의 수가 공정제어기에 의해 자유롭게 정의할 수 있게 해준다.

도 1은 본 발명에 따른 시스템 또는 본 발명에 따른 공정을 도시하는 개략적인 시퀀스 챠트,

도 2는 본 발명에 따른 공정을 채용하는 시스템을 도시하는 도 1과 유사한 다이어그램,

도 3은 도 2에 도시된 공정에 기초하여, 완충 스테이션으로 사용되는 추가적인 부공정 스테이션을 통해서 한 스테이션에서 다른 스테이션으로 이송하는 것을 개략적으로 나타낸 도면,

도 4는 본 발명에 의해 설명된 공정에 따라 작동되는 시스템을 도시하는 도 1에 유사한 개략도,

도 5는 본 발명의 공정에 따라서 작동하는 선형 시스템으로 설계된 본 발명에 따른 첫번째 시스템의 단면을 도시하는 개략도,

도 6은 본 발명의 공정에 따라서 작동하는 시스템의 다른 실시예에 대한 개략도,

도 7은 도 6에 따른 시스템에 대한 개략적인 부분종단면도,

도 8a는 도 6 및 도 7에 도시된 타입의 시스템에서 사용될 수 있는 이송로봇 장치의 또 다른 실시예를 도시하는 도면,

도 8b, 8c, 8d는 상기한 타입의 로봇 장치에 대한 추가적 실시예를 도시한 도면들로서, 도 8b는 자유롭게 변화가능한 이송 배치크기를 위한 것을 도시한 도면, 도 8c는 자유롭게 변화가능한 피치폭을가진 것을 도시한 도면, 도 8d는 자유롭게 변화가능한 이송배치의 크기를 선택하는 것이 가능한 한편 자유롭게 변화가능한 피치폭의 선택이 모두 가능한 것을 도시한 도면,

도 9는 본 발명의 공정에 따라 작동하는 시스템의 다른 실시예를 도시한 개략도,

도 10은 공구와 같은 3차원 공작물에 특히 적합한 배치 매거진의 다른 실시예를 도시하는 도면,

도 11은 본 발명의 공정에 따라 작동하는 시스템의 또 다른 실시예에 대한 개략적인 평면도.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 부공정 3a 및 3b : 진공 처리 스테이션

5a 및 5b : 스테이션 배치 7 : 공정제어

T_13a, T_3a1, T_3b1 및 T_13b : 이송 T_xy(t) : 타이밍 시퀀스

Claims (26)

1. 적어도 하나의 진공 스테이션을 구비하는 처리설비에 공작물들을 적재하는 단계;

   스테이션 배치로 그룹지워진 상기 공작물들을 상기 처리설비의 상기 적어도 하나의 진공 스테이션 내에서 표면처리하는 단계; 및

   자유롭게 프로그램가능한 공정 제어기 유니트에 의해서 상기 표면처리공정의 타이밍을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조 방법.
2. 각각의 스테이션 배치로서 그룹지워지되, 공작물들의 수가 서로 다른 공작물 배치들에 대해 각각 동작하는 적어도 두 개의 스테이션들을 포함하는 처리설비에 공작물들을 적재하는 단계; 및

   이송배치(transport batch)로서 그룹지워진 공작물들을 상기한 적어도 두 개의 스테이션들로 이송하거나 상기 스테이션들로부터 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
3. 적어도 두 개의 진공스테이션들을 포함하는 처리설비에 공작물들을 적재하는 단계;

   이송 배치로서 그룹지워진 공작물들을 상기한 적어도 두 개의 스테이션들에 적재하거나 상기 스테이션들로부터 제거하는 단계; 및

   상기한 적어도 두 개의 진공 스테이션들에 대해 공작물을 적재하거나 공작물을 제거하기 위해서 상기 이송 배치를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
4. 공작물을 적어도 두 개의 스테이션들을 구비하는 처리설비 내에 적재하는 단계;

   각각의 스테이션을 공작물의 스테이션 배치에 대해 동작시키는 단계; 및

   상기 스테이션 배치들의 공작물들의 수를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 진공 스테이션 내의 스테이션 배치들의 크기를 상기 처리설비의 또 다른 스테이션 내의 스테이션 배치와 서로 상이하도록 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 진공 스테이션과 상기 처리설비의 또 다른 스테이션 사이에서 이송 배치로서 그룹지워진 공작물들을 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
7. 제 6 항에 있어서, 상기 이송 배치를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
8. 제 2 항에 있어서, 상기 이송 배치를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
9. 제 8 항에 있어서, 자유롭게 프로그램가능한 공정 제어기 유니트를 사용해서 상기 이송 배치를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
10. 제 2 항에 있어서, 상기 스테이션 배치들을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
11. 제 2 항에 있어서, 상기 스테이션 배치와 상기 이송 배치중 적어도 하나를 배치 크기 및 기하학적 배열과 관련하여 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
12. 제 11 항에 있어서, 상기 제어가 자유롭게 프로그램가능한 공정 제어기 유니트에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
13. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,

    이송배치로서 그룹지워진 공작물들을 상기 처리설비의 스테이션들로 이송하거나 상기 스테이션으로부터 이송하는 단계와 이송 목적 스테이션의 스테이션 배치의 공작물들의 수를 넘지 않도록 상기 이송 배치의 공작물들의 수를 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
14. 제 13 항에 있어서, 이송 목적 스테이션의 스테이션 배치의 공작물들의 수에 대해 정수비를 이루도록 상기 이송 배치의 공작물들의 수를 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
15. 제 13 항에 있어서, 이송 출발 스테이션의 스테이션 배치의 공작물들의 수에 대해 정수비를 이루도록 상기 이송 배치의 공작물들의 수를 선정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
16. 제 1 항 내지 제 4 항중 어는 한 항에 있어서, 가동 매거진 내에서 상기 스테이션들에 공작물들을 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
17. 제 16 항에 있어서, 상기 가동 매거진내에서 상기 스테이션들로 공작물들을 이송하거나 상기 스테이션들로부터 공작물들을 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
18. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 설비에 제공된 스테이션들의 적어도 일부를 상호간에 제어가능하도록 격리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리된 공작물의 제조방법.
19. 스테이션 배치로서 그룹지워진 공작물들을 위한 적어도 하나의 진공 처리 스테이션, 상기 진공 스테이션에 공작물들을 공급하기 위한 이송 시스템, 및 그 출력이 상기 이송 시스템용 드라이브 장치에 작동상 연결되는 한편 상기 처리 시스템의 동작시간을 제어함과 아울러 자유롭게 제어될 수 있는 공정 제어기 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
20. 스테이션들 중 적어도 두개의 스테이션들이 서로 다른 크기들의 공작물들로 된 스테이션 배치들을 접수하도록 설계되어 있는 공작물 접수를 위한 스테이션, 및 상기한 적어도 두 개의 스테이션들에 대해 공작물들의 이송 배치들을 이송해주는 이송 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
21. 스테이션들중 적어도 두 개의 스테이션들이 공작물들로 된 스테이션 배치들을 접수하도록 설계되어 있는 공작물 접수를 위한 스테이션, 상기한 적어도 두 개의 스테이션들에 대해 공작물들의 이송 배치들을 이송해주는 이송 시스템, 및 상기 이송 배치들을 제어하는 제어 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
22. 스테이션들 중 적어도 두 개의 스테이션들이 공작물들로 된 스테이션 배치들을 접수하도록 설계되어 있는 공작물 접수를 위한 스테이션, 및 상기 스테이션 배치들을 제어하는 제어 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
23. 제 19 항 내지 제 22 항중 어느 한 항에 있어서, 다른 크기의 각 스테이션 배치들을 접수하도록 설계된 적어도 두 개의 진공 스테이션들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
24. 제 23 항에 있어서, 이송 배치로서 그룹지워진 공작물들을 이송하기 위한 이송 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
25. 제 24 항에 있어서, 상기 이송 배치와 상기 스테이션 배치중 적어도 하나에 대한 크기 및 기하학적 배열중 적어도 하나가 제어가능한 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리시스템.
26. 관통해서 공작물들을 공급하는 한편 공작물들을 처리하기 위한 개구들이 포함된 체임버벽을 구비하는 체임버, 상기 체임버내에서 상기 개구들에 대해 사용되는 상기 체임버내의 이송 시스템, 및 그 출력이 상기 이송 시스템의 적어도 한 개의 액츄에이터에 작동상 연결되는 한편 상기 개구들중 적어도 두개에 설치된 진공 스테이션들에 의해 접수되는 공작물들의 배치들의 크기가 자유롭게 선정될 수 있는 공정 제어기 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 공작물의 진공처리모듈.