KR100543520B1 - 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 - Google Patents
폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100543520B1 KR100543520B1 KR1020030032753A KR20030032753A KR100543520B1 KR 100543520 B1 KR100543520 B1 KR 100543520B1 KR 1020030032753 A KR1020030032753 A KR 1020030032753A KR 20030032753 A KR20030032753 A KR 20030032753A KR 100543520 B1 KR100543520 B1 KR 100543520B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- solar cell
- wafer
- manufacturing
- type
- waste
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 51
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 37
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 44
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/047—PV cell arrays including PV cells having multiple vertical junctions or multiple V-groove junctions formed in a semiconductor substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
Claims (11)
- 삭제
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 p-형 실리콘 폐웨이퍼는 두께가 300㎛ ∼ 600㎛를 가지며, 비저항은 0.5 Ω-cm ∼ 10 Ω-cm 의 값을 갖는 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 p-형 실리콘 폐웨이퍼는 그 표면을 질산, 불산, 초순수 물을 혼합한 용액으로 5분간 세척하여 15 ~ 50㎛의 두께만큼 제거함으로서 오염물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 알루미늄 층의 두께는 8 ~ 15 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 인산(H3PO4)의 두께가 5 ~ 50㎛ 가 되도록 스프레이 방식에 의해 코팅시킨 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 제5공정은 상기 태양전지 웨이퍼를 벨트 퍼니스(Belt furnace)에 의해 800 ~ 900 ℃의 온도에서 5 ~ 10분간 열처리시킴으로써 스크린 프린팅된 알루미늄 금속층이 열처리에 의해 접합되면서 적층된 태양전지 단위체의 견고한 접합이 이루어지도록 하고, 동시에 p-형 반도체의 영역을 형성시킬 수 있게 한 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 제6공정은 태양전지 웨이퍼를 멀티와이어 쏘우(mutli-wire saw)를 이용하여 8 ~ 12 mm의 두께를 갖도록 절단시켜서 셀(Cell)형태의 태양전지를 제작하는 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면을 세척하는 제1공정; p-형 실리콘 폐웨이퍼의 표면에 스크린 프린트에 의해 알루미늄(Al)층을 증착시키는 제2공정; 상기 폐웨이퍼의 일면에 인산(H3PO4)을 스프레이 방식으로 코팅시켜서 n-도핑시킨 후 건조시켜서 p-n형 태양전지 단위체를 제조하는 제3공정; 상기 제3공정에서 얻은 p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜서 태양전지 웨이퍼를 제조하는 제4공정; p-n형 태양전지 단위체를 다수로 적층시켜 된 태양전지 웨이퍼를 열처리에 의해 도핑 및 금속접합을 완성시키는 제5공정; 완성된 태양전지 웨이퍼를 일정 크기로 절단하여 태양전지를 제작하는 제6공정; 상기 태양전지에 대해 건식식각에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시키는 제7공정;으로 구성된 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법에 있어서,상기 제7공정은 태양전지의 표면에 건식식각 장치에 의해 집광을 위한 텍스쳐를 형성시킨 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- 제8항에 있어서,상기 건식식각 장치는 음극(Cathode)을 띠는 받침대와, 양극(Anode)을 띠는 본체; 챔버의 주밸브, 부스터 펌프, 로터리 펌프, SF6 의 MFC(Mass Flow Controller), O2 의 MFC, SF6 의 가스, O2 가스, 계기판 및 알람조절장치, 챔버축의 회전을 조절하는 장치와 밸브, 초고주파(RF) 매칭 박스, 초고주파 전력 공급원, 주 전력원으로 구성된 것이며,상기 제6공정에서 제조된 태양전지를 상기 받침대에 안착시킨 후 SF6 와 O2 가스를 9:1 ~ 6:4의 비율로 혼합된 가스를 이용한 건식식각에 의해 각각의 웨이퍼 표면의 절단시 손상된 표면 결함이 제거되고, 빛의 반사를 감소하는 텍스쳐 형성 작업을 실시하는 것을 특징으로 하는 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법.
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030032753A KR100543520B1 (ko) | 2003-05-23 | 2003-05-23 | 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030032753A KR100543520B1 (ko) | 2003-05-23 | 2003-05-23 | 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040100405A KR20040100405A (ko) | 2004-12-02 |
KR100543520B1 true KR100543520B1 (ko) | 2006-01-20 |
Family
ID=37377805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030032753A KR100543520B1 (ko) | 2003-05-23 | 2003-05-23 | 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100543520B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102903775A (zh) * | 2012-10-24 | 2013-01-30 | 中国科学院半导体研究所 | 用于聚光和激光输能的晶体硅太阳能电池结构及其制作方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005058713B4 (de) | 2005-12-08 | 2009-04-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Reinigung des Volumens von Substraten, Substrat sowie Verwendung des Verfahrens |
KR101254565B1 (ko) * | 2009-07-06 | 2013-04-15 | 엘지전자 주식회사 | 태양 전지용 기판의 텍스처링 방법 및 태양 전지의 제조 방법 |
RU2453013C1 (ru) * | 2011-01-19 | 2012-06-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский Электротехнический институт им. В.И. Ленина" (ФГУП ВЭИ) | Фотопреобразователь |
-
2003
- 2003-05-23 KR KR1020030032753A patent/KR100543520B1/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102903775A (zh) * | 2012-10-24 | 2013-01-30 | 中国科学院半导体研究所 | 用于聚光和激光输能的晶体硅太阳能电池结构及其制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040100405A (ko) | 2004-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10573764B2 (en) | Solar cell with reduced base diffusion area | |
US9087956B2 (en) | Solar cell and fabrication method thereof | |
KR101225978B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
KR101729304B1 (ko) | 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
CN104584237B (zh) | 光生伏打元件及其制造方法 | |
CA2638063A1 (en) | High voltage solar cell and solar cell module | |
US20170133545A1 (en) | Passivated contacts for photovoltaic cells | |
CN115000189B (zh) | 一种背接触太阳能电池及其制备方法 | |
CN102637767A (zh) | 太阳能电池的制作方法以及太阳能电池 | |
JP2004512674A (ja) | 太陽電池の製造方法、及び該方法により製造される太陽電池 | |
JP2014505376A (ja) | 太陽電池およびその製造方法 | |
KR101474008B1 (ko) | 플라즈마 표면 처리를 이용한 태양전지의 제조방법 | |
US20150311356A1 (en) | Crystalline solar cell and method for producing the latter | |
KR100543520B1 (ko) | 폐웨이퍼를 이용한 수직형 다접합 태양전지의 제조방법 | |
CN113380922A (zh) | 制备方法及选择性发射极太阳能电池 | |
EP3340316B1 (en) | Solar cell having high photoelectric conversion efficiency, and method for manufacturing solar cell having high photoelectric conversion efficiency | |
KR20040100407A (ko) | 중공음극 플라즈마로 전극을 분리한 실리콘 태양전지 및이의 제조방법 | |
KR20100041238A (ko) | 후면전극 태양전지 및 그 제조방법 | |
KR100366350B1 (ko) | 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
KR101223021B1 (ko) | 태양전지의 제조방법 및 태양전지 | |
KR101437162B1 (ko) | 플라즈마 표면 처리를 이용한 태양전지의 제조방법 | |
KR20020059186A (ko) | 실리콘 태양 전지의 제조 방법 | |
KR101181625B1 (ko) | 국부화 에미터 태양전지 및 그 제조 방법 | |
KR101995834B1 (ko) | 태양 전지 및 그 제조 방법 | |
TWI548109B (zh) | 背接觸太陽能電池的製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130103 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140106 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150107 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160106 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170508 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181031 Year of fee payment: 14 |