KR100531689B1 - equipment to bond anisotropic conductive film - Google Patents

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KR100531689B1 KR10-2004-0027827A KR20040027827A KR100531689B1 KR 100531689 B1 KR100531689 B1 KR 100531689B1 KR 20040027827 A KR20040027827 A KR 20040027827A KR 100531689 B1 KR100531689 B1 KR 100531689B1
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Abstract

촬상소자용 회로기판에 이방전도성필름을 용이하게 본딩할 수 있으며, 특히 회로기판에서 촬상소자의 본딩을 위한 타공영역에 대응하는 위치에서 이방전도성필름을 본딩함으로서 본딩 품질은 물론이거니와 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 이방전도성필름 본딩장치에 관한 것이다.The anisotropic conductive film can be easily bonded to the circuit board for the image pickup device. In particular, by bonding the anisotropic conductive film at the position corresponding to the perforation area for bonding the image pickup device on the circuit board, not only the bonding quality but also the work efficiency and productivity It relates to an anisotropic conductive film bonding apparatus that can significantly improve the.

이러한 본딩장치는, 패턴부 영역내에 촬상소자의 본딩을 위한 타공 영역이 형성된 회로기판에 이방전도성필름을 본딩하기 위한 장치로서,Such a bonding apparatus is an apparatus for bonding an anisotropic conductive film to a circuit board having a perforated region for bonding an imaging device in a pattern portion region,

이방전도성필름과 회로기판을 본딩하기 위한 공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대의 작업공간에 대응하여 회로기판을 본딩 가능한 상태로 로딩하는 수단을 갖으며 구동원에 의해 단일의 축심을 기준으로 회전하면서 회로기판을 본딩을 위한 공정 영역들로 이동시키는 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부 영역을 세정하기 위한 세정부와, 상기 작업대에서 상기 세정부와 이격되어 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부에 이방전도성필름을 본딩하는 필름본딩부와, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하여 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 보정수단을 포함하며,The worktable provides a space for bonding the anisotropic conductive film and the circuit board, and has a means for loading the circuit board in a bondable state corresponding to the work space of the workbench, and is rotated about a single axis by a driving source. A rotating table for moving the substrate to the process areas for bonding, a cleaning part positioned on the work table corresponding to the rotating table, for cleaning the pattern area of the circuit board, and spaced apart from the cleaning part on the work table. A film bonding unit for bonding the anisotropic conductive film to the pattern portion of the circuit board and corresponding to the rotary table, and bonding the film bonding unit to correspond to the position of the circuit board by scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table. Compensation means for changing the position,

상기 보정수단은, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하기 위한 기판스캔부재 및 필름스캔부재와, 이 스캔부재들에 의해 스캐닝된 회로기판 및 이방전도성필름의 위치를 센싱함과 아울러 이들의 타공 영역들이 서로 일치하는 자세를 갖으며 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 필름본딩 위치를 제어하는 제어유니트와, 이 제어유니트에 의해 작동이 제어되면서 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 이송장치를 포함한다.The correction means senses a position of the substrate scan member and the film scan member for scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table, and the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film scanned by the scan members. A control unit for controlling the film bonding position so that the perforated areas are bonded to each other and bonded within an allowable range, and the bonding of the film bonding portion so as to correspond to the position of the circuit board while the operation is controlled by the control unit. It includes a transfer device for changing the position.

Description

이방전도성필름 본딩장치{equipment to bond anisotropic conductive film}Anisotropic conductive film bonding apparatus {equipment to bond anisotropic conductive film}

본 발명은 이방전도성필름 본딩장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 촬상소자용 회로기판에 이방전도성필름을 용이하게 본딩할 수 있으며, 특히 회로기판에서 촬상소자의 본딩을 위한 타공영역에 대응하는 위치에서 이방전도성필름을 본딩함으로서 본딩 품질은 물론이거니와 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 이방전도성필름 본딩장치에 관한 것이다.The present invention relates to an anisotropic conductive film bonding apparatus, and more particularly, it is possible to easily bond an anisotropic conductive film to a circuit board for an imaging device, in particular at a position corresponding to a perforation area for bonding of the imaging device on a circuit board. The present invention relates to an anisotropic conductive film bonding apparatus capable of significantly improving bonding efficiency as well as bonding quality by bonding an anisotropic conductive film.

일반적으로 CCD와 같은 촬상소자는 방법 및 보안분야 등에서 피사체의 상을 전류의 세기로 전환하여 디스플레이장치 등을 통하여 화상을 전달하기 위한 용도로 널리 사용되고 있으며, 근래에는 개인용 휴대단말기 예를들면, 휴대전화기나 PDA(personal digital assistant) 등에서 통상의 카메라 기능을 구현하기 위한 목적으로 그 사용 영역이 점차 확대되고 있는 추세에 있다.In general, an image pickup device such as a CCD is widely used for transferring images through a display device by converting an image of a subject into a current intensity in a method and security field, etc. In recent years, a personal portable terminal such as a mobile phone In addition, the field of use is gradually increasing for the purpose of implementing ordinary camera functions in personal digital assistants (PDAs).

상기 개인용 휴대단말기에 사용되는 촬상소자는 전화기나 PDA 등의 본체 내부에서 렌즈부를 통하여 유도되는 피사체의 촬상이 가능하게 위치하고, 피사체로부터 반사된 빛을 전류의 세기로 전환하기 위한 회로기판에 부착되어 전화기나 PDA 본체의 디스플레이부를 통하여 화상이 구현됨과 각종 포맷의 그림 파일들로 저장이 가능하도록 이루어진다.The imaging device used in the personal portable terminal is capable of capturing an object guided through a lens unit inside a main body such as a phone or a PDA, and is attached to a circuit board for converting light reflected from the object into an electric current intensity. The image is implemented through the display unit of the PDA main body and can be stored as picture files of various formats.

상기 촬상소자가 설치되는 회로기판 즉, FPC와 같은 연성인쇄회로기판은 상기 촬상소자가 결합될 때에 하부측이 원활하게 안착될 수 있도록 일정한 영역이 타공된 구조로 이루어지고, 이 타공부의 외측에는 상기 촬상소자의 리드부들과 전기적으로 연결되기 위한 패턴들이 형성된 구조로 이루어진다.A circuit board on which the imaging device is installed, that is, a flexible printed circuit board such as an FPC, has a structure in which a predetermined area is perforated so that the lower side can be seated smoothly when the imaging device is coupled. It has a structure in which patterns for electrically connecting with the lead portions of the image pickup device are formed.

그리고, 상기 회로기판의 패턴부 영역에는 상기 촬상소자를 본딩하기 전에 여러개의 패턴들이 서로 절연된 상태로 상기 촬상소자의 리드부들과 본딩될 수 있도록 이면지와 절연접착층이 분리 가능하게 형성된 이방전도성필름이 본딩된 후 이 필름의 위에 상기 촬상소자가 본딩되는 것이다. In addition, in the pattern area of the circuit board, an anisotropic conductive film having a backing paper and an insulating adhesive layer formed thereon such that a plurality of patterns are insulated from each other before bonding the imaging device can be bonded to the lead parts of the imaging device. After the bonding, the image pickup device is bonded onto the film.

이때, 상기 이방전도성필름은 상기 회로기판의 패턴부에 타공된 관통부가 필름에 의해 가리지 않도록 상기 필름에도 상기 관통부에 대응하는 영역을 타공하여 이와 같이 타공부가 형성된 필름을 상기 회로기판의 관통부 테두리 주변의 본딩하는 것이다.In this case, the anisotropic conductive film perforates the region corresponding to the through portion in the film so that the through portion perforated in the pattern portion of the circuit board is not covered by the film. Bonding around the border.

상기와 같은 필름의 본딩 공정을 간략하게 설명하면, 먼저, 필름공급장치 즉, 2개의 릴에 감겨져서 일정한 구간을 따라 이동이 가능하도록 이방전도성필름을 셋팅하여 이 필름을 일방향으로 이동시키면서 컷터 등에 의해 절연접착층이 상기 회로기판의 패턴부에 대응하는 크기로 컷팅되도록 함과 아울러 펀칭 작용 등에 의해 상기 회로기판의 관통부에 대응하는 타공부를 형성한다.Briefly explaining the bonding process of the film as described above, first, by setting the anisotropic conductive film to be moved along a predetermined section wound on the film supply device, that is, two reels, and moving the film in one direction by a cutter or the like The insulating adhesive layer is cut to a size corresponding to the pattern portion of the circuit board, and a perforated portion corresponding to the through portion of the circuit board is formed by a punching action or the like.

그리고, 상기와 같이 회로기판의 패턴부에 대응하는 모양으로 컷팅된 절연접착층은 작업자가 직접 이면지에서 분리한 후 회로기판의 패턴부에 수작업으로 부착하면서 절연접착층을 본딩하는 공정으로 이루어진다.In addition, the insulating adhesive layer cut into the shape corresponding to the pattern portion of the circuit board as described above consists of a process of bonding the insulating adhesive layer while the operator directly removes from the backing paper and manually attaches to the pattern portion of the circuit board.

그러나, 상기와 같은 이방전도성필름의 본딩 공정은 필름공급장치에서 일정한 크기로 컷팅 및 타공된 절연접착층을 작업자가 수작업으로 회로기판의 패턴부 영역에 본딩을 행하는 공정으로 이루어지므로 이와 같은 수작업에 의한 본딩 공정으로는 만족할 만한 공정의 효율성을 기대할 수 없을 뿐만 아니라, 과다한 시간이 소요되므로 더욱 향상된 작업능률과 생산성 등을 얻기에는 한계가 있다.However, as described above, the bonding process of the anisotropic conductive film is performed by a worker manually bonding the cut and perforated insulating adhesive layer to the pattern area of the circuit board by the film supply apparatus, thus bonding by manual labor. Not only can the process not be able to expect satisfactory efficiency, but also takes too much time, so there is a limit to obtaining more improved work efficiency and productivity.

게다가 작업자가 수작업을 통하여 절연접착층을 본딩하면 절연접착층에 형성된 타공부와 회로기판의 관통부를 허용 오차 범위내로 본딩하기가 어려우므로 만족할 만한 본딩 정밀도 및 품질 등을 얻을 수 없으며, 이로 인하여 과다한 불량률을 유발하는 한 요인이된다.In addition, if the worker bonds the insulating adhesive layer by hand, it is difficult to bond the perforations formed in the insulating adhesive layer and the penetration part of the circuit board within the tolerance range, so that satisfactory bonding accuracy and quality cannot be obtained, thereby causing excessive defect rate. That is one factor.

그리고, 상기와 같이 이방전도성필름의 본딩 품질 및 정밀도 등이 저하되면 회로기판에 촬상소자를 본딩할 때에 원활한 본딩이 이루어지지 못하여 작업능률과 생산성 등을 더욱 저하시키는 요인이 될 수 있다.In addition, when the bonding quality and precision of the anisotropic conductive film are degraded as described above, smooth bonding may not be performed when bonding the image pickup device to the circuit board, which may further reduce work efficiency and productivity.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단일의 영역에서 촬상소자의 본딩을 위한 회로기판에 이방전도성필름을 용이하게 본딩할 수 있으며 특히, 회로기판의 위치에 따라 필름의 본딩 위치가 자동으로 보정되면서 본딩되므로 만족할 만한 본딩 정밀도 및 본딩 품질을 얻을 수 있으며, 이로 인하여 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있는 이방전도성필름 본딩장치를 제공하는데 있다. The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention can easily bond an anisotropic conductive film to a circuit board for bonding the image pickup device in a single area, in particular, a circuit board Since the bonding position of the film is automatically corrected and bonded according to the position of, satisfactory bonding accuracy and bonding quality can be obtained, thereby providing an anisotropic conductive film bonding apparatus which can greatly improve work efficiency and productivity.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 패턴부 영역내에 촬상소자의 본딩을 위한 타공 영역이 형성된 회로기판에 이방전도성필름을 본딩하기 위한 장치로서,In order to realize the object of the present invention as described above, an apparatus for bonding an anisotropic conductive film to a circuit board having a perforated region for bonding the image pickup device in the pattern portion region,

이방전도성필름과 회로기판을 본딩하기 위한 공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대의 작업공간에 대응하여 회로기판을 본딩 가능한 상태로 로딩하는 수단을 갖으며 구동원에 의해 단일의 축심을 기준으로 회전하면서 회로기판을 본딩을 위한 공정 영역들로 이동시키는 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부 영역을 세정하기 위한 세정부와, 상기 작업대에서 상기 세정부와 이격되어 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부에 이방전도성필름을 본딩하는 필름본딩부와, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하여 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 보정수단을 포함하며,The worktable provides a space for bonding the anisotropic conductive film and the circuit board, and has a means for loading the circuit board in a bondable state corresponding to the work space of the workbench, and is rotated about a single axis by a driving source. A rotating table for moving the substrate to the process areas for bonding, a cleaning part positioned on the work table corresponding to the rotating table, for cleaning the pattern area of the circuit board, and spaced apart from the cleaning part on the work table. A film bonding unit for bonding the anisotropic conductive film to the pattern portion of the circuit board and corresponding to the rotary table, and bonding the film bonding unit to correspond to the position of the circuit board by scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table. Compensation means for changing the position,

상기 보정수단은, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하기 위한 기판스캔부재 및 필름스캔부재와, 이 스캔부재들에 의해 스캐닝된 회로기판 및 이방전도성필름의 위치를 센싱함과 아울러 이들의 타공 영역들이 서로 일치하는 자세를 갖으며 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 필름본딩 위치를 제어하는 제어유니트와, 이 제어유니트에 의해 작동이 제어되면서 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 이송장치를 포함하는 이방전도성필름 본딩장치를 제공한다.The correction means senses a position of the substrate scan member and the film scan member for scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table, and the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film scanned by the scan members. A control unit for controlling the film bonding position so that the perforated areas are bonded to each other and bonded within an allowable range, and the bonding of the film bonding portion so as to correspond to the position of the circuit board while the operation is controlled by the control unit. Provided is an anisotropic conductive film bonding apparatus including a transfer device for changing a position.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 , 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치는, 이방전도성필름(F)과 촬상소자용 회로기판(B)을 본딩하기 위한 공간을 제공하는 작업대(2)와, 이 작업대(2)의 작업공간에 대응하여 회로기판(B)을 본딩 가능한 상태로 로딩하는 수단(L)을 갖으며 구동원(M)에 의해 단일의 축심을 기준으로 회전하면서 회로기판(B)을 본딩을 위한 공정 영역들로 이동시키는 회전테이블(4)과, 상기 작업대(2)에서 상기 회전테이블(4)에 대응하여 위치하며 회로기판(B)의 패턴부(B1) 영역을 세정하기 위한 세정부(6)와, 상기 작업대(2)에서 상기 세정부(6)와 이격되어 상기 회전테이블(4)에 대응하여 위치하며 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 이방전도성필름(F)을 본딩하는 필름본딩부(8)와, 상기 작업대(2)에서 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 위치를 스캐닝하여 회로기판(B)의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부(8)의 본딩 위치를 변화시키는 보정수단(10)을 포함한다.1 and 2, the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention includes a work table 2 which provides a space for bonding an anisotropic conductive film F and a circuit board B for an imaging device. Bonding the circuit board (B) while having a means (L) for loading the circuit board (B) in a bondable state corresponding to the working space of the work table (2) and rotating about a single shaft center by the drive source (M). A rotary table 4 for moving to process areas for cleaning, and a cleaning unit for cleaning the pattern portion B1 area of the circuit board B, which is located on the work table 2 corresponding to the rotary table 4 (6) and anisotropic conductive film (F) on the pattern portion (B1) of the circuit board (B) and positioned to correspond to the rotary table (4) spaced apart from the cleaning portion (6) on the work table (2) The film bonding unit 8 for bonding and the position of the circuit board (B) and the anisotropic conductive film (F) on the work table (2) by scanning the circuit To correspond to the position of (B) comprises a correction means (10) for changing the position of the bonding film bonding portion 8.

상기 작업대(2)는 회로기판(B)에 이방전도성필름(F)을 본딩하기 위한 영역 즉, 작업공간을 제공하는 일종의 테이블 역할을 하는 것으로서 도 1에서와 같은 형상이나 다른 형상으로 제작될 수 있다.The work table 2 serves as a kind of table for providing an area, that is, a work space for bonding the anisotropic conductive film F to the circuit board B, and may be manufactured in the same shape as in FIG. 1 or in another shape. .

상기 작업대(2)의 재질은 내구성 등이 우수한 금속재가 사용될 수 있으며, 상측의 작업영역은 하중이나 충격 등에 의해 표면이 쉽게 파손되거나 변형되는 것을 방지함과 아울러 일정한 평면도(平面度)가 유지될 수 있도록 제작되어야 한다.The worktable 2 may be made of a metal material having excellent durability and the like, and the upper work area may prevent the surface from being easily damaged or deformed by load or impact, and may also maintain a constant flatness. It should be made to

상기 회전테이블(4)은 상기 작업대(2)에서 후술하는 세정부(6)와, 필름본딩부(8)에 대응하는 공정 영역들로 회로기판(B)을 이동시키기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 일정한 두께를 가지며 도 1에서와 같이 예를들면, "+"자 모양으로 제작된 판상의 구조로 이루어지고, 상기 작업대(2)에서 도면에서와 같은 자세로 위치하는 것을 일예로 나타내고 있다.The rotary table 4 is used to move the circuit board B from the worktable 2 to the cleaning section 6 described later and the process regions corresponding to the film bonding section 8. As shown in FIG. 1, for example, a plate-like structure made of a "+" shape and positioned in the same posture as shown in the drawing on the work table 2 is shown as an example.

상기 회전테이블(4)은 상기 작업대(2)에서 예를들면, 인덱싱드라이브 테이블이나 서보 모터 등과 같은 구동원(M)에 의해 단일의 축심을 기준으로 회전 가능하게 셋팅되며, 이 테이블(4)의 회전에 의해 상기 회로기판(B)을 로딩하는 수단(L)이 본딩을 위한 공정영역들로 이동될 수 있도록 한 구조이다.The rotary table 4 is set rotatably on a single shaft center by a drive source M such as, for example, an indexing drive table or a servo motor on the work table 2, and the rotation of the table 4 is performed. By this means, the means (L) for loading the circuit board (B) can be moved to the process areas for bonding.

상기 로딩수단(L)은 회로기판(B)이 상기 회전테이블(4)에 의해 이방전도성필름(F)의 본딩을 위한 세정 및 본딩 영역에 공급되어 해당 작업이 가능하도록 로딩하기 위한 것으로서, 도 2에서와 같이 다수개의 회로기판(B)이 수납되는 기판트레이(L1)와, 상기 회전테이블(4)에 고정되며 상기 기판트레이(L1)를 분리 가능하게 고정하는 고정트레이(L2)를 포함한다.The loading means (L) is for loading the circuit board (B) is supplied to the cleaning and bonding area for bonding of the anisotropic conductive film (F) by the rotary table (4) to enable the operation, Figure 2 As shown in the drawings, a plurality of circuit boards B includes a substrate tray L1 accommodated therein, and a fixing tray L2 fixed to the rotary table 4 and detachably fixing the substrate tray L1.

상기 기판트레이(L1)는, 다수개의 회로기판(B)들을 수납하기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 상기 촬상소자용 회로기판(B)이 도 2에서와 같이 예를들면, "T"자 모양으로 이루어지고 내측에는 도면에서와 같은 패턴들이 형성된 패턴부(B1)와 관통부(B2)가 형성된 구조로 이루어지고, 상기 기판트레이(L1)에는 상기 회로기판(B)에 대응하는 모양의 수납홈(12)들이 형성되어, 이 수납홈(12)들에 도면에서와 같은 자세로 회로기판(B)들이 수납되도록 한 구조일 수 있다.The substrate tray L1 is for accommodating a plurality of circuit boards B. In the present embodiment, the circuit board B for the imaging device is, for example, in the shape of a “T” as shown in FIG. 2. And a pattern part B1 and a through part B2 having the same patterns as shown in the drawing are formed therein, and the substrate tray L1 has an accommodating groove having a shape corresponding to the circuit board B. 12 may be formed to allow the circuit boards B to be received in the receiving grooves 12 in the same posture as shown in the drawing.

이때, 상기 수납홈(12)들은 상기 회로기판(B)들이 상기 작업대(2)에서 수평한 상태로 수납이 가능한 홈 구조로 이루어지고, 상기 기판트레이(L1)의 재질은 내구성 및 내마모성 등이 우수한 합성수지가 사용될 수 있다.At this time, the receiving grooves 12 have a groove structure in which the circuit boards B can be accommodated in a horizontal state on the work table 2, and the material of the substrate tray L1 is excellent in durability and wear resistance. Synthetic resin can be used.

상기한 구조의 기판트레이(L1)는 도 1에서와 같은 매거진(14)에 다수개가 분리 가능하게 적재되면서 도면에서와 같이 상기 작업대(2)의 회전테이블(4) 즉, 고정트레이(L2)에 로딩 및 언로딩 되도록 이루어질 수 있다. 이때, 상기 기판트레이(L1)는 예를들면, 도면에는 나타내지 않았지만 작업자 또는 흡착기와 같은 이미 잘 알려진 이송장치에 의해 로딩 및 언로딩될 수 있다.The substrate tray L1 having the above-described structure is detachably loaded in the magazine 14 as shown in FIG. 1, and as shown in the drawing, is attached to the rotary table 4 of the work table 2, that is, the fixing tray L2. It can be made to be loaded and unloaded. In this case, the substrate tray L1 may be loaded and unloaded by, for example, a well-known transfer device such as an operator or an adsorber, although not shown in the drawings.

상기 고정트레이(L2)는 상기 기판트레이(L1)들을 상기 회전테이블(4)에 분리 가능하게 고정하기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 상기 고정트레이(L2)가 도 2에서와 같이 상기 기판트레이(L1)에 대응하는 크기를 갖으며 상기 기판트레이(L1)의 하부측 지지가 가능한 구조로 이루어지고, 상기 회전테이블(4)에서 후술하는 공정영역들에 대응하도록 도면에서와 같은 위치에 4개가 1조로 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.The fixing tray L2 is to detachably fix the substrate tray L1 to the rotary table 4. In this embodiment, the fixing tray L2 is the substrate tray L1 as shown in FIG. 2. It has a size corresponding to) and is capable of supporting the lower side of the substrate tray (L1), and a pair of four in the same position as shown in the drawing to correspond to the process areas described later in the rotary table (4) The installed one is shown as an example.

상기 고정트레이(L2)는 상기 기판트레이(L1)들을 상기 회전테이블(4)에 수평한 상태로 분리 가능하게 고정할 수 있도록 도 2에서와 같은 고정돌기(16a)가 형성되고, 상기 기판트레이(L1)측에는 상기 고정돌기(16a)에 대응하는 고정홈(16b)이 도면에서와 같이 형성되어 이들의 끼움 결합에 의해 분리 가능하게 고정되는 구조일 수 있다.The fixing tray L2 is provided with a fixing protrusion 16a as shown in FIG. 2 to detachably fix the substrate tray L1 in a horizontal state to the rotary table 4, and the substrate tray ( On the L1) side, a fixing groove 16b corresponding to the fixing protrusion 16a may be formed as shown in the drawing, and may be detachably fixed by fitting.

이때, 상기 고정돌기(16a)에는 도 3에서와 같이 상기 기판트레이(L1)에 수납되는 회로기판(B)들이 수평한 상태로 고정하기 위한 흡착홀(18)들이 형성될 수 있다.In this case, as shown in FIG. 3, suction holes 18 may be formed in the fixing protrusion 16a to fix the circuit boards B accommodated in the substrate tray L1 in a horizontal state.

상기 흡착홀(18)은 도 1에서와 같이 상기 회전테이블(4)의 중심부에 구비된 진공발생장치(V)로부터 공기의 부압 작용이 이루어지면서 상기 회로기판(B)들이 기판트레이(L1)의 수납홈(12)들에 수평한 상태로 고정될 수 있도록 이루어진다.As shown in FIG. 1, as shown in FIG. 1, a negative pressure action of air is generated from the vacuum generator V provided at the center of the rotary table 4, so that the circuit boards B are formed on the substrate tray L1. It is made to be fixed to the receiving grooves 12 in a horizontal state.

상기 고정트레이(L2)의 재질은 상기 기판트레이(L1)와 동일한 합성수지이거나 금속이 사용될 수 있다.The fixing tray L2 may be made of the same synthetic resin or metal as the substrate tray L1.

상기 작업대(2)에는 상기 회전테이블(4)에 로딩된 회로기판(B)의 패턴부(B1) 영역을 물리적인 접촉으로 세정하기 위한 세정부(6)가 설치된다. 본 실시예에서는 도 1에서와 같이 상기 회전테이블(4)의 회전 반경에 대응하여 도면에서와 같은 위치에 설치되고, 세정을 위한 패드(P)에 의해 회로기판(B)의 세정 작업이 이루어지는 것을 일예로 나타내고 있다.The work table 2 is provided with a cleaning part 6 for cleaning the pattern part B1 area of the circuit board B loaded on the rotary table 4 by physical contact. In this embodiment, as shown in Figure 1 is installed in the same position as in the figure corresponding to the radius of rotation of the rotary table 4, the cleaning operation of the circuit board (B) is performed by the pad (P) for cleaning. It is shown as an example.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 세정패드(P)는 도면에서와 같은 케이스(20) 내부에 설치된 공급 및 회수로울러(22a, 22b)들에 의해 와인딩이 가능하도록 연결됨과 아울러 상기 2개의 로울러(22a,22b) 사이에 위치하는 가압로울러(22c)를 경유하면서 패드(P)가 순차적으로 이송되도록 셋팅된 구조일 수 있다.4 and 5, the cleaning pad P is connected to be wound by the supply and recovery rollers 22a and 22b installed in the case 20 as shown in the drawing, and the two rollers. It may have a structure set so that the pads (P) are sequentially transferred while passing through the pressure roller (22c) located between (22a, 22b).

이때, 상기 세정패드(P)는 회로기판(B)의 세정을 위한 세정액이 함유된 상태의 패드가 사용될 수 있으며, 상기 회수로울러(22b)에는 도 4에서와 같은 모터(24)가 설치되어 이 모터(24)의 구동에 의해 상기 세정패드(P)가 상기 공급로울러(22a)측에서 상기 가압로울러(22c)를 경유하면서 상기 회수로울러(22b)에 감겨질 수 있도록 이루어진다.At this time, the cleaning pad (P) may be a pad containing a cleaning liquid for cleaning the circuit board (B), the recovery roller 22b is provided with a motor 24 as shown in FIG. By the driving of the motor 24, the cleaning pad P may be wound around the recovery roller 22b while passing through the pressure roller 22c on the supply roller 22a side.

상기와 같은 세정패드(P)의 공급 및 회수 동작은 요구되는 세정조건에 따라 상기 가압로울러(22c)측에 순차적으로 공급된 상태에서 세정이 이루어지도록 셋팅된다.The supply and recovery operation of the cleaning pad P as described above is set such that cleaning is performed while being sequentially supplied to the pressure roller 22c according to the required cleaning conditions.

그리고, 상기 케이스(20)는 상기 기판트레이(L1)에 수납된 다수개의 회로기판(B)의 패턴부(B1) 영역을 경유하면서 상기 세정패드(P)에 의해 세정을 위한 동작이 이루어지도록 도 4에서와 같은 가이더와 슬라이더가 공압 작용 등에 의해 슬라이딩되는 이송유니트(U1)에 의해 상기 작업대(2)에서 도면에서와 같이 자세로 이동 가능하게 설치된다.In addition, the case 20 may perform an operation for cleaning by the cleaning pad P while passing through the pattern portion B1 areas of the plurality of circuit boards B stored in the substrate tray L1. The guider and the slider as in 4 are installed to be movable in the posture as shown in the drawing on the work table 2 by the transfer unit U1 slid by a pneumatic action or the like.

상기한 구조로 이루어지는 세정부(6)는, 상기 회전테이블(4)에서 기판트레이(L1)에 로딩된 회로기판(B)들의 패턴부(B1) 영역에 대응하여 상기 세정패드(P)가 상기 이송유니트(U1)에 의해 도 5에서와 같은 방향으로 이동하면서 상기 가압로울러(22c)의 가압 작용에 의해 물리적인 접촉으로 세정을 행하는 것이다.In the cleaning part 6 having the above-described structure, the cleaning pad P corresponds to the area of the pattern part B1 of the circuit boards B loaded on the substrate tray L1 in the rotary table 4. By the transfer unit U1, it moves in the same direction as in FIG. 5, and wash | cleans by physical contact by the press action of the said pressure roller 22c.

상기 필름본딩부(8)는, 상기 작업대(2)에서 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 이방전도성필름(F)을 본딩하기 위한 것으로서, 도 6 및 도 7을 참조하면, 이방전도성필름(F)을 본딩하기 위한 본딩헤드(26)와, 이 본딩헤드(26)에 대응하여 본딩이 가능도록 이방전도성필름(F)을 공급 및 회수하는 릴(R1,R2)들과, 상기 본딩헤드(26)에 공급되는 이방전도성필름(F)을 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하는 모양으로 컷팅하기 위한 컷터(28)를 포함한다. 본 실시예에서는 상기 필름본딩부(8)가 도 6에서와 같은 고정플레이트(30)에 도면에서와 같은 상태로 셋팅된 것을 일예로 나타내고 있다.The film bonding part 8 is for bonding the anisotropic conductive film F to the pattern part B1 of the circuit board B in the work table 2. Referring to FIGS. 6 and 7, anisotropic conductivity A bonding head 26 for bonding the film F, reels R1 and R2 for supplying and recovering the anisotropic conductive film F so as to be bonded corresponding to the bonding head 26, and the bonding. And a cutter 28 for cutting the anisotropic conductive film F supplied to the head 26 into a shape corresponding to the pattern portion B1 of the circuit board B. In this embodiment, the film bonding portion 8 is set to the fixed plate 30 as shown in Figure 6 in the same state as shown in the drawing as an example.

상기 본딩헤드(26)는 상기 고정플레이트(30)에서 상기 회전테이블(4)에 의해 본딩영역에 위치하는 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하여 상하 방향으로 이동하면서 본딩 동작이 이루어지도록 도 6에서와 같은 실린더(C1)의 피스톤로드에 고정되어 도면에서와 같은 상태로 셋팅된 구조일 수 있다.The bonding head 26 performs a bonding operation while moving in the up and down direction corresponding to the pattern portion B1 of the circuit board B located in the bonding area by the rotation table 4 on the fixed plate 30. It may have a structure that is fixed to the piston rod of the cylinder (C1) as shown in Figure 6 and set in the state as shown in the figure.

상기 본딩헤드(26)는 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하여 후술하는 컷터(28)에 의해 일정한 크기로 컷팅된 절연접착층(F1)의 본딩이 가능한 가압면을 갖는 통상의 구조로 이루어지고, 재질은 금속이거나 합성수지가 사용될 수 있다.The bonding head 26 has a conventional structure having a pressing surface capable of bonding the insulating adhesive layer F1 cut to a predetermined size by a cutter 28 to be described later corresponding to the pattern portion B1 of the circuit board B. The material may be made of metal or synthetic resin.

상기 공급릴(R1)과 회수릴(R2)은 통상의 릴(reel) 구조로 이루어지고, 이방전도성필름(F)이 상기 본딩헤드(26)에 대응하는 구간을 가지며 공급 및 회수될 수 있도록 상기 고정플레이트(30)에 도 6에서와 같이 설치될 수 있다. 이때, 상기 회수릴(R2)측에는 모터(32)가 설치되어 이 모터(32)의 회전에 의해 상기 공급릴(R1)측에 감겨진 이방전도성필름(F)이 상기 본딩헤드(26)에 대응하는 본딩 지점을 경유하면서 회수될 수 있도록 이루어지고, 상기 이방전도성필름(F)은 도 7에서와 같은 절연접착층(F1)과 이면지(F2)로 이루어지는 통상의 절연필름이 사용된다.The supply reel (R1) and recovery reel (R2) is made of a conventional reel (reel) structure, the anisotropic conductive film (F) has a section corresponding to the bonding head 26 to be supplied and recovered The fixing plate 30 may be installed as shown in FIG. At this time, the motor 32 is installed on the recovery reel R2 side, and the anisotropic conductive film F wound around the supply reel R1 by the rotation of the motor 32 corresponds to the bonding head 26. It is made so that it can be recovered while passing through the bonding point, the anisotropic conductive film (F) is a conventional insulating film made of the insulating adhesive layer (F1) and backing paper (F2) as shown in FIG.

상기 컷터(28)는 상기 본딩헤드(26)측에 공급되는 이방전도성필름(F) 즉, 절연접착층(F1)을 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하는 크기 및 모양을 갖도록 물리적인 접촉으로 컷팅하기 위한 것으로서, 본 실시예에서는 상기 컷터(28)가 도 7에서와 같은 하우징(34) 내부에서 실린더(C2)에 의해 상하방향으로 슬라이드되면서 컷팅 동작이 이루어지도록 셋팅되고, 상기 고정플레이트(30)에서 상기 공급릴(R1)과 본딩헤드(26) 사이의 필름 이송구간에 대응하여 도면에서와 같이 설치된 것을 일예로 나타내고 있다.The cutter 28 has a physical shape such that the anisotropic conductive film F, that is, the insulating adhesive layer F1 supplied to the bonding head 26 has a size and shape corresponding to the pattern portion B1 of the circuit board B. In order to cut by the in-contact, in the present embodiment, the cutter 28 is set so that the cutting operation is made while sliding up and down by the cylinder C2 in the housing 34 as shown in FIG. As shown in the drawing, the plate 30 corresponding to the film transfer section between the supply reel R1 and the bonding head 26 is shown as an example.

상기 컷터(28)는 상기 본딩헤드(26)측에 공급되는 이방전도성필름(F)이 회로기판(B)의 패턴부(B1) 및 관통부(B2)에 대응하여 한번의 컷팅 동작에 의해 도 7에서와 같은 크기로 절연접착층(F1)을 컷팅함과 아울러 컷팅된 절연접착층(F1) 내부에 도면에서와 같은 타공부(F3)의 형성이 가능한 구조로 이루어질 수 있다. 이때, 상기 타공부(F3)는 상기 컷터(28)의 컷팅 동작시에 예를들면, 펀칭 작용에 의해 상기 절연접착층(F1)은 물론이거니와 이면지(F2)를 관통하면서 타공 형성된 구조이다.In the cutter 28, the anisotropic conductive film F supplied to the bonding head 26 is cut by one cutting operation corresponding to the pattern portion B1 and the penetrating portion B2 of the circuit board B. FIG. The insulating adhesive layer F1 may be cut to the same size as that of FIG. 7, and the perforated part F3 may be formed inside the cut insulating adhesive layer F1 as shown in the drawing. At this time, the perforated portion (F3) is a structure formed by punching through the backing paper (F2) as well as the insulating adhesive layer (F1), for example, by the punching action during the cutting operation of the cutter (28).

상기에서는 단일의 컷터(28)에 의해 한번의 컷팅 동작으로 상기 본딩헤드(26)측에 공급되는 이방전도성필름(F) 즉, 절연접착층(F1)을 회로기판(B)의 패턴부(B1) 및 이 패턴부(B1)의 관통부(B2)에 대응하는 크기로 컷팅함과 아울러 타공부(B3)가 형성되도록 하는 구조를 일예로 설명 및 도면에 나타내고 있지만 이에 한정된 것은 아니다.In the above description, the anisotropic conductive film F, that is, the insulating adhesive layer F1, supplied to the bonding head 26 side in one cutting operation by the single cutter 28 is formed on the pattern portion B1 of the circuit board B. And a structure for cutting to the size corresponding to the penetrating portion B2 of the pattern portion B1 and forming the perforation portion B3 as an example in the description and drawings, but is not limited thereto.

예를들면, 도면에는 나타내지 않았지만 상기 컷터(28)가 필름의 컷팅을 위한 구간에 대응하여 2개가 1조로 이격 설치되어 일측 컷터는 이방전도성필름(F)의 절연접착층(F1)을 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하는 크기로만 컷팅하고, 타측 컷터는 일정한 크기로 컷팅된 절연접착층(F1)에 대응하여 펀칭 동작에 의해 타공부(F3)를 형성하는 구조로 셋팅될 수도 있다.For example, although not shown in the drawing, two cutters 28 are installed in a set corresponding to a section for cutting the film so that one side of the cutters forms an insulating adhesive layer F1 of the anisotropic conductive film F as a circuit board B. Cut only to the size corresponding to the pattern portion (B1) of the), and the other cutter may be set to a structure to form the perforated portion (F3) by a punching operation corresponding to the insulating adhesive layer (F1) cut to a predetermined size.

상기한 구조의 필름본딩부(8)는 상기 컷터(28)에 의해 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하는 크기 및 모양으로 이방전도성필름(F)의 절연접착층(F1)이 컷팅된 후 상기 본딩헤드(26)에 대응하여 본딩이 가능하도록 공급되면서 상기 본딩헤드(26)의 본딩 동작에 의해 도 8에서와 같이 회전테이블(4)에 로딩되어 본딩영역에 위치하는 회로기판(B)들의 패턴부(B1)에 대응하여 절연접착층(F1)을 용이하게 본딩할 수 있는 것이다.The film bonding part 8 having the above-described structure is cut by the cutter 28 in a size and shape corresponding to the pattern part B1 of the circuit board B so that the insulating adhesive layer F1 of the anisotropic conductive film F is cut. And then supplied to enable bonding in correspondence to the bonding head 26, the circuit board B being loaded on the rotary table 4 and positioned in the bonding region as shown in FIG. 8 by the bonding operation of the bonding head 26. The insulating adhesive layer F1 may be easily bonded to correspond to the pattern portion B1 of the layers.

한편, 상기 필름본딩부(8)는 이방전도성필름(F)의 본딩시에 상기 보정수단(10)에 의해 본딩영역의 회로기판(B)들의 위치에 대응하여 본딩 위치가 보정되면서 이방전도성필름(F) 즉, 절연접착층(F1)이 상기 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하여 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 이루어진다.On the other hand, the film bonding part 8 is the anisotropic conductive film (B) by correcting the bonding position corresponding to the position of the circuit boards (B) of the bonding area by the correction means 10 during the bonding of the anisotropic conductive film (F) ( F) That is, the insulating adhesive layer (F1) is made to be bonded within the allowable range corresponding to the pattern portion (B1) of the circuit board (B).

도 1을 참조하면, 상기 보정수단(10)은, 상기 작업대(2)에서 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 위치를 스캐닝하기 위한 기판스캔부재(S1) 및 필름스캔부재(S2)와, 이 스캔부재(S1,S2)들에 의해 스캐닝된 회로기판(B) 및 이방전도성필름(F)의 위치를 센싱함과 아울러 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 제어하는 제어유니트(36)와, 이 제어유니트(36)에 의해 작동이 제어되면서 회로기판(B)의 위치에 대응하여 상기 필름본딩부(8)의 본딩 위치를 변화시키는 이송장치(38)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the correction means 10 includes a substrate scan member S1 and a film scan member S2 for scanning positions of the circuit board B and the anisotropic conductive film F on the work table 2. And a control unit 36 which senses the position of the circuit board B and the anisotropic conductive film F scanned by the scanning members S1 and S2 and bonds them within the allowable range. And a transfer device 38 for changing the bonding position of the film bonding part 8 in correspondence with the position of the circuit board B while the operation is controlled by the control unit 36.

본 실시예에서는 상기 기판스캔부재(S1)가 도 1에서와 같이 상기 회전테이블(4)에 대응하여 상기 세정부(6)와 필름본딩부(8) 사이에 위치하고, 상기 기판트레이(L1)에 수납된 회로기판(B)들의 패턴부(B1)에 대응하여 이 패턴부(B1)들의 스캐닝이 가능하도록 도면에서와 같은 지지대(40)에 고정된 것을 일예로 나타내고 있다.In the present embodiment, the substrate scanning member S1 is located between the cleaning part 6 and the film bonding part 8 in correspondence with the rotary table 4 as shown in FIG. 1, and on the substrate tray L1. As an example, it is fixed to the support 40 as shown in the drawing so as to enable scanning of the pattern portions B1 corresponding to the pattern portions B1 of the accommodated circuit boards B.

상기 기판스캔부재(S1)는 통상의 마이크로 카메라가 사용될 수 있으며, 이 카메라는 상기 기판트레이(L1)에 수납된 회로기판(B)들의 패턴부(B1) 영역의 스캐닝이 가능하도록 도 9에서와 같이 이송유니트(U2)에 의해 상기 작업대(2)에서 이동 가능하게 설치된 구조일 수 있다.As the substrate scanning member S1, a conventional micro camera may be used, and the camera may be scanned in the pattern portion B1 of the circuit boards B contained in the substrate tray L1. As described above, it may be a structure installed to be movable in the work platform (2) by the transfer unit (U2).

상기 기판스캔부재(S1)는 상기 세정부(6) 영역에서 세정이 완료된 회로기판(B)의 패턴부(B1) 영역에 대응하여 상기 이송유니트(U2)를 따라 도 10에서와 같이 이동하면서 상기 패턴부(B1)의 관통부(B2) 즉, 타공된 모서리 지점을 스캐닝하면서 회로기판(B)의 위치를 스캐닝하는 구조일 수 있다.The substrate scanning member S1 moves along the transfer unit U2 as shown in FIG. 10 in correspondence to the pattern portion B1 region of the circuit board B on which the cleaning is completed in the region of the cleaning portion 6. It may have a structure that scans the position of the circuit board B while scanning the penetrating portion B2 of the pattern portion B1, that is, the perforated corner point.

상기 필름스캔부재(S2)는 상기 기판스캔부재(S1)와 동일한 마이크로 카메라가 사용될 수 있으며, 도 6에서와 같이 상기 필름본딩부(8) 즉, 고정플레이트(30)에서 일정한 크기로 등분 컷팅된 이방전도성필름(F1)의 절연접착층(F1) 위치를 스캐닝할 수 있도록 도면에서와 같은 이송유니트(U3)에 이동 가능하게 고정된 구조일 수 있다.The film scan member S2 may be the same microcamera as the substrate scan member S1, and the film scan member S2 may be cut into equal portions in the film bonding part 8, that is, the fixed plate 30, as shown in FIG. 6. It may have a structure that is movably fixed to the transfer unit U3 as shown in the figure so as to scan the position of the insulating adhesive layer F1 of the anisotropic conductive film F1.

상기 필름스캔부재(S2)는 상기 절연접착층(F1)의 타공부(F3) 즉, 모서리 지점의 스캐닝이 가능하도록 셋팅될 수 있다. 그리고, 상기 필름스캔부재(S2)와 상기 기판스캔부재(S1)에서 스캐닝된 절연접착층(F1) 및 회로기판(B)의 화상데이터는 후술하는 제어유니트(36)에 인가가 가능하도록 연결된다.The film scan member S2 may be set to enable scanning of the perforated portion F3 of the insulating adhesive layer F1, that is, the corner point. In addition, the image data of the insulating adhesive layer F1 and the circuit board B scanned by the film scan member S2 and the substrate scan member S1 are connected to the control unit 36 to be described later.

상기 제어유니트(36)는 상기 기판스캔부재(S1)와 필름스캔부재(S2)를 통하여 스캐닝된 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 화상데이터 즉, 피사체들의 위치 편차를 수치적으로 연산 가능한 예를들면, 엔씨 컴퓨터(numerical-controlled computer)와 같은 유니트가 사용될 수 있으며, 상기 작업대(2)의 내부 또는 측면에 설치될 수 있다.The control unit 36 numerically measures the image data of the circuit board B and the anisotropic conductive film F scanned through the substrate scan member S1 and the film scan member S2, that is, the positional deviation of the subjects. For example, a unit such as a numerically-controlled computer may be used, and may be installed inside or on the side of the work table 2.

상기 제어유니트(36)는 예를들면, 상기 기판스캔부재(S1)와 필름스캔부재(S2)에 의해 스캐닝된 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 화상데이터를 전달받아서 회로기판(B)과 필름(F)에 형성된 관통부(B2)와 타공부(F3)의 위치를 수치적으로 연산하여 이들의 위치 편차를 센싱함과 아울러 센싱된 수치데이터를 통해 상기 이방전도성필름(F)의 절연접착층(F1)이 회로기판(B)의 위치에 대응하는 허용오차 범위내로 본딩될 수 있도록 상기 이송장치(38)의 작동을 제어하면서 상기 필름본딩부(8)의 본딩 위치를 보정하는 구조이다.For example, the control unit 36 receives image data of the circuit board B and the anisotropic conductive film F scanned by the substrate scan member S1 and the film scan member S2. B) and the position of the through part B2 and the perforation part F3 formed in the film F are numerically calculated to sense their positional deviation, and the anisotropic conductive film F through the sensed numerical data. Structure for correcting the bonding position of the film bonding part 8 while controlling the operation of the transfer device 38 so that the insulating adhesive layer F1 can be bonded within the tolerance range corresponding to the position of the circuit board B. to be.

상기 이송장치(38)는 상기 작업대(2)의 본딩영역에서 상기 제어유니트(36)에의해 작동이 제어되면서 필름본딩부(8)의 위치 변화가 가능하게 고정하는 것으로서, 본 실시예에서는 상기 이송장치(38)가 상기 필름본딩부(8) 즉, 본딩헤드(26)가 본딩영역에 위치하는 회로기판(B)들에 대응하여 3방향 이상으로 위치 변화가 가능하도록 도 6에서와 같이 서로 직교하는 자세로 셋팅된 2개의 이송유니트(U4,U5)와 l개의 회전유니트(U6)로 이루어지고, 이들이 도면에서와 같이 서로 적층 설치되어 상기 작업대(2)에서 상기 고정플레이트(30)가 3방향 이동이 가능하도록 고정하는 것을 일예로 나타내고 있다.The transfer device 38 is to fix the position change of the film bonding unit 8 while the operation is controlled by the control unit 36 in the bonding area of the work table 2, in this embodiment the transfer The device 38 is orthogonal to each other as shown in FIG. 6 such that the film bonding part 8, that is, the bonding head 26, can be changed in three or more directions corresponding to the circuit boards B in the bonding area. It consists of two transfer units (U4, U5) and l rotation units (U6) set to the posture, these are laminated to each other as shown in the drawing so that the fixed plate 30 in the work table (2) in three directions Fixing to be movable is shown as an example.

상기 이송장치(38) 즉, 2개의 이송유니트(U4,U5)는 도 6에서와 같은 가이더와 슬라이더가 1조로 이루어지고 공압 작용에 의해 통상의 직선 이동을 유도하는 구조로 이루어질 수 있으며, 상기 회전유니트(U6)는 예를들면, 인덱싱드라이브 테이블이나 서보 모터 등과 같은 통상의 회전이동을 유도하는 구조로 이루어져서, 이와 같은 이송유니트(U4,U5) 및 회전유니트(U6)들의 작동에 의해 상기 고정플레이트(30)가 상기 작업대(2)의 본딩영역에서 회로기판(B)에 대응하여 서로 직교하는 2방향의 직선이동 및 단일의 축심을 기준으로 회전 이동하면서 필름본딩부(8)의 본딩 위치를 변화시키는 구조이다.The transfer device 38, that is, the two transfer units (U4, U5) is composed of a guider and a slider as shown in Figure 6 in a set and can be made of a structure that induces a normal linear movement by the pneumatic action, the rotation The unit U6 has a structure for inducing a normal rotational movement such as, for example, an indexing drive table or a servo motor, so that the fixed plate is operated by the operation of the transfer units U4 and U5 and the rotation units U6. The bonding position of the film bonding part 8 is changed while the 30 moves in the bonding area of the work table 2 with respect to the circuit board B in a straight line in two directions orthogonal to each other and on the basis of a single axis. It is structure to let.

이때, 상기 이송장치(38)는 상기 기판트레이(L1)에 수납된 회로기판(8)들에 대응하여 일측단부터 점차 타측단으로 이동하면서 해당 회로기판(B)에 대응하여 상기 필름본딩부(8)가 상기와 같은 보정동작이 이루어지도록 셋팅된 구조일 수 있다.In this case, the transfer device 38 moves from one end to the other end gradually in response to the circuit boards 8 accommodated in the substrate tray L1 and corresponding to the circuit board B. 8) may be a structure set to perform the correction operation as described above.

따라서, 상기한 구조로 이루어지는 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치는, 상기 작업대(2)의 로딩측에서 다수개의 회로기판(B)이 수납된 기판트레이(L1)가 회전테이블(4)의 고정트레이(L2)에 로딩되면, 상기 회전테이블(4)이 일방향으로 회전하면서 필름 본딩을 위한 세정부(6)와 필름본딩부(8) 영역으로 이동시키면서 회로기판(B)의 패턴부(B1)를 세정함과 아울러 세정된 패턴부(B1)에 이방전도성필름(F)의 절연접착층(F1)을 본딩하는 것이다.Accordingly, in the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention having the above-described structure, a substrate tray L1 in which a plurality of circuit boards B is accommodated on the loading side of the work table 2 is fixed to the rotary table 4. When the tray L2 is loaded, the rotating table 4 rotates in one direction while moving to the cleaning part 6 and the film bonding part 8 area for film bonding, while the pattern part B1 of the circuit board B is moved. In addition, the insulating adhesive layer F1 of the anisotropic conductive film F is bonded to the cleaned pattern portion B1.

즉, 상기 회전테이블(4)에 로딩된 회로기판(B)들이 세정부(6) 영역에 도 4에서와 같이 위치하면, 세정패드(P)가 공급로울러(22a)와 회수로울러(22b) 그리고, 가압로울러(22c)들에 가이드되면서 이송유니트(U1)를 따라 도 5에서와 같이 기판트레이(L1)에 수납된 회로기판(B)들의 패턴부(B1) 영역을 경유하는 상태로 이동하면서 패턴부(B1)를 세정하는 것이다.That is, when the circuit boards B loaded on the rotary table 4 are positioned in the cleaning part 6 region as shown in FIG. 4, the cleaning pad P is supplied to the supply roller 22a and the recovery roller 22b. The pattern is moved while being guided to the pressure rollers 22c while moving through the pattern unit B1 of the circuit boards B accommodated in the substrate tray L1 along the transfer unit U1 as shown in FIG. 5. The section B1 is cleaned.

그리고, 상기와 같이 세정이 완료된 회로기판(B)이 상기 회전테이블(4)에 의해 도 9에서와 같이 상기 기판스캔부재(S1)에 대응하는 영역에 공급되면, 이 기판스캔부재(S1)가 이송유니트(U2)를 따라 도 10에서와 같이 회로기판(B)들의 패턴부(B1)를 경유하는 상태로 이동하면서 이 패턴부(B1)들에 형성된 관통구(B2)의 위치를 스캐닝하고, 이와 같이 기판스캔부재(S1)에 의해 스캐닝된 화상데이터는 상기 제어유니트(36)에 전달된다.Then, when the cleaned circuit board B is supplied to the area corresponding to the substrate scan member S1 by the rotary table 4 as shown in FIG. 9, the substrate scan member S1 is supplied. The position of the through hole B2 formed in the pattern portions B1 is scanned while moving through the pattern unit B1 of the circuit boards B as shown in FIG. 10 along the transfer unit U2. The image data scanned by the substrate scanning member S1 is transferred to the control unit 36.

이때, 상기 필름 본딩영역에서는 상기와 같은 기판스캔부재(S1)의 스캐닝 동작시에 이방전도성필름(F) 즉, 회로기판(B)의 패턴부(B1)에 대응하는 크기로 컷팅된 절연접착층(F1)의 타공부(F3) 위치가 필름스캔부재(S2)에 의해 각각 스캐닝되고, 이와 같이 스캐닝된 화상데이터는 상기 기판스캔부재(S1)와 동일하게 상기 제어유니트(36)측에 전송된다.At this time, in the film bonding region, the insulating adhesive layer cut to the size corresponding to the pattern portion B1 of the anisotropic conductive film F, that is, the circuit board B, during the scanning operation of the substrate scanning member S1 as described above ( The perforations F3 positions of F1 are respectively scanned by the film scan member S2, and the scanned image data is transmitted to the control unit 36 side in the same manner as the substrate scan member S1.

상기와 같이 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 위치 센싱이 완료되면 기판스캔영역의 회로기판(B)들이 상기 회전테이블(4)의 회전에 의해 도 6에서와 같이 상기 필름본딩부(8)에 대응하는 본딩영역에 공급되며, 상기 제어유니트(36)는 상기 기판스캔부재(S1)와 필름스캔부재(S2)를 통하여 스캐닝된 회로기판(B)과 이방전도성필름(F)의 화상데이터를 수치적으로 연산하여 이들의 위치 편차를 센싱한 후, 상기 필름본딩부(8)의 본딩 위치가 회로기판(B)에 대응하는 본딩 위치로 보정될 수 있도록 상기 이송장치의(38) 작동을 다음과 같이 제어한다.As described above, when the position sensing of the circuit board B and the anisotropic conductive film F is completed, the circuit boards B of the substrate scanning area are rotated by the rotation table 4 as shown in FIG. 6. The control unit 36 is supplied to the bonding area corresponding to (8), and the control unit 36 is formed of the circuit board B and the anisotropic conductive film F scanned through the substrate scan member S1 and the film scan member S2. After the numerical calculation of the image data to sense their position deviation, 38 of the transfer apparatus so that the bonding position of the film bonding portion 8 can be corrected to the bonding position corresponding to the circuit board B. The operation is controlled as follows.

상기 제어유니트(36)는 회로기판(B)의 위치에 대응하여 상기 이송장치(38) 즉, 2개의 이송유니트(U4,U5)와 회전유니트(U6)의 작동을 제어하면서 상기 절연접착층(F1)의 본딩 위치가 해당 회로기판(B)의 패턴부(B1) 측에 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 상기 고정플레이트(30)를 3방향으로 이동시키면서 상기 필름본딩부(8)의 본딩 위치를 보정하는 것이다.The control unit 36 controls the operation of the transfer device 38, that is, the two transfer units U4 and U5 and the rotation unit U6 corresponding to the position of the circuit board B, while the insulating adhesive layer F1 is controlled. ) To correct the bonding position of the film bonding part 8 while moving the fixing plate 30 in three directions so that the bonding position of the circuit board B can be bonded within the allowable range on the pattern part B1 side of the circuit board B. It is.

따라서, 상기와 같은 제어유니트(36)의 제어 작용에 의해 필름본딩부(8)의 본딩 위치가 보정되면서 위치가 보정된 본딩헤드(26)의 본딩 동작에 의해 해당 회로기판(B)의 패턴부(B1)측에 대응하여 도 11에서와 같이 이방전도성필름(F)의 절연접착층(F1)을 허용 범위내로 본딩할 수 있는 것이다. 이와 같은 절연접착층(F1)의 본딩은 예를들면, 본딩 영역에 위치하는 기판트레이(L1)에 수납된 회로기판(B)들의 패턴부(B1)를 경유하는 상태로 순차적으로 이동하면서 상기와 같이 필름본딩부(8)가 해당 회로기판(B)에 대응하는 본딩 위치로 보정된 후 절연접착층(F1)의 본딩이 이루어지도록 셋팅될 수 있다.Accordingly, the pattern portion of the circuit board B is bonded by the bonding operation of the bonding head 26 whose position is corrected while the bonding position of the film bonding portion 8 is corrected by the control action of the control unit 36 as described above. Corresponding to the (B1) side, the insulating adhesive layer F1 of the anisotropic conductive film F can be bonded within the allowable range as shown in FIG. As described above, the bonding of the insulating adhesive layer F1 is sequentially performed while passing through the pattern portion B1 of the circuit boards B stored in the substrate tray L1 located in the bonding region. After the film bonding part 8 is corrected to a bonding position corresponding to the circuit board B, the film bonding part 8 may be set to bond the insulating adhesive layer F1.

상기와 같은 본딩 과정에 의해 회로기판(B)의 패턴부(B1) 영역에는 이 영역에 형성된 관통부(B2)에 대응하는 위치로 절연접착층(F1)의 타공부(F3)가 허용 범위내로 본딩되므로 이와 같이 본딩된 회로기판(B)과 절연접착층(F1)의 관통부(B2)와 타공부(F3) 영역을 통하여 후처리 공정에서 촬상소자(D)가 용이하게 안착되면서 본딩될 수 있는 것이다.By the above bonding process, the perforated portion F3 of the insulating adhesive layer F1 is bonded within the allowable range in the pattern portion B1 region of the circuit board B at a position corresponding to the through portion B2 formed in the region. Therefore, the image pickup device D may be easily bonded in the post-processing process through the through part B2 and the perforated part F3 of the bonded circuit board B and the insulating adhesive layer F1. .

상기에서는 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.In the above, a preferred embodiment of the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention has been described, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. This also belongs to the scope of the present invention.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치는, 단일의 작업영역에서 회로기판을 세정한 후 이방전도성필름을 용이하게 본딩할 수 있으며 특히, 회로기판과 이방전도성필름을 본딩할 때에 이들의 위치가 보정수단에 의해 센싱됨과 아울러 센싱된 데이터에 따라 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 상기 회로기판의 위치에 대응하여 필름본딩부의 본딩 위치가 자동으로 보정된 상태에서 절연접착층을 본딩하는 구조이므로 본딩을 위한 시간을 대폭 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라, 만족할 만한 본딩 정밀도 및 품질 등을 얻을 수 있으며, 작업능률과 생산성 등을 대폭 향상시킬 수 있다.As described above, the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention can easily bond the anisotropic conductive film after cleaning the circuit board in a single working area, and in particular, when bonding the circuit board and the anisotropic conductive film, Since the position is sensed by the correction means and can be bonded within the allowable range according to the sensed data, the bonding of the insulating adhesive layer is performed while the bonding position of the film bonding part is automatically corrected in correspondence with the position of the circuit board. In addition to significantly shortening the time required, satisfactory bonding accuracy and quality can be obtained, and work efficiency and productivity can be greatly improved.

게다가, 상기 보정수단은 회로기판과 이방전도성필름의 본딩을 위한 작업영역에서 이들의 위치를 스캔부재들로 각각 스캐닝하고, 이와 같이 스캐닝된 화상데이터의 위치 편차를 수치적으로 연산하는 제어유니트에 의해 이송장치의 작동이 제어되면서 필름본딩부의 본딩 위치가 회로기판의 위치에 대응하여 3방향 이상으로 위치가 보정되는 구조이므로 간단한 보정 구조로 절연접착층의 본딩 정밀도 및 품질을 대폭 향상시킬 수 있으며, 더욱 향상된 작업호환성과 작업능률을 얻을 수 있다. In addition, the correction means scans the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film in the working area by scanning members, respectively, and by a control unit which numerically calculates the positional deviation of the scanned image data. As the operation of the transfer device is controlled, the bonding position of the film bonding part is corrected in three directions or more corresponding to the position of the circuit board, and thus the bonding accuracy and quality of the insulating adhesive layer can be greatly improved by a simple correction structure. Work compatibility and work efficiency can be obtained.

도 1은 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치의 구조를 설명하기 위한 전체사시도.1 is an overall perspective view for explaining the structure of the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1의 회로기판 로딩수단의 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.2 is a partially enlarged perspective view for explaining the structure of the circuit board loading means of FIG.

도 3은 도 2의 내부 구조를 설명하기 위한 단면도.3 is a cross-sectional view illustrating the internal structure of FIG. 2.

도 4는 도 1의 세정부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.4 is a partially enlarged perspective view illustrating the structure of the cleaning unit of FIG. 1.

도 5는 도 4의 세정 작용을 설명하기 위한 부분 확대정면도.Fig. 5 is a partially enlarged front view for explaining the cleaning action of Fig. 4.

도 6은 도 1의 필름본딩부 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.6 is a partially enlarged perspective view for explaining the structure of the film bonding portion of FIG.

도 7은 도 6의 컷터 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.FIG. 7 is a partially enlarged perspective view for explaining the cutter structure of FIG. 6. FIG.

도 8은 도 6의 본딩헤드의 본딩 작용을 설명하기 위한 부분 확대사시도.8 is a partially enlarged perspective view for explaining a bonding action of the bonding head of FIG. 6.

도 9는 도 1의 보정수단에서 기판스캔부재의 구조를 설명하기 위한 부분 확대사시도.9 is a partially enlarged perspective view illustrating the structure of a substrate scanning member in the correction means of FIG.

도 10은 도 9의 작용을 설명하기 위한 부분 확대사시도.10 is a partially enlarged perspective view for explaining the operation of FIG.

도 11은 본 발명에 따른 이방전도성필름 본딩장치의 본딩 작용에 의해 회로기판의 패턴부에 촬상소자의 본딩이 용이하도록 이방전도성필름의 절연접착층이 본딩된 상태를 나타내는 사시도이다.11 is a perspective view illustrating a state in which an insulating adhesive layer of an anisotropic conductive film is bonded to facilitate bonding of an imaging device to a pattern portion of a circuit board by a bonding action of the anisotropic conductive film bonding apparatus according to the present invention.

Claims (7)

패턴부 영역내에 촬상소자의 본딩을 위한 타공 영역이 형성된 회로기판에 이방전도성필름을 본딩하기 위한 장치로서,An apparatus for bonding an anisotropic conductive film to a circuit board having a perforated area for bonding an image pickup device in a pattern portion area, 이방전도성필름과 회로기판을 본딩하기 위한 공간을 제공하는 작업대와, 이 작업대의 작업공간에 대응하여 회로기판을 본딩 가능한 상태로 로딩하는 수단을 갖으며 구동원에 의해 단일의 축심을 기준으로 회전하면서 회로기판을 본딩을 위한 공정 영역들로 이동시키는 회전테이블과, 상기 작업대에서 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부 영역을 세정하기 위한 세정부와, 상기 작업대에서 상기 세정부와 이격되어 상기 회전테이블에 대응하여 위치하며 회로기판의 패턴부에 이방전도성필름을 본딩하는 필름본딩부와, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하여 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 보정수단을 포함하며,The worktable provides a space for bonding the anisotropic conductive film and the circuit board, and has a means for loading the circuit board in a bondable state corresponding to the work space of the workbench, and is rotated about a single axis by a driving source. A rotating table for moving the substrate to the process areas for bonding, a cleaning part positioned on the work table corresponding to the rotating table, for cleaning the pattern area of the circuit board, and spaced apart from the cleaning part on the work table. A film bonding unit for bonding the anisotropic conductive film to the pattern portion of the circuit board and corresponding to the rotary table, and bonding the film bonding unit to correspond to the position of the circuit board by scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table. Compensation means for changing the position, 상기 보정수단은, 상기 작업대에서 회로기판과 이방전도성필름의 위치를 스캐닝하기 위한 기판스캔부재 및 필름스캔부재와, 이 스캔부재들에 의해 스캐닝된 회로기판 및 이방전도성필름의 위치를 센싱함과 아울러 이들의 타공 영역들이 서로 일치하는 자세를 갖으며 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 필름본딩 위치를 제어하는 제어유니트와, 이 제어유니트에 의해 작동이 제어되면서 회로기판의 위치에 대응하도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 변화시키는 이송장치를 포함하는 이방전도성필름 본딩장치.The correction means senses a position of the substrate scan member and the film scan member for scanning the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film on the work table, and the positions of the circuit board and the anisotropic conductive film scanned by the scan members. A control unit for controlling the film bonding position so that the perforated areas are bonded to each other and bonded within an allowable range, and the bonding of the film bonding portion so as to correspond to the position of the circuit board while the operation is controlled by the control unit. Anisotropic conductive film bonding apparatus comprising a transfer device for changing the position. 청구항 1에 있어서, 상기 회전테이블은 상기 작업대에서 인덱싱드라이브 테이블이나 서모 모터와 같은 구동원에 의해 회전 가능하게 고정되는 이방전도성필름 본딩장치.The anisotropic conductive film bonding apparatus according to claim 1, wherein the rotary table is rotatably fixed by a driving source such as an indexing drive table or a thermo motor on the work table. 청구항 1에 있어서, 상기 로딩수단은, 다수개의 회로기판이 수납되는 기판트레이와, 상기 회전테이블에 고정되며 상기 기판트레이를 분리 가능하게 고정하는 고정트레이를 포함하며,The method of claim 1, wherein the loading means comprises a substrate tray for receiving a plurality of circuit boards, and a fixing tray fixed to the rotating table and detachably fixing the substrate tray, 상기 2개의 트레이에는 서로 대응하는 돌기와 홈이 형성되고 이들의 끼움 결합에 의해 분리 가능하고 고정되는 이방전도성필름 본딩장치.The two trays are anisotropic conductive film bonding apparatus is formed with a protrusion and a groove corresponding to each other and is separable and fixed by the fitting combination thereof. 청구항 1에 있어서, 상기 세정부는 세정패드가 상기 작업대의 세정영역에서 회로기판에 대응하는 자세로 로울러들에 의해 세정구간을 경유하면서 공급 및 회수 가능하게 셋팅되고, 일측 로울러의 가압 동작에 의해 물리적인 접촉으로 회로기판의 패턴부를 세정하는 이방전도성필름 본딩장치.The method of claim 1, wherein the cleaning unit is set so that the cleaning pad can be supplied and retrieved by the rollers via the cleaning section in a posture corresponding to the circuit board in the cleaning area of the work table, and is physically controlled by the pressing operation of the one side roller. An anisotropic conductive film bonding apparatus for cleaning a pattern portion of a circuit board by phosphorus contact. 청구항 1에 있어서, 상기 필름본딩부는, 이방전도성필름을 본딩하기 위한 본딩헤드와, 이 본딩헤드에 대응하여 본딩이 가능도록 이방전도성필름을 공급 및 회수하는 릴들과, 상기 본딩헤드에 공급되는 이방전도성필름을 회로기판의 패턴부에 대응하는 모양으로 컷팅하기 위한 컷터를 포함하며,The method of claim 1, wherein the film bonding unit, a bonding head for bonding the anisotropic conductive film, reels for supplying and recovering the anisotropic conductive film so as to be bonded corresponding to the bonding head, and the anisotropic conductive supplied to the bonding head It includes a cutter for cutting the film into a shape corresponding to the pattern portion of the circuit board, 상기 컷터는 상기 공급릴과 본딩헤드 사이의 필름 이송구간에 대응하여 이방전도성필름의 절연접착층을 회로기판의 패턴부 및 관통부에 대응하는 크기 및 타공부를 갖도록 컷팅하는 이방전도성필름 본딩장치.The cutter is an anisotropic conductive film bonding apparatus for cutting the insulating adhesive layer of the anisotropic conductive film to have a size and perforations corresponding to the pattern portion and the through portion of the circuit board in response to the film transfer section between the supply reel and the bonding head. 청구항 1에 있어서, 상기 이송장치는 직선 및 회전 동작이 가능한 유니트들로 이루어지고, 이 유니트들은 상기 작업대에서 상기 필름본딩부를 3방향 또는 그 이상으로 위치 변화가 가능하게 고정하는 이방전도성필름 본딩장치.The anisotropic conductive film bonding apparatus according to claim 1, wherein the conveying apparatus is composed of units capable of linear and rotational movement, and the units fix the position of the film bonding unit in three directions or more in the worktable. 청구항 1에 있어서, 상기 기판스캔부재와 필름스캔부재는 마이크로 카메라로 이루어지고, 상기 제어유니트는 상기 스캔부재들에서 인가되는 화상데이터의 위치 편차를 수치적으로 연산이 가능한 구조의 유니트로 이루어지며,The method of claim 1, wherein the substrate scanning member and the film scanning member is made of a micro camera, the control unit is made of a unit of the structure capable of numerically calculating the positional deviation of the image data applied from the scanning member, 상기 제어유니트는 상기 스캔부재들의 화상데이터에 의해 회로기판과 이방전도성필름의 타공영역 위치 편차를 센싱함과 아울러 센싱된 데이터에 의해 상기 이송장치의 작동을 제어하면서 이 장치에 의해 이방전도성필름이 회로기판의 위치에 대응하여 허용 범위내로 본딩될 수 있도록 상기 필름본딩부의 본딩 위치를 보정하는 이방전도성필름 본딩장치.The control unit senses the positional deviation of the perforated area of the circuit board and the anisotropic conductive film by the image data of the scan members, and controls the operation of the transfer device by the sensed data while the anisotropic conductive film is circuited by the device. Anisotropic conductive film bonding apparatus for correcting the bonding position of the film bonding portion to be bonded in the allowable range corresponding to the position of the substrate.
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