KR100520374B1 - 마이크로전류를 이용하는 치료용 멀티채널 간섭파 마이크로전류장치와방법 - Google Patents

마이크로전류를 이용하는 치료용 멀티채널 간섭파 마이크로전류장치와방법 Download PDF

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Abstract

간섭파마이크로전류장치가 기술되어 있다. 전형적으로 이 장치는 전원(18), 주파수발생기, 펄스발생기, 펄스엔벨로프발생기, 전류제어기(10)와, 환자조직에 마이크로암페어의 전류를 인가하기 위한 4개 이상의 채널을 갖는다. 각 채널은 환자조직을 통하여 마이크로전류회로를 구성토록 하는 두개의 전극(11)을 갖는다. 제어기(10)는 약 300㎐까지의 주파수에서 약 20마이크로암페어로부터 약 200마이크로암페어까지 각 채널의 제어된 전류량을 제공한다. 또한 간섭파형 마이크로전류를 인가하여 림프부종, 부종, 섬유종 및 간질성자궁내막증을 치료하기 위한 방법이 기술되어 있다.

Description

마이크로전류를 이용하는 치료용 멀티채널 간섭파 마이크로전류장치와 방법 {MULTI-CHANNEL, INTERFERENTIAL WAVE, MICRO CURRENT DEVICE AND METHODS FOR TREATMENT USING MICRO CURRENT}
본 발명은 부종이나 기타 징후의 치료에 유용한 멀티채널 간섭파 마이크로 전류장치와 마이크로전류를 이용하여 부종이나 기타 징후를 치료하기 위한 방법에 관한 것이다.
포유동물기관의 여러 조직은 모두 작은(1 밀리암퍼어 이하) 직류("DC")의 전류를 발행한다. 뇌전도와 심전도(각각 EEG 및 EKG 라함)는 사람의 뇌와 심장에서 이들 DC전류를 측정한 것이다.
포유동물의 이들 조직 또는 기타 다른 조직이 손상을 입는 경우 이들 기관내의 내세포 및 외세포조직의 음이온과 양이온성분의 정밀공간조직에 의하여 부분적으로 발생되는 것으로 보이는 이들 전류의 패턴이 크게 변화한다. 예를 들어 외피면은 음전기를 띠는 반면에 피부내면은 양전기를 띤다. 배터리의 두 극 사이의 전하분리와 같이, 작은 전류는 피부 또는 피부의 중간층을 통하여 이동한다(30-100㎷), 상처를 입는 경우 이 조직은 달라지고 손상된 조직의 전류흐름에 대한 저항이 감소된다. 또한 손상된 피부로 유체(혈액, 혈청)가 침투하는 경우 이러한 전기적인 저항이 더욱 감소된다.
쳉(Cheng)등은 Arch. Dermatol., Vol 129, pp. 264-271(1993)에서 글리신혼합 단백질과 피부세포에 흡착된 α-아미노이소부틸산에서의 전류효과를 연구하기 위해 완충액에 침지된 쥐의 피부를 통한 전류의 전도에 관한 실험을 보고하였다. 37℃에서 4시간이상 용액에 쥐의 피부를 배양하는 중에 100-600㎂("마이크로 암페어")의 정전류가 사용되었다. 이러한 낮은 전류에서 ATP의 합성이 증가된 것으로 보고되었다. 그러나, 800㎂이상의 전류에서는 이러한 효과가 없었다.
1993년에 우드(Wood)등은 Arch. Dermatol., 129, pp 999-1008(1993)에서 맥동저밀도직류("PLIDC")를 이용한 욕창의 치료에 관하여 보고하였다. 연구용 장치인 PLIDC기구 (MEMS CS 600, Harbor Medical Inc., Minneapolis, Minn.)가 사용되었으며 12볼트 배터리가 사용되어 욕창을 통하여 300㎂의 전류를 통과시키고 600㎂에서 치료하였다. 전류는 약 0.8㎐의 주파수를 갖는 스타팅 네거티브로 맥동되었다.
많은 암환자들은 방사선치료를 받는다. 임상적으로, 방사선치료는 조사된 연조직부분에서 부종이 수반되고 림프조직의 림프부종이 수반되는 것으로 널리 알려져 있다. 연속면역작용과 종합건강에 대한 환자의 림프계가 매우 중요하기 때문에 림프부종은 이들 두 부작용이 매우 심각한 것이다.
림프계는 다량의 림프구를 포함하는 특수한 망상연결조직의 형태인 림프조직을 포함하는 다수의 조직 및 기관과 함께 림프액을 운반하는 림프관으로 구성된다. 비록 여러 림프기관의 흉선성분이 상피세망조직으로 구성되어 있기는 하나 림프조직의 간질외곽구조는 일반적으로 망상섬유(결합조직형성세포)와 망상세포(고정대식세포)의 망상조직으로 되어 있다.
림프관은 구조가 혈관과 유사하나 벽이 얇고 판이 많은 대형 림프도관(림프관)에 결합되고 신체를 통하여 여러 곳에 림프절을 포함하는 림프모세관을 포함한다. 림프절이 가장 밀집한 곳은 얼굴과 목, 겨드랑이, 흉강, 내장과 서혜부, 팔꿈치와 무릎에서 찾아 볼수 있다. 일반적으로 표피의 얕은 림프관은 정맥을 따라 연장된 반면에 깊은 림프관은 동맥을 따라 연장된다. 림프관은 신체를 통하여 림프를 공급하고 단백질이 모세혈관으로부터 새어나올 때 단백질을 심장혈관계로 되돌려 보내는 기능을 한다. 또한 림프관은 위장으로부터 지방을 혈액으로 운반한다. 암환자에 있어서는 림프관조직이 이질세포, 세균 및 암세포를 감시하고 방어하는 기능을 갖는다. 어떤 림프구(T세포)가 여러 물질을 방출하여 직접 또는 간접적으로 이들 침입자를 파괴한다. 다른 림프구(B세포)는 이물질을 제거하는데 도움이 되도록 이물질에 대하여 항체를 분비하는 형질세포로 분화한다. 림프절은 이들의 망상섬유조직에 의하여 림프에 의해 운반된 이물질의 필터로서 작용한다. 그리고 대식세포가 식작용으로 이물질을 파괴한다. 또한 림프절은 림프구를 생성하고 그 일부가 림프에서 그 면역방어계의 일부로서 신체의 다른 부분으로 운반된다. 비장, 흉선 및 편도선이 림프계의 면역방어선을 완성하기 위하여 각각 항체와 함께 B-세포, T-세포 및 림프구를 생성하는 림프기관이다.
림프부종은 세포소멸의 퇴화산물에 의한 림프조직영역의 림프배출이 폐색되는 결과이다. 대식세포에 의한 이러한 폐색조직의 침투는 상당한 시간에 걸쳐 폐색단백질의 단백질분해를 통한 림프흐름의 제거를 유도한다. 그러나, 필수적으로 반복되는 방사선치료는 조사영역에서 림프배출의 폐색이 계속되고 증가하여 림프부종이 장기화되며 점점 심각한 부작용을 보이게 한다.
징후상으로, 사지팽창(부종, 조직공간에서 간질유체의 과잉축적)과 심한 림프부종(모세혈관벽의 증가된 투과성과 함께 림프가 림프관으로 통과할 수 있는 것 보다 빠른 과잉림프형성을 포함한다)은 특히 머리와 목, 폐, 유방과 림프관계의 암의 상체조사로 두드러지게 나타난다. 섬유모세포가 과잉퇴적되는 턱과 목의 섬유증은 심한 경우 강하고 빈번한 상체조사의 결과로 나타나며 이러한 환자는 빨대를 이용하여 급식되는 것이 요구되며 실제로 환자가 움직일 수 없다. 상완의 섬유증은 계속되는 방사선치료에 의하여 일어날 수 있다.
새로운 종양은 부종증사지와 기타 림프관계에서 나타나는 경향을 보이며 정착하여 성장하는 기회를 가지고, 림프흐름, 림프구생성 및 이들 방사선 유도 면역절충 부종증사체에서의 이온교환을 크게 떨어뜨린다.
이러한 복잡하고 전신에 영향을 주는 조건은 전형적으로 성공의 정도가 제한된 상이한 종류의 "압박치료"로 치료된다. 동반하는 약물치료의 기존양상은 광범위한 혈관수축약과 같은 바이오플라베노이드와 벤조피론을 포함한다. 이들 자연산물은 혈관투과성을 감소시키고 혈류에 대한 미세혈관저항을 증가시키므로서 림프흐름을 향상시키는 것으로 간주된다. 혈관수축은 경험적으로 입증될 수 있으며 이는 아드레날린 및 노르에피네프린(국부조직 "아드레날린"계)의 억제제에 의하여 억제되는 것으로 확인될 수 있다. 이들 바이오플라베노이드는 뉴런소낭으로부터 그리고 정맥평활근세포의 아드레나린 수용체의 작용으로 저장된 노르에피네프린을 제거할 수 있는 것으로 보인다. 이들 작용은 림프와 혈관유체의 흐름을 개선하기 위하여 국부아드레날린계를 자극하는 중요성을 암시한다.
류마티스성 관절염("RA")은 환자가 자신의 신체에서 일부 항원물질에 면역적으로 민감하게 되는 자가면역질환인 것으로 널리 믿어지고 있다. RA의 초기징후는 활막의 염증이며 여기에서 활막이 두꺼워지고 활액이 축적된다. 그 결과의 압력으로 고통이 따르고 손상의 원인이 된다. 림프구와 대식세포가 이들 미지의 "자기항원"에 반응하게 될 때에 이들은 표적기관, 즉 혈액조직, 쿠션으로서 작용하고 골격접합부 사이의 윤활 "베어링"으로서 작용하는 수화낭에 축적된다. 대식세포는 방출된 유리기와 여러 단백질 및 폴리펩티드의 니트로실레이트 티로신잔류물과 함께 소량의 아질산을 방출한다. 이들 물질은 강한 세포독성물질이며 활막내에 괴사판누스를 생성하여 관절연골에 점착되게 한다. 판누스형성은 연골을 완전히 침식한다. 연골이 파괴될 때 섬유조직이 노출된 뼈의 단부를 연결한다. 그리고 이 조직은 접부를 골화시켜 융합시키므로서 표적접합부가 고장나게 하여 불편한 사지의 이용으로 환자를 불구가 되게 한다.
림프부종, 류마티스성 관절염 및 기타 징후를 포함하는 부종의 치료를 위하여 새롭고 보다 나은 장치와 방법이 요구된다.
도 1 은 하나의 채널을 보인 본 발명 펄스 마이크로전류장치의 한 실시 형태를 보인 블록다이아그램.
도 2 는 본 발명에 따른 장치를 위한 마이크로프로세서에 의하여 실행되는 주요제어프로그램의 흐름도.
도 3 은 본 발명에 따른 장치를 위한 마이크로프로세서에 의하여 실행되는 인터럽트 타이머프로그램의 흐름도.
도 4A - 도 4C는 본 발명의 실시형태에 따른 마이크로전류치료에 유용한 방형파형엔벨로프와 변조를 보인 설명도.
도 5A - 도 5C는 본 발명의 실시형태에 따른 마이크로전류치료에 유용한 파형엔벨로프의 선단변부와 후단변부의 변조를 보인 설명도.
도 5A - 도 5F는 본 발명의 실시형태에 따른 마이크로전류치료에 유용한 펄스파형엔벨로프를 보인 설명도.
도 6A - 도 6C는 본 발명의 실시형태에 따른 마이크로전류치료에 유용한 상이한 극성을 갖는 변조파형엔벨로프를 보인 설명도.
도 7A - 도 7E는 본 발명의 실시형태에 따른 마이크로전류치료에 유용한 상이한 선단변부와 후단변부를 갖는 변조(점선)파형엔벨로프를 보인 설명도.
도 8A - 도 8E는 본 발명의 실시형태에 따른 전신 마이크로전류치료를 위한 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 9A - 도 9D는 본 발명의 실시형태에 따른 상체의 마이크로전류치료를 위한 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 10A - 도 10B는 본 발명의 실시형태에 따른 신체의 중간부분을 마이크로전류치료하기 위한 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 11A - 도 11B는 본 발명의 실시형태에 따른 다리의 마이크로전류치료를 위한 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 12A - 도 12B는 본 발명의 실시형태에 따른 하체부분의 마이크로전류치료를 위한 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 13 은 본 발명의 마이크로전류장치에 연결하여 사용토록 구성된 장갑을 보인 설명도.
도 14A - 도 14C는 본 발명의 실시형태에 따라 신체의 중간부분 또는 하체부분의 마이크로전류치료를 위하여 도 13의 장갑과 조합하여 사용되는 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 15A - 도 15B는 본 발명의 실시형태에 따라 신체의 중간부분 또는 상체부분의 마이크로전류치료를 위하여 도 13의 장갑과 조합하여 사용되는 전도성 패드 또는 전극쌍의 배치상태를 보인 설명도.
도 16A - 도 16B는 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위한 마이크로프로세서 U3의 입력과 출력을 보인 회로도.
도 17 은 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위하여 고압에서 작동하는 아날로그멀티플렉스 회로를 제어하기 위하여 전압을 변환시키는 전압레벨 제어회로를 보인 회로도.
도 18 은 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위한 톤을 발생하는 회로를 보인 회로도.
도 19 는 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위한 기구에 단일채널의 데이터를 공급하는 데이터멀티플렉스회로를 보인 회로도.
도 20 은 사용자가 키보드버튼으로부터 입력하고 본 발명에 따른 마이크로전류장치의 액정디스플레이("LCD")에 출력하는 회로를 보인 회로도.
도 21 은 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위하여 신호를 증폭하고 채널의 A사이드에 대하여 LCD 를 위한 변환이 이루어지도록하는 기구회로 보인 회로도.
도 22 는 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위하여 사용자가 선택된 양의 전류를 출력하는 두 채널을 위한 H-브릿지 회로의 회로도.
도 23 은 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위한 배터리의 전원회로도.
도 24 는 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위하여 신호를 증폭하고 채널의 B사이드에 대하여 LCD를 위한 변환이 이루어지도록 하는 제 2 기구회로를 보인 회로도.
도 25 는 본 발명에 따른 마이크로전류장치의 타이밍회로와 DCAC변환기의 회로도.
도 26 은 본 발명에 따른 마이크로전류장치를 위한 H-브릿지 극성 및 진폭제어회로를 보인 회로도.
본 발명은 치료에 도움이 되게 환자의 조직을 통하여 마이크로 암페어의 전류를 인가하기 위한 저전류 간섭파 마이크로전류장치를 제공한다. 이 장치는 환자에 마이크로전류를 인가하기 위한 약 4개 이상의 채널을 제공하고, 각 채널은 환자조직을 통한 마이크로전류 전기회로를 완성하기 위한 두개의 전극을 갖는다. 본 발명 장치는 각 채널에 약 20㎂로부터 약 200㎂까지 300㎐ 이상에서 제어된 전류를 제공하기 위하여 전원, 주파수발생기, 펄스발생기, 펄스엔벨로프발생기와 제어기로 구성된다. 간섭파형을 제공하는데 둘 이상의 주파수가 사용된다.
본 발명의 마이크로전류장치는 환자조직내에서의 유체흐름을 보조하고 환자조직의 치료를 보조하는 저주파수 및 진폭파형을 제공한다. 본 발명의 장치는 펄스사이에 강제휴지기를 갖는 마이크로전류의 펄스에너지엔벨로프를 제공한다. 파형은 50% 듀티싸이클 방형파에 의하여 변조되는 것이 좋다.
본 발명에 따른 환자치료방법은 각각 환자조직을 통하여 마이크로전류를 제공토록 연결된 다중쌍의 전극을 제공하는 단계, 환자에 4쌍 이상 좋기로는 8쌍의 전극을 배치하는 단계, 300㎐ 이상의 주파수에서 각 채널에 약 20㎂으로부터 약 200㎂까지의 제어된 전류를 제공한는 단계, 간섭파형을 제공토록 상이한 채널에 둘 이상의 상이한 주파수를 제공하는 단계와, 펄스사이에 강제휴지기를 갖는 파형엔벨로프를 이용하여 환자에 펄스에너지를 제공하는 단계로 구성된다. 파형은 50% 듀티싸이클 방형파로 변조되는 것이 좋다. 림프절의 중심에 전극을 배치하므로서 림프계의 배출을 증가시킬 수 있다. 림프부종, 부종, 섬유증, 피브로밀라지아 및 기타 징후의 개선이 본 발명에 따른 마이크로전류치료후에 확인될 수 있었다. 이와 같이 본 발명의 방법은 마이크로전류요법에 의한 개선에 민감한 다른 징후를 갖는 환자에 잇점을 제공할 수 있다.
이제 본 발명은 첨부된 도면에서 보인 실시형태를 참조하여 상세히 설명될 것이다. 한 실시형태에서, 본 발명의 펄스 마이크로전류 간섭파장치는 8개의 채널을 갖는다. 마이크로프로세서는 파형폭, 진폭 및 각 펄스의 극성을 제어하고 펄스사이의 휴지기를 제공한다. 파형은 약 0.1부터 약 300㎐의 주파수에 의하여 변조되고 마이크로프로세서에 의하여 제어될 때 각 채널에서 약 20㎂로부터 약 180㎂의 전류를 제공한다. 각 펄스는 양 또는 음펄스일 수 있고 또한 펄스는 양 및 음펄스로 교번할 수 있다. 파형은 선단변부와 후단변부에 대하여 적당한 형태가 되게 수정될 수 있다.
도시된 바와같이, 본 발명의 한 실시형태는 아날로그출력회로(12)와 기구회로(13)를 제어하는 마이크로프로세서 제어유니트(10)("MCU"), 전원(18), 오디오스피커(17)와, 액정디스플레이(16)("LCD")와 키보드 푸쉬버튼(19)을 갖는 제어판넬(15)로 구성된다. 도 1 의 블록다이아그램에는 8개의 채널중의 하나에 대한 출력도선(11)을 보이고 있다.
제어유니트의 마이크로프로세서는 램덤엑세스 메모리("RAM"), 판독전용 메모리("ROM"), 아날로그-디지털 변환기("ADC"), 디지털-아날로그변환("DAC"), 계산, 타임키핑 및 통신을 위한 설비구성이 가능하도록 하는 저전력 8비트 마이크로프로세서이다.
전원은 고압출력연산증폭기(도시하지 않았음)를 위하여 플러스 또는 마이너스 32볼트, 기구연산증폭기를 위한 플러스 또는 마이너스 9볼트, 마이크로프로세서를 위한 플러스 5볼트를 발생할 수 있는 스위칭전원이다. 전원은 12볼트의 공칭작동전압을 갖는 배터리 또는 기타 다른 소오스에 의하여 공급될 수 있다. 전원은 푸쉬버튼으로 턴-온되고 파형이 발생되지 않는 경우 약 6분후에 자동적으로 턴-오프된다.
아날로그 출력회로는 마이크로프로세서제어유니트의 제어하에 채널을 통하여 전류를 공급토록 사용된다. 회로는 도 16 - 도 26에 상세히 도시되어 있으며 이후 상세히 설명된다. 출력단은 30볼트에서 180㎂의 최대전류가능출력을 갖는 전압제어정전류구성의 연산증폭기이다. MCU는 연산증폭기의 출력전류를 설정토록 연산증폭기에 연결되는 DAC의 전압을 제어한다. DAC는 회로의 프로그래머블 램프업을 허용한다. 인-라인 전압멀티플러는 출력단의 온/오프 상태와 극성을 제어한다. 출력전류는 전압이 설정된 후에 연산증폭기회로만으로 제어된다.
회로는 환자에 의하여 확인되는 출력전류와 출력전압을 측정하는 마이크로프로세서인 고임피스던스회로이다. 이 회로는 도 21에 도시되어 있으며 이후 상세히 설명된다. 출력전류는 출력단에 직접 연결된 고임피스던스 회로로 감지된다. 출력전압은 고임피던스 분압기를 직접 통하여 전압을 측정함으로서 감지된다.
이들 측정값은 디스플레이의 목적으로만 사용되며 출력은 제어하는데 이용되지 않는다.
LCD를 갖는 제어판넬을 특정치료를 위하여 사전에 결정된 파라메타의 그룹인 요구된 파라메타와 사전프로그램된 치료설정값을 선택하고, 시간, 전류, 전압등의 여러 치료파라메타를 디스플레이하기 위한 수단을 제공한다. 장치를 턴-온 시키고 파라메타와 설정값을 입력시키기 위하여 통상의 버튼이 사용된다.
오디오스피커는 사용자에게 가청피드백을 제공하여 버튼 판넬과 전류흐름을 확인할 수 있도록 하는 수단이다. 톤의 주파수는 전류량에 따라 변화한다. 예를 들어 높은 전류에 대하여 주파수가 높다.
전원의 변환는 유니트가 스펙을 수행하는 것을 방지하지 않을 것이다. 유니트는 9볼트로부터 15볼트까지에서 스펙을 수행할 것이다. 만약 전압이 15볼트 이상이 되거나 9볼트 이하가 되는 경우 마이크로프로세서는 의도대로 수행하지 않을 것이다. 실제로 이러한 경우 출력이 없다. 만약 모든 필요한 일이 동시에 일어나는 경우 유니트는 오작동이 원인이 되며 장치는 600마이크로암페어(30볼트에서)로 최대가능전류를 제한토록 설계된다.
장치의 상기 출력제한에 부가하여 부가적인 안전구성은 배터리전압레벨을 연속적으로 모니터한다. 전압레벨이 12볼트 이하로 떨어질 때 LCD 디스플레이는 작업자가 배터리를 교환토록 알린다.
MCU는 도 2의 흐름도로 보인 바와 같이 메인프로그램으로 프로그램되며 이는 백그라운드에서 실행되는 포그라운드 및 타이머인터럽트프로그램에서 실행된다. 메인프로그램은 초기파라메타를 로딩하고 타이머인터럽트르로그램을 기동시키며 LCD 디스플레이를 기록하고 모든 파형과 전류발생을 설정하고 사운드를 설정한다.
또한 도 3의 흐름도에서 보인 바와 같이 작동입력을 수신토록 입력되는 하나의 타이머인터럽트프로그램이 있다. 필요한 선택이 이루어지고 시작버튼이 눌러진 후에 유니트는 출력전류발생을 시작한다. 데이터디스플레이는 유효한 기초항목에서 인터럽트타이머프로그램에 의하여 저장되는 데이터로부터 메인프로그램에 의하여 발생된다. 파형주파수발생은 하드웨어타이머에 의하여 외부에서 취급된다. 엔벨로프발생은 인터럽트타이머 프로그램에 의하여 취급된다.
마이크로프로세서는 선택된 엔벨로프, 변조주파수 및 극성을 갖는 파형을 발생할 수 있다. 각 채널은 독립적으로 제어될 수 있다. 각 출력채널은 채널사이에 1 메가옴을 이용하여 타측 채널로부터 물리적으로 격리된 신호와이어를 갖는 별도 연산증폭기회로이다. 출력채널회로가 도 22에 도시되어 있다.
마이크로전류장치의 전기출력은 10K옴 저항(도 1의 저항 14참조)을 통하여 측정된 전류를 나타내는 파형이다. 이 파형은 전형적으로 복합파형이다. 일반적으로 모든 파형은 선택하능한 사전에 결정된 파형엔벨로프로 구성되고 이는 선택된 주파수의 50% 듀티 방형파로 변조된다.
도 4A에서, 표준형 파형(완전한 두 싸이클의)은 0.5초 휴지기와 2.0초의 포지티브파형을 갖는 2.0초 네거티브방형파의 엔벨로프로 구성된다. 예를 들어, 이 파형엔벨로프는 2.2㎐ 주파수 50% 듀티싸이클신호에 의하여 변조될 수 있다(도 4C참조). 2.2와 1.3㎐ 신호의 변조주파수는 출력파형의 주파수가 선택가능할 때, 즉 다른 변조주파수가 선택될 수 있을 때 조회된다. 파형엔벨로프는 주파수에 의하여 변경되지 아니하며 0.5초 휴지지를 갖는 2.0초 방형파로 항상 고정되고 0.5초 휴지기를 갖는 다른 2.0초 방형파 등으로 고정된다.
사용시에, 펄스는 1싸이클, 예를 들어 네거티브극성의 파형엔벨로프 또는 포지티브극성의 파형엔벨로프이다.
MCU에는 6개의 선택가능한 파형엔벨로프가 사전에 프로그램된다. "샤프엣지(sharp edge)" 엔벨로프는 최소상승시간 선단변부와 후단변부(약 1밀리초)로 구성되고 도 5A에 도시되어 있다. "마일드 엣지(mild edge)"는 약 100밀리초("Ms")의 중간승강시간으로 구성되고 도 5B에 도시되어 있으며, "젠틀엣지(gentle edge)"엔벨로프는 500Ms 승강속도로 구성되고 도 5C 에 도시되어 있다. "샤프펄스"엔벨로프는 도 5D에서 보인 바와 같이 0.2초 폭의 싸이클 당 단일 샤프펄스로 구성된다. "더블샤프펄스"엔벨로프는 도 5E에서 보인 바와같이 0.2초 폭의 싸이클당 두개의 샤프펄스이다. 일반적으로 펄스엔벨로프의 샤프펄스는 약 0.1-약 0.5초이다. "펄스샤프엣지파형"엔벨로프에서, 각 펄스 도 5F에서 보인 바와같이 샤프엣지에서 상승하는 1ms폭 30볼트펄스를 갖는 30볼트 2초폭 샤프엣지엔벨로프이다.
물론, 펄스폭 또는 싸이클 타임은 싸이클 사이의 휴지기 길이와 함께 변화될 수 있다. 전형적으로 펄스폭은 약 0.5-약 5.0초로 변화할 것이다. 싸이클(또는 펄스) 사이의 휴지기 길이는 펄스의 약 10%-25%이다. 휴지기의 시간은 약 0.5초가 좋다. 그러나, 이러한 시간은 치료계획에 따라 달라질 수도 있다.
파형엔벨로프도 요구된 다른 형태의 파형으로 변경될 수 있다.
MCU는 사용자에게 도 6A(교번), 도 6B(포지티브) 및 도 6C(네거티브)에서 각각 보인 바와 같은 선택된 극성 또는 사전프로그램된 파형을 제공한다. 이들은 유용하게 선택될 수 있다. 선택된 극성은 LCD에 표시된다.
한 실시형태에서, 파형의 선단변부는 SHARP, MILD, GENTLE, PULSE STANDARD, DOUBLE PULSE 및 PULSE SHARP 엔벨로프로서 선택될 수 있다. 각 파형엔벨로프는 방형파의 선단 및 후단변부의 상승시간의 차이를 나타낸다. 도 5A-도 5F를 참조바란다. 그러나, 다른 파형의 형태가 프로그램될 수 있다.
전류파형은 예시된 실시형태에 대하여 40-180 마이크로암페어의 전류흐름에 관계없이 도 5A - 도 5F에서 보인 바와 같이 전압파형과 동일한 것이다. 정전류회로는 도시된 여러 파형의 프로그램된 전류가 500옴-10킬로옴 그리고 50킬로옴까지 여러 부하하에 유지되도록 한다. 만약 전류가 흐르는 경우 프로그램된 전류흐름의 비율이 10%를 나타내는 막대그래프에서 막대 또는 화살표로 퍼센트 값으로 LCD에 마이크로암페어로 디스플레이된다. 100마이크로암페어의 프로그램된 값에서 60마이크로암페어가 흐르는 경우 하강율은 60%을 보일 것이며 16개의 막대 또는 화살표 중에서 6개만 표시될 것이다. 각 쌍의 8개 채널이 한번에 두개씩 모니터될 수 있다. 또한 LCD는 유니트가 전도되는 풀스케일의 비율을 디스플레이할 것이다.
출력주파수는 펄스엔벨로프의 변조주파수를 참조한다. 변조주파수는 50% 듀티싸이클을 갖는 것이 좋다. 장치에서 주파수조절범위는 0.3㎐∼300㎐이다. 선택된 주파수가 LCD스크린에 디스플레이된다. 도 7A-도 7C는 0.5㎐ 50% 듀티싸이클 파형방형파에 의하여 변조된 샤프, 마일드 및 젠틀 파형을 보이고 있다. 도 7D와 도 7E는 각각 50㎐와 25㎐ 50% 듀티싸이클 방형파에 의하여 변조된 펄스더블펄스엔벨로프를 보이고 있다. 도 7F는 5㎐ 50% 듀티싸이클 방형파에 의하여 변조된 펄스형 파형엔벨로프를 보이고 있다.
상기 언급된 마이크로전류장치의 실시형태에 대한 전기회로가 도 16A-도 26에 도시되어 있다. 전원회로(도 23)는 통상적으로 컴퓨터관련회로에 대하여서는 +5볼트를 제공하고, H-브릿지회로는 +32볼트를 제공하며 기구회로에는 +23볼트와 +41볼트를 제공토록 8개가 한 그룹인 "D"셀로부터 필요한 작동전압을 제공한다. 이러한 저전력 스위칭전원은 사용자판넬(15)의 기보드에서 RESET키(도 1에서 버튼19)를 눌러 기동시킨다. 타이밍회로는 유니트를 턴-온시키고 레귤러이터 칩 U9(도 23)를 작동시키기 위하여 RESET키로 작동된다. 레귤러이터 칩 U9는 트랜스포머 T1에 주요펄스를 제공하는 인버터버퍼게이트 U8A를 통하여 MOSFET 스위치 Q9를 제어한다. 트랜스포머 펄스는 정류되고 여과되어 정확히 요구된 전압을 제공한다. 전원은 MCU(10)(도1)에 의하여 차단될 때까지 유지될 것이다. 전문가라면 잘 알 수 있는 바와 같이 다른 전원이 이용될 수 있다.
MCU(10)(도 16의 U3참조)는 유니트의 주요 구성부분이며 유니트를 실행시키는 지능을 공급한다. 제어기능에 부가하여 MCU는 키보드 푸쉬버튼(19)으로부터 입력을 수신하고(도 20에서 보인 회로를 이용하여) 사용자의 LCD에 출력을 제공한다. LCD는 발광시 스크린의 판독이 용이하도록 하는 전압발광 배광유니트를 포함한다. 배광유니트를 작동시키는 전압은 DC-AC변환기 U18에 의하여 제공된다(도 25). 다른 키 또는 버튼(19)(RESET 이외의 것)을 누를 때 배광이 발광한다. 타이밍회로(도 25의 U17)는 배광이 최대 약 30초간 유지될 수 있도록 한다.
MCU는 사용자에게 선택된 양의 전류를 공급토록 H-브릿지회로(도 22에서 보임)를 설정한다. 이 회로는 H-브릿지 피드백회로에 의하여 일정하에 제어된다. 이 실시형태에서, 전류는 H-브릿지연산증폭기 U107에 제어전압을 설정하므로서 40, 80, 100, 160 및 180㎂(도 26참조)의 불연속적인 5개 단계로 선택될 수 있다. 이는 관련된 연산증폭기 피드백회로를 통하여 수행된다. 전류는 도시된 회로를 이용하여 어떠한 환경하에서 선택된 설정값 또는 180㎂를 초과할 수 없다.
파형 엔벨로프는 MCU펄스폭변조기 "PWM"(도 16A-도 16B에서 VPLMA참조)과 최대전류출력을 설정하는 아날로그스위치 U2(도 26)에 연결된 도 16의 필터회로(R45 와 C31)에 의하여 제어된다. 이는 최대전류가 선택된 후(스위치에 의하여) 그 PWM출력을 이용하여 마이크로프로세서에 의한 파형을 제어하는데 필수적으로 감소될 수 있음을 의미한다.
MCU(U3)는 도 16A - 도 16B에서 보인 회로를 통하여 H-브릿지(도 22)를 제어한다. 도 22는 하나의 A채널 및 하나의 B채널을 위한 출력회로를 보이고 있다. 기본적으로 이 실시형태의 장치는 도시된 각 A및 B채널에 따른 출력전류신호를 위한 4개 채널을 갖는다. "A'출력을 갖는 모든 채널은 동일하고 "B"출력을 갖는 모든 출력도 동일하다.
출력전류의 극성은 출력회로의 아날로그스위치 U104에 출력트랜지스터를 반전연결하므로서 H-브릿지에서 제어된다(도22). 출력주파수는 선택된 주파수가 요구될 때 스위치를 온 또는 오프시켜 제어된다. 통상적으로 하나의 스위치는 온이 되고 다른 스위치는 전류흐름을 위하여 오프된다.
요구된 바와 같이 모든 H-브릿지는 예를 들어 40-180마이크로암페어 사이의 사용자에 의하여 선택된 것과 동일한 전류를 발생한다.
모든 사이드 A채널은 동일신호로 구동되고 모든 B채널은 다른 동일한 신호로 구동된다. 따라서 사이드 A출력은 사이드 B출력과는 상이한 출력주파수특성을 발생한다. 각 채널은 필요한 경우 독립적으로 프로그램되어 각 채널이 상이한 출력주파수특성을 갖도록 한다. 전형적으로 이 실시형태에서 4개 채널(아시드 A)는 하나의 출력주파수특성을 가지고 다른 4개의 채널(사이드 B)는 제 2 주파수 특성을 갖는다.
이 실시형태에서, 스피커는 선택된 채널 H-브릿지에 흐르는 전류레벨을 가청방식으로 지시한다. 톤은 MCU PWM(도 16A-도 16B의 VPLMB 참조)로부터 전압이 제어되는 전압제어형 발진기 U10, U11(도18)와 필터(R88, C41)에 의하여 발생된다. 이 톤은 광범위한 음성주파수에서 변화될 수 있다. 볼륨은 스피커를 구동시키는 음성출력트랜스포머 T3의 1차측에 있는 일련의 아날로그 스위치와 래치 U14, U12(도18)에 의하여 제어된다.
MCU는 어떠한 신호채널 "A"와 "B"로부터 데이터를 얻고 LCD에서 사용자에 의하여 선택될 때 어느 특정채널의 출력을 나타내는 전류출력을 디스플레이할 수 있다. 데이터 멀티플렉서("Data Mux", 도 19)는 기구유니트에 대하여 단일데이터채널을 격리하여 지향시킨다. 제어전압레벨시프트(도 17)는 고압에서 이러한 아날로그 멜티플렉스회로를 제어토록 전압을 변환시킨다. 단일채널은 사용자에 의하여 선택되는 8개의 채널일 수 있다. 기구유니트회로는 신호를 증폭하고(도 21의 U6 참조) H-브릿지고압으로부터 감지된 신호를 MCU가 판독할 수 있고 이로부터 필요한 디스플레이를 계산할 수 있는 저압으로 변환시킨다. 이는 "플라잉 캐패시터"형 전압레벨변환기 U5(도 21)에 의하여 수행된다. 그리고 이 신호는 버퍼되어(도 21의 U1) MCU에 아날로그신호를 공급한다. 출력전류는 상대출력전류레벨을 보이도록 LCD스크린에서 일단의 화살표로 표시된다. 또한 근사전류퍼센트가 디스플레이된다. 이러한 제 2 회로가 B사이드 채널에도 사용된다.
도 16A - 도26에서 보인 회로에서 C-는 캐패시터를 나타내고, D-는 다이오드(쇼트키다이오드 D3, D7, 제너다이오드 D11, D12 또는 스위칭다이오드가 적당히 사용될 수 있다)를 나타내며, R-은 저항(전형적으로 0.25와트)를 나타내고, RT-는 온도감응저항을 나타내며, T-는 트랜스토머를 나타낸다. U2, U4, U11, U12, U104, U204 및 U304는 아날로그 CMOS 스위치를 나타내고, U14와 U21는 CMOS 4비트래치를 나타내며, U6 와 U16은 비펫 연산증폭기를 나타내고, U1, U7, U10, U107, U207 및 U307은 CMOS 저전력 연산증폭기를 나타내며, U3은 중앙처리장치를 나타낸다. U19는 듀얼 콰드 아날로그 스위치이고, U17은 CMOS 555이며, U8은 콰드 2in NOR게이트 CMOS이고, U5와 U15는 듀얼고압아날로그 스위치이며, U9는 전원스위칭레귤레이터이고, U18은 인버터이다. JP2와 JP5는 LCD를 디스플레이하는 헤더이고, JP6는 배광용의 3핀 자형 코넥터이며, JP7는 버튼에 와이어를 연결하기 위한 패드이고, JP3는 직렬포트에 대한 연결부이다. JP4, JP104, JP204 및 JP304는 출력헤더코넥터이고, PB-는 푸쉬버튼 스위치이며, L1은 저저항초크이고, LS1는 소형스피커이다. Q-는 트랜지스터(MOSFET Q8, Q10, Q20, Q21, Q22, Q23, Q24 및 Q26, 파워 MOSFET Q9 및 Q18 또는 적당한 범용트랜지스터)이다. Y1는 4 밀리-Hz-크리스탈을 나타낸다.
도시된 실시형태에서, 치료시간은 1초부터 120분까지 단계적으로 증가시켜 선택될 수 있다. 디스플레이되는 시간은 경과시간과 나머지 시간이 특정프로그램 또는 프로그램된 시간으로 LCD 스크린에 나타난다.
펄스폭 또는 싸이클 시간은 환자의 치료에 따라 달라질 수 있다. 교번네거티브 및 포지티브극성펄스를 이용하여 림프부종을 치료하는 경우에는 2초 펄스 후 ½초 휴지기를 이용하는 것이 유리한 것으로 확인되었다.
예시된 8채널 마이크로전류간섭파장치에 있어서, 전기적인 출력은 대상영역에 부착된 16개의 전도성 패드 또는 이중채널프로우브의 코튼 Q팁을 통하여 환자에 인가된다. 두개의 이중채널프로우브의 4개 Q팁이 4개의 패드로서 동일출력에 병렬로 연결된다. 유니트는 하나의 프로우브가 패드를 통하여 사용된 6개의 나머지 채널과 함께 환자의 한 부위를 1회 치료하기 위하여 사용되게 조합되어 사용되며 각쌍의 패드는 신체의 다른 부분의 치료를 위하여 사용된다. 전신의 림프관계의 치료를 위한 패드의 배치도가 도 8A-도 8E에 도시되어 있다. 도면에서, 각 쌍의 패드는 신체에 전압을 인가하여 직류를 인가하도록 네거티브패드는 마이너스로 표시하고 표지티브 패드는 플러스로 표시한 채널과 연결된다.
적어도 두개의 상이한 주파수가 8개 채널장치에 의하여 사용된다. 두 주파수가 사용되는 경우 4개 채널은 제 1 주파수를 사용하는 반면에 다른 4개 채널은 제 2 주파수를 사용한다. 예를 들어 도 8A - 도 8E에 보인 예에서, 채널 1, 3, 5 및 7은 제 1 주파수를 이용하고 채널 2, 4, 6 및 8은 제 2 주파수를 이용한다. 그러나, 상기 언급된 바와 같이, 각 채널은 독립된 주파수를 가질 수 있다.
치료과정은 시작하기 위하여 사용자는 장치를 가동시키도록 ON/RESET버튼(도시하지 않았음)을 누른다. 여러가지 선택메뉴가 LCD디스플레이에 나타난다. 사용자는 적당한 버튼을 눌러 선택할 수 있다. 요구된 파라메타가 선택되었을 때 RUN버튼(도시하지 않았음)을 눌러 장치를 기동시키며 선택된 시간이 완료될 때까지 작동케한다. MCU는 주파수를 설정하고 사용자 선택에 기초한 출력이 이러한 시간동안 지속되며 요구된 시간이 경과된 후에 정지한다.
파형의 실행 중에 기구회로는 출력전류와 출력전압을 측정한다. 이 데이터는 계산이 완료된 후 데이터가 LCD에 디스플레이되는 MCU로 복귀된다. 전류레벨의 톤을 나타내는 오디오 톤은 파형의 출력 중 제공된다. 프로그램이 완료되었을 때 유니트는 선택메뉴로 복귀한다. 이 유니트는 선택이 없는 경우 6분 후에 자동적으로 꺼진다.
표(1)에 12회의 전형적인 치료프로그램이 예시되어 있다. 각 치료시간은 7분씩 3부분으로 나누어져 있다. 패드는 도 8A - 도 8E에서 보인 바와 같이 환자에 배치된다. 두 주파수에 대한 주파수설정값(㎐), 치료시간(분), 파형(젠틀, 마일드) 및 전류(㎂)가 표에 나타나 있다. 주파수는 예시된 바와 같이 각 치료시간의 부분마다 그리고 치료시간 사이에서 증가된다. 또한 파형은 치료시간이 경과함에 따라 변경되었다. 펄스 사이의 교번극성이 상기 언급된 바와 같이 사용되었다.
16개 패드가 도 9A - 도 9D에서 보인 바와 같이 패드쌍을 배치하는 상태로 상체의 림프관계를 집중치료토록 배치될 수 있다.
16개 패드가 도 10A - 도 10B에서 보인 바와 같이 패드쌍을 배치하는 상태로 상체의 림프관계를 집중치료토록 배치될 수 있다.
16개 패드가 도 11A - 도 11B에서 보인 바와 같이 패드쌍을 배치하는 상태로 상체의 림프관게를 집중치료토록 배치될 수 있다.
16개 패드가 도 12A - 도 12C에서 보인 바와 같이 패드쌍을 배치하는 상태로 상체의 림프관계를 집중치료토록 배치될 수 있다.
패드는 수동림프배출치료와 조합하여 마이크로전류치료를 이용하기 위해 장갑과 조합하여 사용될 수 있다. 도 13은 마이크로전류간섭파치료와 함께 사용토록 구성된 장갑(130)을 보이고 있다. 각 장갑은 손바닥아래에 배치되는 두개의 전도성 패드(131)를 갖는다. 이 패드는 마이크로전류간섭파장치의 둘 이상의 채널에 전선(132)으로 연결된다.
장갑은 라텍스 물질로 구성되는 것이 좋다. 장갑의 전도성 패드는 약 5중량%의 카본블랙과, 약 0.1중량%의 아연을 포함하는 아크릴 공중합체로 구성된다. 다른 전도성 조성물이 사용될 수 있다.
장갑은 도 13에서 보인 바와 같이 마이크로전류간섭파장치의 두채널에 연결될 수 있다. 장갑은 바닥면을 위로 하여 도시되어 있다. 장갑의 한쪽은 각 채널의 양극에 연결되고 다른 쪽은 각 채널의 음극에 연결된다. 각 채널은 상이한 주파수를 이용한다. 장갑에 환자에 접촉되었을 때 특정주파수변조의 전류가 채널회로를 완성하는 패드 사이에 전도된다.
또한 장갑은 마이크로전류간섭파장치의 4개 채널회로까지 완성토록 패드와 조합하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 도 14A - 도 14C에서 보인 바와 같이, 4개의 패드가 마이크로전류간섭파치료와 조합하여 옆구리, 다리상측부, 무릎, 무릎후배부, 발목, 발, 다리전체의 수동림프배출을 위하여 한쌍의 장갑에 배치되고 전기적으로 연결된다. 징후를 보이는 신체를 맛사지하기 위한 장갑의 수동운동은 수동치료중 마이크로전류회로를 구성한다.
장갑과 조합하여 도 15A - 도 15B에 보인 바와 같이 4개의 패드를 배치하므로서 마이크로전류간섭파치료와 조합하여 팔, 배 및 등의 수동림프배출이 이루어질 수 있도록 한다.
도 15A에서 보인 바와 같이 패드를 배치하고 안면, 두부 및 목을 맛사지하여 신체의 이들 부분의 수동림프배출이 이루어지도록 장갑을 이용하므로서 마이크로전류를 간섭파치료와 조합될 수 있다.
표(1)에서 보인 것과 유사한 치료시간, 즉 증가된 주파수와 파형으로 3분으로 나누어진 치료시간이 좋다.
림프부종 과/또는 섬유종을 보이는 65명의 환자를 본 발명에 따른 마이크로전류장치로 치료한 결과 모든 환자에게서 마이크로전류치료에 응답하여 완화됨을 보였다.
이상은 예시된 실시형태에 의거하여 상세히 설명되었다. 그러나, 전문가라면 본 명세서와 도면에 기초하여 청구범위에서 한정된 본 발명의 기술사상과 범위내에서 수정과 개선이 이루어질 수 있음을 이해할 것이다.
표(1)
치료프로그램
주파수1 (㎐) 시간(min) 파형 전류(㎂) 주파수2 (㎐)
1,2 0.05 7 Gentle 40 0.07
10 7 Gentle 40 11
150 7 Gentle 40 300
3,4 0.07 7 Gentle 40 0.09
11 7 Gentle 40 12
150 7 Gentle 40 300
5,6 0.09 7 Gentle 40 1.1
9 7 Gentle 40 10
150 7 Gentle 40 300
7,8 1.1 7 Gentle 40 1.5
12 7 Gentle 40 13
150 7 Gentle 40 300
9,10 1.5 7 Gentle 40 2
10 7 Gentle 40 11
150 7 Gentle 40 300
11,12 0.5 7 Mild 40 0.07
11 7 Mild 40 12
150 7 Mild 40 300
13,14 0.07 7 Mild 40 0.09
9 7 Mild 40 10
150 7 Mild 40 300
15,16 0.09 7 Mild 40 1.1
11 7 Mild 40 12
150 7 Mild 40 300
17,18 1.1 7 Mild 40 1.5
10 7 Mild 40 11
150 7 Mild 40 300
19,20 1.5 7 Mild 40 2
12 7 Mild 40 13
150 7 Mild 40 300

Claims (30)

  1. 간섭파 마이크로전류장치에 있어서, 상기 장치가 전원, 주파수발생기, 펄스발생기, 펄스엔벨로프발생기, 전류제어기와, 환자조직을 통하여 마이크로전류전기회로가 구성되도록 두개의 전극을 가지며 환자조직에 마이크로암페어의 전류를 인가하는 4개 이상의 채널로 구성되고, 제어기가 각 채널에 약 300헤르츠까지의 주파수에서 약 20마이크로암페어로부터 약 200마이크로암페어의 제어된 양의 전류를 제공함을 특징으로 하는 간섭파 마이크로전류장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 제어기가 각 펄스엔벨로프 후 휴지기를 갖는 마이크로전류의 펄스에너지파형 엔벨로프를 제공함을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 각 펄스엔벨로프 후의 휴지기가 펄스엔벨로프 길이의 약 10%-약 25%임을 특징으로 하느 장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 휴지기가 약 0.5초임을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 제어기가 50% 듀티싸이클 방형파로 변조된 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공함을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 제어기가 간섭파형을 제공토록 하나 이상의 채널에 대하여 제 1 주파수를 갖는 제 1 펄스에너지파형엔벨로프와 다른 하나 이상의 채널에 대하여 제 2 주파수를 갖는 제 2 펄스에너지파형엔벨로프를 제공함을 특징으로 하는 장치.
  7. 제 1 항에 있어서, 펄스발생, 펄스엔벨로프, 각 채널의 주파수와, 각 채널의 전류량을 제어하는 중앙처리장치가 구성되어 있음을 특징으로 하는 장치.
  8. 제 1 항에 있어서, 장치가 8개 채널을 가짐을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 펄스의 극성이 교번함을 특징으로 하는 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 초기 펄스가 극성이 네거티브임을 특징으로 하는 장치.
  11. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 1밀리초로부터 약 500밀리초에서 제로로부터 그 최대 또는 최소값으로 변화하는 선단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  12. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 100밀리초로부터 약 500밀리초에서 제로로부터 그 최대값 또는 최소값으로 변화하는 선단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  13. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 1밀리초로부터 약 500밀리초에서 그 최대값 또는 최소값으로부터 제로로 변화하는 후단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  14. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 100밀리초로부터 약 500밀리초에서 그 최대값 또는 최소값으로부터 제로로 변화하는 후단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  15. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 1밀리초로부터 약 500밀리초에서 제로로부터 그 최대값 또는 최소값으로 또는 최대값 또는 최소값으로부터 제로로 변화하는 선단변부와 후단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  16. 제 1 항에 있어서, 제어기가 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공하고 파형엔벨로프가 전류가 약 100밀리초로부터 약 500밀리초에서 제로로부터 그 최대값 또는 최소값으로 또는 그 최대값 또는 최소값으로부터 제로로 변화하는 선단변부와 후단변부를 가짐을 특징으로 하는 장치.
  17. 제 1 항에 있어서, 제어기가 사용자에 의하여 선택된 다수의 파형엔벨로프 중 하나로 마이크로전류의 펄스에너지파형엔벨로프를 제공함을 특징으로 하는 장치.
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