KR100501622B1 - 전기 광학 장치의 구동 방법, 구동 회로, 전기 광학 장치및 전자기기 - Google Patents

Abstract

1 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하여 화소를 구동하는 제어 단위로 한다. 액정은 응답 속도가 느리고, 서브필드 기간보다도 포화 응답 시간이 길다. 이것에 의해, 예컨대 소정의 1 서브필드만으로 온 전압을 액정에 인가하더라도, 투과율은 100%에 도달하지 않는다. 즉, 액정의 투과율의 과도기에서는 1 서브필드에서의 투과율의 변화를 미세하게 제어하는 것이 가능하다. 이것에 의해, 1 필드 내의 서브필드 수에 비하여, 계조수를 현저히 증대시킬 수 있고, 다계조에서의 표시가 가능하다.

Description

전기 광학 장치의 구동 방법, 구동 회로, 전기 광학 장치 및 전자기기{DRIVING METHOD OF ELECTROOPTICAL APPARATUS, DRIVING CIRCUIT AND ELECTROOPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE}

본 발명은 서브필드 구동 방식에 의해 계조 표시 제어를 행하는 전기 광학 장치의 구동 방법, 구동 회로, 전기 광학 장치 및 전자기기에 관한 것이다.

전기 광학 장치, 예컨대 전기 광학 재료로서 액정을 이용한 액정 표시 장치는 음극선관(CRT)을 대체하는 디스플레이 장치로서, 각종 정보 처리 기기의 표시부나 액정 텔레비전 등에 널리 이용되고 있다.

여기서, 종래의 전기 광학 장치는, 예컨대 다음과 같이 구성되어 있다. 즉, 종래의 전기 광학 장치는, 매트릭스 형상으로 배열한 화소 전극과, 이 화소 전극에 접속된 TFT(Thin Film Transistor : 박막 트랜지스터)와 같은 스위칭 소자 등이 마련된 소자 기판과, 화소 전극에 대향하는 대향 전극이 형성된 대향 기판과, 이들 양 기판 사이에 충전된 전기 광학 재료인 액정으로 구성된다.

이러한 구성에 있어서의 전기 광학 장치의 표시 모드에는, 전압이 인가되지 않는 상태(오프 상태)에서 백(白) 표시하는 모드인 노멀리 화이트와, 흑(黑) 표시하는 모드인 노멀리 블랙이 있다. 이하, 전기 광학 장치의 표시 모드가 노멀리 블랙인 경우에, 계조 표시하는 동작을 설명한다.

상술한 구성에 있어서, 주사선을 거쳐 스위칭 소자에 주사 신호를 인가하면, 해당 스위칭 소자가 도통 상태로 된다. 이 도통 상태일 때에, 데이터선을 거쳐서 화소 전극에 계조에 따른 전압의 화상 신호를 인가하면, 해당 화소 전극과 대향 전극에 화상 신호의 전압에 따른 전하가 축적된다. 전하 축적 후에 해당 스위칭 소자를 오프 상태로 해도, 해당 전극에서의 전하의 축적은 액정층 자신의 용량성이나 축적 용량 등에 의해서 유지된다. 이와 같이, 각 스위칭 소자를 구동시켜 축적시키는 전하량을 계조에 따라 제어하면, 화소마다 액정의 배향 상태가 변화되기 때문에, 화소마다 농도가 변화되게 된다. 이 때문에, 계조 표시하는 것이 가능해지는 것이다.

또, 전기 광학 장치의 표시 모드가 노멀리 화이트 모드인 경우, 상술한 동작에 있어서, 전압의 상태를 오프 상태로 한 곳을 온 상태로 하면, 마찬가지의 효과가 얻어진다.

상술한 동작시에, 각 화소의 액정층에 전하를 축적시키는 것은 일부 기간에서 되기 때문에, 다음과 같은 제어가 가능하다.

① 주사선 구동 회로에 의해서 각 주사선을 순차적으로 선택한다.

② 그 주사선의 선택 기간에 있어서, 데이터선 구동 회로에 의해 데이터선에 화상 신호를 공급한다.

③ 데이터선으로부터 화상 신호를 샘플링한다.

상기 ①, ②, ③의 제어에 의해 주사선 및 데이터선을 복수의 화소에 대하여 공통화한 시분할 멀티플렉스 구동이 가능해진다.

그러나, 데이터선에 인가되는 화상 신호는 계조에 대응하는 전압, 즉 아날로그 신호이다. 이 때문에, 전기 광학 장치의 주변 회로에는 D/A 변환 회로나 OP 앰프 등이 필요해지므로, 장치 전체의 비용 상승을 초래해 버린다. 또한, 이들 D/A 변환 회로, OP 앰프 등의 특성이나, 각종 배선 저항 등의 불균일성에 기인하여 표시 얼룩이 발생하기 때문에, 고품질인 표시가 매우 곤란하다고 하는 문제가 있고, 특히 고세밀한 표시를 행하는 경우에 현저해진다.

그래서, 상기 문제를 해결하도록, 전기 광학 장치, 예컨대 액정 장치에 있어서의 액정 구동에 디지털적인 구동 방식으로서, 1 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고 각 서브필드에서 각 화소를 계조에 따라 온 전압 또는 오프 전압을 인가하는 서브필드 구동 방식이 제안되어 있다.

이 서브필드 구동 방식은, 액정에 인가하는 전압을 전압의 레벨이 아니라, 전압 펄스의 인가 시간에 의해서 액정에 인가하는 전압(실효 전압)을 변화시켜, 액정 패널의 투과율을 제어하는 것으로서, 액정 구동에 필요한 전압 레벨은 온 레벨과 오프 레벨의 2값뿐이다.

그런데, 전기 광학 장치로서의 액정 표시 장치에서 동화상을 표시하는 경우에 그 재현성을 향상시키기 위해서는 액정에서의 응답 특성을 개선하는 것은 필요 불가결하다. 액정의 응답 특성은, 일정 온도에서는, 정상 상태(배향 상태)로부터의 천이에 대해서는 액정층에 인가되는 전계의 크기에 따라 응답 속도가 빨라진다.

또한, 액정층에 전계가 인가된 상태로부터 배향 상태로의 천이는 일정한 응답 시간이 필요하다. 이 응답 시간은 일반적으로 액정층에 전계를 인가한 시간의 수배의 길이이다.

또한, 전기 광학 장치로서의 액정 장치에서의 액정을 서브필드 구동에 의해 계조 표시시키는 경우에, 액정 자체 또는 액정 주위에서의 온도 변화에 따라 응답 특성이 변화되기 때문에, 온 상태로 되는 펄스, 오프 상태로 되는 펄스의 시간적인 배치 방법에 의해서 액정의 계조 특성이 변화되어, 화질이 저하된다고 하는 문제가 있다.

또한, 단순한 서브필드 구동 방식에서는, 표시 가능한 계조가, 분할한 서브필드의 수로 제한되어 버린다고 하는 문제가 있었다. 예컨대, 필드를 M개의 서브필드로 분할한 경우, 표시 가능한 계조는 (M+1)로 된다. 계조수를 증가시키기 위해서는 서브필드의 수를 증가시켜야 하지만, 그 경우, 화면 주사를 고속으로 할 필요가 있다. 그러나, 현실적으로는 구동 소자의 동작 속도에 의해 한계가 있다.

본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 전기 광학 재료로서의 액정의 응답 특성을 개선하여 화질의 향상을 도모할 수 있고, 또한 가중 부여하지 않는, 단순한 필드 분할에 의해 서브필드를 정한 경우에도, 서브필드의 수보다 훨씬 많이 계조 표시할 수 있는 전기 광학 장치의 구동 방법, 그 구동 회로, 전기 광학 장치, 또는 이 전기 광학 장치를 이용한 전자기기를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치의 구동 회로는, 전압 인가에 의해 광의 투과율이 가변인 전기 광학 재료에 의해서 매트릭스 형상으로 각 화소가 구성된 표시부에 대해, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 공급함으로써, 상기 전기 광학 재료의 단위 시간에 있어서의 광의 투과 상태와 비투과 상태의 상태 및 시간비에 따라 계조 표현을 행하는 서브필드 구동을 실행하는 것으로서, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 상기 온 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 상기 온 전압을 인가하는 서브필드와 상기 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 하는 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 각 화소를 구성하는 전기 광학 재료는 전압 인가에 의해서 광의 투과율이 가변이다. 구동 수단은, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 전기 광학 재료에 인가함으로써, 각 화소를 서브필드 구동한다. 구동 수단은, 온 전압을 인가한 경우에 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 온 전압을 인가하는 서브필드와 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행한다. 전기 광학 재료의 포화 응답 시간이 1 서브필드의 시간보다도 길기 때문에, 전기 광학 재료의 투과율은 1 필드 내의 서브필드 수보다도 미세하게 변화시킬 수 있다. 이것에 의해, 1 필드 내의 서브필드 수에 비하여 표현 가능한 계조수를 현저히 증대시키는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 구동 회로는, 전압 인가에 의해서 광의 투과율이 가변인 전기 광학 재료에 의해서 매트릭스 형상으로 각 화소가 구성된 표시부에 대해, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 공급함으로써, 상기 전기 광학 재료의 단위 시간에서의 광의 투과 상태와 비투과 상태의 상태 및 시간비에 따라 계조 표현을 행하는 서브필드 구동을 실행하는 것으로서, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 상기 오프 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화 상태로부터 비투과 상태로 이행할 때까지의 비투과 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 상기 온 전압을 인가하는 서브필드와 상기 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행하는 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 구동 수단은, 오프 전압을 인가한 경우에 전기 광학 재료의 투과율이 포화 상태로부터 비투과 상태로 이행할 때까지의 비투과 응답 시간보다도 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 온 전압을 인가하는 서브필드와 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행한다. 전기 광학 재료의 비투과 응답 시간이 1 서브필드의 시간보다도 길기 때문에, 전기 광학 재료의 투과율은 1 필드 내의 서브필드 수보다도 미세하게 변화시킬 수 있다. 이것에 의해, 1 필드 내의 서브필드 수에 비하여 표현 가능한 계조수를 현저히 증대시키는 것이 가능해진다.

상기 구동 수단은, 상기 필드 기간에서의 상기 전기 광학 재료의 투과 상태의 적분값이 표시 데이터에 대응하도록, 연속 또는 불연속의 서브필드에서 상기 온 전압을 상기 전기 광학 재료에 인가하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 온 전압은, 필드 기간에서의 전기 광학 재료의 투과 상태의 적분값이 표시 데이터에 대응하도록, 연속 또는 불연속의 서브필드에서 전기 광학 재료에 인가된다. 이것에 의해, 다계조에서의 표시가 가능해진다.

또한, 상기 각 필드 내의 복수의 서브필드는 거의 동일한 시간폭으로 설정되는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 구동 회로를 간략화할 수 있고, 또한 액정 등의 일정한 응답 시간을 갖는 전기 광학 재료를 이용한 표시 장치의 서브필드 구동에 적용할 수 있다.

상기 포화 응답 시간은 3 서브필드 기간 이상의 시간인 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 1 서브필드 기간당에서의 전기 광학 재료의 투과율 변화가 비교적 작기 때문에, 보다 다계조에서의 표시가 가능해진다.

상기 비투과 응답 시간은 3 서브필드 기간 이상의 시간인 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 1 서브필드 기간당에서의 전기 광학 재료의 투과율 변화가 비교적 작기 때문에, 보다 다계조에서의 표시가 가능해진다.

상기 온 전압은 상기 필드 기간의 선두측 서브필드 기간에서 집중적으로 상기 전기 광학 재료에 인가하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 필드 기간의 종단에서는 전기 광학 재료를 비투과 상태로 하기 용이하므로, 표시의 응답 특성을 향상시킬 수 있다.

상기 오프 전압은 상기 필드 기간의 종단측 서브필드 기간에서 집중적으로 상기 전기 광학 재료에 인가하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 필드 기간의 종단에서는 전기 광학 재료를 비투과 상태로 하기 용이하므로, 표시의 응답 특성을 향상시킬 수 있다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치의 구동 방법은, 전압 인가에 의해 광의 투과율이 가변인 전기 광학 재료에 의해서 매트릭스 형상으로 각 화소가 구성된 표시부에 대해, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 공급함으로써, 상기 전기 광학 재료의 단위 시간에서의 광의 투과 상태와 비투과 상태의 상태 및 시간비에 따라 계조 표현을 행하는 서브필드 구동을 실행하는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 상기 온 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 상기 온 전압을 인가하는 서브필드와 상기 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 각 화소를 구성하는 전기 광학 재료는 전압 인가에 의해서 광의 투과율이 가변이다. 서브필드 구동에 있어서는, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 전기 광학 재료에 인가함으로써, 각 화소를 구동시킨다. 서브필드의 시간은 온 전압을 인가한 경우에 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 짧게 설정되고, 계조 표현은 온 전압을 인가하는 서브필드와 오프 전압을 인가하는 서브필드를 표시 데이터에 근거하여 결정함으로써 행하여진다. 전기 광학 재료의 포화 응답 시간이 1 서브필드의 시간보다도 길기 때문에, 전기 광학 재료의 투과율은 1 필드 내의 서브필드 수보다도 미세하게 변화시킬 수 있다. 이것에 의해, 1 필드 내의 서브필드 수에 비하여 표현 가능한 계조수를 현저히 증대시키는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 구동 방법은, 전압 인가에 의해 광의 투과율이 가변인 전기 광학 재료에 의해서 매트릭스 형상으로 각 화소가 구성된 표시부에 대해, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 공급함으로써, 상기 전기 광학 재료의 단위 시간에서의 광의 투과 상태와 비투과 상태의 상태 및 시간비에 따라 계조 표현을 행하는 서브필드 구동을 실행하는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 상기 오프 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화 상태로부터 비투과 상태로 이행할 때까지의 비투과 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 상기 온 전압을 인가하는 서브필드와 상기 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 서브필드의 시간은 오프 전압을 인가한 경우에 전기 광학 재료의 투과율이 포화 상태로부터 비투과 상태로 이행할 때까지의 비투과 응답 시간보다도 짧게 설정되고, 계조 표현은 온 전압을 인가하는 서브필드와 오프 전압을 인가하는 서브필드를 표시 데이터에 근거하여 결정함으로써 행하여진다. 전기 광학 재료의 비투과 응답 시간이 1 서브필드의 시간보다도 길기 때문에, 전기 광학 재료의 투과율은 1 필드 내의 서브필드 수보다도 미세하게 변화시킬 수 있다. 이것에 의해, 1 필드 내의 서브필드 수에 비하여 표현 가능한 계조수를 현저히 증대시키는 것이 가능해진다.

상기 계조 표현은, 상기 필드 기간에서의 상기 전기 광학 재료의 투과 상태의 적분값이 표시 데이터에 대응하도록, 연속 또는 불연속의 서브필드에서 상기 온 전압을 상기 전기 광학 재료에 인가하는 것에 의해 행하여지는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 온 전압은, 필드 기간에서의 전기 광학 재료의 투과 상태의 적분값이 표시 데이터에 대응하도록, 연속 또는 불연속의 서브필드에서 전기 광학 재료에 인가된다. 이것에 의해, 다계조에서의 표시가 가능해진다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치의 구동 방법은, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를 표시 데이터에 따라 서브필드마다 온 전압 또는 오프 전압에 의해 제어하여 구동시킴으로써 필드 내에서 상기 복수의 화소 각각에 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 상기 온 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 온 전압을 인가하는 서브필드와 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 서브필드의 시간은 온 전압을 인가한 경우에 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 짧게 설정된다.

이것에 의해, 1 서브필드 기간에서의 전기 광학 재료의 투과율 변화는 작고, 다계조에서의 표시가 가능해진다.

본 발명에 따른 전기 광학 장치는, 상기 전기 광학 장치의 구동 회로를 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 서브필드 구동에 있어서 투과율을 미세하게 제어할 수 있고, 다계조 표시가 가능하다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치는, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료와, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소를 갖고, 투과율을 포화시키는 것이 가능한 온 전압 또는 비투과 상태로 되게 하는 것이 가능한 오프 전압을 공급함으로써, 상기 전기 광학 재료의 단위 시간에서의 광의 투과 상태와 비투과 상태의 상태 및 시간비에 따라 계조 표현을 행하는 서브필드 구동을 실행하는 것으로서, 필드 기간을 시간축상에서 복수개로 분할한 각 서브필드를 제어 단위로 하여, 상기 온 전압을 인가한 경우에 상기 전기 광학 재료의 투과율이 포화될 때까지의 포화 응답 시간보다도 상기 서브필드의 시간을 짧게 설정하고, 표시 데이터에 근거하여 상기 온 전압을 인가하는 서브필드와 상기 오프 전압을 인가하는 서브필드를 결정해서 계조 표현을 행하는 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 화소는 화소 전극, 스위칭 소자, 전기 광학 재료 및 대향 전극을 갖고 있고, 예컨대 액정 장치에 적용할 수 있어, 다계조 표시가 가능하다.

본 발명에 따른 전자기기는 상기 전기 광학 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 전자기기이다.

이러한 구성에 따르면, 다계조 표시가 가능하다.

또한, 본 발명은, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식을 이용하여 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 제어하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 따르면, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차에 대응하여 배치되는, 화소 전극과, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하여, 복수의 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되어, 복수의 화소 각각에 투과 상태로 하는 펄스 신호를 필드에서의 전반에 집중시키도록 제어된다.

이것에 의해, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 목표 투과율에 도달할 때까지의 시간이 단축될 수 있고, 고속 응답화가 도모되며, 그 결과, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명은, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식으로 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에서 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 액정과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소가, 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동시켜 상기 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 상기 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되고, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭이 변경된다.

이것에 의해, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향으로 신속하게 소망하는 계조로 되도록, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 응답성을 개선할 수 있고, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명은, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를, 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식으로 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 상기 필드의 적어도 최후의 서브필드에는 비투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 출력시키는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 액정과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소가, 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동시켜 상기 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 상기 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되고, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 상기 필드의 적어도 최후의 서브필드에는 비투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 출력시킨다.

이것에 의해, 다음 필드를 표시하기 전에, 짧은 시간의 흑 표시를 삽입할 수 있어, 각각의 필드가 연속적이지 않아, 간헐적으로 표시되게 되기 때문에 동화상 인식성이 향상된다.

또한, 본 발명은, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를, 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식을 이용하여 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서, 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도에 따라 각 필드에서 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 액정과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소가, 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되어 상기 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 상기 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되며, 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도에 따라 각 필드에서 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하도록 제어된다. 이것에 의해, 전기 광학 재료로서의 액정이 액정 자체 또는 액정의 주위 온도에 의해 응답 속도가 변화되더라도, 계조 특성이 일정하게 되도록 할 수 있고, 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명은, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료와, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소를 갖고, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 상기 화소를 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식을 이용하여 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 회로로서, 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태에 시키는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 제어하는 제어 수단을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 일 형태에 있어서는, 상기 제어 수단은, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 액정과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소가, 계조 데이터에 따라서 상기 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되어 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되며, 제어 수단에 의해 복수의 화소 각각을 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 필드에서의 전반에 집중시키도록 제어된다.

이것에 의해, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 목표 투과율에 도달할 때까지의 시간이 단축될 수 있어, 고속 응답화가 도모되며, 그 결과, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 상기 제어 수단은, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하도록 제어한다.

이것에 의해, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향으로 신속하게 소망하는 계조로 되도록, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 응답성을 개선할 수 있고, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명의 다른 일 형태에 있어서는, 상기 제어 수단은 상기 필드의 적어도 최후의 서브필드에는 비투과 상태로 되게 펄스 신호를 출력시키는 것을 특징으로 한다.

이것에 의해, 다음 필드를 표시하기 전에 짧은 시간의 흑 표시를 삽입할 수 있고, 각각의 필드가 연속적이지 않아, 간헐적으로 표시되게 되기 때문에 동화상인식성이 향상된다.

또한, 본 발명은, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료와, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소를 갖고, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 상기 화소를 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동함으로써 필드 내에서 서브필드 구동 방식을 이용하여 상기 복수의 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 회로로서, 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도를 검출하는 온도 검출 수단과, 각 필드에서 계조에 따라 미리 정해진 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 상기 온도 검출 수단의 검출 출력에 근거하여 변경하도록 보정하는 펄스폭 보정 수단을 더 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 액정과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소가, 계조 데이터에 따라서 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동되어 상기 화소 각각을 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 것에 의해 상기 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 각 화소가 각 서브필드에서 계조 데이터에 따라서 온 전압 또는 오프 전압에 의해 구동된다. 또한, 온도 검출 수단에 의해 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도가 검출되고, 해당 온도 검출 수단의 검출 출력에 근거하여 제어 수단에 의해 각 필드에서 계조에 따라 미리 정해진 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭이 변경된다.

이것에 의해, 전기 광학 재료로서의 액정이, 액정 자체 또는 액정의 주위 온도에 의해 응답 속도가 변화되더라도, 계조 특성이 일정하게 되도록 할 수 있고, 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치는, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료 및 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극을 갖는 화소와, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드 각각에서 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호를 상기 각 주사선에 공급하는 주사선 구동 회로와, 계조 데이터에 근거하여 온 전압 또는 오프 전압을 지시함으로써 각 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 2진 신호를, 각각 해당 화소에 대응하는 주사선에 상기 주사 신호가 공급되는 기간에, 해당 화소에 대응하는 데이터선에 공급하는 데이터선 구동 회로와, 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 데이터선 구동 회로를 제어하는 제어 수단을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 일 형태에 있어서는, 상기 제어 수단은, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드 각각에서 주사선 구동 회로에 의해 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호가 상기 각 주사선에 공급되고, 계조 데이터에 근거하여 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압을 지시함으로써 각 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 2진 신호가, 각각 해당 화소에 대응하는 주사선에 상기 주사 신호가 공급되는 기간에, 데이터선 구동 회로에 의해 해당 화소에 대응하는 데이터선에 공급되어, 상기 각 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 제어 수단에 의해 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 데이터선 구동 회로가 제어된다.

이것에 의해, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 목표 투과율에 도달할 때까지의 시간을 단축할 수 있어, 고속 응답화가 도모해고, 그 결과, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 상기 제어 수단은, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하도록 제어한다.

이것에 의해, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향으로 신속하게 소망하는 계조로 되도록, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 응답성을 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 상기 제어 수단은 상기 필드의 적어도 최후의 서브필드에는 비투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 출력시키는 것을 특징으로 한다.

이것에 의해, 다음 필드를 표시하기 전에, 짧은 시간의 흑 표시를 삽입할 수 있고, 각각의 필드가 연속적이지 않아, 간헐적으로 표시되게 되기 때문에 동화상인식성이 향상된다.

또한, 본 발명에 따른 전기 광학 장치는, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료 및 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극을 갖는 화소와, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드의 각각에서 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호를 상기 각 주사선에 공급하는 주사선 구동 회로와, 계조 데이터에 근거하여 온 전압 또는 오프 전압을 지시함으로써 각 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 2진 신호를, 각각 해당 화소에 대응하는 주사선에 상기 주사 신호가 공급되는 기간에, 해당 화소에 대응하는 데이터선에 공급하는 데이터선 구동 회로와, 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 데이터선 구동 회로를 제어하는 제어 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치로서, 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도를 검출하는 온도 검출 수단과, 각 필드에서 계조에 따라 미리 정해진 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭을 상기 온도 검출 수단의 검출 출력에 근거하여 변경하도록 보정하는 펄스폭 보정 수단을 더 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드의 각각에서 주사선 구동 회로에 의해 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호가 상기 각 주사선에 공급되어, 계조 데이터에 근거하여 각 서브필드에서 각 화소의 온 전압 또는 오프 전압을 지시함으로써 각 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 하는 2진 신호가, 각각 해당 화소에 대응하는 주사선에 상기 주사 신호가 공급되는 기간에, 데이터선 구동 회로에 의해 해당 화소에 대응하는 데이터선에 공급되어, 상기 각 화소가 계조 표시된다. 이 경우에 있어서, 제어 수단에 의해 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 데이터선 구동 회로가 제어된다.

또한, 온도 검출 수단에 의해 상기 전기 광학 재료 자체 또는 해당 전기 광학 재료의 주위 온도가 검출되고, 해당 온도 검출 수단의 검출 출력에 근거하여 펄스폭 보정 수단에 의해 각 필드에서 계조에 따라 미리 정해진 상기 투과 상태로 되게 하는 펄스 신호의 펄스폭이 변경된다.

이것에 의해, 전기 광학 재료로서의 액정이, 액정 자체 또는 액정의 주위 온도에 의해 응답 속도가 변화되더라도, 계조 특성이 일정하게 되도록 할 수 있고, 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

본 발명에 따른 전자기기에서는 상기 전기 광학 장치를 갖기 때문에, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 목표 투과율에 도달할 때까지의 시간을 단축할 수 있고, 고속 응답화가 도모되며, 그 결과, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명에 따른 전자기기에서는 상기 전기 광학 장치를 갖기 때문에, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향으로 신속하게 소망하는 계조로 되도록, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 응답성을 개선할 수 있고, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명에 따른 전자기기에서는 상기 전기 광학 장치를 갖기 때문에, 다음 필드를 표시하기 전에, 짧은 시간의 흑 표시를 삽입할 수 있고, 각각의 필드가 연속적이지 않아, 간헐적으로 표시되게 되기 때문에 동화상 인식성이 향상된다.

또한, 본 발명에 따른 전자기기에서는 상기 전기 광학 장치를 갖기 때문에, 전기 광학 재료로서의 액정이, 액정 자체 또는 액정의 주위 온도에 의해 응답 속도가 변화되더라도, 계조 특성이 일정하게 되도록 할 수 있고, 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 발명은 상기의 목적을 달성하기 위해서 이루어진 것으로, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료를 구비하는 복수의 화소를 표시 데이터에 따라서 화소를 투과 상태로 하는 서브필드를 온 전압 또는 오프 전압에 의해 제어하여, 그것에 의해 필드 내에서 서브필드 구동 방식에 의해 상기 복수의 화소 각각에 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법에 있어서, 표시 데이터에 근거하여 필드의 전반에 연속적으로 배치되어 있는 투과 상태로 하는 서브필드 중, 표시 데이터에 의해서 정해진 규칙에 따라서 일부의 서브필드를 비투과 상태로 하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은, 표시 데이터에 근거하여 필드의 전반에 연속적으로 배치되어 있는 투과 상태로 하는 서브필드 중, 투과 상태 개시의 서브필드를 제외한 투과 상태 개시 근방의 서브필드를 상기 표시 데이터에 의해서 정해지는 규칙에 따라서 비투과 상태로 하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은, 표시 데이터에 근거하여 필드의 전반에 연속적으로 배치되어 있는 투과 상태로 하는 서브필드 중, 투과 상태 종료의 서브필드를 제외한 투과 상태 종료 근방의 서브필드를 상기 표시 데이터에 의해서 정해지는 규칙에 따라서 비투과 상태로 하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극과, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자와, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료와, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극으로 이루어지는 화소를 갖고, 각 서브필드 중 상기 투과 상태로 하기 위한 서브필드를 온 전압 또는 오프 전압에 의해 제어하고, 그것에 의해 필드 내에서 서브필드 구동 방식에 의해 상기 복수의 화소 각각에 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 회로로서, 표시 데이터에 따라서 연속적으로 배치되어 있는 투과 상태로 하는 서브필드 중, 표시 데이터에 근거하여 일부의 서브필드를 비투과 상태로 하도록 제어하는 제어 수단을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료 및 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극을 갖는 화소와, 각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드 각각에서 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호를 상기 각 주사선에 공급하는 주사선 구동 회로와, 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 하는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시켜, 연속적으로 배치되어 있는 투과 상태로 하는 펄스 신호 중, 표시 데이터에 따라서 일부의 펄스 신호를 비투과 상태로 하도록 데이터선 구동 회로를 제어하는 제어 수단을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은 상기 전기 광학 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 전자기기이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명한다.

(실시예 1)

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 전기 광학 장치를 도시한 블럭도이다. 도 2는 도 1의 화소의 구체적인 구성을 도시한 설명도이다.

본 실시예에 따른 전기 광학 장치는, 예컨대 전기 광학 재료로서 액정을 이용한 액정 장치로서, 후술하는 바와 같이 소자 기판과 대향 기판이 서로 일정한 간격을 유지하여 부착되고, 이 간극에 전기 광학 재료인 액정이 삽입되는 구성으로 되어 있다. 또, 여기서는, 전기 광학 장치의 표시 모드는 노멀리 블랙이며, 화소에 전압이 인가된 상태에서 백 표시(온 상태), 전압이 인가되지 않는 상태에서 흑 표시(오프 상태)를 실행하는 것으로 하여 설명한다.

본 실시예에 따른 전기 광학 장치에서는, 소자 기판으로서 유리 기판 등의 투명 기판이 이용되고, 여기에 화소를 구동하는 트랜지스터와 함께 주변 구동 회로 등을 형성한 것이다. 한편, 소자 기판 상에서의 표시 영역(101a)에는, 복수개의 주사선(112)이 도면에서 X(행) 방향으로 연장되어 형성되고, 또한 복수개의 데이터선(114)이 Y(열) 방향을 따라 연장되어 형성되어 있다. 그리고, 화소(110)는 주사선(112)과 데이터선(114)의 각 교차에 대응하여 마련되고, 매트릭스 형상으로 배열되어 있다.

여기서, 설명의 편의상, 본 실시예에서는, 주사선(112)의 총 개수를 m개로 하고, 데이터선(114)의 총 개수를 n개로 하여(m, n은 각각 2 이상의 정수), m행 ×n열의 매트릭스형 표시 장치로서 설명하지만, 본 발명을 이것에 한정하는 취지가 아니다.

(화소의 구성)

화소(110)의 구체적인 구성으로서는, 예컨대 도 2의 (a)에 나타낸 것을 들 수 있다. 이 구성에서는, 스위칭 수단으로서의 트랜지스터(TFT : 박막 트랜지스터)(116)의 게이트가 주사선(112)에, 소스가 데이터선(114)에, 드레인이 화소 전극(118)에 각각 접속되고, 또한 화소 전극(118)과 대향 전극(108) 사이에 전기 광학 재료인 액정(105)이 삽입되어 액정층이 형성되어 있다. 여기서, 대향 전극(108)은, 후술하는 바와 같이, 실제로는 화소 전극(118)과 대향하도록 대향 기판의 전면(全面)에 형성되는 투명 전극이다.

또, 대향 전극(108)에는 대향 전극 전압 VLCCOM이 인가되도록 되어 있다. 또한, 화소 전극(118)과 대향 전극(108) 사이에서는 축적 용량(119)이 형성되어, 액정층을 삽입하는 전극과 함께 전하를 축적한다. 또, 도 2의 (a)의 예에서는 축적 용량(119)을 화소 전극(118)과 대향 전극(108) 사이에 형성했지만, 화소 전극(118)과 접지 전위 GND 사이나 화소 전극(118)과 게이트선 사이 등에 형성하더라도 무방하다.

도 2의 (a)에 도시한 구성에서는, 트랜지스터(116)로서 한쪽의 채널형만이 이용되고 있기 때문에, 트랜지스터 특성 등에 기인하는 정부(正負) 전압의 극성차를 없애기 위해서 오프셋 전압을 필요로 하지만, 도 2의 (b)에 도시하는 바와 같이, P 채널형 트랜지스터와 N 채널형 트랜지스터를 상보적으로 조합한 구성으로 하면, 오프셋 전압을 이용하지 않더라도 극성차의 영향을 작게 할 수 있다. 단, 이 상보형 구성에서는 주사 신호로서 서로 배타적 레벨의 신호를 공급할 필요가 발생하기 때문에, 1행의 화소(110)에 대하여 주사선(112a, 112b) 2개가 필요해진다.

각 주사선(112)에는 후술하는 주사선 구동 회로(130)로부터 각기 주사 신호 G1, G2, …, Gm이 공급된다. 각 주사 신호에 의해서, 각 라인의 화소를 구성하는 트랜지스터(116)가 도통 상태로 되고, 이것에 의해, 후술하는 데이터선 구동 회로(140)로부터 각 데이터선(114)에 공급된 화상 신호가 화소 전극(118)으로 공급된다. 기입된 화소 전극(9a)과 대향 전극(21)의 전위차에 따라 액정(105)의 분자 집합의 배향 상태가 변화하여, 광의 변조가 행하여져, 계조 표시가 가능해진다.

본 실시예에 있어서는, 액정(105)의 구동 방법으로서 서브필드 구동을 채용한다. 아날로그 구동에 있어서 중간조를 표시할 때에는, 액정의 투과율을 포화시키는 구동 전압(이하, 액정 포화 전압이라 함) 이하의 전압으로 액정(105)을 구동시킨다. 따라서, 액정(105)의 투과율은 구동 전압에 거의 비례하여, 구동 전압에 비례한 밝은 화면이 얻어진다.

이것에 반하여, 서브필드 구동은 액정이 투과 상태로 되는 구동 전압과, 비투과 상태로 되는 구동 전압의 2개의 구동 전압만을 사용하여, 서브필드마다의 구동 전압의 조합 방법에 의해 액정의 투과율을 제어한다. 또, 후술하는 도 8에 도시하는 바와 같이, 실제로는, 화면의 밝기는 투과율의 적분값에 비례하지만, 설명을 간략화하기 위해서, 본 실시예에 있어서는, 화면의 밝기는 구동 전압의 인가 시간에 비례하는 것으로 하여 설명한다.

본 실시예에 있어서는, 1 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할한다. 예컨대, 도 6의 (a)에 나타내는 바와 같이, 1 필드 기간 1f를 거의 균등하게 복수의 서브필드 기간 Sf1∼Sf255로 분할하고, 각 서브필드 기간마다 액정의 구동을 제어하도록 되어 있다. 도 6에서는 분할수가 255인 예를 나타내고 있지만, 1 필드 기간 1f를 복수의 서브필드 기간 Sf1∼Sfn으로 분할하면 된다.

또, 도 6의 예는, 예컨대 각 화소에 대하여 표시해야 할 계조를 나타내는 계조 데이터를 8 비트로 표현하고, 표시할 수 있는 계조수를 256 계조로 한 경우에 적용한 것이며, 1 필드 기간을 255개의 서브필드 기간 Sf1∼Sf255로 분할한 예이다.

계조 표시를 행하는 경우에는, 지정된 계조 데이터에 근거하여 각 서브필드 기간 Sf1∼Sf255마다 각 화소를 온 상태 또는 오프 상태로 되도록 구동 제어한다.

본 실시예에 있어서는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 각 필드에서, 필드 기간의 개시로부터 계조에 대응한 수만큼 서브필드 기간을 온 상태로 하도록 되어 있다.

즉, 액정을 구동하기 위한 구동 신호로서, 1 서브필드 기간 Ts에 상당하는 펄스폭을 갖는 펄스 신호(화소 데이터)를 이용한다. 그리고, 표시해야 할 밝기가 256 계조분의 N의 밝기인 것으로 하면, 펄스 신호를 N 서브필드분의 시간, 즉 (Ts ×N)만큼 출력하도록 제어한다. 바꾸어 말하면, 서브필드 기간 Ts에 상당하는 펄스폭을 갖는 펄스 신호(구동 신호)가 필드의 개시 시점으로부터 N개만큼 연속적으로 출력되도록 제어하면 된다. 255개의 각 서브필드마다 모든 화소에 대하여 펄스 신호(화소 데이터)의 기입이 행하여진다. 또, 펄스 신호는 H(온 신호) 또는 L(오프 신호)의 2진 신호이다.

다음에, 전기 광학 장치의 전기적 구성에 대하여 설명한다. 도 1에 있어서, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치는 주사선 구동 회로(130)와, 데이터선 구동 회로(140)와, 클럭 발생 회로(150)와, 타이밍 신호 생성 회로(200)와, 데이터 변환 회로(300)와, 구동 전압 생성 회로(400)를 갖고 있다.

클럭 발생 회로(150)는 각 부의 제어 동작의 기준으로 되는 클럭 신호 CLK를 발생하여 타이밍 신호 생성 회로(200)에 출력한다. 타이밍 신호 생성 회로(200)는 도시하지 않은 상위 장치로부터 공급되는 수직 주사 신호 Vs, 수평 주사 신호 Hs, 도트 클럭 신호 DCLK 및 클럭 CLK에 따라서, 다음에 설명하는 각종 타이밍 신호나 클럭 신호 등을 생성하는 회로이다.

타이밍 신호 생성 회로(200)는 교류화 신호 FR, 개시 펄스 DY, 주사측 전송 클럭 CLY, 데이터 인에이블 신호 ENBX 및 데이터 전송 클럭 CLX를 생성한다. 교류화 신호 FR는 1 필드마다 데이터 기입 극성을 반전시키기 위한 신호이다. 개시 펄스 DY는 각 서브필드의 개시 타이밍에서 출력되는 펄스 신호이다. 주사측 전송 클럭 CLY는 주사측(Y측)의 수평 주사를 규정하는 신호이다. 데이터 인에이블 신호 ENBX는 데이터선 구동 회로로 데이터 전송을 개시하고, 주사선마다 데이터를 화소로 출력하는 타이밍을 결정하는 펄스 신호로서, 주사측 전송 클럭 CLY의 레벨 천이(즉, 상승 및 하강)에 동기하여 출력된다. 데이터 전송 클럭 CLX는 데이터선 구동 회로로 데이터를 전송하는 타이밍을 규정하는 신호이다.

구동 전압 생성 회로(400)는, 주사 신호를 생성하는 전압 V2를 생성하여 주사선 구동 회로(130)에 인가하고, 데이터선 구동 신호를 생성하는 전압 V1, -V1, V0을 생성하여 데이터선 구동 회로(140)에 인가해서, 대향 전극 전압 VLCCOM을 생성하여 대향 전극(108)에 인가한다.

전압 V1은 교류화 구동 신호 FR이 로우 레벨(이하, L 레벨이라 함)일 때에 액정층에 전압 V0을 기준으로 하여 정(正) 극성의 하이 레벨 신호로서 출력되는 데이터선 구동 신호의 전압이고, 전압 -V1은 교류화 구동 신호 FR이 하이 레벨(이하, H 레벨이라 함)일 때에 액정층에 전압 V0을 기준으로 하여 부(負) 극성의 하이 레벨 신호로서 출력되는 데이터선 구동 신호의 전압이다.

(개시 펄스 생성 회로)

상술한 바와 같이, 본 실시예에 있어서는, 1 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드 Sf1∼Sf255로 분할하고, 계조 데이터에 따라 각 서브필드 Sf1∼Sf255마다 2진 전압을 액정층에 인가하도록 하고 있다. 각 서브필드의 전환은 개시 펄스 DY에 의해서 제어된다. 이 개시 펄스 DY는 타이밍 신호 생성 회로(200)의 내부에서 생성된다.

도 3은 타이밍 신호 생성 회로(200)에 내장되어 개시 펄스 DY를 생성하는 개시 펄스 생성 회로의 구체적인 구성을 나타내는 회로도이다.

도 3에 도시하는 바와 같이, 개시 펄스 생성 회로(210)는 카운터(211), 비교기(212), 멀티플렉서(213), 링 카운터(214), D 플립플롭(215) 및 OR 회로(216)에 의해서 구성되어 있다.

카운터(211)는 클럭 CLK을 카운트하지만, OR 회로(216)의 출력 신호에 의해서 카운트값이 리세트되도록 되어 있다. 또한, OR 회로(216)의 한쪽 입력 단자에는, 필드의 개시에서, 클럭 CLK의 1주기 기간만큼 H 레벨로 되는 리세트 신호 RSET가 공급되도록 되어 있다. 따라서, 카운터(211)는, 적어도 필드의 개시 시점에서, 카운트값이 리세트되도록 되어 있다.

비교기(212)는 카운터(211)의 카운트값과 멀티플렉서(213)의 출력 데이터값을 비교하여, 양자가 일치하는 때에 H 레벨로 되는 일치 신호를 출력한다. 멀티플렉서(213)는 개시 펄스 DY의 수를 카운트하는 링 카운터(214)의 카운트 결과에 근거하여 데이터 Ds1, Ds2, …, Ds255를 선택 출력한다. 여기서, 데이터 Ds1, Ds2, …, Ds255는 도 6에 나타내는 각 서브필드 기간 Sf0, Sf2, Sf2, …, Sf255에 각각 대응하는 것이다.

또한, 액정 표시 장치의 온도 또는 액정 표시 장치 주변의 온도를 온도 센서에 의해 검출하고, 검출 온도에 근거하여 액정의 온도 특성에 맞추어 데이터 Ds1, Ds2, …, Ds255의 값을 가변하도록 하더라도 된다. 또, 이와 같이, 서브필드 Sf1(1=1∼255)의 길이를 액정의 온도 특성에 맞추어 가변시키면, 환경 온도의 변화에 추종하여 액정에 인가하는 전압의 실효값을 변화시킬 수 있기 때문에, 온도가 변화되더라도 표시의 계조나 콘트라스트비를 일정하게 유지할 수 있다.

또한, 비교기(212)는 카운터의 카운트값이 서브필드의 구획을 나타내는 멀티플렉서로부터의 출력 신호와 일치하면 일치 신호를 출력하게 된다. 이 일치 신호는 OR 회로(216)를 거쳐서 카운터(211)의 리세트 단자에 피드백되므로, 카운터(211)는 서브필드의 구획으로부터 다시 카운트를 개시하게 된다. 또한, D 플립플롭(215)은 OR 회로(216)의 출력 신호를 주사측 전송 클럭 CLY에 동기시켜 개시 펄스 DY를 생성한다.

(주사선 구동 회로)

주사선 구동 회로(130)는 서브필드의 최초에 공급되는 개시 펄스 DY를 클럭 신호 CLY에 따라서 전송하여, 주사선(112) 각각에 순차적으로 주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm으로서 배타적으로 공급하는 것이다.

(데이터선 구동 회로)

데이터선 구동 회로(140)는, 임의의 수평 주사 기간에서 2진 신호 Ds를 데이터선(114)의 개수에 상당하는 n개 순차적으로 래치한 후, 래치한 n개의 2진 신호 Ds를 다음 수평 주사 기간에서 각각 대응하는 데이터선(114)에 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 일제히 공급하는 것이다.

도 4는 도 1중의 데이터선 구동 회로(140)의 구체적인 구성을 나타내는 블럭도이다. 도 4에 도시하는 바와 같이, 데이터선 구동 회로(140)는 X 시프트 레지스터(1410)와, 제 1 래치 회로(1420)와, 제 2 래치 회로(1430)와, 전압 선택 회로(1440)로 구성되어 있다.

X 시프트 레지스터(1410)는 수평 주사 기간의 최초에 공급되는 데이터 인에이블 신호 ENBX를 클럭 신호 CLX에 따라 전송하여 순차적으로 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn으로서 배타적으로 공급하는 것이다. 다음에, 제 1 래치 회로(1420)는 2진 신호 Ds를 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn의 하강에서 순차적으로 래치하는 것이다. 그리고, 제 2 래치 회로(1430)는 제 1 래치 회로(1420)에 의해 래치된 2진 신호 Ds 각각을 데이터 인에이블 신호 ENBX에 의해 일제히 래치하고, 또한 전압 선택 회로(1440)를 거쳐서 데이터선(114) 각각에 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 공급하는 것이다.

전압 선택 회로(1440)는 교류화 신호 FR의 레벨에 따라 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn에 대응하는 전압을 선택한다. 예컨대, 교류화 신호 FR이 H 레벨인 경우에 있어서 임의의 화소를 온 상태로 하는 데이터 신호가 출력되는 경우에는 전압 -V1이 선택되고, 오프 상태로 하는 데이터 신호가 출력되는 경우에는 전압 V0이 선택된다. 또한, 교류화 신호 FR이 L 레벨인 경우에 있어서 임의의 화소를 온 상태로 하는 데이터 신호가 출력되는 경우에는 전압 V1이 선택되고, 오프 상태로 하는 데이터 신호가 출력되는 경우에는 전압 V0이 선택된다.

(데이터 변환 회로)

상술한 바와 같이, 서브필드 구동에서는 각 화소의 표시해야 할 밝기에 따라서 서브필드 기간 Sf1∼Sf255마다 각 화소를 온 상태 또는 오프 상태로 한다. 각 화소의 표시해야 할 밝기 데이터(이하, 계조 데이터라 함)를, 각 서브필드 기간마다 화소를 온 상태 또는 오프 상태로 하기 위한 H 레벨 또는 L 레벨의 2진 신호 Ds로 변환할 필요가 있다.

도 1에서의 데이터 변환 회로(300)는 이를 위해 마련된 것으로, 제어 수단에 상당한다. 데이터 변환 회로(300)는 수직 주사 신호 Vs, 수평 주사 신호 Hs 및 도트 클럭 신호 DCLK에 동기하여 동작하여 화소마다 대응하는 8 비트의 계조 데이터 D0∼D7을 필드 메모리에 기입하고, 개시 펄스 DY에 동기하여 필드 메모리로부터 데이터를 판독해서, 판독한 8 비트의 계조 데이터 D0∼D7을 서브필드 Sf1∼Sf255의 각 서브필드마다 2진 신호 Ds로 변환하여, 이 2진 신호 Ds를 각 화소에 공급하는 구성으로 되어 있다.

데이터 변환 회로(300)에서는, 1 필드에 있어서, 현재 어느 서브필드에서의 기입을 행하고 있는지를 인식하는 구성이 필요하게 된다. 이 구성에 대해서는, 예컨대 다음과 같은 방법으로 인식할 수 있다. 즉, 본 실시예에서는 교류화 구동을 위해 1 필드마다 반전하는 교류화 신호 FR을 생성하고 있기 때문에, 데이터 변환 회로(300) 내부에, 개시 펄스 DY를 계수하고, 또한 해당 카운트 결과를 교류화 신호 FR의 레벨 천이(상승 및 하강)에 의해 리세트하는 카운터를 마련하여, 해당 카운트 결과를 참조함으로써, 현재 기입을 행하고 있는 서브필드를 인식할 수 있다.

본 실시예에 있어서는, 데이터 변환 회로(300)는 각 화소에 대하여 8 비트의 계조 데이터 D0∼D7에서 지정된 계조(밝기)를 실현하는데 필드 기간의 전반(前半)에 각 서브필드 기간에 상당하는 펄스폭의 온 전압으로 되는 펄스 신호를 계조수만큼 집중시키도록 출력하는 구성으로 되어 있다.

또한, 데이터 변환 회로(300)에서의 필드 메모리는 2 필드분 마련되어 있으며, 제 1 필드 메모리는 입력되는 계조 데이터(화상 데이터)가 기입되는 메모리이고, 제 2 메모리는 1 필드 전에 제 1 필드 메모리에 기입되어 있던 각 화소의 계조 데이터가 저장되는 메모리로서, 제 1 필드 메모리에 계조 데이터가 기입되어 있는 동안에 제 2 필드 메모리로부터 각 화소에 대하여 계조 데이터가 판독되도록 되어 있다.

또한, 데이터 변환 회로(300)에는 액정 자체 또는 액정 주변의 온도를 검출하는 온도 센서의 검출 출력이 입력되도록 되어 있다. 도시하지 않은 온도 센서는 온도 검출 수단에 상당하고, 데이터 변환 회로(300)는 펄스폭 보정 수단에 상당한다.

데이터 변환 회로(300)는 온도 센서의 검출 출력에 근거하여 개시 펄스 생성 회로(210) 내의 멀티플렉서(213)에 입력되는 데이터 Ds1, Ds2, …, Ds255의 값을 변경하도록 보정하기 위한 제어 신호 SC를 발생시켜 타이밍 신호 생성 회로(200)에 출력하도록 되어 있다. 타이밍 신호 생성 회로(200)는 제어 신호 SC에 의해서 개시 펄스 DY의 출력 타이밍을 변경하여, 각 서브필드 Sf1∼Sf255의 기간을 액정의 응답 속도의 변화에 대응하여 변경할 수 있도록 되어 있다.

또, 상기 2진 신호 Ds에 대해서는, 주사선 구동 회로(130) 및 데이터선 구동 회로(140)에서의 동작에 동기하여 출력할 필요가 있기 때문에, 데이터 변환 회로(300)에는 개시 펄스 DY와, 수평 주사에 동기하는 주사측 전송 클럭 CLY와, 데이터선 구동 회로에 데이터의 전송을 개시하는 타이밍을 규정하는 데이터 인에이블 신호 ENBX와, 데이터 전송 클럭 CLX가 공급되어 있다.

또한, 상술한 바와 같이, 데이터선 구동 회로(140)에서는, 임의의 수평 주사 기간에서 제 1 래치 회로(1420)가 점 순차적으로 2진 신호를 래치한 후, 다음 수평 주사 기간에서 제 2 래치 회로(1430)로부터 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 일제히 각 데이터선(114)에 공급되는 구성으로 되어 있기 때문에, 데이터 변환 회로(300)는 주사선 구동 회로(130) 및 데이터선 구동 회로(140)에서의 동작과 비교하여 1 수평 주사 기간만큼 선행하는 타이밍에서 2진 신호 Ds를 출력하는 구성으로 되어 있다.

(동작)

다음에, 상술한 실시예에 따른 전기 광학 장치의 동작에 대하여 설명한다. 도 5는 이 전기 광학 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍차트이다.

교류화 신호 FR은 1 필드 기간 1f마다 레벨 반전하는 신호이다. 개시 펄스 DY는 각 서브필드 Sf1∼Sf255의 개시시에 발생한다. 교류화 신호 FR이 L 레벨로 되는 필드 기간 1f에 있어서, 개시 펄스 DY가 공급되면, 주사선 구동 회로(130)(도 1 참조)에서의 클럭 신호 CLY에 따른 전송에 의해서 순차적으로 주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm이 기간 t에 배타적으로 출력된다. 또, 본 실시예에서는, 기본적으로는 1 필드를 255 등분하고, 각 서브필드는 동등한 시간폭으로 되어 있지만, 액정 자체 또는 액정 주위의 온도 변화에 따라 각 서브필드 기간을 변경하는 경우도 있다. 그래서, 기간 t는 가장 짧은 서브필드 기간보다도 더 짧은 기간으로 설정한다.

주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm은 각각 클럭 신호 CLY의 반주기에 상당하는 펄스폭을 갖고, 또한 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)에 대응하는 주사 신호 G1은 개시 펄스 DY가 공급된 후에, 클럭 신호 CLY가 최초에 상승하고 나서, 적어도 클럭 신호 CLY의 반주기만큼 지연하여 출력된다. 따라서, 개시 펄스 DY가 공급되고 나서 주사 신호 G1이 출력될 때까지, 데이터 인에이블 신호 ENBX의 1 클럭 G0이 데이터선 구동 회로(140)에 공급되게 된다.

현재, 이 데이터 인에이블 신호 ENBX의 1 클럭 G0이 공급된 것으로 한다. 이 데이터 인에이블 신호 ENBX의 1 클럭 G0이 데이터선 구동 회로(140)에 공급되면, 데이터선 구동 회로(140)(도 4 참조)에 있어서의 클럭 신호 CLX에 따른 전송에 의해서 순차적으로 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn이 수평 주사 기간 1H에 배타적으로 출력된다. 또, 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn은 각각 클럭 신호 CLX의 반주기에 상당하는 펄스폭을 갖고 있다.

이 때, 도 4에서의 제 1 래치 회로(1420)는, 래치 신호 S1의 하강에 있어서, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 1개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2진 신호 Ds를 래치하고, 다음에, 래치 신호 S2의 하강에 있어서, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 2개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2값 신호 Ds를 래치하며, 이하 마찬가지로, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 n개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2진 신호 Ds를 래치한다.

이것에 의해, 우선 도 1에서 위로부터 1개째의 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소 1행분의 2진 신호 Ds가 제 1 래치 회로(1420)에 의해 점 순차적으로 래치되게 된다. 또, 데이터 변환 회로(300)는 제 1 래치 회로(1420)에 의한 래치의 타이밍에 맞추어, 각 화소의 계조 데이터 D0∼D7로부터 순차적으로, 각 서브필드에 대응하는 2진 신호 Ds를 생성하여 출력하는 것은 말할 필요도 없다.

다음에, 클럭 신호 CLY가 하강하여 주사 신호 G1이 출력되면, 도 1에서 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)이 선택되는 결과, 해당 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소(110)의 트랜지스터(116)가 모두 도통 상태로 된다.

한편, 해당 클럭 신호 CLY의 하강에 의해서 데이터 인에이블 신호 ENBX가 출력된다. 그리고, 이 데이터 인에이블 신호 ENBX의 하강 타이밍에 있어서, 제 2 래치 회로(1430)는 제 1 래치 회로(1420)에 의해서 점 순차적으로 래치된 2진 신호 Ds를, 대응하는 데이터선(114) 각각에 전압 선택 회로(1440)를 거쳐서 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 일제히 공급한다. 이것에 의해, 위로부터 세어 1행째의 화소(110)에서는 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn의 기입이 동시에 행해지게 된다. 이 기입과 병행하여, 도 1에서 위로부터 2개째의 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소 1행분의 2진 신호 Ds가, 제 1 래치 회로(1420)에서 점 순차적으로 래치된다.

여기서, 임의의 화소의 계조 데이터 D0∼D7이, 제 0 내지 제 255의 256 계조 중의 어두운 쪽으로부터 3번째의 계조(밝기)(이하, 제 2 계조라 함)를 나타내는 「00000010」인 것으로 한다. 지정된 제 2 계조의 밝기를 얻기 위해서는, 255개의 서브필드 중 2개의 서브필드의 화소를 온으로 하면 된다. 그리고, 본 실시예에 있어서는, 이 경우에는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 필드 기간의 선두로부터의 2개의 서브필드, 즉 서브필드 Sf1, Sf2의 각 구간에서 화소에 공급할 2진 신호로서 H 레벨을 나타내는 전압 V1을 출력하고, 다른 서브필드 Sf3∼Sf255에 대해서는 L 레벨을 나타내는 전압 V0을 데이터 신호로서 전압 선택 회로(1440)로부터 출력시킨다.

또한, 예컨대 임의의 화소의 계조 데이터 D0∼D7이 제 3 계조인 「00000011」인 것으로 한다. 이 경우에는, 지정된 제 3 계조의 밝기를 얻기 위해서, 서브필드 Sf1, Sf2, Sf3의 각 구간에서 2진 신호로서 H 레벨을 나타내는 전압 V1을 출력하고, 다른 각 서브필드 Sf4∼Sf255에 대해서는 L 레벨을 나타내는 전압 V0을 전압 선택 회로(1440)로부터 출력시킨다.

이와 같이, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에서는, 복수의 화소 각각에 계조 표시시킬 때에, 복수의 화소 각각에 인가하는 온 전압(V1)으로 되는 펄스 신호를 필드 기간의 전반에 집중시키도록 데이터 변환 회로(300)에 의해서 제어한다.

그리고, 이후 마찬가지의 동작이, m개째의 주사선(112)에 대응하는 주사 신호 Gm이 출력될 때까지 반복된다. 즉, 임의의 주사 신호 Gi(i는 1 ≤i ≤m을 만족하는 정수)가 출력되는 1 수평 주사 기간 1H에 있어서는, 1개째의 주사선(112)에 대응하는 화소(110)의 1행분에 대한 데이터 신호 d1∼dn의 기입과, (i+1)개째의 주사선(112)에 대응하는 화소(110)의 1행분에 대한 2진 신호 Ds의 점 순차적인 래치가 병행되어 행하여지게 된다. 또, 화소(110)에 기입된 데이터 신호는 다음 서브필드 Sf2에서의 기입까지 유지된다.

이하 마찬가지의 동작이, 각 서브필드 기간의 개시를 규정하는 개시 펄스 DY가 공급될 때마다 반복된다.

또한, 1 필드 경과 후, 교류화 신호 FR이 H 레벨로 반전된 경우에 있어서도, 각 서브필드에서 마찬가지의 동작이 반복된다.

다음에, 상기 구성에 있어서의 서브필드 구동에 의한 각 화소에서의 1 필드마다의 화소 데이터의 기입시에서의 동작 상태를 종래예와의 비교에서 설명한다. 도 10은 종래의 아날로그 구동에 의한 화소 데이터의 기입시의 각 필드에서의 액정의 구동 전압 파형(도 10의 (a))과, 각 필드에서의 액정의 투과율 변화 상태(도 10의 (b))와의 관계를 나타내고 있다.

도 10에 있어서, 필드 f1, f2에서는, 표시해야 할 계조(밝기) D1을 얻도록 계조 D1에 따른 정부의 아날로그 전압 V01, -V01이 교대로 2 필드에 걸쳐 인가되어 있다. 여기서, 필드 f2에 있어서, 계조를 계조 D1로부터 계조 D1보다 높은 계조 D2로 변경할 때에, 그 화소에는 계조 D2에 따른 레벨의 구동 전압 V02, -V02가 필드 f3, f4의 2 필드에 걸쳐 인가되지만, 액정이 유한한 응답 시간을 가짐으로써, 즉시 목표로 하는 계조 D2에 도달하지 않아, 계조의 전환시로부터 3 필드째인 필드 f5에서 계조 D2로 된다.

이에 반하여, 본 발명의 실시예에서는, 서브필드 구동에 의해 1 필드에서의 온 전압으로 되는 구간과, 오프 전압으로 되는 구간의 시간비, 즉 듀티에 의해 계조 표시를 하지만, 그 경우에 있어서, 온 전압으로 되는 구간을 각 필드 기간의 전반에 집중시키도록 제어하는 것에 의해 액정의 광학적인 응답 특성의 개선을 도모하고 있다.

도 8에 서브필드 구동에 의한 화소 데이터의 기입시의 각 필드에서의 액정의 구동 전압 파형(도 8의 (a))과, 각 필드에서의 액정의 투과율 변화 상태(도 8의 (b))와의 관계를 나타낸다. 또, 도 8에 있어서는, 온 전압을 인가하는 연속한 복수의 서브필드 기간을 1 펄스에 의해서 표하고 있고, 펄스폭은 온으로 되는 서브필드 수에 대응한다. 도 8의 (a)에 있어서, 각 필드에서 화소에 인가되는 펄스 형상의 전압 레벨 V1, -V1은 액정의 포화 전압 Vsat의 1∼1.5배 정도가 선택된다. 이것은 액정의 응답 특성에 있어서의 상승이 화소에 인가되는 전압 레벨과 거의 비례 관계에 있으므로 액정의 응답 특성을 개선하기 위해 바람직하기 때문이다. 또한, 펄스 형상의 신호는 필드의 전반 부분에 집중하도록 제어되어 있기 때문에, 필드의 전환에 대하여 신속하게 응답할 수 있도록 되어 있다.

한쪽에서 상승과 반대 방향으로 계조가 변화되는 경우, 온 신호의 인가는 표시 계조에 따라, 필드 도중에서 종료되므로 필드의 끝, 즉 다음 필드의 시작에서는 액정에 전계가 인가되어 있지 않는 상태로 되기 때문에, 이 경우에도 종래의 구동 방식에 비하여 양호한 응답 특성을 얻을 수 있다.

도 8에서 필드 f1, f2에서는, 표시해야 할 계조 D1을 얻도록 계조 D1에 따른 펄스폭 PA의 전압 V1, -V1이 2 필드에 걸쳐 각 필드의 전반에 집중된 상태로 인가되고, 목표로 하는 계조 D1이 얻어지고 있다. 여기서, 필드 f2에 있어서, 계조 D1로부터 계조 D1보다 높은 계조 D2로 변경할 때에, 필드 f3, f4, f5에서 계조 D2에 따른 펄스폭 PB의 전압 V1, -V1이 각 필드의 전반에 집중된 상태로 인가된다. 이 경우에 계조 D1로부터 계조 D2로 변경하는 과정에서 필드 f2로부터 2 필드 경과한 필드 f4에서 목표로 하는 투과율, 즉 계조 D2에 도달하고 있다.

또한, 필드 f5에 있어서, 계조 D2로부터 계조 D1로 변경할 때에도, 마찬가지로, 필드 f5로부터 2 필드째의 필드 f7에서 목표로 하는 계조 D1로 원활하게 변화된다. 여기서, 계조 D1, D2가 얻어지는 투과율은 실효적으로 도 10의 (b)에 나타내는 종래예와 동일하게 되어 있다.

이와 같이 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 따르면, 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 배치된 화소 전극, 상기 화소 전극마다 인가하는 전압을 제어하는 스위칭 소자, 상기 복수의 데이터선과 복수의 주사선의 교차 영역에 삽입되는 전기 광학 재료 및 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극을 갖는 화소와, 각 필드를 1 필드에 대하여 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드 각각에서 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호를 상기 각 주사선에 공급하는 주사선 구동 회로와, 계조 데이터에 근거하여 각 서브필드에서 각 화소의 온 전압 또는 오프 전압을 지시함으로써 각 화소를 백 표시 또는 흑 표시시키는 2진 신호를, 각각 해당 화소에 대응하는 주사선에 상기 주사 신호가 공급되는 기간에, 해당 화소에 대응하는 데이터선에 공급하는 데이터선 구동 회로와, 상기 복수의 화소 각각에 인가하는 온 전압으로 되는 펄스 신호를 상기 필드에서의 전반에 집중시키도록 데이터선 구동 회로를 제어하는 제어 수단을 갖기 때문에, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 목표 투과율에 도달하기까지의 응답 시간을 단축할 수 있어, 고속 응답화가 도모되며, 그 결과, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 전환된 필드에서의 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭을 표시 계조에 따라 변경함으로써, 액정의 응답 특성을 개선시킬 수 있다.

도 9를 참조하여 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에 있어서, 표시 내용이 변화할 경우에서의 서브필드 구동에 의한 화소 데이터의 기입 제어에 대하여 설명한다. 도 9의 (a)는 서브필드 구동에 의한 화소 데이터의 기입시의 각 필드에서의 액정의 구동 전압 파형을 나타내고, 도 9의 (b)는 각 필드에서의 액정의 투과율의 변화 상태를 나타내고 있다.

이들 도면에 있어서, 필드 f1, f2에서는 펄스폭 PA의 전압 V1, -V1이 출력되어, 목표로 하는 계조 D1이 얻어지고 있다. 필드 f2로부터 필드 f3에 걸쳐 표시 내용이 변화되어, 화면의 밝기, 즉 계조가 계조 D1로부터 계조 D2로 변화되게 한다. 이와 같이 화면의 계조가 높은 방향으로 변화되는 경우에는, 계조에 따른 기준으로 되는 펄스폭보다 펄스폭이 커지도록 펄스폭을 보정한다. 예컨대, 계조 D1, D2에 따른 기준으로 되는 펄스폭을 각각 PA, PB로 한다. 필드 f2로부터 필드 f3에 걸쳐 계조 D1로부터 계조 D2로 변화하는 경우에는, 필드 f3에서 화소에 인가하는 전압 V1의 펄스폭을 PB ×1.3(=PB')으로 한다.

또한, 필드 f5로부터 필드 f6에 걸쳐 표시 내용이 변화되어, 계조가 계조 D2로부터 계조 D1로 변화되는 경우, 즉 화면의 계조가 낮은 방향으로 변화되는 경우에는, 계조에 따른 기준으로 되는 펄스폭보다 펄스폭이 작게 되도록 펄스폭을 보정한다. 예컨대, 필드 f5로부터 필드 f6에 걸쳐 계조 D2로부터 계조 D1로 변화되는 경우에는, 필드 f6에서 화소에 인가하는 전압 -V1의 펄스폭을 PA ×0.7(=PA')로 한다.

이와 같이 함으로써 표시 내용이 변화되어, 화면의 계조가 변화되는 경우에도 모든 필드에서 목표로 하는 계조, 즉 목표로 하는 투과율을 얻을 수 있다.

이 경우에는, 도 1에서의 데이터 변환 회로(300) 내에서, 각 화소마다 현재 판독 중인 필드 메모리로부터 판독한 계조 데이터와, 1 필드 전의 계조 데이터가 저장되어 있는 필드 메모리로부터 판독한 계조 데이터와의 2 필드 사이의 계조 데이터의 차분을 산출하고, 그 결과에 의해 계조가 변화되는 방향으로 각 화소의 계조 데이터, 즉 각 화소에 대하여 필드 내에서 인가하는 펄스 전압의 펄스폭을 보정한다. 이 결과, 화면상에서 계조가 변화된 부분의 시간폭이 보정되어, 전체적으로 1 필드에서 전반에 집중적으로 인가되는 전압의 펄스폭이 목표로 하는 계조(투과율)로 되도록 보정된다.

본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 따르면, 데이터 변환 회로(300)(제어 수단)는, 동화상을 표시하는 경우에 필드의 전환에서, 표시 내용이 변화할 경우에는, 화면의 밝기가 변화되는 방향에 따라 상기 전환된 필드에서의 상기 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하기 때문에, 화면의 밝기가 변화되는 방향으로 신속하게 소망하는 계조로 되도록, 화소를 구성하는 전기 광학 재료로서의 액정에서의 응답성을 개선할 수 있고, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 전기 광학 재료로서의 액정 자체 또는 액정의 주위 온도에 따라 각 필드에서 상기 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭을 변경함으로써 액정의 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선하도록 하더라도 무방하다.

이것은, 상술한 바와 같이 본 실시예에 부가하여, 온도 검출 수단으로서의 온도 센서에 의해 액정 자체 또는 액정의 주위 온도가 검출되고, 해당 온도 센서의 검출 출력에 근거하여 펄스폭 보정 수단으로서의 데이터 변환 회로에 의해 각 필드에서 계조에 따라 미리 정해진 상기 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭이 변경됨으로써 실현된다.

즉, 액정의 온도가 높아지면, 액정의 광학적인 응답 속도가 빠르게 되고, 반대로 액정의 온도가 낮게 되면, 상기 응답 속도가 시간이 늦어진다. 그래서, 본 실시예에서는, 액정의 온도가 기준 온도보다 높아진 경우에는 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭을 넓히고, 즉 온 전압으로 되는 서브필드 기간의 폭을 넓히도록 하고, 또한 액정의 온도가 기준 온도보다 낮게 된 경우에는 온 전압으로 되는 펄스폭을 좁히고, 즉 온 전압으로 되는 서브필드 기간의 폭을 좁히게 하도록 서브필드 기간을 규정하는 개시 펄스 DY의 출력 타이밍을 변경한다.

데이터 변환 회로(300)는 개시 펄스 생성 회로(210) 내의 멀티플렉서(213)에 입력되는 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf255에 대응한 데이터 Ds1, Ds2, …, Ds255의 값을 액정 자체 또는 액정 주위의 온도를 검출하는 온도 센서의 검출 출력에 근거하여 변경하도록 보정하기 위한 제어 신호 SC를 타이밍 신호 생성 회로(200)에 출력한다.

이 결과, 필드에서 각 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf255의 시간폭이 액정의 온도 변화, 즉 액정의 응답 속도에 따라 변경된다.

이와 같이 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 따르면, 상기 전기 광학 재료로서의 액정 자체 또는 해당 액정의 주위 온도에 따라 각 필드에서 상기 온 전압으로 되는 펄스 신호의 펄스폭을 변경하도록 했기 때문에, 전기 광학 재료로서의 액정이 액정 자체 또는 액정 주위의 온도에 의해 응답 속도가 변화되더라도, 계조 특성이 일정하게 되도록 할 수 있고, 온도 변화에 기인하는 계조 특성의 열화를 개선할 수 있어, 화질의 향상이 도모된다.

또한, 상술한 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에 있어서, 필드에서의 최후의 서브필드는 반드시 흑 표시로 되도록 하는 것도 가능하다. 라고 하는 것도, 상술한 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에서는, 계조 데이터에 따라서 필드에서의 각 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf255 모두가 온 전압으로 되는 경우도 있을 수 있다. 이러한 경우, 동화상의 재현성을 향상시키기 위해서 액정층으로부터 가능한 한 빠른 타이밍에서 전계를 제거한다고 하는 본 실시예의 목적하는 효과가 반감되어 버린다. 이 문제를 피하기 위한 실시예를 이하에 설명한다.

상술한 실시예에서는 1 필드를 255개의 서브필드로 분할하여, 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf255로 하였다. 여기서는, 예컨대 1 필드를 300개의 서브필드로 분할하여, 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf300으로 한다. 제어 수단인 데이터 변환 회로(300)는 분할한 서브필드 중, 서브필드 Sf1, Sf2, …, Sf255에는, 상술한 실시예와 같이, 계조를 표시시킨다. 한편, 서브필드 Sf256∼Sf300은, 실제 계조 표시에는 기여시키지 않고, 반드시 흑 표시로 되도록 제어한다. 또는, 데이터 변환 회로(300)는 서브필드 Sf256∼Sf300을 46개분의 길이를 갖는 하나의 서브필드로 하고, 이 46개분의 길이를 갖는 서브필드는 반드시 흑 표시로 되도록 제어한다.

이와 같이 제어함으로써, 필드에서의 최후의 서브필드를 흑 표시시킬 수 있다. 이와 같이 흑을 표시하는 서브필드를 필드마다 삽입함으로써, 밝은 측의 계조에서도 표시가 지속적으로 되지 않고, 용이하게 동화상의 시인성을 향상시킬 수 있다.

또한, 상술한 실시예의 전기 광학 장치의 표시 모드는 노멀리 블랙으로 하여 설명하였다. 전기 광학 장치의 표시 모드가 노멀리 화이트인 경우도 상술한 구성과 마찬가지의 구성이면 적응 가능하다. 단, 그 경우에는 상술한 「온 전압(온 상태)」과 「오프 전압(오프 상태)」의 신호 상태를 교체하여 제어해야 한다.

(실시예 2)

도 11은 본 발명의 실시예 2에 따른 전기 광학 장치를 나타내는 블럭도이다. 도 11에서 도 1과 동일한 구성 요소에 동일 부호를 부여하고 설명을 생략한다.

실시예 1에 있어서는, 표시 가능한 계조가, 분할한 서브필드의 수에 제한되어 버린다. 이에 반하여, 본 실시예는 분할한 서브필드 수에 비하여 표시 가능한 계조수를 충분히 크게 하는 것을 가능하게 한 것이다.

본 실시예에서도 서브필드 구동을 채용한다. 본 실시예에서는, 도 16의 (a)에 나타내는 바와 같이, 1 필드 기간 1f를 거의 균등하게 분할한 복수의 서브필드 Sf1∼Sf32를 이용하는 것으로 한다.

본 실시예에서는, 각 필드에 있어서, 계조에 따라서 필드의 전반으로부터 우선 온 상태로 한 서브필드를 집중시키고, 그중 일부의 서브필드를 오프 상태로 되도록 제어함으로써 서브필드의 수보다도 충분히 많은 계조를 표시한다. 즉, 표시하는 계조가 필드의 개시로부터 N개의 서브필드를 이용함으로써 표시할 수 있는 경우, 서브필드의 시간 Ts에 상당하는 펄스폭을 갖는 펄스 신호가 필드의 개시 시점으로부터 N개의 펄스 신호를 출력하는 기간 내(Ts ×N)에 단속적으로 출력되도록 제어된다.

본 실시예에 있어서는, 전기 광학 장치의 구동 장치로서, 예컨대 pSiTFT(폴리실리콘 TFT)을 이용하는 것으로 한다. 또한, 서브필드의 수는 상술한 바와 같이 32개로 한다. 이것은, 종래의 구동 방식에서의 주사 주파수는 60 ㎐이지만, 본 실시예에서는 그 32배(60 ×32 ㎐)로 화면 주사가 행하여지는 것을 의미하고 있다.

본 실시예에 있어서의 전기 광학 장치(100)의 전기적 구성을 도 11에 나타낸다. 화소(110)의 구체적인 구성은 도 2의 (a)와 마찬가지이다. 또, 도 2의 (a)의 스위칭 수단으로서의 트랜지스터(116)로서 pSiTFT가 이용된다.

또, 본 실시예에서도 축적 용량(119)을 화소 전극(118)과 대향 전극(108) 사이에 형성했지만, 화소 전극(118)과 접지 전위 GND 사이나 화소 전극(118)과 게이트선 사이 등에 형성하더라도 무방하다. 또한, 소자 기판측에 대향 전극 전압 VLCCOM과 동일한 전위를 갖는 배선을 배치하여, 그 사이에 형성할 수도 있다.

타이밍 신호 생성 회로(201)는 상위 장치(도시하지 않음)로부터 공급되는 수직 동기 신호 Vs, 수평 동기 신호 Hs, 도트 클럭 신호 DCLK 등의 타이밍 신호에 따라서 극성 반전 신호 FR, 주사 개시 펄스 DY, 주사측 전송 클럭 CLY, 데이터 인에이블 신호 ENBX, 데이터 전송 클럭 CLX, 데이터 전송 개시 펄스 DDS, 서브필드 식별 신호 SF를 생성한다. 각 신호의 기능을 이하에 설명한다.

극성 반전 신호 FR은 1 필드마다 극성을 반전하는 신호이다. 주사 개시 펄스 DY는 각 서브필드의 최초에 출력되는 펄스 신호로서, 이것이 주사선 구동 회로(401)에 입력되는 것에 의해 주사선 구동 회로(401)는 게이트 펄스 G1∼Gm을 출력한다. 주사측 전송 클럭 CLY는 주사측(Y측)의 주사 속도를 규정하는 신호이고, 상기의 게이트 펄스는 이 전송 클럭에 동기하여 주사선마다 전송된다. 데이터 인에이블 신호 ENBX는 데이터선 구동 회로(500) 내에 있는 X 시프트 레지스터(510)에 축적된 데이터를 수평 화소수분 병렬로 출력시키는 타이밍을 결정하는 것이다. 데이터 전송 클럭 CLX는 데이터선 구동 회로(500)로 데이터를 전송하기 위한 클럭 신호이다. 데이터 전송 개시 펄스 DDS는 데이터 코딩 회로(301)로부터 데이터선 구동 회로(500)로 데이터 전송을 개시하는 타이밍을 규정하는 것으로, 타이밍 신호 생성 회로(201)로부터 데이터 코딩 회로(301)로 전송된다. 서브필드 식별 신호 SF는 그 펄스(서브필드)가 몇 번째의 펄스인지를 데이터 코딩 회로(301)로 알리기 위한 것이다.

본 실시예의 전기 광학 장치는 서브필드 Sf1∼Sf32마다 계조에 따라 화소를 온 상태 또는 오프 상태로 하기 위해서 H 레벨 또는 L 레벨의 데이터를 기입한다. 표시할 데이터는 외부(도시하지 않음)로부터 데이터 코딩 회로(301)로 8 비트의 디지털 데이터로서 입력된다. 데이터 코딩 회로(301)에서는 그것들을 서브필드마다 소정의 규칙에 따라 2진화한 데이터로서 데이터선 구동 회로(500)로 전송할 수 있도록 변환한다. 그 때문에, 전송되어 온 데이터를 일단 필드 메모리(310)에 저장하고, 수시 변환 처리를 실행할 수 있도록 구성되어 있다. 2진화된 표시 데이터는, 데이터 전송 개시 펄스 DDS가 입력되면, 데이터 전송 클럭 CLX에 동기하여 데이터선 구동 회로(500)로 전송된다.

여기서, 데이터 코딩 회로(301)에서는, 표시 데이터를 2진화할 때에, 1 필드 중 어떤 서브필드인지를 인식해야 한다. 본 실시예에서는, 타이밍 신호 생성 회로(201)에서 주사 개시 펄스 DY를 계수하고, 그 결과를 서브필드 식별 신호 SF로서 데이터 코딩 회로(301)를 향해서 출력하도록 되어 있다. 주사 개시 펄스 DY의 계측은 0∼31 사이에서 행하여지고, 외부로부터 입력되는 수직 동기 신호에 의해 리세트되도록 되어 있다. 데이터 코딩 회로(301)는 이 서브필드 식별 신호 SF에 의해 서브필드를 인식한다.

데이터 코딩 회로(301)는, 각 화소에 대하여 지정된 계조를 실현하기 위해, 표시하는 계조에 따라 기본적으로는 전술한 바와 같이 필드의 전반에 온 전압으로 되는 펄스 신호를 집중시키도록 출력시키고, 전반에 집중시킨 온 전압 중 일부를 오프 전압으로 하는 구성으로 되어 있다.

또한, 데이터 코딩 회로(301)에서의 필드 메모리(310)는 2 필드분의 표시 데이터를 축적되는 분의 용량이 마련되어 있다. 여기서, 제 1 필드 메모리는 외부로부터 입력되는 표시 데이터가 기입되는 메모리이며, 제 2 필드 메모리는 1 필드 전에 입력된 표시 데이터가 저장되어 있는 메모리이다. 필드 메모리(310)는, 제 1 필드 메모리에 외부로부터 입력되어 있는 표시 데이터가 기입되고 있는 동안에, 데이터 코딩 회로(301)가 제 2 필드 메모리를 액세스하여 각 화소의 표시 데이터가 판독되도록 되어 있다. 제 1 필드 메모리와 제 2 필드 메모리의 역할은 필드마다 교환된다.

데이터 코딩 회로(301)에서의 서브필드의 제어 일례를 도 16의 (b)에 나타낸다. 이 도면에 있어서, 흑색부는 백 표시시키는 온 전압의 서브필드를 나타내고 있다. 실시예 1에 도시한, 백 표시하기 위한 서브필드를 필드의 전반에 집중시키는 제어에서는, 본 실시예와 같이 1 필드를 32의 서브필드로 분할한 경우, 표시 가능한 계조는 0∼32까지의 33계조뿐이다. 여기서는, 실시예 1에 나타낸 방법에 의해 표시할 수 있는 계조(밝기)를, 예컨대 「기본 12 계조」라고 하고, 본 실시예의 제어에 의해 표시할 수 있는 계조(밝기)를, 예컨대 「기본 12 계조 + 1 계조」라고 한다.

예컨대, 「기본 12 계조 + 2 계조」의 계조를 표시하는 경우에는, 도 16의 (b)에 나타내는 바와 같이, 서브필드 Sf1∼Sf9 및 Sf13의 각 구간에서는 온 상태를 나타내는 데이터 신호가 출력되고, 서브필드 Sf10∼Sf12 및 Sf14∼Sf32의 각 서브필드에서는 오프 상태를 나타내는 데이터 신호가 출력된다. 또한, 「기본 12 계조 + 5계조」의 계조를 표시하는 경우에는, 도 16의 (b)에 나타내는 바와 같이, 서브필드 Sf1∼Sf3 및 Sf5∼Sf13의 각 구간에서는 온 상태를 나타내는 데이터 신호가 출력되고, 서브필드 Sf4 및 Sf14∼Sf32의 서브필드에서는 오프 상태를 나타내는 데이터 신호가 출력된다.

본 실시예에 있어서, 도 16의 (b)의 「기본 12 계조 + 3 계조」로 나타내는 바와 같이 제어한 경우의 액정의 투과율을 도 13에 나타낸다. 이 도면에 나타내는 바와 같이, 백 표시하는 서브필드의 일부를 오프 전압으로 함으로써 투과율이 저하되고, 그 결과, 밝기를 나타내는 투과율의 적분값이, 백 표시하는 서브필드의 일부를 오프 전압으로 하지 않은 경우보다 작게 된다. 이러한 원리에 의해 계조수를 증가시킬 수 있다.

도 11에 있어서, 주사선 구동 회로(401)는 서브필드의 최초에 공급되는 주사 개시 펄스 DY를 주사측 전송 클럭 CLY에 따라서 전송하여, 각각의 주사선(112)에 순차적으로 주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm으로서 배타적으로 공급하는 것이다.

데이터선 구동 회로(500)는, 임의의 수평 주사 기간에 있어서, 2진 데이터를 데이터선의 개수에 상당하는 n개 순차적으로 래치한 후, 래치한 n개의 2진 데이터를 각각 대응하는 데이터선(114)에 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 일제히 공급하는 것이다.

여기서, 도 14를 참조하여 데이터선 구동 회로(500)의 구체적인 구성에 대해 설명한다. 데이터선 구동 회로(500)는 X 시프트 레지스터(510), 수평 화소분의 제 1 래치 회로(520), 제 2 래치 회로(530), 수평 화소분의 승압 회로(540)로 구성되어 있다.

이 중, X 시프트 레지스터(510)는 수평 주사 기간의 개시 타이밍에서 공급되는 데이터 인에이블 신호 ENBX를 클럭 신호 CLX에 따라서 전송하여, 순차적으로 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn으로서 배타적으로 공급하는 것이다. 다음에, 제 1 래치 회로(520)는 2진 데이터를 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn의 하강에서 순차적으로 래치하는 것이다. 그리고, 제 2 래치 회로(530)는 제 1 래치 회로(520)에 의해 래치된 2진 데이터의 각각을 데이터 인에이블 신호 ENBX의 하강에서 일제히 래치하고, 또한 승압 회로(540)를 거쳐서 데이터선(114) 각각에 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 공급하는 것이다.

승압 회로(540)는 극성 반전 기능과 승압 기능을 구비한다. 승압 회로(540)는 극성 반전 신호 FR에 근거하여 승압한다. 승압 회로(540)의 동작을 설명하는 도면을 도 12에 나타낸다. 예컨대, 극성 반전 신호 FR이 L 레벨인 경우에 있어서, 임의의 화소를 온 상태로 하는 데이터 신호가 승압 회로(540)에 입력된 경우에는 플러스의 액정 구동 전압을 출력한다. 또한, 극성 반전 신호 FR이 H 레벨인 경우에 있어서, 임의의 화소를 온 상태로 하는 데이터 신호가 입력된 경우에는 마이너스의 액정 구동 전압을 출력한다. 화소를 오프 상태로 하는 데이터의 경우에는 극성 반전 신호 FR의 상태에 관계없이 VLCCOM 전위를 출력한다.

다음에, 실시예 2에 따른 전기 광학 장치의 동작에 대하여 설명한다. 도 15는 이 전기 광학 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍차트이다.

우선, 극성 반전 신호 FR은 1 필드 1f마다 레벨 반전하는 신호이다. 한편, 주사 개시 펄스 DY는 각 서브필드 Sf1∼Sf32의 개시시에 공급된다.

여기서, 극성 반전 신호 FR이 L 레벨로 되는 1 필드 1f에서 주사 개시 펄스 DY가 공급되면, 주사선 구동 회로(401)에서의 주사측 전송 클럭 CLY로 하고자 한 전송에 의해서 주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm이 순차적으로 기간 t에 배타적으로 출력된다. 또, 본 실시예에서는 상술한 바와 같이 1 필드를 32 등분하고, 각 서브필드는 동등한 시간폭으로 되어 있다.

이 주사 신호 G1, G2, G3, …, Gm은 각각 주사측 전송 클럭 CLY의 반주기에 상당하는 펄스폭을 갖고, 또한 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)에 대응하는 주사 신호 G1은 주사 개시 펄스 DY가 공급된 후에, 주사측 전송 클럭 CLY가 최초에 상승되고 나서, 적어도 주사측 전송 클럭 CLY의 반주기만큼 지연하여 출력되는 구성으로 되어 있다. 따라서, 주사 개시 펄스 DY가 공급되고 나서, 주사 신호 G1이 출력될 때까지, 데이터 인에이블 신호 ENBX의 최초의 1 클럭 G0이 데이터선 구동 회로(500)에 공급되게 된다.

우선, 이 데이터 인에이블 신호 ENBX의 최초의 1 클럭 G0이 공급된 경우에 대하여 설명한다. 이 데이터 인에이블 신호 ENBX의 1 클럭 G0이 데이터선 구동 회로(500)에 공급되면, 데이터 전송 클럭 CLX로 하고자 한 전송에 의해서 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn이 순차적으로 수평 주사 기간 1H에 배타적으로 출력된다. 또, 래치 신호 S1, S2, S3, …, Sn은 각각 데이터 전송 클럭 CLX의 반주기에 상당하는 펄스폭을 갖고 있다.

이 때, 도 14에서의 제 1 래치 회로(520)는, 래치 신호 S1의 하강에 있어서, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 1개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2진 데이터를 래치하고, 다음에, 래치 신호 S2의 하강에 있어서, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 2개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2진 데이터를 래치하며, 이하 마찬가지로, 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)과, 왼쪽으로부터 세어 n개째의 데이터선(114)과의 교차에 대응하는 화소(110)로의 2진 데이터를 래치한다.

이것에 의해, 우선 도 11에서 위로부터 1개째의 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소 1행분의 2진 데이터가 제 1 래치 회로(520)에 의해 점 순차적으로 래치되게 된다. 또, 데이터 코딩 회로(301)는 제 1 래치 회로(520)에 의한 래치의 타이밍에 맞추어, 각 화소의 표시 데이터로부터 순차적으로 각 서브필드에 대응하는 2진 데이터를 생성하여 출력하는 것은 말할 필요도 없다.

다음에, 클럭 신호 CLY가 하강하여 주사 신호 G1이 출력되면, 도 11에서 위로부터 세어 1개째의 주사선(112)이 선택되는 결과, 해당 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소(110)의 트랜지스터(116)가 모두 온으로 된다.

한편, 해당 클럭 신호 CLY의 하강 타이밍에서 다시 데이터 인에이블 신호 ENBX(G1)가 출력된다. 그리고, 이 신호의 상승 타이밍에서, 제 2 래치 회로(530)는 제 1 래치 회로(520)에 의해서 점 순차적으로 래치된 2진 데이터를 대응하는 데이터선(114) 각각에 승압 회로(540)를 거쳐서 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn으로서 일제히 공급한다. 이것에 의해, 위로부터 세어 1행째의 화소(110)에서는 데이터 신호 d1, d2, d3, …, dn의 기입이 동시에 행해지게 된다.

이 기입과 병행하여, 도 11에서 위로부터 2개째의 주사선(112)과의 교차에 대응하는 화소 1행분의 2진 데이터가 제 1 래치 회로(520)에 의해 점 순차적으로 래치된다.

이와 같이, 본 실시예에 따른 전기 광학 장치에서는, 복수의 화소 각각에 계조 표시시킬 때에, 복수의 화소 각각에 인가하는 온 전압으로 되는 펄스 신호를 필드의 전반에 집중시키고, 또한 표시하는 계조에 따라서 온 전압으로 되는 펄스 신호의 일부를 오프 전압으로서 출력시키도록 데이터 코딩 회로(301)에 의해서 제어한다.

그리고, 이후 마찬가지의 동작이 m개째의 주사선(112)에 대응하는 주사 신호 Gm이 출력될 때까지 반복된다. 또, 화소(110)에 기입된 데이터 신호는 다음 서브필드 Sf2에서의 기입까지 유지된다.

이하 마찬가지인 동작이 서브필드의 개시를 규정하는 주사 개시 펄스 DY가 공급될 마다 반복된다.

상기 구성에 있어서, 도 16의 (b)에 일례를 나타내는 바와 같이 서브필드를 백 표시한 경우에서의 pSiTFT를 이용한 전기 광학 장치의 밝기의 실험 데이터를 도 17에 나타낸다. 또, 도 17에 있어서, 예컨대 횡축의 「12.0」이라는 것은 도 16의 (b)에서의 「기본 12 계조」인 것을 나타내고, 「12.5」라는 것은 도 16의 (b)에서의 「기본 12 계조 + 5 계조」인 것을 나타낸다. 도 17의 실험 결과로부터, 도 16의 (b)에 일례를 나타내는 바와 같이 구동함으로써, 기본 12 계조(밝기)와 기본 13 계조(밝기) 사이에 7개의 계조를 표시할 수 있다는 것을 알 수 있다.

또, 여기서는, 서브필드 Sf1∼Sf12를 백 표시하는 계조와, 서브필드 Sf1∼Sf13을 백 표시하는 계조와의 사이를 보간하는 계조를 얻는 패턴의 예만을 나타내었지만, 다른 계조와 계조 사이를 보간하는 경우에도 도 16의 (b)와 마찬가지로 제어함으로써 서브필드 M과 M+1 사이의 계조를 표시할 수 있다.

여기서, 서브필드 M과 M+1 사이의 계조를 표시하는 경우에, 연속적으로 배치된 백 표시하는 온 펄스(서브필드) 중, 백 표시 개시 펄스를 제외한 백 표시 개시 근방의 펄스(서브필드)를 오프로 함으로써, 보다 M 계조에 가까운 계조를 얻을 수 있다. 또, 여기서 말하는 백 표시 개시 근방이란, 필드가 전환되어, 백 표시 신호의 인가 개시로부터 표시 소자(본 실시예에서는 액정)의 광학 응답 시간보다 짧은 시간 내, 즉 응답의 천이 과정에 있는 시간 내인 것이다.

또한, 연속적으로 배치된 백 표시하는 온 펄스(서브필드) 중, 백 표시 종료 펄스를 제외한 백 표시 종료 근방의 펄스(서브필드)를 오프로 하는 것에 의해서도, 보다 M 계조에 가까운 계조를 얻을 수 있다. 또, 여기서 말하는 백 표시 종료 근방이란, M+1 계조를 표시하는 경우에 백 표시를 종료하는 시점으로부터 표시 소자(본 실시예에서는 액정)의 광학 응답 시간 소급한 시간 내인 것이다.

그 이외의 펄스를 오프하는 것에 의해서는 보다 M+1 계조에 가까운 계조를 얻을 수 있다.

필요한 계조는 상기한 것 중에서 적당한 조합을 선택함으로써 얻을 수 있다.

또한, 상술한 본 실시예에서는 구동 장치를 pSiTFT인 것으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 상술한 구성과 유사한 구성을 갖는, 전기 광학 장치의 표시 소자(본 실시예에서는 액정)에서, 표시 소자의 광학 응답 시간이 서브필드의 시간보다 길어지지만，그것에 가까운 광학 응답 특성을 갖는 경우에 적용 가능하다. 그와 같은 전기 공학 장치로서, 예컨대 구동 장치로서 pSiTFT를 이용한 액정 광 밸브에 의해 구성된 프로젝터나, 구동 장치로서 αTFT나 TFD를 이용한 직시형 액정 표시 장치(직시형 LCD) 등이 있다. 이들 구성에 대해서는 후술한다.

여기서, 본 실시예에서 적용한 전기 광학 장치의 표시 소자는 상술한 광학 응답 특성을 구비하고 있는지 검증한다.

상술한 본 실시예에서는, 60 ㎐의 프레임 주파수에서, 32개의 구동 펄스(서브필드)로 분할하였다. 이 경우의 단위 펄스의 길이와, 액정의 응답 속도를 비교한다.

단위 펄스 = 1 ÷60 ÷32 = 약 0.5(msec)

액정의 응답 속도(TN 액정 대표값) = 약 5(msec)

이와 같이, 본 실시예의 단위 펄스 시간은 액정의 응답 속도에 대하여 충분히 짧은 펄스이기 때문에, 본 실시예의 전기 광학 장치는 유효하다.

또한, 상술한 실시예의 전기 광학 장치의 표시 모드는 노멀리 블랙인 것으로 하여 설명하였다. 전기 광학 장치의 표시 모드가 노멀리 화이트인 경우에도, 상술한 구성과 마찬가지의 구성이면 적응 가능하다. 단, 그 경우에는 상술한 「온 전압(온 상태)」과 「오프 전압(오프 상태)」의 신호를 교체하여 제어할 필요가 있다.

(액정 장치의 전체 구성)

다음에, 상술한 실시예나 응용예에 따른 전기 광학 장치의 구조에 대해 도 18 및 도 19를 참조하여 설명한다. 여기서, 도 18은 전기 광학 장치(100)의 구성을 나타내는 평면도이며, 도 19는 도 18에서의 A-A'선의 단면도이다.

이들 도면에 나타내는 바와 같이, 전기 광학 장치(100)는 화소 전극(118) 등이 형성된 소자 기판(101)과, 대향 전극(108) 등이 형성된 대향 기판(102)이 서로 밀봉재(104)에 의해서 일정한 간극을 유지하여 접합되고, 또한 이 간극에 전기 광학 재료로서의 액정(105)이 삽입된 구조로 되어 있다. 또, 실제로는 밀봉재(104)에는 절결 부분이 있고, 여기를 거쳐서 액정(105)이 봉입된 후에, 봉지재에 의해 봉지되지만, 이들 도면에서는 생략되어 있다.

본 실시예와 같은, 노멀리 블랙의 표시 모드의 액정 표시 장치는, 예컨대 수직 배향막과 유전율 이방성이 부(負)의 액정 재료를 조합하여 액정 패널을 구성하고, 그것들을, 투과축을 각기 90° 어긋나게 하여 배치한 2매의 편광판으로 끼우는 것에 의해 얻을 수 있다.

물론 노멀리 화이트의 표시 모드인 TN 모드 액정을 이용할 수도 있지만, 그 경우에는, 백 표시하고자 하는 서브필드에서 전압을 오프 상태로 하고, 흑 표시를 얻고자 하는 서브필드에서 전압을 온 상태로 하도록 구동하면 된다.

대향 기판(102)은 유리 등으로 구성되는 투명한 기판이다. 또한, 상술한 설명에서는, 소자 기판(101)은 투명 기판으로 이루어지는 것으로 기재했지만, 반사형의 전기 광학 장치의 경우에는 반도체 기판으로 하는 것도 가능하다. 이 경우, 반도체 기판은 불투명하기 때문에, 화소 전극(118)은 알루미늄 등의 반사성 금속으로 형성된다.

소자 기판(101)에 있어서, 밀봉재(104)의 내측 또한 표시 영역(101a)의 외측 영역에는 차광막(106)이 마련되어 있다. 이 차광막(106)이 형성되는 영역 내 중, 영역(130a)에는 주사선 구동 회로(130)가 형성되고, 또한 영역(140a)에는 데이터선 구동 회로(140)가 형성되어 있다.

즉, 차광막(106)은 이 영역에 형성되는 구동 회로에 광이 입사되는 것을 방지하고 있다. 이 차광막(106)에는 대향 전극(108)과 함께 대향 전극 전압 VLCCOM이 인가되는 구성으로 되어 있다.

또한, 소자 기판(101)에 있어서, 데이터선 구동 회로(140)가 형성되는 영역(140a) 외측으로서, 밀봉재(104)를 막는 영역(107)에는 복수의 접속 단자가 형성되어, 외부로부터의 제어 신호나 전원 등을 입력하는 구성으로 되어 있다.

한편, 대향 기판(102)의 대향 전극(108)은 기판 접합 부분에서의 4 모서리 중, 적어도 1개소에서 마련된 도통재(도시하지 않음)에 의해서 소자 기판(101)에서의 차광막(106) 및 접속 단자와 전기적인 도통이 도모되어 있다. 즉, 대향 전극 전압 VLCCOM은 소자 기판(101)에 마련된 접속 단자를 거쳐서 차광막(106)에, 또한 도통재를 거쳐서 대향 전극(108)에, 각각 인가되는 구성으로 되어 있다.

또한, 대향 기판(102)에는 전기 광학 장치(100)의 용도에 따라서, 예컨대 직시형이면, 첫째, 스트라이프 형상이나, 모자이크 형상, 트라이앵글 형상 등으로 배열한 컬러 필터가 마련되고, 둘째, 예컨대 금속 재료나 수지 등으로 이루어지는 차광막(black matrices)아 마련된다. 또, 색광 변조의 용도인 경우에는, 예컨대 후술하는 프로젝터의 광 밸브로서 이용하는 경우에는, 컬러 필터는 형성되지 않는다. 또한, 직시형의 경우, 전기 광학 장치(100)에 광을 대향 기판(102)측 또는 소자 기판측으로부터 조사하는 광이 필요에 따라서 마련된다. 또한, 소자 기판(101) 및 대향 기판(102)의 전극 형성 간에는, 각각 소정의 방향으로 러빙 처리된 배향막(도시하지 않음) 등이 마련되어 전압 무(無)인가 상태에서의 액정 분자의 배향 방향을 규정하는 한편, 대향 기판(102) 측에는 배향 방향에 따른 편광자(도시하지 않음)가 마련된다. 단, 액정(105)으로서, 고분자 중에 미소립자으로서 분산시킨 고분자 분산형 액정을 이용하면, 전술한 배향막이나 편광자 등이 불필요해지므로, 광 이용 효율이 높아지기 때문에, 고휘도화나 저소비 전력화 등의 점에서 유리하다.

(전자기기)

다음에, 상술한 액정 장치를 구체적인 전자기기에 이용한 예의 몇 개에 대하여 설명한다.

(프로젝터)

우선, 실시예에 따른 전기 광학 장치를 광 밸브로서 이용한 프로젝터에 대하여 설명한다. 도 20은 이 프로젝터의 구성을 나타내는 평면도이다. 이 도면에 도시되는 바와 같이, 프로젝터(1100) 내부에는 편광 조명 장치(1110)가 시스템 광축 PL을 따라 배치되어 있다. 이 편광 조명 장치(1110)에 있어서, 램프(1112)로부터의 출사광은 리플렉터(1114)에 의한 반사로 거의 평행한 광속으로 되고, 제 1 적분기(integrator) 렌즈(1120)에 입사한다. 이것에 의해, 램프(1112)로부터의 출사광은 복수의 중간 광속으로 분할된다. 이 분할된 중간 광속은 제 2 적분기 렌즈를 광입사측에 갖는 편광 변환 소자(1130)에 의해서 편광 방향이 대략 배열된 한 종류의 편광 광속(s 편광 광속)으로 변환되어, 편광 조명 장치(1110)로부터 출사되게 된다.

편광 조명 장치(1110)로부터 출사된 s 편광 광속은 편광 빔 스플리터(1140)의 s 편광 광속 반사면(1141)에 의해서 반사된다. 이 반사 광속 중, 청색 광(B)의 광속이 다이크로익 미러(1151)의 청색 광 반사층에 의해 반사되어, 반사형의 전기 광학 장치(100B)에 의해서 변조된다. 또한, 다이크로익 미러(1151)의 청색 광 반사층을 투과한 광속 중, 적색 광(R)의 광속은 다이크로익 미러(1152)의 적색 광 반사층에 의해 반사되어, 반사형의 전기 광학 장치(100R)에 의해서 변조된다.

한편, 다이크로익 미러(1151)의 청색 광 반사층을 투과한 광속 중, 녹색 광(G)의 광속은 다이크로익 미러(1152)의 적색 광 반사층을 투과하여 반사형의 전기 광학 장치(100G)에 의해서 변조된다.

이렇게 해서, 전기 광학 장치(100R, 100G, 100B)에 의해서 각각 색광 변조된 적색, 녹색, 청색의 광은 다이크로익 미러(1152, 1151), 편광 빔 스플리터(1140)에 의해서 순차적으로 합성된 후, 투사 광학계(1160)에 의해서 스크린(1170)에 투사되게 된다. 또, 전기 광학 장치(100R, 100B 및 100G)에는 다이크로익 미러(1151, 1152)에 의해서 R, G, B의 각 원색에 대응하는 광속이 입사되기 때문에, 컬러 필터는 필요없다.

또, 본 실시예에서는 반사형의 전기 광학 장치를 이용했지만, 투과형 표시의 전기 광학 장치를 이용한 프로젝터로 해도 상관없다.

(모바일형 컴퓨터)

다음에, 상기 전기 광학 장치를 모바일형 퍼스널 컴퓨터에 적용한 예에 대하여 설명한다. 도 21은 이 퍼스널 컴퓨터의 구성을 나타내는 사시도이다. 동일 도면에 있어서, 컴퓨터(1200)는 키보드(1202)를 구비한 본체부(1204)와, 표시 유닛(1206)으로 구성되어 있다. 이 표시 유닛(1206)은 앞서 설명한 전기 광학 장치(100)의 전면(前面)에 프론트 라이트를 부가하는 것에 의해 구성되어 있다.

또, 이 구성에서는 전기 광학 장치(100)를 반사 직시형으로서 이용하게 되기 때문에, 화소 전극(118)에서 반사광이 여러 방향으로 산란되도록, 요철이 형성되는 구성이 바람직하다.

또한, 상기 전기 광학 장치를 휴대전화에 적용한 예에 대하여 설명한다. 도 22는 이 휴대전화의 구성을 나타내는 사시도이다. 동일 도면에 있어서, 휴대전화(1300)는 복수의 조작 버튼(1302) 외에 수화구(1304), 송화구(1306)와 함께, 전기 광학 장치(100)를 구비하는 것이다.

이 전기 광학 장치(100)에도 필요에 따라서 그 전면에 프론트 라이트가 마련된다. 또한, 이 구성에서도 전기 광학 장치(100)가 반사 직시형으로서 이용되게 되기 때문에, 화소 전극(118)에 요철이 형성되는 구성이 바람직하다.

또, 전자기기로서는, 도 21, 도 22를 참조하여 설명한 이외에도, 액정 텔레비전이나, 뷰파인더형, 모니터 직시형의 비디오 테이프 레코더, 자동차 네비게이션 장치, 페이저, 전자수첩, 전자계산기, 워드 프로세서, 워크스테이션, 화상 전화, POS 단말, 터치 패널을 구비한 기기 등등을 들 수 있다. 그리고, 이들 각종 전자기기에 대하여 상기 각 실시예나 응용예에 따른 전기 광학 장치를 적용할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.

(실시예 3)

도 23 내지 도 25는 본 발명의 실시예 3에 따른, 도 23은 실시예 3에서 채용되는 구동 회로를 나타내는 블럭도이며, 도 24 및 도 25는 실시예 3을 설명하기 위한 설명도이다.

본 실시예에서의 하드웨어 구성은 실시예 1 및 실시예 2에서 이용한 전기 광학 장치와 거의 마찬가지이며, 도 1에서의 데이터 변환 회로(300) 또는 도 11에서의 데이터 코딩 회로(301)의 코딩 방법이 서로 상이하다.

상술한 실시예 1에서는 온 전압을 인가하는 서브필드를 전반에 집중시켜 액정의 응답 시인성을 개선하고, 또한 실시예 2에서는 그 일부를 오프 전압으로 함으로써 서브필드의 수를 늘리는 일없이 표시 가능한 계조수를 증가시킬 수 있었다. 그러나, 정지 화상과 같이 액정의 응답 시인성이 문제로 되지 않는 경우에는, 온 전압을 인가하는 서브필드의 위치와 오프 전압을 인가하는 서브필드의 위치를 적절히 설정함으로써, 표현 가능한 계조수를 실시예 2보다도 더 증대시킬 수 있다.

그런데, 플라즈마 디스플레이 등에서도 서브필드 구동이 채용되어 있다. 플라즈마 디스플레이 등에서는, 1 필드 내의 서브필드 기간의 길이(시간폭)를 변경하고, 각 서브필드에 가중치를 부여한 가중치 부여 서브필드 구동이 행하여진다. 이것은, 플라즈마 디스플레이 등에서는 각 서브필드 기간마다 화소에로 기입 시간(주사 시간)이 필요하여, 1 필드 내의 서브필드 수를 증대시키면, 1 필드 기간 내에서 화소에 기입 주사를 행하는 회수가 증가되어, 이 기입을 위해 발광 시간이 짧아져 화면이 어둡게 되어 버리기 때문이다.

이에 반하여, 액정 장치는 1 필드 내의 서브필드 수가 증대되더라도 화면이 어둡게 되는 경우는 없다. 상술한 바와 같이, 1 필드 내의 서브필드 수가 많을수록, 표현 가능한 계조수도 많아진다. 따라서, 액정 장치에서는 계조 표현을 고려하면, 1 필드 내의 서브필드 수를 많게 하는 편이 바람직하다. 그러나, 고속화에 대한 장치 제약에 의해서 1 필드 내의 서브필드 수도 제한을 받는다.

그래서, 본 실시예에서는, 액정의 포화 응답 시간(액정 온 전압의 인가로부터 투과율 100%가 얻어질 때까지의 시간)이, 예컨대 프로젝터 용도에서는 5msec 정도인 것을 이용하여, 1 필드 내의 서브필드 수를 많게 하는 일없이, 표현 가능한 계조수를 증대시키도록 되어 있다.

도 23의 구동 회로는, 예컨대 도 11의 주사선 구동 회로(401), 데이터선 구동 회로(500) 및 표시 영역(101a)을 제외한 부분에 상당한다. 서브필드 타이밍 발생기(10)에는 외부로부터 수평 동기 신호 Hs, 수직 동기 신호 Vs 및 도트 클럭 DCLK이 입력된다. 서브필드 타이밍 발생기(10)는, 입력된 수평 동기 신호 Hs, 수직 동기 신호 Vs, 도트 클럭 DCLK을 기초로, 서브필드계에서 이용할 타이밍 신호를 생성한다.

즉, 서브필드 타이밍 발생기(10)는 디스플레이 구동용 신호인, 데이터 전송 클럭 CLX, 데이터 인에이블 신호 ENBX, 극성 반전 신호 FR를 생성하여 데이터선 구동 회로(500)(도 11 참조)에 출력한다. 또한, 서브필드 타이밍 발생기(10)는 주사 개시 펄스 DY, 주사측 전송 클럭 CLY를 생성하여 주사선 구동 회로(401)에 출력한다. 또한, 서브필드 타이밍 발생기(10)는 제어기 내부에서 이용할 데이터 전송 개시 펄스 DDS 및 서브필드 식별 신호 SF를 생성하여 데이터·인코더(30)에 출력한다.

한편, 표시 데이터는 메모리·제어기(20)에 공급된다. 기입 어드레스 발생기(11)는 외부로부터 입력되는 수평 동기 신호 Hs, 수직 동기 신호 Vs, 도트 클럭 DCLK에 의해 그 때 전송되고 있는 데이터의 화면상에서의 위치를 특정하고, 특정한 결과에 근거하여 표시 데이터를 메모리(23, 24)에 저장하기 위한 메모리 어드레스를 생성해서 메모리·제어기(20)에 출력한다.

판독 어드레스 발생기(12)는 서브필드 타이밍 발생기(10)에 의해서 생성된 서브필드계의 타이밍 신호로부터 그 때 표시할 화면상에서의 위치를 결정하고, 결정한 결과에 근거하여 기입시와 동일한 룰에 따라 메모리(23, 24)로부터 데이터를 판독하기 위한 메모리 어드레스를 생성해서 메모리·제어기(20)에 출력한다.

메모리·제어기(20)는 입력된 표시 데이터를 메모리(23, 24)에 기입하거나, 또한 디스플레이에 표시하는 데이터를 메모리(23, 24)로부터 판독하기 위한 제어를 행한다. 즉, 메모리·제어기(20)는, 외부로부터 입력된 데이터의 메모리(23, 24)로의 기입은 타이밍 신호 DCLK에 동기시켜 기입 어드레스 발생기(11)에서 생성된 어드레스에 대하여 실행한다. 또한, 판독은 판독 어드레스 발생기(12)에서 생성된 어드레스로부터 서브필드 타이밍 발생기(10)에서 생성된 타이밍 신호 CLX에 동기시켜 실행한다. 메모리·제어기(20)는 판독한 데이터를 데이터·인코더(30)에 출력한다.

메모리(23, 24)는 필드마다 기입용 또는 판독용으로서 교대로 전환하여 사용된다. 이 전환 제어는 메모리·제어기(20)에 의해서 타이밍 신호에 맞추어 행하여진다.

코드 저장용 ROM(31)은 각 화소의 표시해야 할 밝기의 데이터(계조 데이터)에 대해 각 서브필드 기간마다 화소를 온 상태 또는 오프 상태로 하기 위한 H 레벨 또는 L 레벨의 2진 신호 Ds를 저장하고 있다. 코드 저장용 ROM(31)은 각 화소에 기입해야 될 데이터(계조 데이터)와, 기입을 행하는 서브필드를 어드레스로서 입력하면, 그 서브필드에 대응한 1 비트의 데이터(2진 신호(데이터) Ds)를 출력하도록 구성되어 있다.

데이터·인코더(30)는 메모리·제어기(20)로부터 전송되어 온 데이터와, 서브필드 타이밍 발생기(10)로부터 전송되어 오는 서브필드 식별 신호 SF에 의해 코드 저장용 ROM(31)으로부터 필요한 데이터를 판독하기 위한 어드레스를 생성하고, 그 어드레스를 이용하여 코드 저장용 ROM(31)으로부터 데이터를 판독해서, 데이터 전송 클럭 CLX에 동기하여 데이터선 구동 회로(500)에 출력한다.

본 실시예에서는, 코드 저장용 ROM(31)에 저장되어 있는 2진 신호 Ds는 액정의 응답 특성을 고려한 것으로 되어 있고, 계조 데이터에 근거하여 모든 서브필드 중의 임의의 서브필드를 백 표시 또는 흑 표시시키는 값으로 되어 있다. 도 24는 코드 저장용 ROM(31)에 저장되는 2진 신호 Ds를 설명하기 위한 것이다.

도 24는 1 필드를 시간축상에서 6개의 서브필드 Sf1∼Sf6으로 분할한 예를 나타내고 있다. 즉, 도 24에서는 1 필드 기간을 6 등분하여 각 분할 기간인 서브필드 기간마다 화소를 서브필드 구동하는 예에 관한 것이다. 도 24의 사선부는 온 전압을 인가하는 서브필드 기간을 나타내고, 블랭크부는 오프 전압을 인가하는 서브필드 기간을 나타내고 있다.

본 실시예에 있어서도, 각 화소에 대해, 지정된 계조 데이터에 근거하여 각 서브필드 기간 Sf1∼Sf6마다 각 화소를 온 상태(백 표시) 또는 오프 상태(흑 표시)로 함으로써 계조 표시를 한다.

도 8에 나타내는 바와 같이, 화소 전극에 대한 인가 전압(구동 전압)은 순간적으로 포화하는데 반하여, 화소의 투과율 응답은 느리며, 도 8 및 도 13 등에 나타내는 바와 같이, 소정의 지연 시간 후에 액정의 투과율은 포화된다. 도 24는 액정에 온 전압을 인가한 경우에 액정이 광학적으로 포화될 때까지 약 3∼4 서브필드 기간의 시간이 필요한 액정 재료를 이용한 예를 나타내고 있다. 또한, 오프 전압을 인가한 경우에 투과율이 포화 상태로부터 비투과 상태로 이행할 때까지의 비투과 응답 시간에 대해서도 1 서브필드 기간보다도 긴 액정 재료가 이용된다.

즉, 도 24의 예에서는, 온 전압 인가 후의 최초의 서브필드 기간에서는 액정은 포화 투과율의 4/10의 투과율로 변화되고, 다음 서브필드 기간까지, 즉 온 전압 인가 후의 2 서브필드 기간에서 7/10의 투과율로 변화되고, 온 전압 인가 후의 3 서브필드 기간에서 8/10의 투과율로 변화되며, 온 전압 인가 후의 4서브필드 기간에서 10/10의 투과율로 변화되는 예를 나타내고 있다.

또한, 도 24의 예는, 오프 전압 인가 후의 최초의 서브필드 기간에서는, 액정은 투과율이 3/10만큼 저하하고, 오프 전압 인가 후의 2 서브필드 기간에서 투과율이 5/10만큼 저하하고, 오프 전압 인가 후의 3 서브필드 기간에서 투과율이 7/10만큼 저하하며, 오프 전압 인가 후의 4 서브필드 기간에서 투과율이 10/10만큼 저하하는 예를 나타내고 있다.

도 24의 (a)는 필드 기간의 전반의 3 서브필드 기간에 온 전압을 인가하고, 후반의 3 서브필드 기간에 오프 전압을 인가한 예를 나타내고 있다. 액정의 투과율은, 첫번째 서브필드 기간에서 포화 투과율의 4/10까지 상승하고, 두번째 서브필드 기간에서 포화 투과율의 7/10까지 상승하며, 세번째 서브필드 기간에서 포화 투과율의 8/10까지 상승한다. 또한, 네번째의 서브필드 기간에서 투과율은 포화 투과율의 5/10로 저하하고, 다섯번째의 서브필드 기간에서 투과율의 3/10으로 저하하며, 여섯번째의 서브필드 기간에서 투과율의 1/10로 저하한다.

상술한 바와 같이, 서브필드 구동의 주기(도 24의 예에서는 1 필드 기간)가 충분히 짧은 경우에는 투과율의 적분값에 비례하여 밝기가 변화된다. 모든 서브필드 기간에서 100%의 투과율로 표시를 행한 경우에 완전한 백 표시가 얻어지는 것으로 하면, 도 24의 (a)의 필드 기간에서의 밝기는 완전한 백 표시의 {(4 + 7 + 8 + 5 + 3 + 1)/10} ×1/6 = 28/60의 밝기로 된다.

마찬가지로, 도 24의 (b)의 예에서는 완전한 백 표시의 {(4 + 3 + 1)/10} ×1/6 = 8/60의 밝기로 된다. 또한, 도 24의 (c)의 예에서는 완전한 백 표시의 {(4 + 3 + 1 + 4 + 3 + 1)/10} ×1/6 = 16/60의 밝기로 된다. 또한, 도 24의 (d)의 예에서는 완전한 백 표시의 {(4 + 7 + 4 + 3 + 2 + 1)/10} ×1/6 = 21/60의 밝기로 된다.

실시예 1과 같이, 단순히 온 전압을 인가하는 서브필드 기간을 연속시킨 경우에는, 6 분할한 서브필드 기간에 의해서 6 + 1 = 7 계조의 표시밖에 얻어지지 않는다. 이에 반하여, 본 실시예에서는 온 전압을 인가하는 서브필드 기간의 위치와 오프 전압을 인가하는 서브필드 기간의 위치를 적절히 설정함으로써, 7 계조보다도 현저히 많은 다수의 계조수에서의 표시가 가능하다.

도 25는 실시예 3에 있어서, 1 필드를 시간축상에서 16 서브필드로 분할한 예를 나타내고 있다. 도 25의 사선부는 온 전압을 인가하는 서브필드 기간을 나타내고, 블랭크부는 오프 전압을 인가하는 서브필드 기간을 나타내고 있다. 모든 서브필드 기간에서 백 표시로 되도록 한 경우에 완전한 백 표시가 얻어지는 것으로 하면, 도 25의 (a) 내지 (c)의 각 필드 기간에서의 밝기는 각기 완전한 백 표시의 약 60%, 50% 또는 55%이다.

도 25의 예는 도 25의 (a) 내지 도 25의 (c) 모두 온 전압을 인가하는 서브필드 수는 동일 수이지만, 온, 오프 펄스의 배열, 즉 온 전압의 인가하는 서브필드 기간의 위치와 오프 전압을 인가하는 서브필드 기간의 위치에 따라서 밝기가 변화되는 것을 나타내고 있다.

또, 단순히 온 전압을 인가하는 서브필드 기간을 연속시킨 경우에는, 16 서브필드에 의해서 17 계조의 표시밖에 얻어지지 않지만, 도 25의 예에서는 160 계조 이상의 계조 표현이 가능하다. 마찬가지로, 1 필드를 시간축상에서 32 서브필드로 분할한 경우에는, 256 계조 이상의 계조 표현이 가능하다.

또, 1 필드의 분할수는 임의의 수로 하는 것은 다른 실시예와 마찬가지이다. 또한, 본 실시예는 응답 속도가 느린 전기 영동을 이용한 표시 장치 등의 표시 장치에도 적용할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 전기 광학 재료로서의 액정의 응답 특성을 개선하여 화질의 향상을 도모할 수 있고, 또한 가중치 부여하지 않는, 단순한 필드 분할에 의해 서브필드를 정한 경우에도 서브필드의 수보다 훨씬 많은 계조 표시할 수 있다고 하는 효과를 갖는다.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 전기 광학 장치를 도시한 블럭도,

도 2는 도 1중의 화소의 구체적인 구성을 도시한 설명도,

도 3은 타이밍 신호 생성 회로(200)에 내장되고 개시 펄스 DY를 생성하는 개시 펄스 생성 회로의 구체적인 구성을 도시한 회로도,

도 4는 도 1중의 데이터선 구동 회로(140)의 구체적인 구성을 도시한 블럭도,

도 5는 전기 광학 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍차트,

도 6은 서브필드 구동에 있어서의 각 서브필드 기간을 나타내는 타이밍차트,

도 7은 실시예 1에 따른 전기 광학 장치에서 교류화 신호 및 화소 전극에 인가되는 전압을 프레임 단위로 나타내는 타이밍차트,

도 8은 서브필드 구동에 의한 화소 데이터의 기입시의 각 필드에서의 액정의 구동 전압 파형과, 각 필드에서의 액정의 투과율의 변화 상태의 관계를 나타내는 설명도,

도 9는 동화상을 표시하는 경우에 있어서, 필드의 전환에서 표시 내용이 변화할 때의, 서브필드 구동에 의한 화소 데이터의 기입 제어 상태를 나타내는 설명도,

도 10은 종래의 아날로그 구동에 의한 화소 데이터의 기입시의 각 필드에서의 액정의 구동 전압 파형과, 각 필드에서의 액정의 투과율의 변화 상태의 관계를 나타내는 설명도,

도 11은 본 발명의 실시예 2에 따른 전기 광학 장치를 도시한 블럭도,

도 12는 실시예 2에 있어서, 승압 회로(540)의 동작을 설명하는 도면,

도 13은 실시예 2에 있어서, 도 16에 도시하는 바와 같이 서브필드를 제어한 경우의 액정의 투과율을 나타낸 도면,

도 14는 실시예 2에 있어서, 데이터선 구동 회로(500)의 구성을 설명하는 도면,

도 15는 실시예 2에 따른 전기 광학 장치의 동작을 설명하기 위한 타이밍차트,

도 16은 실시예 2에 있어서, 서브필드의 백(白) 표시 기간을 나타내는 타이밍차트,

도 17은 실시예 2에 있어서, 도 16에 도시하는 바와 같이 서브필드를 제어한 경우의 화소의 밝기를 나타내는 그래프,

도 18은 전기 광학 장치(100)의 구성을 도시한 평면도,

도 19는 도 18에 있어서의 A-A'선의 단면도,

도 20은 본 발명의 실시예에 따른 전기 광학 장치를 적용한 전자기기의 일례인 프로젝터의 구성을 도시한 단면도,

도 21은 본 발명의 실시예에 따른 전기 광학 장치를 적용한 전자기기의 일례인 퍼스널 컴퓨터의 구성을 도시한 사시도,

도 22는 본 발명의 실시예에 따른 전기 광학 장치를 적용한 전자기기의 일례인 휴대전화의 구성을 도시한 사시도,

도 23은 실시예 3에서 채용되는 구동 회로를 도시한 블럭도,

도 24는 실시예 3을 설명하기 위한 설명도,

도 25는 실시예 3을 설명하기 위한 설명도.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

101a : 표시 영역

130 : 주사선 구동 회로

140 : 데이터선 구동 회로

150 : 클럭 발생 회로

200 : 타이밍 신호 생성 회로

300 : 데이터 변환 회로

400 : 구동 전압 생성 회로

Claims (36)

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31. 각 필드를 시간축 상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 표시 데이터에 따라 각 서브필드에서 온 전압 또는 오프 전압으로 구동하여, 전기 광학 물질을 구비하는 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 되게 함으로써 서브필드 구동 방식으로 상기 복수의 화소에 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 방법으로서,

    상기 표시 데이터에 따라 상기 화소를 투과 상태로 하는 서브필드를 상기 필드의 전반에 집중시키고, 또한,

    상기 필드의 전반중 일부를 상기 화소를 비투과 상태로 하는 서브필드로 하는 것

    을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 구동 방법.
32. 제 31 항에 있어서,

    상기 표시 데이터에 근거하여 필드의 전반에 투과 상태로 하는 서브필드를 연속적으로 배치하고, 또한 투과 상태 개시의 서브필드를 제외한 투과 상태 개시 근방의 서브필드를 상기 화소를 비투과 상태로 하는 서브 필드로 하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 구동 방법.
33. 제 31 항 또는 제 32 항에 있어서,

    상기 표시 데이터에 근거하여 필드의 전반에 투과 상태로 하는 서브필드를 연속적으로 배치하고, 또한 투과 상태 종료의 서브필드를 제외한 투과 상태 종료 근방의 서브필드를 상기 화소를 비투과 상태로 하는 서브필드로 하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 구동 방법.
34. 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 마련된 복수의 화소와, 상기 각 화소에 대응하여 마련된 스위칭 소자와, 상기 스위칭 소자에 대응하여 마련된 화소 전극과, 상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극과, 상기 화소 전극과 상기 대향 전극 사이에 위치하는 전기 광학 물질을 갖고, 각 필드를 각 시간축 상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 상기 화소를 투과 상태 또는 비투과 상태로 하기 위해서 상기 서브 필드 마다 온 전압 또는 오프 전압을 상기 화소에 인가하는 서브필드 구동 방식으로 상기 복수의 화소 각각에 계조 표시시키는 전기 광학 장치의 구동 회로로서,

    상기 표시 데이터에 따라 상기 화소를 투과 상태로 하는 서브필드를 상기 필드의 전반에 집중시키고, 또한 상기 필드의 전반중 일부를 상기 화소를 비투과 상태로 하는 서브필드로 하도록 제어하는 제어 수단

    을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 구동 회로.
35. 복수의 주사선과 복수의 데이터선의 각 교차에 대응하여 마련된 복수의 화소와,

    상기 각 화소에 대응하여 마련된 스위칭 소자와,

    상기 스위칭 소자에 대응하여 마련된 화소 전극과,

    상기 화소 전극에 대하여 대향 배치된 대향 전극과,

    상기 화소 전극과 상기 대향 전극 사이에 위치하는 전기 광학 물질과,

    각 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 해당 복수의 서브필드 각각에서 상기 스위칭 소자를 도통시키는 주사 신호를 상기 각 주사선에 공급하는 주사선 구동 회로와,

    표시 데이터에 따라 상기 복수의 화소 각각에 투과 상태로 하는 펄스 신호를 상기 필드의 전반에 집중시키고, 또한 상기 필드의 전반중 일부를 상기 화소를 비투과 상태로 하는 서브필드로 하도록 데이터선 구동 회로를 제어하는 제어 수단

    을 갖는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
36. 청구항 35에 기재된 전기 광학 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 전자기기.