KR100494576B1 - 크롬 산화 부동태막 표면 처리 장치 - Google Patents
크롬 산화 부동태막 표면 처리 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (10)
- 표면을 처리하고자 하는 제품에 대해 전해액과 전원을 인가하여 균일한 크롬 산화 부동태막을 형성시키는 크롬 산화 부동태막 처리 장치에 있어서,상기 전해액을 수용하고 있는 전해액조;상기 제품을 위치시키고 상기 전해액과 상기 전원을 인가하여 전해 반응을 일으켜 상기 제품에 대해 크롬 산화 부동태막을 균일하게 형성시키는 지그(Jig);상기 지그로 전원을 인가하기 위한 정류기;상기 전해액조의 상기 전해액을 상기 지그로 송출하기 위한 펌프(Pump);상기 펌프로부터 송출된 상기 전해액을 다수의 밸브를 거쳐 다수의 상기 지그로 일정하게 분배하는 매니폴드(Manifold);상기 전해액의 압력을 검출하기 위한 압력계;상기 전해액의 유량을 검출하기 위한 유량계;상기 전해액의 온도를 측정하기 위한 온도 센서;상기 전해액의 공급량을 조절하기 위한 유량 조절 밸브; 및상기 압력계와 상기 유량계, 및 상기 온도 센서로부터 인가된 검출 신호를 근거로 상기 정류기의 공급 전원을 제어하고, 상기 전해액조 내의 상기 전해액의 온도를 조절하며, 상기 유량 조절 밸브를 제어하는 컨트롤 박스(Control Box)를 포함하며,상기 컨트롤 박스는 지그에서 전해반응을 일으킬 때 발생되는 산소 가스량에 따라 상기 유량조절밸브를 제어하여 상기 전해액의 공급량을 조절하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 전해액조 내에는 상기 전해액의 온도를 조절하기 위한 히터가 구비되고, 상기 히터는 상기 컨트롤 박스의 제어에 따라 온 또는 오프되는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 지그는 상기 전원의 플러스 전원을 인가하는 플러스 전극과 상기 전원의 마이너스 전원을 인가하는 마이너스 전극을 구비하고, 상기 플러스 전극에 상기 제품을 접촉시키고 상기 마이너스 전극과는 일정 간격을 갖도록 위치시켜서 상기 일정 간격으로 상기 전해액을 통과시켜 전해 연마가 발생하도록 하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 플러스 전극에서의 반응식이 인 전해 연마에 의해 산소 가스가 발생하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 마이너스 전극에서 발생하는 전해 연마의 반응식은 인 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 지그는 상기 제품을 상기 플러스 전극에 접촉시키고 상기 마이너스 전극과는 일정 간격으로 위치시켜서 상기 전원과 상기 전해액에 의해 전해 연마가 발생하도록 함으로써 상기 제품에 크롬 산화 부동태막이 생성되도록 하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 전해 반응을 일으켜 상기 크롬 산화 부동태막을 형성시킬 때 발생되는 가스를 배기하기 위한 덕트; 및 외부 위험 요소를 차단하는 기능을 하는 커버를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 삭제
- 제 7 항에 있어서,상기 외부 위험 요소는 산소, 질소, 이산화탄소, 알곤, 수소, 네온, 헬륨으로 구성되는 공기를 포함하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
- 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 지그는, 상기 플러스 전극에 상기 제품이 접촉되어 있고, 상기 플러스 전극에 절연대가 부착되어 있으며, 상기 전해액을 급속히 배출하기 위한 급속 배출캡을 구비하며, 금속 봉함(Metal Seal)면 부위의 연마를 제어할 때 손실(Leak)을 줄이도록 보호캡을 구비하는 것을 특징으로 하는 크롬 산화 부동태막 처리 장치.
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KR10-2002-0036526A KR100494576B1 (ko) | 2002-06-27 | 2002-06-27 | 크롬 산화 부동태막 표면 처리 장치 |
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US108867A (en) * | 1870-11-01 | Improvement in printing-telegraphs | ||
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KR200159533Y1 (ko) * | 1995-12-26 | 1999-10-15 | 이구택 | 분사압력의 조절및 감지가 가능한 제트분사 전해연마장치 |
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2002
- 2002-06-27 KR KR10-2002-0036526A patent/KR100494576B1/ko active IP Right Grant
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