KR100487834B1 - 레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법 및 장치 - Google Patents
레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법 및 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (11)
- 유기EL 디스플레이 제조를 위한 유기막 패턴용 패턴마스크 세정방법에 있어서,패턴마스크 상에 펄스 레이저빔을 조사하여 상기 패턴마스크 상의 오염물질층과 패턴마스크 사이의 계면접합을 파괴하는 제1단계와;상기 오염물질층과의 계면접합이 파괴된 패턴마스크에 초음파를 공급하여 상기 패턴마스크로부터 오염물질을 박리시키는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제1단계는 레이저빔을 패턴마스크 단위면적(㎠)당 10~1000mJ의 범위로 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제2단계는 초음파 전달매질로서 초순수와 아세톤 중에서 선택된 하나를 사용하거나, 초순수와 아세톤을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제2단계 다음에 세정과 건조공정을 수행하는 제3단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정방법.
- 청구항 4에 있어서, 상기 제3단계는 패턴마스크에 초순수를 분사하고, 알코올을 분사한 다음, 에어를 분사하여 세정과 건조공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 패턴마스크 세정방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 제2단계는 초음파를 패턴마스크 후면에 조사시키는 것을 특징으로 하는 패턴마스크 세정방법.
- 유기EL 디스플레이 제조를 위한 유기막 패턴용 패턴마스크 세정장치에 있어서,상기 패턴마스크를 이송시키는 컨베이어 수단과;상기 컨베이어 수단으로부터 이송된 상기 패턴마스크 상에 펄스 레이저빔을 조사하여 오염물질층과 패턴마스크 사이의 계면접합을 파괴시키는 레이저 처리부와;상기 레이저 처리부로부터 오염물질층과의 계면접합이 파괴되어 이송된 상기 패턴마스크에 초음파를 조사하여 오염물질을 박리시키는 초음파 처리부와;상기 초음파 처리부에 의하여 오염물질이 박리되어 이송된 패턴마스크를 세정한 다음, 건조시키는 세정/건조 처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정장치.
- 청구항 7에 있어서, 상기 레이저 처리부는 레이저를 발진시키는 레이저 발진기와, 이로부터 발진된 레이저빔을 상기 패턴마스크 상으로 유도하는 가이드미러와, 이로부터 유도된 레이저빔을 상기 패턴마스크 상에 조사하도록 좌우이동 가능한 스캐닝미러를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정장치.
- 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서, 상기 레이저 처리부는 발진된 레이저빔의 크기를 확대시키는 레이저빔 확대기를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정장치.
- 청구항 7에 있어서, 상기 초음파 처리부는 이송된 패턴마스크를 초순수가 수용된 초음파 욕조에 침적시키고, 상기 초음파 욕조의 바닥부에서 초음파를 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정장치.
- 청구항 7에 있어서, 상기 세정/건조 처리부는 상기 초음파 처리부로부터 이송된 패턴마스크 상부면에 초순수, 알코올, 에어를 순차적으로 분사하는 각각의 분사수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 패턴마스크 세정장치.
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