KR100443086B1 - 반도체 제조설비의 폐액 처리장치 - Google Patents

반도체 제조설비의 폐액 처리장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100443086B1
KR100443086B1 KR1019970035189A KR19970035189A KR100443086B1 KR 100443086 B1 KR100443086 B1 KR 100443086B1 KR 1019970035189 A KR1019970035189 A KR 1019970035189A KR 19970035189 A KR19970035189 A KR 19970035189A KR 100443086 B1 KR100443086 B1 KR 100443086B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
waste liquid
tank
liquid tank
auxiliary
receiving
Prior art date
Application number
KR1019970035189A
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990011934A (ko
Inventor
민병호
배형철
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1019970035189A priority Critical patent/KR100443086B1/ko
Publication of KR19990011934A publication Critical patent/KR19990011934A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100443086B1 publication Critical patent/KR100443086B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

코팅/현상설비에서 발생되는 폐액의 배출이 용이하게 실시되고, 배출 이상 발생시 경보동작을 수행하도록 개선시킨 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 반도체 제조공정에 사용된 폐액을 1 차 수용하는 주폐액조와 2 차 수용하는 보조폐액조, 상기 주폐액조에 연결되어 상기 보조폐액조에 폐액의 흐름을 유도하는 관을 구비하는 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 있어서, 상기 주폐액조와 상기 보조폐액조의 각 상단부에 설치되어서 폐액의 과수용 상태를 감지하는 제 1 및 제 2 센싱수단, 상기 보조폐액조의 하부에 설치되어서 상기 보조폐액조의 유무를 감지하는 제 3 센싱수단, 상기 관에 설치되어 폐액의 흐름을 단속하는 개폐수단 및 상기 제 1 내지 제 3 센싱수단의 센싱신호를 인가받아서 주폐액조가 과수용 상태이면 상기 개폐수단을 닫도록 제어하는 제어부를 구비하여 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 폐액처리가 자동적으로 제어되고, 이상 발생시 경보동작함으로써 작업효율 및 생산성이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체 제조설비의 폐액 처리장치
본 발명은 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 코팅/현상설비에서 발생되는 폐액의 배출이 용이하게 실시되고, 배출 이상 발생시 경보동작을 수행하도록 개선시킨 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 관한 것이다.
종래의 폐액 처리장치는 도1에서 보는 바와 같이 코팅/현상설비(10) 내부에 주폐액조(12)가 포함되어 있어서 공정중에 발생되는 폐액을 1차 수용하도록 되어 있다. 공정이 진행됨에 따라서 주폐액조(12)에 폐액이 충만되면 작업자는 폐액이 넘치기 전에 이를 확인하고, 수동밸브(14)를 열면 관(16)을 통해서 폐액이 유출되며 보조폐액조(18)에 폐액이 2차 수용되어서 작업자가 이를 처리하였다.
그러나, 폐액 처리에 있어서 주폐액조(12)의 수위를 수시로 확인하지 않으면 폐액이 넘치는 경우가 발생했고, 주폐액조(12)에서 보조폐액조(18)로 폐액을 배출하기 위해서는 작업자가 직접 수동밸브(14)를 조작하여야 했으며, 또한 수동밸브(14)가 열려있는 동안에는 보조폐액조(18)에 폐액이 넘치지 않도록 작업자가 지켜보아야 하는 문제점이 발생되고 있다.
따라서, 종래에는 전술한 바와 같이 작업자가 직접 폐액을 확인하고, 수동밸브(14)를 작동하며, 보조폐액조(18)에 수용되는 폐액이 넘치지 않도록 지켜봄으로써 작업효율의 저하를 초래하게 되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 주폐액조 및 보조폐액조에 수위감지센서를 설치하여 폐액의 수위감지와 밸브의 구동을 자동화고, 이들에 이상 발생시 경보동작함으로써 작업효율을 향상시키는 반도체 제조설비의 폐액 처리장치를 제공하는데 있다.
도1은 종래의 반도체 제조설비의 폐액 처리장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도2는 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 폐액 처리장치의 실시예를 나타내는 도면이다.
도3은 본 발명에 따른 실시예의 상세 회로도이다.
※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10, 20 : 코팅/현상설비 12, 22 : 주폐액조
14 : 수동밸브 16, 28 : 관
18, 30 : 보조폐액조 24, 32 : 수위감지센서
26 : 솔레노이드 밸브 34 : 광센서
36 : 제어부 38 : 경보부
40, 42, 44 : 논리곱게이트 46 : 멀티바이브레이터
48 : 릴레이 50 : 부저
Vcc : 구동전압 R1 ∼ R9 : 저항
PS1, PS2 : 포토센서(Photo Sensor) D1 ∼ D3 : 다이오드
C1, C2 : 콘덴서 S1 : 리셋스위치
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 폐액 처리장치는, 반도체 제조공정에 사용된 폐액을 1 차 수용하는 주폐액조와 2 차 수용하는 보조폐액조, 상기 주폐액조에 연결되어 상기 보조폐액조에 폐액의 흐름을 유도하는 관을 구비하는 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 있어서, 상기 주폐액조와 상기 보조폐액조의 각 상단부에 설치되어서 폐액의 과수용 상태를 감지하는 제 1 및 제 2 센싱수단, 상기 보조폐액조의 하부에 설치되어서 상기 보조폐액조의 유무를 감지하는 제 3 센싱수단, 상기 관에 설치되어 폐액의 흐름을 단속하는 개폐수단 및 상기 제 1 내지 제 3 센싱수단의 센싱신호를 인가받아서 주폐액조가 과수용 상태이면 상기 개폐수단을 닫도록 제어하는 제어부를 구비하여 이루어진다.
그리고, 상기 제 3 센싱수단은 상기 보조폐액조의 정위치를 감지하는 광센서로 이루어진다.
그리고, 상기 개폐수단은 솔레노이드 밸브로 이루어진다.
또한, 상기 제어부에 연결되어 상기 제 1 내지 제 3 센싱수단의 센싱상태에 따라 경보동작을 수행하는 경보부를 더 구비함이 바람직하다.
그리고, 상기 경보부는 상기 제 1 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 주폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 1 비교수단, 상기 제 2 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 보조폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 2 비교수단, 상기 제 1 및 제 2 비교수단의 신호를 인가받아서 판단펄스를 출력하는 제 3 비교수단, 상기 제 3 비교수단의 판단펄스를 인가받아서 스위칭신호를 출력하는 게이트 및 상기 게이트의 스위칭신호에 의해 스위칭되는 스위칭수단을 구비함이 바람직하다.
그리고, 상기 경보부는 상기 보조폐액조가 과수용 상태이면 상기 제어부의 제어신호에 의해 경보동작이 이루어지도록 구성된다.
그리고, 상기 경보부는 상기 보조폐액조가 구비되어 있지 않으면 상기 제어부의 제어신호에 의해 경보동작이 이루어지도록 구성된다.
그리고, 상기 경보부는 발광함으로써 경보동작을 수행하는 램프나, 경보음을 발생함으로써 경보동작을 수행하는 부저로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 제 1 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 주폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 1 비교수단, 상기 제 2 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 보조폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 2 비교수단, 상기 제 1 및 제 2 비교수단의 신호를 인가받아서 스위칭신호를 출력하는 제 3 비교수단 및 상기 제 3 비교수단의 스위칭신호를 인가받아서 상기 개폐수단에 개폐신호를 출력하는 스위칭수단으로 이루어진다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도2를 참조하면, 실시예는 코팅/현상설비(20)에 포함되어 주폐액조(22)가 구비되어 있다. 주폐액조(22)의 상단부에는 수위감지센서(24)가 설치되어 있고, 하단부에는 솔레노이드 밸브(26)가 구비된 관(28)이 연결되어 있다. 관(28)에서 소정 거리 이격되어서 보조폐액조(30)가 구비되어 있고, 그 상단부에는 수위감지센서(32)가, 하단부에는 보조폐액조(30)의 유무를 감지하는 광센서(34)가 설치되어 있다.
또한 수위감지센서, 광센서(34) 및 솔레노이드 밸브(26)는 제어부(36)에 연결되고, 제어부(36)에는 경보부가 연결되어서 구성된다.
전술한 바와 같이 구성된 실시예는 수위감지센서 및 광센서(34)의 신호를 인가받은 제어부(36)가 솔레노이드 밸브(26)를 개폐하여 폐액을 방출하고, 이상 발생시 경보신호를 경보부(38)에 인가하여 경보동작이 이루어진다.
구체적인 제어동작은 도3을 참조하여 상세히 설명한다.
도3은 본 발명에 따른 실시예의 상세 회로도로서, 구동전압(Vcc)을 인가받는 수위감지센서(24)가 저항(R1)을 통해 포토센서(PS1)의 발광측에 연결되어 있다. 포토센서(PS1)의 수광측에는 스위칭상태에 따라 구동전압(Vcc)을 인가받는 일측이 접지되어 있는 저항(R2)과 논리곱게이트(40)의 입력단자가 병렬로 연결되어 있다.
구동전압(Vcc)을 인가받는 수위감지센서(32)는 포토센서(PS2)의 발광측에 연결되어 있는 저항(R3)과 직렬로 연결되어 있고, 발광측의 다른 부분은 접지되어 있다. 포토센서(PS2)의 수광측은 저항(R4)을 통해 구동전압(Vcc)이 인가되는 일단자에서 논리곱게이트(42)의 입력신호를 인가하도록 연결되어 있고, 다른 단자는 접지되어 있다.
구동전압(Vcc)을 인가받는 광센서(34)는 접지되어 있는 저항(R5)과 병렬로 연결되어서 각각의 논리곱게이트(40, 42)에 입력신호를 인가하도록 연결되어 있다.
각각의 논리곱게이트(40, 42)의 출력단은 논리곱게이트(44)의 입력단에 연결되고, 논리곱게이트(44)의 출력단은 멀티바이브레이터(46) 및 저항(R6)을 통해 트랜지스터(Q1)의 베이스(Base)에 연결되며 멀티바이브레이터(46)의 입력단으로 연결된다.
트랜지스터(Q1)의 콜렉터(Collector)에는 구동전압(Vcc)을 인가받은 다이오드(D1)와 솔레노이드 밸브(26)가 병렬로 연결되어 있고, 에미터(Emitter)는 접지된다.
구동전압(Vcc)을 인가받는 저항(R8)은 일단자가 접지되어 있는 콘덴서(C1)와 병렬로 멀티바이브레이터(46)에 연결된다. 멀티바이브레이터(46)의 리셋단은 구동전압(Vcc)을 인가받는, 병렬로 연결되어 있는, 저항(R7)과 다이오드(D2)에 병렬로 일측이 접지된 콘덴서(C2)가 연결되어 있다.
멀티바이브레이터(46)의 출력단은 저항(R9)을 통해 트랜지스터(Q2)의 베이스에 연결된다. 트랜지스터(Q2)의 에미터는 접지되고, 콜렉터에는 구동전압(Vcc)이 인가되는 다이오드(D3)에 병렬로 릴레이(48)가 연결되어 있으며, 트랜지스터(Q2)의 콜렉터에 연결되어 있는 릴레이(48)에는 리셋스위치(S1)가 접지되어서 연결되어 있다. 또한 리셋스위치(S1)의 접지단자에 릴레이(48)의 일단자가 연결되고, 릴레이(48)의 다른 단자에는 구동전압(Vcc)을 인가받는 부저(50)가 연결되어 구성된다.
전술한 바와 같이 구성된 실시예를 구체적으로 설명한다.
주폐액조(22)에 폐액이 소정 레벨 이상 충만되면 수위감지센서(24)가 온(On)되고, 구동전압(Vcc)이 저항(R1)을 통해 포토센서(PS1)에 인가된다. 이에 따라 포토센서(PS1)가 턴온(Turn-on)되면 논리곱게이트(40)에 하이(High)신호가 인가된다.
이때 보조폐액조(30)가 비어있는 상태이고, 정상위치에 놓여 있어서 광센서(34)가 이를 감지하면 논리곱게이트(40, 42) 각각에 하이신호가 인가된다. 즉 수위감지센서(32)가 오프(Off)이므로 포토센서(PS2)도 오프되어서 논리곱게이트(42)에 하이신호가 인가된다. 그리고 광센서(34)가 온되어서 각각의 논리곱게이트(40, 42)에 하이신호를 인가한다.
그러면 논리곱게이트(40, 42)의 출력이 모두 하이가 되므로 논리곱게이트(44)는 하이신호를 출력하여서 저항(R6)을 통해 트랜지스터(Q1)가 턴온된다. 트랜지스터(Q1)가 턴온되면서 구동전압(Vcc)이 솔레노이드 밸브(26)에 인가되면 솔레노이드 밸브(26)가 작동되어서 주폐액조(22)의 폐액이 관(28)을 통해 보조폐액조(30)에 유입된다.
논리곱게이트(44)의 하이신호는 반전되어서 멀티바이브레이터(46)에 인가되면 출력은 로우(Low)가 되어서 트랜지스터(Q2)는 오프상태를 유지하고, 릴레이(48) 역시 오프되어서 부저(50)는 울리지 않는다.
폐액이 보조폐액조(30)에 유입되는 소정 시간동안 주폐액조(22)의 센싱신호는 하이상태를 유지하여서 솔레노이드 밸브(26)는 열린 상태를 유지한다.
보조폐액조(30)에 폐액이 충만되면 수위감지센서(32)가 수위를 감지하여 구동전압(Vcc)이 포토센서(PS2)에 인가된다. 그러면 포토센서(PS2)가 온되고, 논리곱게이트(42)에 로우(Low)신호가 인가되어서 논리곱게이트(42)의 출력은 로우가 된다. 이때 트랜지스터(Q1)는 턴오프(Turn-off)되어 솔레노이드 밸브(26)는 닫힌다.
또한 논리곱게이트(44)의 출력이 로우가 됨에 따라 멀티바이브레이터(46)는 하이신호를 출력하고, 트랜지스터(Q2)는 턴온되며 구동전압(Vcc)이 릴레이(48)에 인가되어 릴레이(48)가 작동되면서 부저(50)가 울리게 된다. 이때 작업자는 보조폐액조(30)에 폐액이 충만되었음을 판단하고, 적절한 조치를 취한 후에 리셋스위치(S1)를 조작하여 부저(50)의 작동을 중지시킨다.
그러나 폐액이 주폐액조(22)에 충만되었을 때, 즉 포토센서(PS1)가 턴온되어 논리곱게이트(40)에 하이신호가 인가될 때, 보조폐액조(30)가 충만되거나 또는 보조폐액조(30)가 정위치에 놓여 있지 않아서 광센서(34)가 이를 감지하지 못하면 논리곱게이트(44)의 출력은 로우가 되어서 솔레노이드 밸브(26)는 열리지 않고, 멀티바이브레이터(46)에 하이신호가 입력되어 트랜지스터(Q2)가 턴온되면서 릴레이(48)의 동작에 의해 부저(50)가 울린다. 그러면 작업자는 이상이 발생된 부위를 점검하여 적절한 조치를 취하게 된다.
전술한 바와 같이 주폐액조(22)가 충만상태이고, 보조폐액조(30)에 폐액이 포함되어 있지 않으며, 보조폐액조(30)가 정위치에 있으면, 솔레노이드 밸브(26)가 작동되어 폐액이 자동적으로 배출된다. 이때 보조폐액조(30)에 폐액이 충만되면 솔레노이드 밸브(26)가 닫히고, 부저(50)가 울려서 작업자는 적절한 조치를 취한다.
이와 같이 실시예에 의하면 주폐액조(22)의 레벨과 보조폐액조(30)의 레벨 및 정위치 여부에 따라서 솔레노이드 밸브(26)가 자동으로 개폐되어서 폐액의 배출이 용이하게 실시되고, 이상 발생시 부저(50)가 작동되어 신속한 조치를 취하게 되는 이점이 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 폐액처리가 자동적으로 제어되고, 이상 발생시 경보동작함으로써 작업효율 및 생산성이 향상되는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (10)

  1. 반도체 제조공정에 사용된 폐액을 1차 수용하는 주폐액조와 2차 수용하는 보조폐액조, 상기 주폐액조에 연결되어 상기 보조폐액조에 폐액의 흐름을 유도하는 관을 구비하는 반도체 제조설비의 폐액 처리장치에 있어서,
    상기 주폐액조와 상기 보조폐액조의 각 상단부에 설치되어서 폐액의 과수용 상태를 감지하는 제 1 및 제 2 센싱수단;
    상기 보조폐액조의 하부에 설치되어서 상기 보조폐액조의 유무를 감지하는 제 3 센싱수단;
    상기 관에 설치되어 폐액의 흐름을 단속하는 개폐수단; 및
    상기 제 1 내지 제 3 센싱수단의 센싱신호를 인가받아서 주폐액조가 과수용 상태이면 상기 개폐수단을 닫도록 제어하는 제어부;
    를 구비함을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 3 센싱수단은,
    상기 보조폐액조의 정위치를 감지하는 광센서로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 개폐수단은,
    솔레노이드 밸브로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어부에 연결되어 상기 제 1 내지 제 3 센싱수단의 센싱상태에 따라 경보동작을 수행하는 경보부를 더 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 경보부는,
    상기 제 1 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 주폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 1 비교수단;
    상기 제 2 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 보조폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 2 비교수단;
    상기 제 1 및 제 2 비교수단의 신호를 인가받아서 판단펄스를 출력하는 제 3 비교수단;
    상기 제 3 비교수단의 판단펄스를 인가받아서 스위칭신호를 출력하는 게이트; 및
    상기 게이트의 스위칭신호에 의해 스위칭되는 스위칭수단;
    을 구비함을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 경보부는,
    상기 보조폐액조가 과수용 상태이면 상기 제어부의 제어신호에 의해 경보동작이 이루어지도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  7. 제 4 항에 있어서, 상기 경보부는,
    상기 보조폐액조가 구비되어 있지 않으면 상기 제어부의 제어신호에 의해 경보동작이 이루어지도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  8. 제 4 항에 있어서, 상기 경보부는,
    발광함으로써 경보동작을 수행하는 램프로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  9. 제 4 항에 있어서, 상기 경보부는,
    경보음을 발생함으로써 경보동작을 수행하는 부저로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 제어부는,
    상기 제 1 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 주폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 1 비교수단;
    상기 제 2 및 제 3 센싱수단의 신호를 인가받아서 상기 보조폐액조의 과수용 상태를 판단하는 제 2 비교수단;
    상기 제 1 및 제 2 비교수단의 신호를 인가받아서 스위칭신호를 출력하는 제 3 비교수단; 및
    상기 제 3 비교수단의 스위칭신호를 인가받아서 상기 개폐수단에 개폐신호를 출력하는 스위칭수단;
    으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 반도체 제조설비의 폐액 처리장치.
KR1019970035189A 1997-07-25 1997-07-25 반도체 제조설비의 폐액 처리장치 KR100443086B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970035189A KR100443086B1 (ko) 1997-07-25 1997-07-25 반도체 제조설비의 폐액 처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970035189A KR100443086B1 (ko) 1997-07-25 1997-07-25 반도체 제조설비의 폐액 처리장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990011934A KR19990011934A (ko) 1999-02-18
KR100443086B1 true KR100443086B1 (ko) 2004-09-18

Family

ID=37357639

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970035189A KR100443086B1 (ko) 1997-07-25 1997-07-25 반도체 제조설비의 폐액 처리장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100443086B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990011934A (ko) 1999-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102011379B1 (ko) 오배수펌프 제어시스템 및 제어방법
KR930017545A (ko) 세정기의 제어장치
KR100443086B1 (ko) 반도체 제조설비의 폐액 처리장치
US6026986A (en) Chemical spray system and waste liquid tank used in same
KR100734674B1 (ko) 자동제어식 세탁기
KR20040019656A (ko) 세탁기의 급수 제어장치 및 그 방법
KR970002318B1 (ko) 세탁기 수위감지 센서의 고장 검출방법
JPH02304128A (ja) 住居内排水系の排水制御方法
JP4426786B2 (ja) 排水分別装置
KR100186294B1 (ko) 세탁기의 배수시간 자동조정 및 오물제거 알람방법
KR900000063Y1 (ko) 전자 감지식 수도 밸브
JPH0483027A (ja) 自動水栓の制御方法
KR200325125Y1 (ko) 반도체제조공정용기기의오일자동교환장치
KR0123049Y1 (ko) 반도체 제조를 위한 코팅공정용 포토레지스트 자동폐기장치
KR950007066B1 (ko) 세탁기의 세제량 측정장치 및 헹굼제어방법
KR970006593B1 (ko) 세탁기의 세탁물 오염방지방법
KR940008600B1 (ko) 세탁기의 탈수시간 제어방법
KR930008140B1 (ko) 포토레지스트 폐액 자동처리장치
KR960009393B1 (ko) 급/배수 탱크의 수위 조절 장치
JPH0735612A (ja) 検知センサを有する電子機器
KR950003679Y1 (ko) 헹굼 효율 향상 세탁기
KR940006845Y1 (ko) 식기 세척기의 급수 조절장치
JP2002048877A (ja) 物体検知装置
KR960005276B1 (ko) 드레인펌프가 부착된 세탁기의 오버플로우 방지방법
KR940001941Y1 (ko) 샤-워 밸브 자동 개폐장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070612

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee