KR100422487B1 - Evaporation Apparatus for Manufacturing Organic Electro-Luminescent Display Device using Electromagnet and Evaporation Method using the same - Google Patents

Evaporation Apparatus for Manufacturing Organic Electro-Luminescent Display Device using Electromagnet and Evaporation Method using the same Download PDF

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KR100422487B1
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Abstract

본 발명은 유기전계발광표시소자(Organic Electro-Luminescent Display; OELD)를 제조하는데 사용되는 증착장치 및 그를 이용한 진공증착방법에 관한 것으로, 전자석과 영구자석을 동시에 구비하는 섀도우마스크 안착테이블을 이용함으로써 정렬시에도 유리기판과 섀도우마스크가 평행하게 배치되도록 하고 섀도우마스크 안착테이블에 3축 위치이동수단을 적용함으로써 정확한 정렬이 가능하며, 정렬후에는 영구자석을 포함하는 섀도우마스크 홀더유닛을 이용하여 유리기판과 마스크를 밀착시킨후 섀도우마스크 안착테이블을 작업위치 밖으로 이동시킨 후 동일한 챔버 내에서 증착공정을 수행하도록 한다. 따라서, 정확한 정렬 및 우수한 증착효율을 동시에 달성할 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposition apparatus used to fabricate an organic electroluminescent display (OELD) and a vacuum deposition method using the same, and to aligning by using a shadow mask seating table having an electromagnet and a permanent magnet simultaneously. Even when the glass substrate and the shadow mask are arranged in parallel and the three-axis position shifting means is applied to the shadow mask seating table, accurate alignment is possible.After alignment, the glass substrate and the shadow mask holder unit including a permanent magnet are used. After the mask is in close contact, the shadow mask seating table is moved out of the working position, and then the deposition process is performed in the same chamber. Therefore, accurate alignment and excellent deposition efficiency can be achieved at the same time.

Description

전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및 그를 이용한 증착방법 {Evaporation Apparatus for Manufacturing Organic Electro-Luminescent Display Device using Electromagnet and Evaporation Method using the same}Evaporation Apparatus for Manufacturing Organic Electroluminescent Device Using Electromagnet and Evaporation Method Using The Same {Evaporation Apparatus for Manufacturing Organic Electro-Luminescent Display Device using Electromagnet and Evaporation Method using the same}

본 발명은 유기전계발광표시소자(Organic Electro-Luminescent Display; OELD)를 제조하는데 사용되는 증착장치 및 그를 이용한 증착방법, 더 상세하게는 전자석과 영구자석을 이용함으로써 유리기판상에 패턴형성용 섀도우마스크를 정밀하게 정렬·밀착시킨 후 진공증착 공정을 수행할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention provides a deposition apparatus for manufacturing an organic electroluminescent display (OLED), a deposition method using the same, and more specifically, a shadow mask for pattern formation on a glass substrate by using an electromagnet and a permanent magnet. The present invention relates to an apparatus and a method capable of performing a vacuum deposition process after precisely aligning and adhering closely.

유기전계발광표시장치(OELD)는 ZnS, CaS, 등의 반도체 재료인 전계발광소자(Electroluminescent element; 이하 "EL소자"라 한다)에 전계를 가했을 경우 일어나는 발광상을 이용한 디스플레이 장치로 '74년 일본 샤프(SHARP)사 고휘도의 장수명 박막 EL소자를 발표한 이래 많은 연구에 의해 EL디스플레이의 실용화가 급진전되었으며, 코닥(Kodak)사의 탕(C.W.Tang)이 유기 색소를 이용하여 박막 EL 소자를 제작하고 고휘도의 녹색 발광이 가능함을 보고 한 이후, 구동전압이 낮고 공정이 유리한 유기 EL에 관한 연구가 활성화되었다.The organic light emitting display device (OELD) is a display device using a light emitting image generated when an electric field is applied to an electroluminescent element (hereinafter referred to as an EL element), which is a semiconductor material such as ZnS, CaS, or the like. Since the publication of SHARP's high-brightness long-life thin-film EL device, many studies have advanced the practical use of EL display.Kodak's CWTang manufactures thin-film EL device using organic dye and After reporting that green light emission is possible, research on organic EL having low driving voltage and advantageous process was activated.

높은 구동전압이나, 청색 발광에서의 낮은 효율성등 많은 단점을 가지고 있는 무기물 전계발광 표시 소자(GaN, ZnS, SiC)를 대체하기 위하여 개발된 유기전계발광소자는 유기 박막으로 발광층과 캐리어(carrier) 수송층을 제작한 주입형 소자로써, 단분자 유기 EL 소자로는 안드라센, Alq3(알루니 키노륨 복합체) 및, 시클로 펜타디엔 유도체들이 주종을 이루며, 이러한 단분자 소자들은 낮은 구동 전압과 100nm에 가까운 얇은 박막 소재로써의 장점을 가지고 있으나, 높은 열에 대한 안전성과, 전압공급시 줄 열발생에 의한 분자 재 배열등의 단점을 가지고 있다.Organic electroluminescent devices developed to replace inorganic electroluminescent display devices (GaN, ZnS, SiC), which have many disadvantages such as high driving voltage or low efficiency in blue light emission, are organic thin films and are light emitting layers and carrier transport layers. As a single-molecule organic EL device, andhrasene, Alq3 (alumina chinolium complex), and cyclopentadiene derivatives are mainly used as the single-molecule organic EL devices, and these single-molecule devices have a low driving voltage and a thin thickness close to 100 nm. Although it has advantages as a thin film material, it has disadvantages such as high heat safety and molecular rearrangement due to Joule heat generation when voltage is supplied.

한편, 고분자 유기 EL 소자로는 PPP(poly<p-phenylene>), PPV(poly<p-phenylen vinylene>) 등이 사용되며, 이러한 소자들은 열 안전성 및 낮은 구동전압의 장점을 가지나, 짧은 수명과 효율면에서 단점들을 가지고 있다.On the other hand, PPP (poly <p-phenylene>) and PPV (poly <p-phenylen vinylene>) are used as the polymer organic EL devices. These devices have advantages of thermal stability and low driving voltage, There are disadvantages in terms of efficiency.

유기 EL소자(OELD)의 적층구조는 크게 단층형(sing-layer)과 다층형(multi-layer)으로 나눌 수 있는데 우선, 단층형은 전극/발광층/전극의 구조로 이루어져 있으며, 전자주입전극인 음극(cathode)은 작은 일함수(workfunction)를 가지는 금속인 Ca, Mg, Al등이 쓰인다. 이렇게 일함수가 낮은 금속을 전자주입 전극으로 사용하는 이유는, 전극과 전계발광유기물 사이에 형성되는 장벽(barrier)을 낮춤으로써 전자 주입에 있어 높은 전류밀도(current density)를 얻을 수 있기 때문이다.The stacked structure of an organic EL device (OELD) can be largely divided into a single-layer and a multi-layer. First, the single-layer type is composed of an electrode / light emitting layer / electrode. Cathode is a metal having a small work function (Ca, Mg, Al, etc. are used. The reason why the metal having a low work function is used as the electron injection electrode is that a high current density can be obtained in electron injection by lowering a barrier formed between the electrode and the electroluminescent organic material.

한편, 양극(Anode)은 홀(hole)주입을 위한 전극으로 일함수가 높고 발광된 빛이 소자 밖으로 나올 수 있도록 투명 금속 산화물을 사용하며, ITO(indium tin oxide)가 가장 널리 사용되며, 약 30nm정도의 두께를 가진다. ITO의 경우 광학적으로 투명하다는 장점을 가지는 반면, 제어가 쉽지 않다는 단점을 가진다. 양극(Anode) 물질로 높은 일함수(workfunction)를 갖는 금속을 사용하는 것은, 양극에서의 비발광 재결합(recombination)을 통한 효율 감소를 막을 수 있기 때문이다.On the other hand, the anode is an electrode for hole injection, which has a high work function and uses a transparent metal oxide so that emitted light can come out of the device, and ITO (indium tin oxide) is most widely used, and is about 30 nm. It has a thickness of about. While ITO has the advantage of being optically transparent, it has the disadvantage of being difficult to control. The use of a metal having a high workfunction as the anode material is because it can prevent the reduction of efficiency through non-luminescence recombination at the anode.

다음, 기판(substrate)재료로는 대부분 유리(glass)를 사용하며, 발광층(EML)재료로는 Alq3, Anthracene 등의 단분자 유기 EL 과 PPV(poly(p-phenylenevinylene)), PT(polythiophene) 등과 그들의 유도체들인 고분자 유기 EL물질들이 쓰이며, 낮은 구동전압에서의 전하 방출을 위해 EML층의 얇은 박막화(100nm)가 필요하다.Subsequently, glass is used as a substrate material, and as a light emitting layer (EML) material, monomolecular organic EL such as Alq3 and Anthracene, poly (p-phenylenevinylene) (PPV), polythiophene (PT), etc. Polymeric organic EL materials, their derivatives, are used, and a thin film thickness (100 nm) of the EML layer is required for charge emission at a low driving voltage.

한편, 다층형은 단층형의 적층 구조에 ETL(Electron tansporting Layer)이라는 전자 수송층과 HTL(Hole Transporting Layer)이라는 홀수송층이 추가되어 있다. ETL은 옥사디아졸(oxadiazole) 유도체 등을 사용하며 HTL은 디아민(diamine) 유도체인 TPD 와 광전도성 고분자인 poly(9-vinylcarbazole)을 사용하게 된다.On the other hand, in the multilayer type, an electron transport layer called an ETL (Electron tansporting Layer) and an hole transport layer called an HTL (Hole Transporting Layer) are added to a single layer stacked structure. ETL uses oxadiazole derivatives and HTL uses diamine derivatives TPD and photoconductive polymer poly (9-vinylcarbazole).

이러한 수송층의 조합을 통해 양자효율(photons out per charge injected)을 높이고, 캐리어(carrier)들이 직접 주입되지 않고 수송층 통과의 2 단계 주입과정을 통해 구동전압을 낮출 수 있으며, 발광층에 주입된 전자와 홀이 발광층을 거쳐 반대편전극으로 이동시 반대편 수송층에 막힘으로써 재결합 조절이 가능하다. 이를 통해 발광 효율을 향상 시킬 수 있다는 장점이 있다.The combination of the transport layer increases the quantum efficiency (photons out per charge injected), and the driving voltage can be lowered through the two-step injection process of passing through the transport layer without carriers directly injected, electrons and holes injected into the light emitting layer Recombination can be controlled by blocking the transport layer on the opposite side when moving to the opposite electrode through the light emitting layer. This has the advantage that the luminous efficiency can be improved.

또한, 발광효율을 개선하고 원하는 색상을 얻기 위해 보통 발광층에 수 퍼센트의 유기물질을 도핑하며, 높은 전기전도도, 낮은 일함수와 부식에 잘 견디기 위해서 음극(cathode)은 금속합금으로 구성되며 보통 2가지 다른 금속을 동시증착(co-evaporation)시켜 형성한다.Also, in order to improve the luminous efficiency and to obtain the desired color, dopants of several percent of organic materials are usually doped in the light emitting layer, and the cathode is composed of a metal alloy in order to withstand high electrical conductivity, low work function and corrosion. It is formed by co-evaporation of other metals.

따라서, 유리기판상에 전극과 유기발광층을 일정 패턴에 따라 증착하여야 하며 이를 위한 차폐수단으로 사용되는 것이 섀도우마스크이다. 즉, 기판상에 원하는 패턴 모양의 섀도우마스크를 접촉시킨 후 증착을 수행하면 원하는 패턴의 전극 또는 발광층을 형성할 수 있는 것이다. 본 발명에서는 이미 양극(ITO) 패턴이 형성된 기판을 사용하며 그 위에 패턴을 갖은 유기물층을 증착하기 위해 섀도우 마스크를 사용한다.Therefore, the electrode and the organic light emitting layer on the glass substrate must be deposited according to a predetermined pattern and the shadow mask is used as a shielding means for this. That is, by depositing a shadow mask having a desired pattern shape on the substrate and then depositing the electrode, a light emitting layer having a desired pattern may be formed. In the present invention, a substrate on which an anode (ITO) pattern is formed is used, and a shadow mask is used to deposit the organic layer having the pattern thereon.

이 때, 미리 설계된 패턴과 일치시키기 위하여 섀도우마스크와 유리기판의 정렬이 이루어져야 하며, 이를 위하여 CCD카메라로 관찰하면서 유리기판 및 섀도우마스크에 형성된 마크(mark)가 일치되도록 섀도우마스크를 이동시킨 후에 섀도우마스크를 유리기판상에 밀착한다.At this time, the shadow mask and the glass substrate should be aligned to match the predesigned pattern. To this end, the shadow mask is moved to match the marks formed on the glass substrate and the shadow mask while observing with a CCD camera. To the glass substrate.

종래의 제조설비에서는 정렬된 상태에서 섀도우마스크를 유리기판면에 밀착시키기 위하여 섀도우마스크를 상하 승강시키는 착탈장치를 이용하는데, 이 경우 섀도우마스크 중앙부 전체면이 회로패턴 형성을 위하여 유리기판에 밀착되어야 하므로 전술한 섀도우마스크 착탈장치는 섀도우마스크의 가장자리만을 지지한 상태에서 유리기판 저면에 밀착시킨다. 따라서, 얇은 금속판으로 이루어진 섀도우마스크의 중앙부가 중력에 의하여 처지는 현상이 발생한다. 특히, 섀도우마스크의 면적이 넓어질수록(즉, 제조되는 OELD의 크기가 커질수록), 중앙부 처짐현상은 더욱 심해져 유리기판표면과 섀도우마스크가 이격됨으로써 정확한 회로패턴형성이 불가능하다는 단점이 있었다.Conventional manufacturing equipment uses a detachable device that raises and lowers the shadow mask in order to closely contact the shadow mask to the glass substrate surface. In this case, the entire surface of the shadow mask center portion should be closely attached to the glass substrate to form a circuit pattern. The shadow mask attaching and detaching apparatus described above is in close contact with the bottom surface of the glass substrate while supporting only the edge of the shadow mask. Therefore, a phenomenon in which the central portion of the shadow mask made of a thin metal plate sag due to gravity occurs. In particular, the larger the area of the shadow mask (that is, the larger the size of the manufactured OELD), the more the central sag phenomenon becomes more severe, and the glass substrate surface and the shadow mask are separated from each other, thereby preventing accurate circuit pattern formation.

이러한 단점을 극복하기 위하여, 유리기판 상부에 영구자석을 배치하고, 유리기판과 섀도우마스크를 정렬한 상태에서 영구자석을 하향시켜 정렬된 금속성 섀도우마스크를 잡아당김으로써 기판에 밀착시키는 장치가 개발되었다. 그러나, 이러한 장치에서도 기판과 섀도우마스크의 정렬시(즉, 영구자석이 마스크를 당기기 이전) 섀도우 마스크가 처지는 현상이 여전히 남아있고, 이 때문에 정확한 정렬이 어렵다는 단점은 극복하지 못하였다.In order to overcome this drawback, a device is developed in which a permanent magnet is placed on an upper portion of the glass substrate, and the substrate is brought into close contact with the substrate by pulling down the aligned metallic shadow mask by lowering the permanent magnet while the glass substrate is aligned with the shadow mask. However, even in such a device, the shadow mask sag still remains when the substrate and the shadow mask are aligned (that is, before the permanent magnet pulls the mask), and thus, the disadvantage that the exact alignment is difficult is not overcome.

본 발명의 출원인은 이러한 단점을 극복하기 위하여 전자석과 영구자석을 구비한 섀도우마스크 안착테이블을 사용하는 섀도우마스크 착탈장치를 개시한 바 있다. 이 장치를 이용하면 정확한 정렬이라는 목적은 달성할 수 있지만, 안착테이블이 기판 아래에 고정되어 있어 증착을 수행할 수 없었다. 따라서, 전술한 착탈장치를 구비하는 정렬챔버에서 기판과 섀도우마스크를 정렬하고 기판과 마스크를 밀착시킨 후 다시 증착챔버로 이동하여 증착을 수행하였다. 따라서, 증착에 소요되는 챔버나 시간이 증가되므로 전체적인 생산효율이 떨어질 뿐 아니라, 제조단가도 상승하는 문제가 있었다.Applicant of the present invention has disclosed a shadow mask detachment apparatus using a shadow mask seating table having an electromagnet and a permanent magnet in order to overcome this disadvantage. With this device, the goal of accurate alignment can be achieved, but the seating table is fixed under the substrate and deposition cannot be performed. Therefore, in the alignment chamber having the above-described detachable device, the substrate and the shadow mask are aligned, the substrate and the mask are in close contact with each other, and then the substrate is moved back to the deposition chamber for deposition. Therefore, as the chamber or time required for deposition increases, not only the overall production efficiency decreases, but also the manufacturing cost increases.

본 발명은 이러한 단점을 극복하기 위하여 착안된 것으로, 전자석과 영구자석을 동시에 구비하는 섀도우마스크 안착테이블을 이용함으로써 정렬시에도 유리기판과 섀도우마스크가 평행하게 배치되도록 하고 섀도우마스크 안착테이블에 3축 위치이동수단을 적용함으로써 정확한 정렬이 가능하며, 정렬후에는 영구자석을 포함하는 섀도우마스크 홀더유닛을 이용하여 유리기판과 마스크를 밀착시킨후 섀도우마스크 안착테이블을 작업위치 밖으로 이동시킨 후 동일한 챔버 내에서 증착공정을 수행하도록 한다. 따라서, 정확한 정렬 및 우수한 증착효율을 동시에 달성할 수 있다.The present invention has been conceived to overcome these disadvantages, by using a shadow mask seating table having an electromagnet and a permanent magnet at the same time, so that the glass substrate and the shadow mask are arranged in parallel even when aligned, and the 3-axis position on the shadow mask seating table. Accurate alignment is possible by applying the moving means.After alignment, the glass mask is closely contacted with the glass substrate using the shadow mask holder unit including the permanent magnet, and then the shadow mask seating table is moved out of the working position and deposited in the same chamber. Allow the process to run. Therefore, accurate alignment and excellent deposition efficiency can be achieved at the same time.

본 발명의 목적은 영구자석과 전자석을 이용한 섀도우마스크 착탈장치를 구비한 유기전계발광소자 제작용 증착장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device having a shadow mask detachable device using a permanent magnet and an electromagnet.

본 발명의 다른 목적은 유리기판과 섀도우마스크의 정확한 정렬 및 정렬·밀착·증착시의 섀도우마스크 위치제어를 용이하게 수행할 수 있는 증착장치 및 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a deposition apparatus and a method which can easily perform the shadow mask position control at the time of accurate alignment and alignment, adhesion, and deposition of the glass substrate and the shadow mask.

본 발명의 또다른 목적은 섀도우마스크의 크기에 무관하게 전체면적에 걸쳐 유리기판과의 우수한 밀착을 가능하게 하며, 정렬시에도 유리기판과 마스크를 평행하게 유지함으로써 우수한 기판-마스크 정렬을 가능하게 하는 증착장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to enable good adhesion with the glass substrate over the entire area irrespective of the size of the shadow mask, and to enable excellent substrate-mask alignment by keeping the glass substrate and the mask parallel in alignment. It is to provide a vapor deposition apparatus.

본 발명의 또다른 목적은 섀도우마스크와 유리기판의 정렬·밀착 이후에, 사용되었던 섀도우마스크 안착테이블을 작업위치 밖으로 이동시킨 후 동일챔버 내에서 증착공정을 수행할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an apparatus and method capable of performing a deposition process in the same chamber after moving a shadow mask seating table outside a working position after alignment and adhesion of a shadow mask to a glass substrate. .

본 발명의 또다른 목적은 상기와 같은 장치를 이용하여 마스크의 위치제어를 수행함으로써, 유기전계발광소자의 증착품질 및 증착효율을 향상시킬 수 있는 증착방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention to provide a deposition method that can improve the deposition quality and deposition efficiency of the organic light emitting device by performing the position control of the mask using the above apparatus.

도 1은 종래기술(영구자석만을 이용한)에 의한 유기전계발광소자의 정렬 및 증착장치에 대한 구성도이다.1 is a block diagram of an arrangement and deposition apparatus of an organic light emitting device according to the prior art (using only permanent magnets).

도 2는 본 발명에 의한 증착장치의 전체구성을 도시하는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing the overall configuration of a vapor deposition apparatus according to the present invention.

도 3은 증착장치의 주요부분만을 확대하여 도시한 단면도이다.3 is an enlarged cross-sectional view showing only a main part of the deposition apparatus.

도 4a는 섀도우마스크 홀더유닛의 자석블록과 기판홀더의 세부구성도이다.4A is a detailed block diagram of the magnet block and the substrate holder of the shadow mask holder unit.

도 4b는 섀도우마스크 안착테이블의 세부구성도이다.Figure 4b is a detailed configuration of the shadow mask seating table.

도 5는 본 발명에 의한 증착장치를 이용하여 하나의 챔버 내부에서 마스크-기판 정렬 및 증착을 동시에 수행하는 과정을 도시하는 도면이다.5 is a diagram illustrating a process of simultaneously performing mask-substrate alignment and deposition in one chamber using the deposition apparatus according to the present invention.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 증착장치의 전체 구성도이다.6 is an overall configuration diagram of a deposition apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 7은 제 2 실시예에 의한 장비를 이용하여 증착을 수행하는 과정을 도시한다.7 shows a process of performing deposition using the equipment according to the second embodiment.

도 8은 증착과정이 완료된 후에 마스크를 기판과 분리하기 위한 과정을 도시하는 것이다.8 shows a process for separating the mask from the substrate after the deposition process is completed.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 챔버 110:스토퍼(stopper)100 chamber 110: stopper

200 : 섀도우마스크 홀더유닛 210 : (영구)자석블록200: shadow mask holder unit 210: (permanent) magnetic block

220 : 지지봉 230 : 기판홀더220: support rod 230: substrate holder

250 : 중공블록 260 : (영구) 자석블록250: hollow block 260: (permanent) magnetic block

270 : 제 1 지지봉 280 : 제 2 지지봉270: first support rod 280: second support rod

300 : 섀도우마스크 안착테이블 310 : 전자석블록300: shadow mask seating table 310: electromagnet block

320 : 섀도우마스크 안착판 400 : 선형가이드수단320: shadow mask seating plate 400: linear guide means

410 : 선형레일 500 : CCD 카메라410: linear rail 500: CCD camera

600 : 섀도우마스크 700 : 유리기판600: shadow mask 700: glass substrate

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 유기전계발광소자 증착장치는 다음과 같은 구성으로 되어 있다.In order to achieve the above object, the organic light emitting device deposition apparatus according to the present invention has the following configuration.

진공챔버;Vacuum chamber;

진공챔버 상부에 배치되어 유리기판을 지지하고 정렬된 섀도우마스크를 유리기판상에 밀착시키기 위한 영구자석을 구비하는 섀도우마스크 홀더유닛,A shadow mask holder unit disposed on an upper portion of the vacuum chamber to support a glass substrate and having a permanent magnet to closely contact the aligned shadow mask on the glass substrate;

섀도우마스크를 탑재하기 위하여 섀도우마스크 홀더유닛 하부에 배치되고, 상부에 있는 유리기판과 탑재된 유리기판을 정렬하기 위하여 외부에 연결된 제어부에 의하여 제어되는 3축 위치이동수단과, 1 이상의 영구자석 및 전자석을 포함하는 섀도우마스크 안착테이블;A three-axis position shifting means disposed under the shadow mask holder unit for mounting the shadow mask and controlled by a controller connected to the outside to align the glass substrate on the upper part with the mounted glass substrate, and one or more permanent magnets and electromagnets A shadow mask seating table comprising a;

상기 유리기판과 섀도우마스크의 정렬상태를 확인하기 위한 광학정렬수단;Optical alignment means for checking the alignment of the glass substrate and the shadow mask;

진공챔버 내에서 상기 섀도우마스크 안착테이블을 좌우로 이동시키기 위한 선형가이드수단;Linear guide means for moving the shadow mask seating table from side to side within a vacuum chamber;

진공챔버 외부에 배치되어 상기 3축 위치이동수단의 위치, 선형가이드수단, 및 전자석에 인가되는 전류의 극성과 크기를 제어하기 위한 제어부를 포함한다.It is disposed outside the vacuum chamber and includes a control unit for controlling the polarity and magnitude of the current applied to the position, the linear guide means, and the electromagnet three-axis position moving means.

상기 섀도우마스크 홀더유닛의 영구자석은 홀더유닛 전체에 걸쳐 소정 간격을 두고 배치되는 1 이상의 영구자석으로 이루어지며, 섀도우마스크 안착테이블에는 전체에 걸쳐 배치되는 1 이상의 전자석·영구자석 어셈블리가 구비되어 있어서, 전자석에 인가되는 전류의 크기 및/또는 극성을 변화시킴으로써 안착테이블의 자력을 조절할 수 있다.The permanent magnet of the shadow mask holder unit is composed of one or more permanent magnets arranged at predetermined intervals throughout the holder unit, the shadow mask seating table is provided with one or more electromagnets and permanent magnet assemblies disposed throughout, The magnetic force of the seating table can be adjusted by changing the magnitude and / or polarity of the current applied to the electromagnet.

본 발명의 제 1 실시예에 의하면, 섀도우마스크 홀더유닛은, 크게 영구자석을 포함하는 자석블록과, 자석블록 상부에 고정되어 자석블록을 챔버내에서 상하이동시키는 지지봉과, 상기 자석블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더로 이루어진다.According to a first embodiment of the present invention, a shadow mask holder unit includes a magnet block including a permanent magnet, a support rod fixed to an upper part of the magnet block to move the magnet block in the chamber, and a top and bottom with respect to the magnet block. It consists of a substrate holder that can be moved elastically.

기판홀더는 다시 자석블록의 네 모퉁이에 형성된 관통홈 내에 삽입되는 4개의 탄성스프링과, 탄성스프링 내부에 삽입되어 자석블록에 대하여 탄성적으로 상하 이동하는 4개의 상하이동봉과, 두 개의 상하이동봉에 결합되어 있고 유리기판의 가장자리를 걸기 위한 걸림턱을 가지는 2개의 기판지지바(bar)로 이루어져 있다.The substrate holder is connected to the four elastic springs inserted into the through-grooves formed at the four corners of the magnetic block again, four shanghai rods inserted into the elastic springs to move up and down elastically with respect to the magnetic block, and two shandong rods. It consists of two substrate support bars (bar) having a locking step for hanging the edge of the glass substrate.

자석블록은 저면측에 소정 간격마다 자석안착홈이 형성된 상판과, 상기 상판에 대응하여 소정 간격을 두고 이격된 하판과, 상기 상판 및 하판 사이에 수직방향으로 개재되는 다수의 영구자석과, 상기 상판과 하판 사이에 설치되어 이들의 가장자리를 지지해주는 이격프레임으로 이루어져 있다.The magnet block includes a top plate having magnet seating grooves formed at predetermined intervals on a bottom surface thereof, a bottom plate spaced at a predetermined interval corresponding to the top plate, a plurality of permanent magnets interposed vertically between the top plate and the bottom plate, and the top plate. It is installed between the bottom plate and consists of a spaced frame that supports their edges.

한편, 본 발명의 제 2 실시예에 의하면, 상기 섀도우마스크 홀더 유닛은 중공블록과, 중공블록 내부에 배치되고 영구자석을 포함하는 자석블록과, 중공블록 상부에 고정되어 중공블록을 챔버내에서 상하 이동시키는 제 1 지지봉과, 상기 자석블록 상부에 고정되어 자석블록을 중공블록 내부에서 상하로 이동시키기 위한 제2 지지봉과, 상기 중공블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더로 이루어지며, 상기 기판홀더는 중공블록의 네 모퉁이에 형성된 관통홈 내에 삽입되는 4개의 탄성스프링과, 탄성스프링 내부에 삽입되어 자석블록에 대하여 탄성적으로 상하 이동하는 4개의 상하이동봉과, 두 개의 상하이동봉에 결합되어 있고 유리기판의 가장자리를 걸기 위한 걸림턱을 가지는 2개의 기판지지바(bar)로 이루어져 있다.On the other hand, according to the second embodiment of the present invention, the shadow mask holder unit is a hollow block, a magnetic block disposed in the hollow block and including a permanent magnet, and fixed to the hollow block upper portion of the hollow block in the chamber up and down A first support rod for moving, a second support rod fixed to an upper portion of the magnet block to move the magnet block up and down inside the hollow block, and a substrate holder capable of elastically moving up and down with respect to the hollow block. The holder is coupled to four elastic springs inserted into the through grooves formed at the four corners of the hollow block, four shanghai bars inserted into the elastic springs and elastically moved up and down with respect to the magnetic block, and two shanghai bars. It consists of two substrate support bars (bar) having a locking step for hanging the edge of the glass substrate.

상기 섀도우마스크 안착테이블은 하나 이상의 전자석·영구자석 어셈블리를 구비하고 3축 위치이동수단에 의하여 이동하는 전자석블록과, 섀도우마스크를 안착하기 위한 마스크 안착판으로 이루어져 있다. 각각의 전자석·영구자석 어셈블리는 전자석코어와, 전자석코어 하부에 배치되는 영구자석과, 전자석코어 및 영구자석을 둘러싸는 롤과, 롤 주위에 권취되어 있는 코일로 이루어진다. 3축 위치이동수단은 x, y, θ방향으로 상기 섀도우마스크 안착테이블을 이동시키도록 동작한다.The shadow mask seating table includes an electromagnet block having one or more electromagnet-permanent magnet assemblies and moved by three-axis positioning means, and a mask seating plate for seating the shadow mask. Each electromagnet / permanent magnet assembly consists of an electromagnet core, a permanent magnet disposed under the electromagnet core, a roll surrounding the electromagnet core and the permanent magnet, and a coil wound around the roll. The three-axis position shifting means operates to move the shadow mask seating table in the x, y, and θ directions.

또한, 선형가이드 수단은 안착테이블이 안착되는 선형레일, 및 상기 선형레일을 따라 안착테이블을 이동시키기 위한 구동수단(구동모터)으로 이루어져 있다.In addition, the linear guide means comprises a linear rail on which the seating table is seated, and a driving means (driving motor) for moving the seating table along the linear rail.

전술한 장치를 이용한 증착방법은 다음과 같이 전술한 두 실시예에 따라 다음과 같은 2가지 방법으로 구현될 수 있다.The deposition method using the above-described apparatus may be implemented in the following two methods according to the two embodiments described above.

우선, 본 발명의 제 1 실시예에 의한 장치를 이용하는 제 1 방법은 다음과 같은 단계로 이루어진다.First, the first method using the apparatus according to the first embodiment of the present invention consists of the following steps.

상기 섀도우마스크를 진공용 로봇에 의해 안착테이블 상에 탑재한 후 안착테이블은 선형가이드 수단에 의해 작업위치 밖으로 이동하면, 섀도우마스크 홀더유닛 상에 진공용로봇을 이용해 유리기판을 탑재하여 고정하고, 안착테이블을 작업위치로 다시 이동한 후 상기 전자석에 전류를 정방향(안착테이블의 영구자석과 동일한 극성방향을 가지도록 전자석의 자성을 야기하는 방향)으로 흘려 섀도우마스크를 안착테이블에 밀착시킨 후 유리기판 아래로 이동시키는 제 1 단계;After mounting the shadow mask on the seating table by the vacuum robot, the seating table is moved out of the working position by the linear guide means, and the glass substrate is mounted and fixed on the shadow mask holder unit using the vacuum robot. After moving the table back to the working position, a shadow mask is brought into close contact with the seating table by flowing a current to the electromagnet in a positive direction (a direction causing the magnetism to have the same polarization direction as that of the seating table). Moving to a first step;

상기 광학정렬수단을 이용하여 확인하면서, 상기 3축 위치이동수단을 이용하여 안착테이블의 위치를 제어함으로써 유리기판과 섀도우마스크를 정렬하는 제 2 단계;A second step of aligning the glass substrate and the shadow mask by controlling the position of the seating table using the three-axis position shifting means while checking using the optical alignment means;

상기 전자석에 역방향의 전류를 인가하여 안착테이블의 자력을 홀더유닛의 자력보다 작게 함으로써 섀도우마스크가 상향 이동하여 유리기판과 밀착되게 하는 제 3 단계;A third step of applying a reverse current to the electromagnet so that the magnetic force of the seating table is smaller than the magnetic force of the holder unit so that the shadow mask moves upward and closely adheres to the glass substrate;

상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간 밖으로 이동시키는 제 4 단계; 및,A fourth step of moving the seating table out of the deposition workspace using the linear guide means; And,

진공상태에서 증착을 수행하는 제 5 단계로 이루어진다.The fifth step is to carry out the deposition in a vacuum.

상기 3단계에서 홀더유닛의 자력에 의하여 섀도우마스크가 유리기판에 밀착된 후, 기판+마스크가 장착된 홀더유닛을 증착위치인 챔버 상부로 이동시키고, 전자석에 인가되던 전류를 차단하는 제 6 단계를 추가로 포함할 수 있다. 이 경우, 이미 섀도우마스크가 홀더유닛 근처로 이동하여 홀더유닛에 있는 영구자석의 자력범위내에 있으므로, 전자석에 흐르는 전류를 차단하더라도 다시 안착테이블쪽으로 끌려 오지 않는다.After the shadow mask is in close contact with the glass substrate by the magnetic force of the holder unit in step 3, the sixth step of moving the holder unit on which the substrate + mask is mounted to the upper chamber of the deposition position, and blocking the current applied to the electromagnet It may further comprise. In this case, since the shadow mask has already moved near the holder unit and is within the magnetic range of the permanent magnet in the holder unit, even if the electric current flowing through the electromagnet is blocked, it is not drawn back to the seating table.

제 1 단계에서 유리기판을 탑재·고정하는 방식은 자석블록을 위로 이동시켜 기판홀더의 상하이동봉이 챔버 상단의 스토퍼(stopper)와 탄성스프링에 의하여 아래로 이동한 상태에서 유리기판을 기판지지바의 걸림턱에 걸리도록 삽입한 다음, 자석블록을 아래로 내리면 스토퍼와 상하이동봉의 접촉이 해제되면서 탄성스프링에 의하여 상하이동봉이 위로 이동하고, 결과적으로 삽입된 유리기판이 자석블록에 밀착·고정되게 된다. 물론, 유리기판을 삽입할 때보다 자석블록이 더 아래로 내려왔기 때문에 아래에 배치될 섀도우마스크와 더 가까워 진다.The method of mounting and fixing the glass substrate in the first step is to move the magnetic block upward so that the glass substrate is moved to the substrate support bar with the shank rod of the substrate holder moved downward by the stopper and the elastic spring at the top of the chamber. When the magnetic block is inserted down, the magnetic block is lowered, and then the contact between the stopper and the shandong rod is released, and the shandong rod is moved up by the elastic spring. As a result, the inserted glass substrate is in close contact with and fixed to the magnet block. . Of course, since the magnetic block is lowered more than when the glass substrate is inserted, it is closer to the shadow mask to be disposed below.

한편, 본 발명의 제 2 실시예에 의한 장치를 이용하는 제 2 방법은 다음과 같이 이루어져 있다.On the other hand, the second method using the apparatus according to the second embodiment of the present invention is constituted as follows.

상기 자석블록을 중공블록 상부에 위치시킨 상태에서, 상기 섀도우마스크 홀더유닛 상에 유리기판을 탑재하여 고정하고, 상기 섀도우마스크를 안착테이블 상에 탑재하는 제 1 단계;A first step of mounting and fixing a glass substrate on the shadow mask holder unit in a state where the magnetic block is positioned above the hollow block, and mounting the shadow mask on a seating table;

상기 광학 정렬확인수단을 이용하여 확인하면서, 상기 3축 위치이동수단을 이용하여 안착테이블의 위치를 제어함으로써 유리기판과 섀도우마스크를 정렬하는 제 2 단계;A second step of aligning the glass substrate and the shadow mask by controlling the position of the seating table using the three-axis position shifting means while confirming using the optical alignment confirming means;

상기 자석블록을 중공블록 하부로 이동시키고, 상기 전자석에 역방향의 전류를 인가하여 안착테이블이 미치는 자력을 홀더유닛의 자력보다 작게 함으로써 섀도우마스크가 상향 이동하여 유리기판과 밀착되게 하는 제 3 단계;A third step of moving the magnetic block below the hollow block and applying a reverse current to the electromagnet so that the magnetic force applied by the seating table is smaller than the magnetic force of the holder unit so that the shadow mask moves upward and closely adheres to the glass substrate;

상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간 밖으로 이동시키는 제 4 단계; 및,A fourth step of moving the seating table out of the deposition workspace using the linear guide means; And,

진공상태에서 상기 챔버 내에서 증착을 수행하는 제 5 단계로 이루어진다.The fifth step is to perform deposition in the chamber under vacuum.

한편, 제 1 방법 및 제 2 방법 모두에서, 상기 제 5 단계의 증착과정이 완료된 후, 섀도우마스크를 기판과 분리하기 위하여, ① 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간으로 복귀시키고, ② 섀도우 마스크 홀더유닛을 아래로 하강한 후, 상기 안착테이블의 전자석에 정방향 전류를 인가함으로써 안착테이블의 자력을 증가 시켜, 섀도우 마스크를 섀도우마스크 안착테이블 상으로 낙하시키는 마스크 분리단계를 추가로 구비할 수 있다.On the other hand, in both the first method and the second method, in order to separate the shadow mask from the substrate after the deposition process of the fifth step is completed, ① return the seating table to the deposition workspace using the linear guide means, ② After the shadow mask holder unit is lowered down, the magnetic force of the seating table is increased by applying a forward current to the electromagnet of the seating table, and further comprising a mask separation step of dropping the shadow mask onto the shadow mask seating table. Can be.

또한, 제 2 방법에서는 위와 같은 마스크 분리단계 이외에, ① 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간으로 복귀시키고, ② 섀도우 마스크 홀더유닛을 아래로 하강한 후, 상기 자석블록을 중공블록 상부로 이동시켜 섀도우 마스크를 기판과 분리하여 섀도우마스크 안착테이블 상으로 낙하시키는 마스크 분리단계를 추가로 구비할 수 있으며, 상기 ②의 과정 도중에, 상기 전자석에 역방향 전류를 인가할 수도 있다. 이는 아래에서 설명할 바와 같이, 홀더유닛과 안착테이블의 자력이 너무 강해 얇은 마스크가 휘어지거나 변형되는 것을 방지하기 위함이다.In addition, in the second method, in addition to the mask separation step as described above, ① return the seating table to the deposition workspace by using the linear guide means, ② lower the shadow mask holder unit down, and then the magnet block is placed on the upper side of the hollow block. It may further comprise a mask separation step of moving to the shadow mask to separate the shadow mask from the substrate and drop onto the shadow mask seating table, during the process of ②, a reverse current may be applied to the electromagnet. As described below, the magnetic force of the holder unit and the seating table is too strong to prevent the thin mask from being bent or deformed.

이하에서는 첨부되는 도면을 참고로 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention;

도 1은 종래기술(영구자석만을 이용한)에 의한 유기전계발광소자의 정렬 및 증착장치에 대한 구성도로서, 챔버(chamber; 10)와, 챔버 내부에 배치되고 영구자석을 구비하는 섀도우마스크 홀더유닛(20)과, 유리기판 홀더(30)와, 섀도우마스크홀더(40), CCD카메라(50), 및 3차원 정렬수단(미도시)로 이루어져 있다. 유리기판과 섀도우마스크의 정렬과정을 살펴보면, 우선 유리기판 홀더(30)에 유리기판(60)을 탑재하고, 마스크 홀더에 섀도우마스크(70)를 탑재한 후, CCD카메라(50)로 관찰하면서 3차원 정렬수단을 가동하여 유리기판의 정렬마크(M)와 마스크상의 정렬마크(M')가 일치될 때까지 기판홀더(30) 및/또는 마스크홀더(40)를 이동시킨다. 정렬된 후에는 섀도우마스크 홀더유닛(20)을 아래로 이동시킨 후 영구자석의 자력을 이용하여 마스크를 잡아당겨 유리기판과 밀착되도록 한다. 그 후에는 진공상태에서 증착을 수행한다.1 is a block diagram of an arrangement and deposition apparatus of an organic light emitting device according to the related art (using only permanent magnets), and includes a chamber 10 and a shadow mask holder unit disposed in the chamber and having permanent magnets. 20, a glass substrate holder 30, a shadow mask holder 40, a CCD camera 50, and a three-dimensional alignment means (not shown). Looking at the alignment process of the glass substrate and the shadow mask, first, the glass substrate 60 is mounted on the glass substrate holder 30, the shadow mask 70 is mounted on the mask holder, and then observed with a CCD camera 50. The dimensional alignment means is operated to move the substrate holder 30 and / or the mask holder 40 until the alignment mark M of the glass substrate and the alignment mark M 'on the mask coincide. After the alignment, the shadow mask holder unit 20 is moved downward, and then the mask is pulled by using the magnetic force of the permanent magnet to be in close contact with the glass substrate. After that, the deposition is carried out in a vacuum.

이 경우, 정렬단계에서 넓은 섀도우마스크가 단지 주변부만 홀더에 지지되기 때문에 중앙부가 처지게 되고, 따라서 십자마크 부분에서 유리기판과 마스크가 평행한 상태가 아니게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 섀도우 마스크의 양단을 당겨 인장시키는 텐션유지장치(80)가 구비되어 있기는 하지만 처짐 현상을 완전하게 해결하지는 못하며, 따라서 마스크의 중간 부위가 쳐진 상태에서 영구자석이 하강하여 섀도우 마스크를 글래스에 부착하게 되면 쳐져 있던 중심부위가 올라 붙으며 정렬상태가 불량해질 수 있으며 텐션을 유지하는 과정에서도 섀도우마스크가 늘어나거나 치우침이 발생할 수 있을뿐 아니라, 텐션유지장치의 무게로 인하여 진공로봇으로 이송하는데 어려움이 있었다.In this case, in the alignment step, the center portion sags because only the periphery is supported by the holder, so that the glass substrate and the mask are not parallel to the cross mark portion. To solve this problem, although the tension holding device 80 is provided to pull both ends of the shadow mask to tension it, it does not completely solve the deflection phenomenon. Therefore, the permanent magnet is lowered while the middle part of the mask is struck and the shadow is dropped. If the mask is attached to the glass, the center of the stroke may be raised and the alignment may be poor, and the shadow mask may be stretched or skewed even during the tension maintenance, and the vacuum robot may be damaged due to the weight of the tension holding device. There was a difficulty in transporting.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 증착장치의 전체구성을 도시하는 단면도로서, 크게 진공챔버(100)와, 진공챔버 내부에 위치하는 섀도우마스크 홀더유닛(200), 섀도우마스크 안착테이블(300) 및 선형가이드수단(400)과, 챔버 내부 또는 외부에 위치하고 기판과 마스크의 정렬상태를 확인하기 위한 광학확인수단으로서의 4개의 CCD카메라로 이루어져 있다.2 is a cross-sectional view showing the overall configuration of the deposition apparatus according to the first embodiment of the present invention, and includes a vacuum chamber 100, a shadow mask holder unit 200, and a shadow mask seating table (located inside the vacuum chamber). 300 and linear guide means 400, and four CCD cameras which are located inside or outside the chamber and are optical confirmation means for checking the alignment of the substrate and the mask.

그 밖에 챔버 하부에는 증착에 사용되는 증착원(source 또는 Effusion Cell)가 배치되며, 섀도우 마스크 정렬후 안착테이블을 증착작업공간 밖으로 이동시키고 증착원의 가열에 의해 증착원에 담긴 유기물이 증발하여 기판에 증착된다. 참고로 이때 기판과 섀도우 마스크는 정렬 부착 상태로 회전시키는 것이 바람직하다.In addition, a deposition source (source or Effusion Cell) used for deposition is disposed below the chamber, and after the shadow mask is aligned, the seating table is moved out of the deposition workspace, and organic matter contained in the deposition source is evaporated on the substrate by heating the deposition source. Is deposited. For reference, it is preferable to rotate the substrate and the shadow mask in the aligned state.

도면에서 챔버 좌측벽에는 유리기판 교환을 위한 개구부가 형성되어 있고 밸브(810)에 의하여 개구부가 개폐된다. 또한, 외부의 로봇에 의하여 자동으로 유리기판이 섀도우마스크 유닛홀더(200)에 로딩 및 언로딩될 수 있다. 우측하단에 배치된 구동모터(420)는 선형레일(410)과 함께 선형 가이드 수단을 구성하며, 섀도우마스크 안착테이블(300)을 좌우로 이동시키는 역할을 한다.In the drawing, an opening is formed on the left side wall of the chamber for replacing the glass substrate, and the opening is opened and closed by the valve 810. In addition, the glass substrate may be automatically loaded and unloaded into the shadow mask unit holder 200 by an external robot. The driving motor 420 disposed on the lower right side constitutes a linear guide means together with the linear rail 410 and serves to move the shadow mask seating table 300 to the left and right.

안착테이블에 포함되는 3축 위치이동수단(340)은 그 위에 놓여진 전자석블록(310)을 x, y, θ 방향으로 미세이동시킴으로써 섀도우마스크와 유리기판의 정렬을 수행한다. 각 구성부분에 대해서는 아래의 도 3 및 도 4을 참고로 더 상세하게 설명한다.The three-axis position moving means 340 included in the seating table finely moves the electromagnet block 310 placed thereon in the x, y, and θ directions to perform alignment of the shadow mask and the glass substrate. Each component will be described in more detail with reference to FIGS. 3 and 4 below.

도 3은 증착장치의 주요부분만을 확대하여 도시한 단면도로서, 진공챔버(100)의 일부와, 섀도우마스크 홀더유닛(200), 섀도우마스크 안착테이블(300) 및 선형가이드수단(400)과, 챔버 내부 또는 외부에 위치하는 4개의 CCD카메라(500)이 도시되어 있다. 간단히 하기 위하여 챔버 하부의 구성은 생략하였다.3 is an enlarged cross-sectional view of only a main part of the deposition apparatus, and includes a part of the vacuum chamber 100, the shadow mask holder unit 200, the shadow mask seating table 300, the linear guide means 400, and the chamber. Four CCD cameras 500 are shown, located either inside or outside. For simplicity, the configuration of the lower chamber is omitted.

섀도우마스크 홀더유닛(200)은 다시 영구자석을 포함하는 자석블록(210)과, 자석블록 상부에 고정되어 자석블록을 챔버내에서 상하이동시키는 지지봉(220)과, 상기 자석블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더(230)로 이루어진다.The shadow mask holder unit 200 is again a magnet block 210 including a permanent magnet, a support rod 220 fixed to the upper part of the magnetic block to move the magnetic block in the chamber, and elastically up and down with respect to the magnetic block The substrate holder 230 is movable.

기판홀더(230)는 자석블록의 네 코너에 형성된 관통홀에 삽입되는 4개의 탄성스프링(231)과, 탄성스프링 내부에 끼워지는 4 개의 상하이동봉(232)과, 2개의 상하이동봉 하부에 연결되어 자석블록의 한변을 따라 길게 연장되고 끝에 유리기판 걸림턱(234)을 구비하는 2개의 유리기판 지지바(233)로 이루어져 있다. 또한, 챔버 상면에는 기판홀더(230)의 상하이동봉(232) 상부와 대응되는 위치에 4개의 기판홀더 스토퍼(stopper; 110)가 돌기형태로 형성되어 있다. 이들의 상세한 구성 및 동작상태는 도 4a 및 도 5를 참고로 상세하게 설명한다.The substrate holder 230 is connected to four elastic springs 231 inserted into the through-holes formed at four corners of the magnetic block, four shanghai bars 232 fitted into the elastic springs, and two shanghai bars. It consists of two glass substrate support bars 233 extending along one side of the magnetic block and having a glass substrate locking jaw 234 at the end thereof. In addition, four substrate holder stoppers 110 are formed on the upper surface of the chamber at positions corresponding to the upper portions of the shandong copper rods 232 of the substrate holder 230. Detailed configuration and operation thereof will be described in detail with reference to FIGS. 4A and 5.

섀도우마스크 안착테이블(300)은 3축 위치이동수단(340)에 의하여 위치이동을 할 수 있고 내부에 다수의 전자석·영구자석 어셈블리를 구비하는 전자석블록(310)과, 마스크를 안착하는 섀도우마스크 안착판(320)으로 이루어져 있으며, 섀도우마스크(600)를 마스크 안착판(320)상에 이송하기 위한 마스크 이송핸들(330)을 추가로 구비할 수 있다.The shadow mask seating table 300 may be moved by the three-axis position shifting means 340, and the electromagnet block 310 having a plurality of electromagnets and permanent magnet assemblies therein and a shadow mask seat for seating a mask. The plate 320 may be further provided with a mask transfer handle 330 for transferring the shadow mask 600 on the mask seating plate 320.

섀도우마스크 안착테이블(300)을 섀도우마스크 홀더유닛(200) 아래에서 좌우로 이동하기 위한 선형가이드수단(400)은 전자석블록(310)을 좌우로 이동시키기 위한 선형레일(410)과 선형레일을 따라 전자석블록(안착테이블)을 이동시키기 위한 구동수단으로서의 구동모터(도 2의 420)로 이루어져 있다.The linear guide means 400 for moving the shadow mask seating table 300 to the left and right under the shadow mask holder unit 200 is a linear rail 410 and a linear rail for moving the electromagnet block 310 to the left and right. It consists of a drive motor (420 of FIG. 2) as a drive means for moving an electromagnet block (mounting table).

도 4a는 섀도우마스크 홀더유닛(200)의 자석블록(210)과 기판홀더(230)의 세부구성도이다.4A is a detailed block diagram of the magnet block 210 and the substrate holder 230 of the shadow mask holder unit 200.

자석블록(210)은 다수의 자석안착홈(211)이 형성된 니켈등의 금속재질로 되어 있는 상판(212)과, 상판(212)과 평행하게 소정 간격을 두고 이격되어 있는하판(213)과, 상판과 하판 사이에 수직방향으로 삽입되는 다수의 영구자석(214)과, 상판과 하판의 주변부에 연결되어 상판과 하판을 이격상태로 지지하는 이격프레임(215)으로 이루어져 있다. 또한, 상판, 하판 및 지지프레임의 네 코너에는 기판홀더(230)의 탄성스프링(231)과 상하이동봉(232)을 삽입하기 위하여 4개의 관통홈(216)이 형성되어 있다.The magnet block 210 includes a top plate 212 made of metal such as nickel having a plurality of magnet seating grooves 211 formed thereon, and a bottom plate 213 spaced apart from each other at a predetermined distance in parallel with the top plate 212. It consists of a plurality of permanent magnets 214 inserted in the vertical direction between the upper plate and the lower plate, and a separation frame 215 connected to the periphery of the upper plate and the lower plate to support the upper plate and the lower plate in a spaced state. In addition, four through holes 216 are formed at four corners of the upper plate, the lower plate, and the support frame to insert the elastic spring 231 and the shandong copper rod 232 of the substrate holder 230.

섀도우마스크 홀더유닛(200)에 있는 영구자석(214)의 배치에 있어서 각 영구자석의 극성방향은 제한이 없으며, 제작편의상 모든 영구자석을 동일한 극성방향으로 배치하는 것이 바람직하다(도면에서는 모든 영구자석이 하부가 N극, 상부가 S극이 되도록 배치되어 있다).In the arrangement of the permanent magnets 214 in the shadow mask holder unit 200, the polarity direction of each permanent magnet is not limited, and it is preferable to arrange all the permanent magnets in the same polarity direction for the convenience of manufacture (in the drawings, all permanent magnets). The lower part is arranged so that the north pole and the upper part are the south pole.

기판홀더(230)는 자석블록의 관통홈(216)에 삽입되는 4개의 탄성스프링(231)과, 탄성스프링 내부에 삽입되는 4개의 상하이동봉(232)과, 2개의 상하이동봉 하부에 연결되어 자석블록의 변을 따라 길게 연장되어 있는 2개의 기판 지지바(support bar; 233)로 이루어져 있으며, 각 기판 지지바(233)의 단부에는 유리기판의 한 변을 걸 수 있도록 기판 걸림턱(234)이 형성되어 있다. 도면에서는 기판 지지바(233)를 상하이동봉(232)에 연결하기 위하여 연결볼트(235)를 이용하고 있으며, 상하이동봉(232)의 헤드(head)부분은 탄성스프링의 직경보다 큰 직경을 가지고 있어서, 상하이동봉이 아래로 이동하는 경우 이동봉 헤드부분과 탄성스프링의 간섭에 의하여 위로 탄성력을 받게 되어 있다. 또한, 상하이동봉의 헤드는 이동봉이 상판을 이탈하지 못하도록 관통홈 상부에 위치한 멈춤수단(미도시)에 의하여 지지되어 있다.The substrate holder 230 includes four elastic springs 231 inserted into the through grooves 216 of the magnetic block, four shanghai bars 232 inserted into the elastic springs, and two magnets connected to the lower shank bars. It consists of two substrate support bars (233) extending along the sides of the block, each substrate support bar (233) end of each substrate support bar (233) is a substrate latching jaw 234 to hang on one side of the glass substrate Formed. In the drawing, the connecting bolt 235 is used to connect the substrate support bar 233 to the shandong rod 232. The head portion of the shandong rod 232 has a diameter larger than that of the elastic spring. In addition, when the shandong copper rod is moved downward, the elastic force is received upward by the interference of the movable rod head and the elastic spring. In addition, the head of the shandong copper rod is supported by a stop means (not shown) located in the upper portion of the through groove to prevent the movable rod from leaving the top plate.

도 4a에서는 유리기판(700)이 기판홀더에 의하여 지지되어 자석블록의하판(213)에 밀착되어 있는 상태를 도시하고 있다.In FIG. 4A, the glass substrate 700 is supported by the substrate holder and is in close contact with the lower plate 213 of the magnet block.

도 4b는 섀도우마스크 안착테이블(300)의 세부구성도로서, 전술한 자석블록(210)과 유사한 구성(상판, 하판, 이격프레임)을 하고 있는 전자석블록(310)과, 섀도우마스크 안착판(320)이 도시되어 있다. 전자석블록(310)안에는 수직방향으로 배치되는 다수의 전자석·영구자석 어셈블리(340)가 구비되어 있다.Figure 4b is a detailed configuration of the shadow mask seating table 300, the electromagnetic block 310 and the shadow mask seating plate 320 having a similar configuration (top, bottom, spaced frame) similar to the magnet block 210 described above. ) Is shown. The electromagnet block 310 is provided with a plurality of electromagnet and permanent magnet assembly 340 disposed in the vertical direction.

각각의 전자석·영구자석 어셈블리(340)는 상부에 위치하는 전자석코어(341)와, 전자석코어 하부에 위치하는 영구자석(342), 전자석코어 및 영구자석을 둘러싸는 롤(roll; 343) 및 롤 주위에 권취되는 코일(344)로 이루어져 있다. 전자석코어는 전류에 의하여 자력을 생성할 수 있는 자성체이며, 페라이트 계열의 자성체 또는 니켈 등이 이용될 수 있다. 코일에 흐르는 전류의 크기와 극성을 변화하면 영구자석의 자력을 강화 또는 약화시킬 수 있으므로, 전자석블록의 전체 자력을 자유롭게 변화시킬 수 있다.Each electromagnet / permanent magnet assembly 340 includes an electromagnet core 341 located at the top, a permanent magnet 342 located at the bottom of the electromagnet core, a roll 343 and a roll surrounding the electromagnet core and the permanent magnet. It consists of a coil 344 wound around. The electromagnet core is a magnetic material capable of generating magnetic force by electric current, and a ferrite-based magnetic material or nickel may be used. By changing the magnitude and polarity of the current flowing through the coil, the magnetic force of the permanent magnet can be strengthened or weakened, and thus the total magnetic force of the electromagnet block can be freely changed.

예를 들어, 도 4b와 같이 영구자석(342)을 N극이 위로 가도록 배치하고, 전자석에 정방향 전류를 인가하여 전자석 코어의 위쪽을 역시 N극으로 형성하면, 영구자석의 자력과 전자석의 자력이 더해져서 전체적으로 안착테이블의 자력이 증가하게 된다. 반대로, 역방향 전류를 인가하여 전자석 코어의 위쪽에 S극이 형성되도록 하면 영구자석의 자력을 감소시켜 전체적인 자력이 줄어들게 되는 것이다.For example, as shown in FIG. 4B, when the permanent magnet 342 is disposed so that the N pole is upward, and a forward current is applied to the electromagnet, the upper part of the electromagnet core is also formed as the N pole, the magnetic force of the permanent magnet and the magnet of the electromagnet are In addition, the magnetic force of the seating table as a whole increases. On the contrary, if the S pole is formed on the upper side of the electromagnet core by applying a reverse current, the magnetic force of the permanent magnet is reduced, thereby reducing the overall magnetic force.

섀도우마스크 홀더유닛(200)의 영구자석(214) 배치와 마찬가지로 전자석·영구자석 어셈블리의 배치시 영구자석(342) 극성방향에는 제한이 없으며, 마찬가지로모든 영구자석(342)을 동일한 극성방향으로 배치하는 것이 바람직하다. 단, 이 경우 전자석에 권취되는 코일의 권선방향을 모두 동일하게 둠으로써 일정 극성의 전류를 인가하였을 때 모든 전자석·영구자석 어셈블 리가 동일한 자력을 생성하도록 하여야 한다.Like the permanent magnet 214 arrangement of the shadow mask holder unit 200, there is no limitation in the direction of polarization of the permanent magnet 342 in the arrangement of the electromagnet and the permanent magnet assembly. Likewise, all the permanent magnets 342 are disposed in the same polar direction. It is preferable. In this case, however, the winding directions of the coils wound around the electromagnets should be the same so that all electromagnets and permanent magnet assemblies generate the same magnetic force when a current having a certain polarity is applied.

또한, 전자석(341)의 둘레와 바닥을 감싸는 자성체 차폐를 설치함으로써 섀도우마스크 방향의 자력을 극대화하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to maximize the magnetic force in the shadow mask direction by providing a magnetic shield surrounding the periphery and the bottom of the electromagnet 341.

도면에서는 전술한 형태의 전자석·영구자석 어셈블리를 이용하였으나 반드시 이러한 형태에 한정되는 것은 아니며, 하나 이상의 영구자석과 영구자석의 자력을 강화 또는 약화시키기 위한 하나 이상의 전자석으로 이루어져 있는 한 어떠한 형태라도 무관할 것이다. 예를 들면, 하나의 큰 판형 영구자석과 그위에 배치되는 하나 이상의 전자석으로 이루어질 수도 있다.In the drawings, the electromagnet / permanent magnet assembly of the above-described type is used, but the present invention is not limited thereto, and any form may be used as long as it is made of at least one permanent magnet and at least one electromagnet for strengthening or weakening the magnetic force of the permanent magnet. will be. For example, it may consist of one large plate-shaped permanent magnet and one or more electromagnets disposed thereon.

도 5는 본 발명에 의한 증착장치를 이용하여 하나의 챔버 내부에서 마스크-기판 정렬 및 증착을 동시에 수행하는 과정을 도시하는 도면이다.5 is a diagram illustrating a process of simultaneously performing mask-substrate alignment and deposition in one chamber using the deposition apparatus according to the present invention.

도 5a는 본 발명에 의한 증착장치의 섀도우마스크 안착테이블(300)상에 섀도우마스크(600)를 로딩하는 과정이다. 얇은 섀도우마스크를 보호하기 위하여 마스크를 마스크 안착판(320)상에 놓은 후 진공용 로봇을 이용하여 섀도우마스크 안착테이블(300) 상부면에 로딩한다.Figure 5a is a process of loading the shadow mask 600 on the shadow mask seating table 300 of the deposition apparatus according to the present invention. In order to protect the thin shadow mask, a mask is placed on the mask seating plate 320 and then loaded on the upper surface of the shadow mask seating table 300 using a vacuum robot.

도 5b는 유리기판 로딩과정을 도시하는 것으로, 지지봉(220)이 상향이동함으로써 자석블록(210)을 위로 이동시키면, 기판홀더(230)의 상하이동봉(232)의 상부가 챔버(100) 상면에 배치된 스토퍼(110)와 간섭되어 아래로 이동한다. 따라서, 기판 지지바(233)가 아래로 이동하여 자석블록(210)과 어느 정도 이격된다. 이 상태에서 기판(700)을 기판 지지바(233)의 걸림턱(234)에 밀어넣음으로써 기판이 로딩된다. 기판 로딩 후에는 자석블록(210)이 다시 아래로 이동하고, 도 4c에서와 같이, 스프링(231)의 탄성복원력에 의하여 기판 지지바(233)가 상승함으로써 유리기판이 자석블록(210)의 하면에 밀착된다.5B illustrates a glass substrate loading process. When the supporting rod 220 moves upward to move the magnet block 210, the upper portion of the shandong rod 232 of the substrate holder 230 is placed on the upper surface of the chamber 100. Interfering with the disposed stopper 110 moves downward. Therefore, the substrate support bar 233 moves downward to be spaced apart from the magnet block 210 to some extent. In this state, the substrate is loaded by pushing the substrate 700 into the locking step 234 of the substrate support bar 233. After the substrate is loaded, the magnet block 210 moves downward again, and as shown in FIG. 4C, the substrate support bar 233 is raised by the elastic restoring force of the spring 231, so that the glass substrate is lowered from the magnet block 210. Close to

도 5c에서와 같이, 이 경우 섀도우마스크를 탑재한 안착테이블(300)은 이미 기판 아래부분에 위치하고 있다. 또한, 전자석블록의 전자석(341)에는 영구자석(342)의 자력을 강화하는 방향인 정방향으로 전류가 인가됨으로써 아래로 이동하여 섀도우마스크와 가까워진 자석블록(210)의 영구자석에 의하여 섀도우마스크(600)가 위로 끌려가지 않도록 하여야 한다.(도 4b와 같은 상태)In this case, as shown in Figure 5c, the seating table 300 mounted with the shadow mask is already located below the substrate. In addition, the shadow mask 600 by the permanent magnet of the magnet block 210 is moved down by the current is applied to the electromagnet 341 of the electromagnet block in the forward direction, which is a direction to strengthen the magnetic force of the permanent magnet 342 is close to the shadow mask ) Should not be dragged upwards (as shown in Figure 4b).

도 5c는 섀도우마스크와 유리기판을 정렬하는 과정을 도시하는 것이다.5C illustrates a process of aligning the shadow mask and the glass substrate.

전자석에 정방향 전류를 인가하여 섀도우마스크를 안착테이블(300)상에 밀착시킨 상태에서, CCD카메라(500)로 확인하면서 섀도우마스크의 정렬마크와 유리기판의 정렬마크가 일치할 때까지 안착테이블(300)의 3축 위치이동수단을 구동하여 안착테이블을 x, y, θ방향으로 미세조정한다.In the state where the shadow mask is in close contact with the seating table 300 by applying a forward current to the electromagnet, the seating table 300 is checked until the alignment mark of the shadow mask coincides with the alignment mark of the glass substrate while checking with the CCD camera 500. Drive the three-axis position shift means to finely adjust the seating table in the x, y and θ directions.

정렬이 끝나면 제어부(미도시)는 전자석에 역방향 전류를 흘려 안착테이블의 자력을 감소시킨다. 따라서, 상대적으로 자력이 큰 자석블록(210)에 의하여 섀도우마스크가 위로 끌려 올라가 유리기판과 밀착되게 된다.After the alignment, the controller (not shown) flows a reverse current through the electromagnet to reduce the magnetic force of the seating table. Therefore, the shadow mask is pulled up by the magnetic block 210 having a relatively high magnetic force to be in close contact with the glass substrate.

기판과 섀도우마스크가 밀착된 후에는 기판과 자석블록을 증착위치로 상승하고 인가된 역방향 전류를 차단하는 것이 바람직하다. 전류를 차단하더라도 섀도우마스크는 이미 자석블록(210)의 자력필드 지배하에 있게 되므로 다시 안착테이블로 끌려 내려오는 일은 없으며, 오히려 계속 전류를 인가할 때 발생하는 열에 의하여 기판-마스크의 증착특성이 변화하는 것을 방지하는 데에도 유용하기 때문이다.After the substrate and the shadow mask are in close contact, it is preferable to raise the substrate and the magnetic block to the deposition position and block the applied reverse current. Even if the current is cut off, the shadow mask is already under the magnetic field of the magnetic block 210, so it is not dragged down to the seating table again. Rather, the deposition characteristic of the substrate-mask is changed by the heat generated when the current is continuously applied. It's also useful for preventing things.

본 실시예에서 영구자석블록(210) 아래에 기판이 밀착된 상태에서 기판표면의 최대 자속(磁束)은 300가우스 정도이고, 안착테이블에 있는 전자석블록의 자속은 전류인가 전에는 약 300가우스, 정방향 전류 인가시에는 약 400가우스, 역방향 전류 인가시에는 약 200가우스 정도이었다. 따라서, 섀도우마스크가 기판에 밀착된 후에는 전류를 차단하더라도 기판-마스크의 밀착상태는 그대로 유지되는 것이다.In the present embodiment, the maximum magnetic flux on the surface of the substrate is about 300 gauss while the substrate is in close contact with the permanent magnet block 210, and the magnetic flux of the electromagnet block on the seating table is about 300 gauss before applying the current. It was about 400 gauss when applied and about 200 gauss when reverse current was applied. Therefore, after the shadow mask is in close contact with the substrate, even if the current is blocked, the close contact state of the substrate-mask is maintained.

도 5d는 증착단계를 도시하는 것으로서, 기판(700)과 마스크(600)가 정렬·밀착된 상태에서, 선형가이드수단(400)의 구동모터(미도시)가 구동됨으로써 안착테이블이 선형레일을 따라 우측으로 이동함으로써 작업영역(증착영역) 밖으로 벗어난다.5D illustrates a deposition step, in which the driving motor (not shown) of the linear guide means 400 is driven while the substrate 700 and the mask 600 are aligned and in close contact with each other. By moving to the right, you get out of the working area.

이 상태에서 챔버 하부에 있는 증착원을 가열하면 가열에 의해 증착원에 담긴 유기물이 증발하여 기판에 증착된다. 상기의 모든 단계는 진공에서 이루어지며, 증착단계 동안 기판과 섀도우 마스크는 정렬 부착 상태로 회전함으로써 고른 증착을 달성할 수 있게 한다.In this state, when the deposition source under the chamber is heated, the organic matter contained in the deposition source is evaporated by heating to deposit on the substrate. All of the above steps are done in vacuo, and during the deposition step the substrate and shadow mask are rotated in an aligned state to achieve even deposition.

한편, 증착과정이 종료되면 다른 기판상의 증착을 수행하기 위하여 기판으로부터 마스크를 분리하여야 한다. 즉, 마스크는 분리하고 새로운 (미증착) 기판을 다시 장착하고 정렬 및 증착을 수행하여야 한다.Meanwhile, when the deposition process is completed, the mask must be separated from the substrate in order to perform deposition on another substrate. That is, the mask must be removed, the new (non-deposited) substrate must be remounted, and alignment and deposition performed.

이러한 마스크 분리과정은 도시되지는 않았지만 다음과 같은 방식으로 이루어진다.This mask separation process is not shown, but in the following manner.

우선 ① 증착과정동안 작업영역 밖에 있었던 안착테이블을 증착 작업공간으로 복귀시키고, ② 섀도우 마스크 홀더유닛을 아래로 하강한 후, 상기 안착테이블의 전자석에 정방향 전류를 인가함으로써 안착테이블의 자력을 증가 시켜, 섀도우 마스크를 섀도우마스크 안착테이블 상으로 낙하시킨다.First, the seating table that was outside the work area during the deposition process is returned to the deposition work space. ② The shadow mask holder unit is lowered, and then the magnetic force of the seating table is increased by applying a forward current to the electromagnet of the seating table. The shadow mask is dropped onto the shadow mask seating table.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 의한 증착장치의 전체 구성도이다.6 is an overall configuration diagram of a deposition apparatus according to a second embodiment of the present invention.

섀도우마스크 홀더유닛을 제외한 다른 구성요소는 모두 제 1 실시예에 의한 장치와 동일하므로 중복 설명은 생략한다.All other components except the shadow mask holder unit are the same as those of the apparatus according to the first embodiment, and thus redundant description is omitted.

제 2 실시예에 의한 섀도우마스크 홀더유닛(200)은 속인 빈 직육면체 형상의 중공블록(250)과, 중공블록 내부에 배치되고 영구자석을 포함하는 자석블록(260)과, 중공블록 상부에 고정되어 중공블록을 챔버내에서 상하 이동시키는 제 1 지지봉(270)과, 상기 제 1 지지봉에 삽입되고 일단이 자석블록 상부에 고정되어 자석블록을 중공블록 내부에서 상하로 이동시키기 위한 제 2 지지봉(280)과, 상기 중공블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더(230)로 이루어지며, 기판홀더(230)는 중공블록(250)의 네 모퉁이에 형성된 관통홈 내에 삽입되는 4개의 탄성스프링(231)과, 탄성스프링 내부에 삽입되어 자석블록에 대하여 탄성적으로 상하 이동하는 4개의 상하이동봉(232)과, 두 개의 상하이동봉에 결합되어 있고 유리기판의 가장자리를 걸기 위한 걸림턱을 가지는 2개의 기판지지바(bar; 233)로 이루어진다.The shadow mask holder unit 200 according to the second embodiment is a hollow block 250 having a hollow rectangular parallelepiped shape, a magnet block 260 disposed inside the hollow block and including a permanent magnet, and fixed to an upper portion of the hollow block. A first support rod 270 for moving the hollow block up and down in the chamber, and a second support rod 280 inserted into the first support rod and fixed at an upper end of the magnet block to move the magnet block up and down within the hollow block; And a substrate holder 230 capable of elastically moving up and down with respect to the hollow block, wherein the substrate holder 230 has four elastic springs 231 inserted into through holes formed at four corners of the hollow block 250. And four shanghai-dong rods 232 inserted into the elastic spring and elastically moving up and down with respect to the magnet block, and coupled to two shanghai-dong rods, and having a locking jaw for hanging the edge of the glass substrate. It made of; (233 bar) 2 of the substrate support bar.

제 2 실시예에 의한 섀도우마스크 홀더유닛은 영구자석블록(260) 이외에 중공블록(250)을 추가고 구비하고 있고, 홀더유닛 전체의 상하이동을 수행하는 제 1 지지봉(270) 이외에 중공블록 내에서 자석블록만을 상하로 이동시키기 위한 제 2 지지봉(280)을 구비한다는 점이 제 1 실시예와 상이하다.The shadow mask holder unit according to the second embodiment is provided with a hollow block 250 in addition to the permanent magnet block 260, and in the hollow block in addition to the first support rod 270 that performs shangdong of the entire holder unit. It is different from the first embodiment in that it has a second supporting rod 280 for moving only the magnetic block up and down.

도 7은 제 2 실시예에 의한 장비를 이용하여 증착을 수행하는 과정을 도시한다. 도 5와는 다르게 섀도우마스크 홀더유닛이 중공블록 및 자석블록을 포함하고 있고, 각 단계에서 두 블록의 상대적인 위치가 변화하므로 그를 중심으로 설명한다.7 shows a process of performing deposition using the equipment according to the second embodiment. Unlike FIG. 5, the shadow mask holder unit includes a hollow block and a magnetic block, and thus the relative positions of the two blocks change at each step, and thus, the shadow mask holder unit will be described.

우선, 도 7a는 사용할 섀도우마스크를 로딩하는 단계를 도시하는 것으로, 로봇과 마스크 캐리어 핸들(330)을 이용하여 섀도우 마스크를 안착테이블 상에 장착한다. 이 과정에서 자석블록(260)은 중공블록(250)의 상부에 위치함으로써 영구자석의 자력이 마스크에 미치지 않도록 한다.First, FIG. 7A illustrates loading the shadow mask to be used, and mounts the shadow mask on the seating table using the robot and the mask carrier handle 330. In this process, the magnetic block 260 is positioned above the hollow block 250 so that the magnetic force of the permanent magnet does not reach the mask.

그 다음으로 도 5b와 유사한 과정으로 기판을 홀더유닛상에 장착한 후, 아래로 이동하여 도 7b와 같은 정렬단계로 진입한다.Next, after mounting the substrate on the holder unit in a process similar to that of FIG. 5B, the substrate is moved downward to enter an alignment step as shown in FIG. 7B.

정렬단계에서는 도 5의 제 1 실시예와 마찬가지로 안착테이블의 전자석에 정방향 전류를 인가하여 마스크가 테이블상에 밀착되어 있도록 한다. 정렬과정이 진행되는 동안 홀더유닛의 자석블록(260)은 중공블록(250)의 상부에 그대로 유지시킴으로써 자력이 마스크에 미치지 않도록 한다. 이 상태에서 CCD 카메라로 관찰하면서 3축 위치이동수단(미도시)을 구동하여 정렬을 수행한다.In the alignment step, as in the first embodiment of FIG. 5, a forward current is applied to the electromagnet of the seating table so that the mask is in close contact with the table. During the alignment process, the magnetic block 260 of the holder unit is kept on top of the hollow block 250 so that the magnetic force does not reach the mask. In this state, alignment is performed by driving a three-axis position shifting means (not shown) while observing with a CCD camera.

정렬이 끝나면, 마스크를 기판에 밀착시키기 위하여 도 7c와 같은 마스크 홀딩과정이 수행된다. 즉, 전자석에 역방향 전류를 인가함과 동시에 자석블록(260)을중공블록(250) 아래로 이동시킨다. 전자석의 자력에 비하여 영구자석(자석블록)에 의한 자력이 더 강해지므로 마스크(600)는 위로 끌어당겨져 기판(700)과 밀착되고, 밀착된 후에는 마스크 홀더유닛을 상부의 증착위치로 이동시킨다. 증착위치에서는 안착테이블과 마스크 사이의 거리가 멀어지므로 안착테이블의 자력은 거의 영향이 없다. 따라서, 인가하였던 역방향 전류를 제거하여도 될 것이다.After the alignment, the mask holding process as shown in FIG. 7C is performed to bring the mask into close contact with the substrate. That is, the magnetic block 260 is moved below the hollow block 250 while applying a reverse current to the electromagnet. Since the magnetic force by the permanent magnet (magnet block) is stronger than the magnetic force of the electromagnet, the mask 600 is pulled up to closely contact the substrate 700, and after the contact, the mask holder unit is moved to an upper deposition position. In the deposition position, the distance between the seating table and the mask becomes far, so that the magnetic force of the seating table is hardly affected. Therefore, the applied reverse current may be removed.

도 7d는 증착과정을 도시하는 것으로, 기판+마스크를 장착한 마스크 홀더유닛이 증착위치로 상승한 후에, 선형가이드 수단을 이용하여 안착테이블(300)을 (증착)작업공간 밖으로 이동시키고, 고른 증착을 위하여 홀더유닛을 회전시키면서 증착을 수행한다.FIG. 7D shows a deposition process. After the mask holder unit with the substrate + mask is raised to the deposition position, the seating table 300 is moved out of the (deposition) work space using a linear guide means, and even deposition is performed. In order to perform the deposition while rotating the holder unit.

도 8은 증착과정이 완료된 후에 마스크를 기판과 분리하기 위한 과정을 도시하는 것이다.8 shows a process for separating the mask from the substrate after the deposition process is completed.

도시된 과정은 전술한 기판-마스크 분리방법중 제 2 실시예에 의한 것이다.The illustrated process is according to the second embodiment of the above-described substrate-mask separation method.

우선, 증착이 완료되면 안착테이블(300)을 다시 작업공간(즉 마스크 홀더유닛 하부)으로 복귀시키고, 마스크 홀더유닛을 정렬단계에서와 같은 높이까지 하강한다(도 8a). 그 다음으로, 중공블록(250) 내부의 자석블록(260)을 상부로 이동시키면 (영구)자석블록에 의한 자력이 약해져 마스크가 기판과 분리되어 아래로 낙하하게 된다(도 8b). 낙하된 섀도우 마스크는 안착테이블 상에 다시 탑재되고, 새로운 기판이 장착되어 도 7b 내지 도 7d와 같은 과정이 반복 수행된다. 이 때, 안착테이블의 자석(전자석+영구자석)과 마스크 홀더유닛의 자석(자석블록)이 서로 대등한 강한 자력으로 마스크를 잡아 당기게되므로 마스크가 얇은 경우에는 분리중에휘거나 변형될 수 있다. 따라서 이를 방지하기 위하여, 전자석에 역방향 전류를 인가하여 자력을 약화시킬 수 있다.First, when deposition is completed, the seating table 300 is returned to the work space (ie, the lower part of the mask holder unit), and the mask holder unit is lowered to the same height as in the alignment step (FIG. 8A). Next, when the magnetic block 260 inside the hollow block 250 is moved upward, the magnetic force caused by the (permanent) magnetic block is weakened so that the mask is separated from the substrate and falls down (FIG. 8B). The dropped shadow mask is mounted on the seating table again, and a new substrate is mounted to repeat the process of FIGS. 7B to 7D. At this time, since the magnet (electromagnet + permanent magnet) of the seating table and the magnet (magnet block) of the mask holder unit pull the mask with strong magnetic force equal to each other, the mask may be bent or deformed during separation if the mask is thin. Therefore, in order to prevent this, it is possible to weaken the magnetic force by applying a reverse current to the electromagnet.

또한, 마스크 변형의 우려가 없는 경우에는 자석블록의 이동없이 단순히 전자석에 정방향 전류를 인가하여 자력을 증가시킴으로써 마스크를 분리할 수도 있다.In addition, when there is no fear of mask deformation, the mask may be separated by simply applying a forward current to the electromagnet to increase the magnetic force without moving the magnet block.

분리된 후에는 홀더유닛이 기판 교체를 위하여 다시 챔버 상부로 이동하게 되며, 상부로 이동한 후에는 안착테이블은 전자석의 영향없이 마스크를 유지할 수 있기 때문에 인가되었던 역방향 또는 정방향 전류를 모두 제거하여도 된다(도 8c).After removal, the holder unit moves back to the upper part of the chamber to replace the substrate, and after moving to the upper part, the seating table can maintain the mask without the influence of the electromagnet, so that any applied reverse or forward current may be removed. (FIG. 8C).

이상과 같은 본 발명에서는, 전자석과 영구자석을 구비하는 마스크 안착테이블을 이용함으로써 섀도우마스크와 유리기판을 우수하게 정렬할 수 있을 뿐 아니라, 섀도우마스크가 기판에 정렬·밀착된 후에 안착테이블을 작업영역 밖으로 이동시키는 선형가이드 수단을 이용함으로써 하나의 챔버 안에서 마스크-기판 정렬과 증착과정을 동시에 수행할 수 있다.In the present invention as described above, by using a mask seating table having an electromagnet and a permanent magnet, not only the shadow mask and the glass substrate can be excellently aligned, but also the seating table is placed after the shadow mask is aligned and adhered to the substrate. By using the linear guide means to move out, the mask-substrate alignment and the deposition process can be simultaneously performed in one chamber.

따라서, 유기전계발광표시소자의 제작에 필요한 챔버의 수를 감소시킬 수 있을 뿐 아니라, 제작시간 및 제작비용을 획기적으로 감소시킬 수 있다.Therefore, not only the number of chambers required for fabricating the organic light emitting display device can be reduced, but also the manufacturing time and manufacturing cost can be drastically reduced.

Claims (17)

진공챔버;Vacuum chamber; 진공챔버 상부에 배치되어 상하로 이동하며, 유리기판을 지지하고 정렬된 섀도우마스크를 유리기판상에 밀착시키기 위한 영구자석을 구비하는 섀도우마스크 홀더유닛,A shadow mask holder unit disposed on the vacuum chamber and moving up and down, the shadow mask holder unit supporting a glass substrate and having a permanent magnet for closely contacting the aligned shadow mask on the glass substrate; 섀도우마스크를 탑재하기 위하여 섀도우마스크 홀더유닛 하부에 배치되고, 상부에 있는 섀도우마스크와 탑재된 유리기판을 정렬하기 위하여 외부에 연결된 제어부에 의하여 제어되는 3축 위치이동수단과, 1 이상의 영구자석 및 전자석을 포함하는 섀도우마스크 안착테이블;A three-axis position shift means disposed under the shadow mask holder unit for mounting the shadow mask and controlled by an externally connected control unit for aligning the shadow mask on the upper part with the mounted glass substrate, one or more permanent magnets and electromagnets A shadow mask seating table comprising a; 상기 유리기판과 섀도우마스크의 정렬상태를 확인하기 위한 광학 정렬확인수단;Optical alignment checking means for checking an alignment state of the glass substrate and the shadow mask; 진공챔버 내에서 상기 섀도우마스크 안착테이블을 좌우로 이동시키기 위한 선형가이드수단;Linear guide means for moving the shadow mask seating table from side to side within a vacuum chamber; 진공챔버 외부에 배치되어 상기 3축 위치이동수단, 선형가이드수단, 및 전자석에 인가되는 전류의 극성과 크기를 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.And a control unit arranged outside the vacuum chamber to control the polarity and the magnitude of the current applied to the three-axis position shifting means, the linear guide means, and the electromagnet. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 섀도우마스크 홀더유닛은, 영구자석을 포함하는 자석블록과, 자석블록상부에 고정되어 자석블록을 챔버내에서 상하 이동시키는 지지봉과, 상기 자석블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더로 이루어지며,The shadow mask holder unit is composed of a magnet block including a permanent magnet, a support rod fixed to the upper part of the magnet block to move the magnet block up and down in the chamber, and a substrate holder capable of elastically moving up and down with respect to the magnet block. , 상기 기판홀더는 자석블록의 네 모퉁이에 형성된 관통홈 내에 삽입되는 4개의 탄성스프링과, 탄성스프링 내부에 삽입되어 자석블록에 대하여 탄성적으로 상하 이동하는 4개의 상하이동봉과, 두 개의 상하이동봉에 결합되어 있고 유리기판의 가장자리를 걸기 위한 걸림턱을 가지는 2개의 기판지지바(bar)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.The substrate holder includes four elastic springs inserted into the through grooves formed at four corners of the magnetic block, four shanghai rods inserted into the elastic springs to move up and down elastically with respect to the magnetic block, and two shanghai bars. Evaporation apparatus for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that consisting of two substrate support bars (bar) having a locking step for hanging the edge of the glass substrate. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 자석블록은 저면측에 소정 간격마다 자석안착홈이 형성된 상판과, 상기 상판에 대응하여 소정 간격을 두고 이격된 하판과, 상기 상판 및 하판 사이에 수직방향으로 개재되는 다수의 영구자석과, 상기 상판과 하판 사이에 설치되어 이들의 가장자리를 지지해주는 이격프레임으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.The magnet block includes a top plate having magnet seating grooves formed at predetermined intervals on a bottom surface thereof, a bottom plate spaced at a predetermined interval corresponding to the top plate, a plurality of permanent magnets interposed in the vertical direction between the top plate and the bottom plate, and Evaporation apparatus for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that formed between the upper plate and the lower plate to support the edge of the separation frame. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 섀도우마스크 안착테이블은 하나 이상의 전자석·영구자석 어셈블리를 구비하고 3축 위치이동수단에 의하여 이동하는 전자석블록과, 섀도우마스크를 안착하기 위한 마스크 안착판으로 이루어지며,The shadow mask seating table includes an electromagnet block having one or more electromagnet and permanent magnet assemblies and moved by three-axis position moving means, and a mask seat for seating the shadow mask. 상기 각각의 전자석·영구자석 어셈블리는 전자석코어와, 전자석코어 하부에배치되는 영구자석과, 전자석코어 및 영구자석을 둘러싸는 롤과, 롤 주위에 권취되어 있는 코일로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.Each electromagnet / permanent magnet assembly comprises an electromagnet core, a permanent magnet disposed under the electromagnet core, a roll surrounding the electromagnet core and the permanent magnet, and a coil wound around the roll. Deposition apparatus for device fabrication. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 선형가이드 수단은 안착테이블이 안착되는 선형레일, 및 상기 제어부의 제어에 따라 선형레일을 따라 안착테이블을 좌우로 이동시키기 위한 구동수단으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.The linear guide means is a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that the linear rail on which the seating table is seated, and driving means for moving the seating table from side to side along the linear rail under the control of the controller. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 섀도우마스크 홀더유닛은, 중공블록과, 상기 중공블록 내부에 배치되고 영구자석을 포함하는 자석블록과, 중공블록 상부에 고정되어 중공블록을 챔버내에서 상하 이동시키는 제 1 지지봉과, 상기 제 1 지지봉에 삽입되고 일단이 자석블록 상부에 고정되어 자석블록을 중공블록 내부에서 상하로 이동시키기 위한 제 2 지지봉과, 상기 중공블록에 대하여 상하로 탄성이동할 수 있는 기판홀더로 이루어지며,The shadow mask holder unit includes a hollow block, a magnetic block disposed in the hollow block and including a permanent magnet, a first support rod fixed to the hollow block to move the hollow block up and down in the chamber, and the first block. Is inserted into the support rod and is fixed to the upper end of the magnetic block consists of a second support rod for moving the magnetic block up and down inside the hollow block, and a substrate holder that can be moved up and down with respect to the hollow block, 상기 기판홀더는 중공블록의 네 모퉁이에 형성된 관통홈 내에 삽입되는 4개의 탄성스프링과, 탄성스프링 내부에 삽입되어 자석블록에 대하여 탄성적으로 상하 이동하는 4개의 상하이동봉과, 두 개의 상하이동봉에 결합되어 있고 유리기판의 가장자리를 걸기 위한 걸림턱을 가지는 2개의 기판지지바(bar)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착장치.The substrate holder has four elastic springs inserted into the through grooves formed at four corners of the hollow block, four shangong rods inserted into the elastic springs to move up and down elastically with respect to the magnetic block, and two shanghai bars. Evaporation apparatus for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that consisting of two substrate support bars (bar) having a locking step for hanging the edge of the glass substrate. 상기 제 1 항 내지 5 항 중 하나에 의한 증착장치를 이용한 방법으로서,As a method using the deposition apparatus according to any one of claims 1 to 5, 상기 섀도우마스크 홀더유닛 상에 유리기판을 탑재하여 고정하고, 상기 섀도우마스크를 안착테이블 상에 탑재하는 제 1 단계;A first step of mounting and fixing a glass substrate on the shadow mask holder unit and mounting the shadow mask on a seating table; 상기 광학 정렬확인수단을 이용하여 확인하면서, 상기 3축 위치이동수단을 이용하여 안착테이블의 위치를 제어함으로써 유리기판과 섀도우마스크를 정렬하는 제 2 단계;A second step of aligning the glass substrate and the shadow mask by controlling the position of the seating table using the three-axis position shifting means while confirming using the optical alignment confirming means; 상기 전자석에 역방향의 전류를 인가하여 안착테이블의 자력을 홀더유닛의 자력보다 작게 함으로써 섀도우마스크가 상향 이동하여 유리기판과 밀착되게 하는 제 3 단계;A third step of applying a reverse current to the electromagnet so that the magnetic force of the seating table is smaller than the magnetic force of the holder unit so that the shadow mask moves upward and closely adheres to the glass substrate; 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간 밖으로 이동시키는 제 4 단계; 및,A fourth step of moving the seating table out of the deposition workspace using the linear guide means; And, 진공상태에서 상기 챔버 내에서 증착을 수행하는 제 5 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.A deposition method for fabricating an organic light emitting display device, comprising the fifth step of performing deposition in the chamber in a vacuum state. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 3 단계에서 홀더유닛의 자력에 의하여 섀도우마스크가 유리기판에 밀착된 후, 기판과 자석블록을 증착위치로 상승시키고 전자석에 인가되던 역방향 전류를 차단하는 제 6 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.After the shadow mask is in close contact with the glass substrate by the magnetic force of the holder unit in the third step, further comprising a sixth step of raising the substrate and the magnetic block to the deposition position and blocking the reverse current applied to the electromagnet Evaporation method for fabricating an organic light emitting device. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,The method according to claim 7 or 8, 상기 제 1 단계에서 유리기판을 탑재·고정하는 단계는,Mounting and fixing the glass substrate in the first step, 상기 자석블록을 위로 이동시켜 기판홀더의 상하이동봉이 챔버 상단에 구비된 스토퍼(stopper)와 간섭되어 아래로 이동한 상태에서 유리기판을 기판지지바의 걸림턱에 걸리도록 삽입하는 단계와,Moving the magnetic block upward and inserting the glass substrate onto the latching jaw of the substrate support bar in a state in which the shandong rod of the substrate holder is moved downward by interfering with a stopper provided at the top of the chamber; 자석블록을 아래로 내리면 스토퍼와 상하이동봉의 접촉이 해제되면서 탄성스프링에 의하여 상하이동봉이 위로 이동하고, 결과적으로 삽입된 유리기판이 자석블록에 밀착·고정되는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.When the magnetic block is lowered down, the contact between the stopper and the shanghai rod is released and the shanghai rod is moved up by the elastic spring, and as a result, the inserted glass substrate is in close contact with and fixed to the magnetic block. Deposition method for device fabrication. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 1 단계에서 유리기판을 탑재·고정하는 단계 도중에는, 섀도우마스크가 안착테이블 상에 밀착·고정되도록 상기 전자석에 정방향 전류를 인가함으로써 전자석블록의 자력을 증가시키는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.During the mounting and fixing of the glass substrate in the first step, fabricating an organic light emitting display device increases the magnetic force of the electromagnet block by applying a forward current to the electromagnet so that the shadow mask adheres and is fixed on the seating table. Evaporation method. 상기 제 6 항에 의한 증착장치를 이용한 방법으로서,As a method using the deposition apparatus according to claim 6, 상기 자석블록을 중공블록 상부에 위치시킨 상태에서, 상기 섀도우마스크 홀더유닛 상에 유리기판을 탑재하여 고정하고, 상기 섀도우마스크를 안착테이블 상에탑재하는 제 1 단계;A first step of mounting and fixing a glass substrate on the shadow mask holder unit in a state in which the magnetic block is positioned above the hollow block, and mounting the shadow mask on a seating table; 상기 광학 정렬확인수단을 이용하여 확인하면서, 상기 3축 위치이동수단을 이용하여 안착테이블의 위치를 제어함으로써 유리기판과 섀도우마스크를 정렬하는 제 2 단계;A second step of aligning the glass substrate and the shadow mask by controlling the position of the seating table using the three-axis position shifting means while confirming using the optical alignment confirming means; 상기 자석블록을 중공블록 하부로 이동시키고, 상기 전자석에 역방향의 전류를 인가하여 안착테이블이 미치는 자력을 홀더유닛의 자력보다 작게 함으로써 섀도우마스크가 상향 이동하여 유리기판과 밀착되게 하는 제 3 단계;A third step of moving the magnetic block below the hollow block and applying a reverse current to the electromagnet so that the magnetic force applied by the seating table is smaller than the magnetic force of the holder unit so that the shadow mask moves upward and closely adheres to the glass substrate; 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간 밖으로 이동시키는 제 4 단계; 및,A fourth step of moving the seating table out of the deposition workspace using the linear guide means; And, 진공상태에서 상기 챔버 내에서 증착을 수행하는 제 5 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.A deposition method for fabricating an organic light emitting display device, comprising the fifth step of performing deposition in the chamber in a vacuum state. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제 3 단계에서 홀더유닛의 자력에 의하여 섀도우마스크가 유리기판에 밀착된 후, 홀더유닛을 증착위치로 상승시키고 전자석에 인가되던 역방향 전류를 차단하는 제 6 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.After the shadow mask is in close contact with the glass substrate by the magnetic force of the holder unit in the third step, further comprising the sixth step of raising the holder unit to the deposition position and blocking the reverse current applied to the electromagnet Evaporation method for fabricating an organic light emitting device. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,The method according to claim 11 or 12, 상기 제 1 단계에서 유리기판을 탑재·고정하는 단계는,Mounting and fixing the glass substrate in the first step, 상기 중공블록을 위로 이동시켜 기판홀더의 상하이동봉이 챔버 상단에 구비된 스토퍼(stopper)와 간섭되어 아래로 이동한 상태에서 유리기판을 기판지지바의 걸림턱에 걸리도록 삽입하는 단계와,Moving the hollow block upward and inserting the glass substrate onto the latching jaw of the substrate support bar in a state in which the shandong rod of the substrate holder is moved downward by interfering with a stopper provided at the top of the chamber; 중공블록을 아래로 내리면 스토퍼와 상하이동봉의 접촉이 해제되면서 탄성스프링에 의하여 상하이동봉이 위로 이동하고, 결과적으로 삽입된 유리기판이 자석블록에 밀착·고정되는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.When the hollow block is lowered down, the contact between the stopper and the shanghai rod is released, and the shanghai rod is moved up by the elastic spring, and as a result, the inserted organic glass substrate is in close contact with and fixed to the magnetic block. Deposition method for device fabrication. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 제 1 단계에서 유리기판을 탑재·고정하는 단계 도중에는, 섀도우마스크가 안착테이블 상에 밀착·고정되도록 상기 전자석에 정방향 전류를 인가함으로써 전자석블록의 자력을 증가시키는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.During the mounting and fixing of the glass substrate in the first step, fabricating an organic light emitting display device increases the magnetic force of the electromagnet block by applying a forward current to the electromagnet so that the shadow mask adheres and is fixed on the seating table. Evaporation method. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,The method according to claim 11 or 12, 상기 제 5 단계의 증착과정이 완료된 후, 섀도우마스크를 기판과 분리하기 위하여,After the deposition process of the fifth step is completed, to separate the shadow mask from the substrate, ① 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간으로 복귀시키고,① return the seating table to the deposition workspace using the linear guide means, ② 섀도우 마스크 홀더유닛을 아래로 하강한 후, 상기 자석블록을 중공블록상부로 이동시켜 섀도우 마스크를 기판과 분리하여 섀도우마스크 안착테이블 상으로 낙하시키는 제 7 단계를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.(2) after lowering the shadow mask holder unit downward, the magnetic block is moved to the upper portion of the hollow block to separate the shadow mask from the substrate, and further comprising a seventh step of dropping onto the shadow mask seating table. Evaporation method for manufacturing an electroluminescent device. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 ②의 과정 도중에, 상기 전자석에 역방향 전류를 인가하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.During the process of ②, the deposition method for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that for applying a reverse current to the electromagnet. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,The method according to claim 11 or 12, 상기 제 5 단계의 증착과정이 완료된 후, 섀도우마스크를 기판과 분리하기 위하여,After the deposition process of the fifth step is completed, to separate the shadow mask from the substrate, ① 상기 선형가이드수단을 이용하여 안착테이블을 증착 작업공간으로 복귀시키고,① return the seating table to the deposition workspace using the linear guide means, ② 섀도우 마스크 홀더유닛을 아래로 하강한 후, 상기 안착테이블의 전자석에 정방향 전류를 인가함으로써 안착테이블의 자력을 증가 시켜, 섀도우 마스크를 섀도우마스크 안착테이블 상으로 낙하시키는 제 8 단계를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자 제작용 증착방법.(2) further comprising an eighth step of lowering the shadow mask onto the shadow mask seating table by lowering the shadow mask holder unit downwards, thereby increasing the magnetic force of the seating table by applying a forward current to the electromagnet of the seating table; Evaporation method for manufacturing an organic light emitting device, characterized in that.
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