KR100414005B1 - 플라즈마디스플레이의제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 활성광의 조사에 의해 점착성이 변화하는 조성물의 층에 노광을 부여한 후, 상 형성 재료용 미립자를 층 위에 살포하고, 층에 부착하지 않았던 미립자를 제거하고, 그 다음에 가열하여 상 형성 미립자를 기판에 고정시키는 것이 적용되는 상 형성방법이다. 본 발명은, 플라스마 디스플레이의 형광체 등의 형태에 접합한 상 형성방법이 아니지만, 광불투과성 또는 광이 투과하기 어려운 재료로 지금까지는 적용되기 어려웠던 사진 석판(평판)법에 관한 것이다. 또한 상 형성 재료층의 두께에 있어서, 상 형성 재료의 입자경을 선택하여 쉽게 변화할 수 있도록 한 것이다.

Description

플라즈마 디스플레이의 제조방법

본 발명은 광 불투과성 재료를 함유하는 패턴을 빛의 작용에 의해서 형성하는 방법에 관한 것으로, 특히 플라즈마 디스플레이의 형광체 안료를 패턴 형성하는 방법에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이(plasma display)는 가스방전에 의한 자외선으로 패널 내에 형성한 3원색의 형광체를 여기 발광시키는 표시체이다. 상기 패널은 도 1과 같은 구조로 이루어지며, 형광체는 리브라고 불리는 격벽으로 구획된 안쪽에 형성되어 있고, 형광체층은 10 내지 수 10㎛의 얇은 막 두께를 필요로 하기 때문에 실크스크린 인쇄법에 의해 필요한 위치에 인쇄하여 형성된다. 도 1에서 부호(1)은 표면유리기판, (2)는 표시전극(투명전극), (3)은 버스전극, (4)는 격벽(리브), (5)는 이면유리기판, (6)은 유전체층, (7)은 보호층(산화마그네슘), (8)은 어드레스전극, (9)는 형광체(적색), (10)은 형광체(녹색), (11)은 형광체(청색)를 나타낸다. 상기 적색, 녹색, 그리고 청색의 형광체로 1화소를 형성한다.

리브의 높이는 약 200㎛이고, 상기 리브들 사이에 형광체를 매설하는 형태로 인쇄되기 때문에 실크스크린에는 불균일한 힘이 부가된다. 따라서, 실크스크린의 수명은 짧다.

플라즈마 디스플레이의 목표의 하나는, 40인치 급 고품질 텔레비전 디스플레이를 제공하는 것이다.

최근의 디스플레이의 대형화, 고품질화 추세로 인하여 실크스크린 인쇄법으로 대응하기에는 어려움이 따르게 되었다. 정밀도가 높은 패터닝은 일반적으로 포토리소그라피법에 의해 수행되지만, 형광체는 빛을 투과하지 않는 안료이기 때문에, 요구되는 막두께가 약 20㎛ 정도가 되면, 빛으로 상기 패턴을 형성하는 것은 거의 불가능하다.

또한, 발광효율을 높이기 위해서는 격벽의 안쪽에도 형광체 막을 부착하는 것이 바람직하다. 또한, 표면적을 최대로 하기 위해서 바닥 부분의 막 두께는 격벽 안쪽에 형성된 막두께와 일치하는 것이 바람직하다.

점착성 패턴 상에 안료 또는 다른 물질을 분사하여 화상을 형성하는 방법은 이미 알려져 있고, 일본 특허공고 소 37-3193호 공보, 일본 특허공고 소 49-7750호 공보 명세서 등에 개시되어 있다. 일본 특허공고 소 37-3139호 공보 명세서의 실시예에는 광중합성 조성물층을 지지체 표면에 도포하고 마스크를 통해 노광한 후 황화아연 카드뮴 형광체를 분사하는 형광체 화상형성방법이 기재되어 있지만, 분사한 안료층의 두께를 제어하는 방법에 관하여는 기재되어 있지 않다. 일본 특허공고 소 49-7750호 공보의 명세서에는 "착색", 즉 비화상부에 안료가 부착하는 것을 피하기 위해서, 안료입자지름을 가장 적합한 범위로 제어하여 형성하고 있다. 또한 여기서는 "결합제"라고 불리는 "수지매트릭스"를 사용하는 방법이 명세서에 기재되어 있지만, 안료층의 두께를 제어하는 방법에 관하여는 기재되어 있지 않다.

본 발명의 목적은, 광 불투과성의 화상형성재료로 이루어지는 상을 형성하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은, 3차원면에 대해서도 균일한 두께의 상을 형성하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 상기 및 다른 목적은 다음 설명과 도면에 의해 더욱 명백해질 것이다.

본 발명자 등은 형광체 안료 등의 상 형성재료를 분사하여 점착성 패턴에 부착시킨 뒤 상 형성재료를 상기 점착성 패턴에 고착시킴으로써 이루어지는, 포토리소그라피법에 의해서 점착성 상을 형성하는 다양한 방법에 대해 광범위한 연구를 했다. 그 결과, 상 형성재료를 결합제와 혼합하여 입자크기를 임의로 변경할 수 있는 상 형성재료용 미립자를 제공할 수 있게 됨으로써 형광체 안료층과 같은 상 형성 미립자의 두께를 자유롭게 조절할 수 있음을 발견하였다.

본 발명은, 활성광의 조사에 의해 점착성이 변화하는 조성물층을 노광한 후, 상 형성재료용 미립자를 분사하여 상기 조성물의 층에 부착되지 않은 미립자를 제거하고, 이어서 가열하여 상 형성 미립자를 기판에 고착시키는 것을 특징으로 하는 상 형성방법을 요지로 하는 것이다.

도1은 플라즈마 디스플레이용의, 가스 방전에 의한 자외선으로 3원색의 형광체를 여기 발광시키기 위한 패널의 대표적인 구성예를 표시하는 사시도이다.

- 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 -

(1).................................. 표면유리기판,

(2).................................. 표시전극,

(3).................................. 버스전극,

(4).................................. 격벽(리브),

(5).................................. 이면유리기판,

(6).................................. 유전체층,

(7).................................. 보호층,

(8).................................. 어드레스전극,

(9).................................. 형광체(적색),

(10)................................. 형광체(녹색),

(11)................................. 형광체(청색).

다음에 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명에 있어서의 활성광의 조사에 의해 점착성이 변화하는 조성물로서는 그 자신이 점착성을 보유하지만, 활성광의 조사에 의해서 점착성을 잃는 재료, 예를 들면, 미국특허 제3,549,367호 명세서 등에 개시되어 있는 광중합성 조성물을 사용할 수 있다.

상기 광중합성 조성물은, 부가중합성 불포화 모노머, 광중합성 개시제 및 필요하다면 결합제 수지로 구성되어 있다. 상기 부가중합성 불포화 모노머는 1개 이상의 부가중합성인 에틸렌성 불포화기를 포함하고, 비점이 상압에서 100℃ 이상인 화합물이다. 상기 부가중합성 불포화 모노머의 특별한 예로는 폴리에틸렌 글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 모노(메타)아크릴레이트, 및 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 단일 작용기성 아크릴레이트 또는 메틸아크릴레이트 그리고 다작용기성 알콜에 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌옥시드를 첨가한 뒤, 상기 첨가물을 (메타)아크릴레이트화하여 얻은 화합물 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 헥산디올(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(아크릴로일옥시프로필)-에테르, 트리(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 글리세린, 및 트리메틸올에탄 등의 화합물, 일본 특허공고 소 48-41708 공보, 일본 특허공보 소 50-6034 공보, 그리고 일본 특허공개 소 51-37193 공보에 기재되어 있는 우레탄 아크릴레이트, 일본 특허공개 소 48-64183 공보, 일본 특허공보 소 49-43191 공보 및 일본 특허공고 소 52-30490 공보에 기재되어 있는 폴리에스테르 아크릴레이트 및 (메타)아크릴산과 에폭시 수지와의 반응 생성물로서 에폭시 아크릴레이트 등의 다작용기성 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트가 있다.

또한, Journal of the Adhesion of Japan VOL. 20, NO. 300-308에 광경화성 모노머와 올리고머로서 소개되어 있는 것도 사용 가능하다.

상기 모노머는 일반적으로 액체 또는 왁스 상태이다. 상기 모노머를 결합제 수지와 적당한 비율로 혼합하여 점착성 도포막을 형성한다. 결합제수지에 대한 모노머의 비율은 일반적으로 30∼100 중량%이고, 바람직하게는 40∼100 중량%이다. 만약 모노머 또는 올리고머만으로 도포막이 형성 가능하다면, 결합제 수지를 사용할 필요는 없다. 상기 모노머 또는 올리고머는 단독으로 사용 가능하다. 하지만, 복수의 모노머 또는 올리고머는 혼합하여 사용할 수도 있다.

사용할 수 있는 광중합성 개시제의 예에는, 미국특허 제2,367,660호 명세서에 기재되어 있는 비시날 폴리케토알도닐 화합물, 미국특허 제2,367,661호와 제2,367,670호 명세서에 기재되어 있는 α-카르보닐 화합물, 미국특허 제2,448,828호에 기재되어 있는 아실로인 에테르, 미국특허 제2,722,512호에 기재되어 있는 α-탄화수소로 치환된 방향족 아실로인 화합물, 미국특허 제3,046,127호 및 제2,951,758호에 기재되어 있는 다핵성 퀴논 화합물, 미국특허 제3,549,367호에 기재되어 있는 트리알릴이미다졸 다이머와 p-아미노페닐케톤의 조합, 일본 특허공고 소 51-48516호 공보에 기재되어 있는 벤조티아졸 화합물과 트리할로메틸-s-트리아진 화합물의 조합, 일본특허 출원 제61-186238호에 기재되어 있는 감광성 s-트리아진 화합물, 미국특허 제4,239,850호에 기재되어 있는 트리할로메틸-s-트리아진 화합물, 및 미국특허 제4,212,976호에 기재되어 있는 옥사디아졸 화합물이 있다. 하지만, 본 발명은 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.

광중합 개시제의 사용량은 모노머의 중량에 대하여 일반적으로 약 0.2∼30 중량% 이고, 바람직하게는 0.5∼20 중량% 이다. 광중합성 조성물에 포함되는 결합제 수지는, 상기 모노머와 상용성이 있고 유기용제에 용해될 수 있는 선상 유기 고분자 중합체가 바람직하게 사용된다. 이러한 선상유기 고분자 중합체로서는, 측쇄에 카르복실산 갖는 중합체, 예를 들어 일본 특허공개 소59-44615호 공보, 일본 특허공고 소54-34327호 공보, 일본 특허공고 소58-12577호 공보, 일본 특허공고 소54-25957호 공보, 일본 특허공개 소 59-53836호 공보, 그리고 일본 특허공개 소59-71048호 공보의 명세서에 기재되어 있는 메타크릴산공중합체, 아크릴산공중합체, 이타콘산공중합체, 크로톤산공중합체, 말레산공중합체, 및 부분적으로 에스테르화된 말레산공중합체 또는 측쇄에 카르복실산을 갖는 산성 셀룰로우즈 유도체가 있다. 또한, 결합제수지로서 수산기를 갖는 중합체에 산무수물을 부가시킨 것도 사용 가능하다. 이들 중 특히 바람직한 것은 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산 공중합체, 및 벤질(메타)아크릴레이트의 공중합체, (메타)아크릴산 및 다른 모노머이다. 이 화합물 외에 수용성 중합체로서, 폴리비닐 피톨리돈, 폴리에틸렌 옥시드, 및 폴리비닐 알콜이 유용하다. 또한, 경화피막의 강도를 높이기 위해서 알콜-가용성 나일론, 아크릴산 에스테르 중합체 또는 공중합체, 그리고 2, 2-비스-(4-히드록시페닐)프로판과 에피클로로히드린의 폴리에테르도 사용될 수 있다.

상기 광중합성 조성물은 보존 안정성 개량을 위해서 열중합 방지제를 포함할 수 있다. 예를 들면, 히드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-P-크레졸, 피로가톨, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀) , 2,2'-메틸렌(4-메틸-6-t-부틸페놀), 및 2-메르캅토벤조이미다졸 등을 포함하는 열중합 방지제의 사용이 가능하다. 이러한 열중합 방지제는 사용된 모노머의 중량에 대해500∼2000ppm양으로 광중합성 조성에 첨가된다. 일반적으로, 시판되는 모노머에는 적당량의 열중합 방지제가 첨가되어 있다.

조성물 층은 필요에 따라서 기판표면에 설치되기 전에 저독성의, 도포성이 좋은 용제에 용해된다. 여기서 사용될 수 있는 용제로서는 3-메톡시프로피온산 메틸에스테르, 3-메톡시프로피온산 에틸에스테르, 3-메톡시프로피온산 프로필에스테르, 3-에톡시프로피온산 메틸에스테르, 3-에톡시프로피온산 에틸에스테르, 및 3-에톡시프로피온산 프로필에스테르 같은 알콕시프로피온산 에스테르, 2-메톡시프로필아세테이트, 2-에톡시프로필 아세테이트, 및 3-메톡시프로필 아세테이트와 같은 알콕시알콜 에스테르, 유산 메틸 및 유산 에틸과 같은 유산 에스테르, 메틸에틸 케톤, 시클로헥사논, 및 메틸시클로헥사논과 같은 케톤, γ-부티로락톤, N-메틸피롤리돈 및 디메틸 술폭시화물 등이 유용하다.

기판(경우에 따라서는 지지체)으로서, 일반적으로 유리가 사용된다.

기판(및/또는 지지체)에 도포함으로써 상기한 조성물의 층을 마련하는 방법으로서는, 스피너, 롤코터, 바코터, 커텐코터, 분사 또는 샤워기 등이 쓰인다. 또한, 도포막을 기판표면과 리브 측벽에 필요한 양만을 균일하게 남기기 위해서는, 도포한 후 여분의 조성물을 제거하는 것이 바람직하다. 여분의 조성물을 제거하는 방법은, 흡인, 블로잉법, 원심분리법 등이 있고, 또한 기판을 거꾸로 또는 반대로 세우는 등의 방법이 있다.

광중합성 조성물중의 대부분의 모노머 또는 올리고머는 일반적으로 상온에서 액상이다. 따라서, 결합제수지에 대한 모노머와 올리고머의 혼합비율을 적당히 선택하면, 광중합성의 조성물은 건조에 의해서 용제가 증발한 후도 여전히 점착성은 남아 있다. 상기 광중합성 조성물로 이루어지는 도포막은 활성광의 조사에 의해 중합반응을 개시하여 모노머 또는 올리고머가 소실되고 따라서 점착성을 상실한다.

활성광이 조사되지 않는 지역은 점착성의 변화가 나타나지 않는다. 그러므로, 미립자 상 형성재료를 도포막 위에 뿌려서 점착성지역에 고착시킨다. 미립자 상 형성재료를 뿌리는 대신에 도포막 위에 분사하거나 문지를 수도 있다.

도포막은 마스크를 통해 패턴노광하여, 미립자 상 형성재료를 뿌리고, 흡인, 블로잉법 또는 브러싱 등으로 여분의 미립자 재료를 제거함으로써 상이 형성된다.

본 발명에 있어서의 상기한 기판의 상 형성재료는, 형광체가 대표적이지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니다. 예를 들면, 금속, 전이금속, 알카리토금속 또는 그들의 산화물 등의 미립자(또는 분체), 예를 들면, 금, 은, 백금, 알루미늄, 구리 ITO(인듐주석 옥사이드), 카본블랙, 흑연, 그리고 산화티타늄 등의 광 불투과성 또는 광투과가 어려운 재료를 사용할 수 있다. 또한, 본 발명은 지금까지 포토리소그라피법의 적용이 어려웠던 재료의 패턴 형성에 적합하다.

본 발명에서 상 형성재료는, 일반적으로, 결합제와 혼합되어, 사용 전에 미리 소정의 균일한 입자 지름의 미립자 고체로서 제공된다. 입자의 크기는 일반적으로, 1∼1,000㎛, 바람직하게는 10∼200㎛이다.

상기 입자의 크기를 변화시킴으로써 패턴-형성층의 막두께를 소정 범위, 바람직하게 10∼200㎛로 조정할 수 있다.

상 형성재료와 혼합하여 미립자 고체를 공급하는 결합제로서, 예를 들면, 설탕, 시트르산, 호박산(숙신산), 말론산 등의 열로 용융할 수 있는 연소성 물질이 알맞지만, 본 발명에 있어서, 이들에 한정되는 것은 아니다. 셀룰로우즈 아세테이트, 에틸셀룰로우즈, 셀룰로우즈 아세테이트 부티레이트, 수용성 폴리비닐알콜, 카르복시메틸 셀룰로우즈, 셀룰로우즈 하이드로겐 프탈레이트의 나트륨염 등을 사용하는 것도 가능하다.

형광체를 결합제와 혼합하여 원하는 미립자를 제공하는 과정에서, 바람직하게 유리를 고착제로서 시스템에 혼입한다. 상기 방법으로 상기 결합제가 모두 제거되면 유리가 용융되어 형광체가 기판에 고착된다.

형광체는 고착제가 없더라도 유지되지만 고착제가 존재하면 더 견고하게 기판에 고착된다. 이런 고착제로서 형광체가 자외선의 조사에 의해서 발광할 때에, 발광효율을 방해하지 않는 재료가 바람직하다.

자외선 여기형 형광체로서는, 다음과 같은 조성물 등이 잘 알려지고 있다.

적색 = Y203: Eu, YV04: Eu, (Y, Gd)B03: Eu

녹색 = BaAl12019: Mn, Zn2SiO₄: Mn

청색 = BaMgAl14023: Eu, BaMgAl16027: Eu

형광체 등의 상 형성재료용 미립자를 점착층에 부착시키고, 점착층에 부착하지 않은 상 형성재료용 미립자를 제거한다. 점착층이 가열되어 결합제를 용융한다. 형광체와 같은 상 형성재료용 미립자가 균일한 층을 형성한 후, 가열 온도를 올려서, 400∼500℃의 온도로 가열한다. 상기 방법으로 감광성층과 결합제가 모두 타버리면 상 형성재료용 미립자가 기판에 고착된다.

컬러디스플레이의 경우는, 적색, 녹색, 청색의 패턴이 필요하게 되며, 상기 패턴은 상기 공정을 반복함으로써 달성된다.

하기에, 본 발명을 실시예에 근거하여 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니다.

[실시예1]

<광중합성 조성물(점착성을 제공하는 재료 조성물)>

벤질 메타크릴레이트/ 메타크릴산

공중합체(몰비: 70/30, 평균분자량∑w: 20,000) 32g

펜타에리스리톨 테트라 아크릴레이트 68g

4-[0-브로모-p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)아미노페닐]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진 4g

2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토티아졸린 2g

하이드로퀴논 모노메틸 에테르 0.01g

프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 650g

<형광체 안료 조성물>

Y203: EU 100g

설탕 20g

셀룰로우즈 하이드로겐프탈레이트의 나트륨염 2g

솔비탄 모노팔미트산염(스판 40) 0.3g

물 800g

에틸 알콜 100g

상기 조성물의 용액을 조제했다. 그런 뒤 Y203: Eu의 형광체가 용액에 균일하게 분산하도록 샌드밀을 사용하여 용액을 분산했다. 그리하여 얻은 용액을 열풍건조기속에 살포하여, 평균입자경이 20㎛인 안료를 얻었다.

한편, 도1에 표시하는 전극과 리브를 형성한 유리기판의 표면에, 상기 조성의 감광액을 커튼형상으로 흘러내리게 한다. 기판을 리브가 수직으로 흔들리는 방향으로 경사시켜서 과잉의 액을 제거한다. 그런 뒤 기판을 건조시켜서, 마스크를 통해서 형광체의 층을 형성하지 않은 영역상에 노광한다. 그 후, 형광체가 결합제와 결합된 안료가 기판의 전면에 분사된다. 그런 뒤, 여분의 안료를 흡인하여 제거한다. 상기 방법으로 안료를, 전극을 포함하는 기판 표면과 기판 표면에 대하여 직각을 이루는 리브의 측벽에 부착한다. 다음에, 유리기판을 250℃의 전기로에 넣는다. 10분 경과 후, 약 30분 걸려서 550℃까지 온도가 상승하였다. 상기 단계에서, 광중합성 조성물로 이루어지는 감광층(노광으로 경화한 영역과 형광체 안료가 부착된 미노광 영역)과 형광체 기판의 결합제는 완전히 연소되었다. 만약 연소하기 어려운 경우는, 산소를 가압분출하여 연소를 도울 수 있다. 유리 기판을 서서히 실온으로 냉각한 뒤, 전기로에서 꺼낸다. 유리기판은 전극을 포함하는 기판 표면과, 기판 표면에 대하여 직각을 이루는 리브측벽에 형광체가 균일하게 약 20㎛ 두께의 층을 형성하고 있었다.

반면, 종래 방법에 따라 수지용액에 분산된 형광체를 갖는 잉크와 같은 분산물을, 실크스크린 인쇄법에 의해 리브들 사이의 골에 집어넣은 경우에는, 리브의 높이가 약 200㎛가 되고, 따라서 200㎛의 골에 잉크와 같은 분산물을 떨어뜨려서 기판표면에 확실히 고착할 수 없다. 따라서, 형광체의 비히클(vehicle)로서 사용하는 수지가 연소될 경우, 그 결과 생기는 층이 거칠고, 불균일해지기 쉽다.

[실시예2]

<광중합성 조성물(점착성을 제공하는 재료조성물)>

메틸 메타크릴레이트 중합체 42g

트리메티올 프로판 트리메타크릴레이트 58g

2-(나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진 4g

히드로퀴논 모노메틸 에테르 0.01g

에틸 에톡시 프로피오네이트 650g

<안료의 조성물>

은가루 100g

셀룰로우즈 하이드로겐 프탈레이트의 나트륨염 20g

솔비탄 모노팔미트산염(스판 40) 0.3g

물 500g

에틸 알콜 100g

상기 조성의 용액을 조제했다. 용액은 은가루가 균일하게 분산하도록 샌드밀을 사용하여 분산된다. 열풍건조기 속에 그 분산액을 살포하여, 평균입자경이 10㎛인 안료를 얻었다.

광중합성 조성물의 용액을 유리기판에 스핀코트한다. 유리기판을 110℃의 대류 오븐에 5분간 두어 용제가 증발하였다. 냉각 후에도, 도포면은 점착성이 있기 때문에, 마스크의 접촉으로 이루어진 처리를 피하기 위해서, 프로젝션 타입의 노광기를 사용하여 노광하였다. 계속해서, 결합제와 결합된 은가루로 구성된 안료를 도포막의 전면에 분사한다. 여분의 안료를 흡인하여 제거한다. 그런 뒤, 약 2cm의 간격으로 2개의 슬릿을 가지고 있는 장치, 안료를 내뿜는 장치, 및 여분의 안료를 흡인하는 장치로 안료를 살포한다. 다음에, 유리기판을 250℃의 온도인 전기로에 넣는다. 10분 경과 후, 약 30분 내에 550℃까지 온도가 상승한다. 상기 단계에서, 형광체 내의 광중합성 조성물로 이루어지는 감광층(노광으로 경화한 영역과 형광체 안료가 부착된 미노광 영역)과 형광체 기판의 결합제는 완전히 연소되었다. 만약 연소하기 어려운 경우는 산소를 가압분출하여 연소시킬 수 있다. 유리기판은 서서히 실온으로 냉각한 뒤, 전기로에서 꺼낸다. 유리기판은 그 위에 형성된 10㎛ 두께의 패턴을 갖는다.

[실시예3]

<광중합성 조성물(점착성을 제공하는 재료조성)>

부틸 메타크릴레이트/메타크릴산

공중합체(몰비: 70/30; 평균분자량∑w :20,000) 35g

펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트 65g

2-(4-메톡시-나프토-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리아진 6.5g

히드로퀴논 모노메틸 에테르 0.01g

3-메톡시부틸 아세테이트 650g

<안료의 조성물>

ITO분말 100g

셀룰로우즈 하이드로겐 프탈레이트의 나트륨염 20g

솔비탄 모노팔미테이트(스판40) 0.3g

물 500g

에틸 알콜 100g

상기 조성의 용액을 조제하여, ITO의 은가루가 균일하게 분산하도록 샌드밀을 사용하여 분산한 뒤, 열풍건조기 속에 그 분산액을 살포하여, 평균입자경이 1㎛인 안료를 얻는다.

광중합성 조성물의 용액을 유리기판에 스핀코팅한다. 유리기판은 실시예2와 같이 처리하여 1㎛의 막두께의 ITO 패턴을 얻는다.

본 발명의 방법에 의해서 제조된 형광체 등의 패턴-형성재료의 층은, 전극을 포함하는 기판 표면과, 기판 표면에 대하여 직각을 이루는 리브 측벽에 균일하게 형성된다. 따라서, 3차원 면상에 균일한 두께의 패턴을 형성할 수 있다.

즉, 본 발명의 방법에 의해 막두께가 10㎛∼200㎛ 이상인 안료층의 포토리소그라피 패턴 형성이 가능하다.

또한, 본 발명에서는, 안료의 입자지름을 선택하는 것에 따라 형광체층의 두께를 용이하게 변경할 수 있다.

또한 본 발명은, 포토리소그라피법을 적용하기 어렵던 재료, 예컨대 금속, 전이금속, 알카리토금속, 또는 그들의 산화물(예를 들면, 금, 은, 백금, 알루미늄, 구리, ITO(인듐주석 옥사이드), 카본블랙, 흑연, 그리고 산화티탄) 등의 미립자와 같은 광 불투과성 또는 광 투과가 어려운 재료의 패턴 형성에 적합하다.

본 발명을 특정 실시예를 참고로 하여 상세하게 설명하였지만, 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고 다양한 변화와 변형이 이루어질 수 있다.

Claims (3)

1. 활성광의 조사에 의해 점착성이 변화하는 조성물을 전극을 포함하는 기판 표면과, 상기 기판 표면과 직각을 이루는 리브 측벽에 도포하여 조성물층을 형성하는 단계와, 상기 조성물층을 패턴노광하는 단계, 미립자형광체를 상기 조성물층에 분사하는 단계와, 상기 조성물 층에 부착되지 않은 미립자형광체를 제거하는 단계 및 상기 조성물 층을 가열하여 기판 표면과 리브 측벽에 미립자형광체를 고착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치의 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 부가중합성 불포화 모노머와 광중합성 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치의 제조방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 미립자 형광체가 결합제를 포함하고, 1㎛∼1,000㎛의 입자크기를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시장치의 제조방법.