KR100399771B1 - Circuit for Malfunction Induction of fail Goods in Semiconductor Memory Device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로에 관한 것으로, 전원에 연결되고 반도체 메모리 장치가 정상인 경우에 컷팅되지 않고 불량인 경우에 컷팅되는 퓨즈, 전원이 인가되면 제1노드의 신호에 응답하여 반도체 메모리 장치의 동작을 제어하기 위한 초기화 신호를 발생하는 제1수단과, 퓨즈에 연결되고, 퓨즈가 컷팅되지 않은 경우에 제1노드의 신호에 응답하여 제2노드의 신호의 상태가 변화되고, 제2노드의 신호의 상태가 변화됨에 따라 제1노드의 신호의 상태를 변화하고, 퓨즈가 컷팅된 경우에 제1노드의 신호에 응답하여 제2노드의 신호의 상태가 고정되고, 제2노드의 신호의 상태가 고정됨에 따라 제1노드의 신호의 상태를 고정하는 제2수단을 구비하는 동작 불능 유도 수단, 및 퓨즈가 컷팅된 경우에도 상기 외부로부터 입력되는 신호에 응답하여 제2노드의 상태를 변화하는 동작 전환 제어수단으로 구성되어 있다. 본 발명에 따르면 불량으로 판명되어 퓨즈 컷팅 등을 통하여 동작 불능 상태로 전환된 반도체 메모리 장치를 회로적으로 동작 가능 상태로 복구 가능하도록 함으로써, 불량 원인 분석 시에 반도체 메모리 장치의 회로를 정상적으로 구동시켜 테스트할 수 있도록 하는 장점이 있는 유용한 발명이다.The present invention relates to an induction circuit for malfunctioning a defective product of a semiconductor memory device. The present invention relates to a fuse connected to a power source and not cut when the semiconductor memory device is normal, but cut when the semiconductor memory device is normal, and responding to a signal of the first node when power is applied. The first means for generating an initialization signal for controlling the operation of the semiconductor memory device, and the state of the signal of the second node is changed in response to the signal of the first node when the fuse is not cut. The state of the signal of the first node changes as the state of the signal of the second node changes, and when the fuse is cut, the state of the signal of the second node is fixed in response to the signal of the first node. Inoperable inducing means having second means for fixing the state of the signal of the first node as the state of the signal of the node is fixed, and input from the outside even when the fuse is cut Is configured, in response to the signal, the operation switching control means for changing the state of the second node. According to the present invention, the semiconductor memory device, which has been found to be defective and has been converted into an inoperable state through a fuse cutting, can be restored to a circuit-operable state. It is a useful invention with the advantage of being able to.
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 있어서, 불량으로 판명되어 퓨즈 컷팅(Fuse Cutting)이 이루어져 동작 불능 상태로 전환된 반도체 메모리 장치를 동작 가능 상태로 재 전환 가능하도록 하여 이를 다시 테스트할 수 있도록 하는 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로에 관한 것이다.In the semiconductor memory device, a semiconductor memory device which turns out to be inoperable after a fuse cutting has been found to be defective so that the semiconductor memory device can be converted back into an operational state so that the semiconductor memory device can be tested again. The inferior product of inoperable relates to the induction circuit.
반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 장치는, 제작된 반도체 메모리 장치 중 불량으로 판단된 제품의 퓨즈를 물리적 방법으로 컷팅(Cutting)하는 퓨즈 컷팅이 이루어진 후, 퓨즈가 컷팅된 반도체 메모리 장치의 기능을 마비시켜 사용하지 못하도록 하는 장치로써, 불량으로 판명된 반도체 메모리 장치의 외부 유출을 방지하며, 반도체 메모리 장치의 웨이퍼(Wafer) 및 패키지 레벨(Package Level)에서 제품을 테스트할 경우 불량이 발생한 제품을 조기에 스크린하는 것을 목적으로 반도체 메모리 장치의 내부에 설치되는 장치이다.The defective product inoperable device of the semiconductor memory device performs the function of the semiconductor memory device in which the fuse is cut after the fuse cutting is performed to physically cut the fuse of the product determined to be a defective product among the manufactured semiconductor memory devices. It is a device that prevents the use of the device by paralyzing. It prevents the leakage of the semiconductor memory device that is found to be defective and prevents the product from failing when the product is tested at the wafer and package level of the semiconductor memory device. A device is provided inside a semiconductor memory device for the purpose of screening on.
동작 불능 유도 장치는 일반적으로 도 1에 도시된 바와 같이, 반도체 메모리 장치 내에 설치되어 외부 전원 장치로부터 반도체 메모리 장치에 전원이 공급되면 상기 반도체 메모리 장치가 정상적인 제품일 경우 반도체 메모리 장치가 정상적으로 초기화될 수 있는 값을 출력하여 반도체 메모리 장치 내의 각 회로에 공급하고, 불량으로 판명되어 내장된 퓨즈(20)가 컷팅되었을 경우에는 동작 불능 유도 회로(10)를 통하여 해당 제품을 사용하지 못하도록 제품의 기능을 마비시키는 값을 반도체 메모리 장치의 각 회로에 출력하여 반도체 메모리 장치를 동작 불능 상태로 만든다.In general, as shown in FIG. 1, when an inductive device is installed in a semiconductor memory device and power is supplied from an external power supply device to the semiconductor memory device, the semiconductor memory device may be initialized normally when the semiconductor memory device is a normal product. It outputs a value to supply to each circuit in the semiconductor memory device, and if the fuse 20 that is found to be defective is cut, the function of the product is prevented from being used through the inoperable induction circuit 10. A value to be made is output to each circuit of the semiconductor memory device to render the semiconductor memory device inoperable.
이러한 동작 불능 유도 회로(10)는 여러 가지 방법으로 설계될 수 있는데, 그 한가지 실례를 통하여 종래의 문제점을 설명한다.Such inoperable induction circuit 10 can be designed in a number of ways, one example of which illustrates a conventional problem.
도2는 종래의 반도체 메모리 장치의 동작 불능 유도 회로를 설명하기 위한 회로도로서, 동작 불능 유도 회로(10)는 PMOS캐패시터들(C2, C3), PMOS트랜지스터들(MP3, MP4), NMOS트랜지스터들(MN2, MN3), 및 인버터(INV1)로 구성된 제1수단(10-1)과, PMOS들(MP1, MP2), NMOS트랜지스터(MN1), 및 NMOS캐패시터(C1)로 구성된 제2수단(10-2)으로 구성되어 있다.도2에 나타낸 블록들 각각의 기능을 설명하면 다음과 같다.FIG. 2 is a circuit diagram for describing an inoperable induction circuit of a conventional semiconductor memory device. The inoperable induction circuit 10 includes PMOS capacitors C2 and C3, PMOS transistors MP3 and MP4, and NMOS transistors (FIG. First means 10-1 composed of MN2, MN3, and inverter INV1, and second means 10- composed of PMOSs MP1, MP2, NMOS transistor MN1, and NMOS capacitor C1. 2). The functions of each of the blocks shown in FIG. 2 will be described below.
제1수단(10-1)은 내부 전원(IVC)이 로우 레벨이면 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생하고, 내부 전원(IVC)이 하이 레벨이면 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생한다. 제2수단(10-2)은 퓨즈(20)가 컷팅되지 않은 경우에 노드 'B'의 전압 레벨이 하이 레벨이 되면 노드 'A'가 로우 레벨이 되고, 이에 따라 PMOS트랜지스터(MP1)가 온되어 노드 'A'를 하이 레벨로 만들어 노드 B를 로우 레벨로 만든다. 그리고, 퓨즈(20)가 컷팅된 경우에 노드 'B'의 전압 레벨이 하이 레벨이 되면 노드 'A'가 로우 레벨로 고정되고, 이에 따라 노드 'B'의 전압 레벨이 하이 레벨로 고정된다. 즉, 제2수단(10-2)은 퓨즈가 컷팅되지 않은 경우에 노드 'B'의 전압 레벨이 하이 레벨이 되면 노드 'B'의 전압 레벨을 로우 레벨로 만들어 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생하고, 퓨즈가 컷팅된 경우에 노드 'B'의 전압 레벨이 하이 레벨이 되면 노드 'B'의 전압 레벨을 하이 레벨로 고정하여 초기화 신호(VCCHB)를 "하이"레벨로 고정한다.The first means 10-1 generates a low level initialization signal VCCHB when the internal power supply IVC is at a low level, and generates a high level initialization signal VCCHB when the internal power supply IVC is at a high level. . In the second means 10-2, when the voltage level of the node 'B' becomes high when the fuse 20 is not cut, the node 'A' becomes a low level. Accordingly, the PMOS transistor MP1 is turned on. Node A goes high and node B goes low. When the fuse 20 is cut, when the voltage level of the node 'B' becomes high, the node 'A' is fixed to the low level, and accordingly, the voltage level of the node 'B' is fixed to the high level. That is, if the voltage level of the node 'B' becomes high when the fuse is not cut, the second means 10-2 makes the voltage level of the node 'B' low and makes the low level initialization signal VCCHB. When the fuse is cut, when the voltage level of the node 'B' becomes a high level, the voltage level of the node 'B' is fixed to a high level, thereby fixing the initialization signal VCCHB to a "high" level.
도2에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.먼저, 초기화 신호(VCCHB)는 반도체 메모리 장치의 내부의 회로들을 초기화 레벨로 만드는 기능을 수행하는 신호로서, 반도체 메모리 장치로 외부 전압원에 의하여 전원(즉, 반도체 메모리 장치의 파워가 온되어 가해지는 VCC)이 공급되어 입력단에 내부 전원(IVC)이 가해질 때, 도 2의 회로를 통하여 초기화 신호(VCCHB)가 로우 레벨(Low Level)을 출력하여 반도체 메모리 장치의 각 회로들에 공급하여 초기화시키며, 하이 레벨(High Level)을 출력하면 상기 반도체 메모리 장치의 기능을 마비시켜 동작 불능 상태로 전환시킨다. 그리고, 커패시터들(C1, C2, C3)은 데이터를 홀딩하는 스위칭 커패시터로 동작한다.The operation of the circuit shown in FIG. 2 will be described as follows. First, the initialization signal VCCHB is a signal that performs a function of bringing circuits inside the semiconductor memory device to an initialization level, and is a semiconductor memory device powered by an external voltage source. In other words, when the VCC applied when the semiconductor memory device is turned on and the internal power supply IVC is applied to the input terminal, the initialization signal VCCHB outputs a low level through the circuit of FIG. 2. Supplying and initializing circuits of the semiconductor memory device, and outputting a high level paralyzes the function of the semiconductor memory device to switch to an inoperable state. The capacitors C1, C2, C3 operate as switching capacitors holding data.
반도체 메모리 장치가 정상으로 판단되어 퓨즈(20)가 컷팅되지 않은 경우에, 로우 레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 PMOS트랜지스터(MP3)를 통하여 노드 'B'로 로우 레벨의 신호를 전송한다. 그러면, PMOS트랜지스터(MP4)가 온되어 하이 레벨의 신호를 발생하고, 인버터(INV1)는 하이 레벨의 신호를 반전하여 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생한다.반면에, 하이 레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 PMOS트랜지스터(MP3)를 통하여 노드 'B'로 하이 레벨의 신호를 전송한다. 그러면, NMOS트랜지스터(MN3)가 온되어 로우 레벨의 신호를 발생하고, 인버터(INV1)는 로우 레벨의 신호를 반전하여 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생한다. 그리고, 노드 'A' 의 초기 레벨이 로우 레벨인 것에 의하여 PMOS트랜지스터(MP1) 이 온되어 노드 'A'는 하이 레벨로 된다. 그래서, NMOS트랜지스터(MN1)이 온되어, 노드 'B'가 하이 레벨에서 로우 레벨로 되면 PMOS트랜지스터(MP4) 가 온되어 그 출력은 하이 레벨이 되고 이는 인버터(INV1) 을 거쳐서 로우 레벨이 초기값으로 유지하게 된다. 이에 따라 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생한다. 즉, 하이 레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨로 천이한 후에 로우 레벨로 천이하게 된다.그리고, 반도체 메모리 장치가 불량으로 판단되어 퓨즈(20)가 컷팅된 경우에, 로우 레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생한다.When the fuse 20 is not cut because the semiconductor memory device is determined to be normal, when the low level internal power supply IVC is applied, the low level signal is transmitted to the node 'B' through the PMOS transistor MP3. Then, the PMOS transistor MP4 is turned on to generate a high level signal, and the inverter INV1 inverts the high level signal to generate a low level initialization signal VCCHB. When (IVC) is applied, a high level signal is transmitted to the node 'B' through the PMOS transistor MP3. Then, the NMOS transistor MN3 is turned on to generate a low level signal, and the inverter INV1 inverts the low level signal to generate a high level initialization signal VCCHB. The PMOS transistor MP1 is turned on because the initial level of the node 'A' is a low level, and the node 'A' becomes a high level. Thus, when the NMOS transistor MN1 is turned on and the node 'B' goes from the high level to the low level, the PMOS transistor MP4 is turned on and its output is at the high level, which is passed through the inverter INV1 to the initial value. Will be maintained. Accordingly, the low level initialization signal VCCHB is generated. That is, when the high level internal power supply IVC is applied, the initialization signal VCCHB transitions to a high level and then transitions to a low level. When the semiconductor memory device is determined to be defective, the fuse 20 is cut. When the low level internal power supply IVC is applied, the low level initialization signal VCCHB is generated.
반면에, "하이"레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 노드 'B'가 하이 레벨이 되어 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생하고, 이때, 노드 'A'가 항상 로우 레벨이 되어 PMOS트랜지스터(MP1)를 온하나 퓨즈가 컷팅되어 있으므로 노드 'A'의 전압 레벨은 로우 레벨로 고정되고, 이는 PMOS트랜지스터(MP2) 가 온되어 이에 따라 노드 'B'의 전압 레벨 또한 하이 레벨로 고정되어 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 발생하게 된다. 즉, 하이 레벨의 내부 전원(IVC)이 인가되면 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨로 고정되게 된다. 따라서, 불량으로 판명되어 퓨즈(20)가 컷팅된 후에는 제품이 동작 불능 상태가 되어 반도체 메모리 장치는 사용이 불가능하게 된다.On the other hand, when the internal power supply IVC of the "high" level is applied, the node 'B' becomes high level and generates the high level initialization signal VCCHB. At this time, the node 'A' is always low level and the PMOS Since the transistor MP1 is turned on but the fuse is cut, the voltage level of the node 'A' is fixed at a low level, which causes the PMOS transistor MP2 to be turned on so that the voltage level of the node 'B' is also fixed at a high level. The high level initialization signal VCCHB is generated. That is, when the high level internal power supply IVC is applied, the initialization signal VCCHB is fixed to the high level. Therefore, after the fuse 20 is found to be defective and the fuse 20 is cut, the product becomes inoperable and the semiconductor memory device becomes impossible to use.
도 3은 도 2 장치의 동작을 통하여 불량으로 판단된 반도체 메모리 장치가 동작 불능 상태로 되는 과정을 신호를 통하여 설명하기 위한 타이밍도이다.FIG. 3 is a timing diagram for explaining, through a signal, a process in which a semiconductor memory device determined to be defective through an operation of the apparatus of FIG. 2 becomes inoperable.
t0 이전까지는 아직 전원이 공급되기 전이므로 반도체 장치의 외부 전원 공급원 VCC와, VCC로부터 전해지는 내부 전원(IVC) 및 초기화 신호(VCCHB)는 모두 로우 상태이다.Since power is not yet supplied until t0, the external power supply VCC of the semiconductor device, the internal power supply IVC and the initialization signal VCCHB transmitted from the VCC are both low.
t0 이후부터 전원이 가해지면 t1까지 약간의 지연이 있고 t1부터 t2 동안의 하이 레벨 구간을 지나서 t2 이후부터 t3 구간 사이에서는 로우 레벨이 되는데 이 구간이 완전한 초기화가 되었음을 알리는 신호 레벨이며 이 레벨을 통하여 칩이 정상적으로 초기화 되었음을 칩 내부적으로 감지하여 동작을 할 수 있는 단계가 되는 것이다. t3 이후 부터는 하이 레벨로 되어 있는데 이것은 퓨즈(20)가 컷팅됨으로서 도2의 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨이 됨을 의미 하는 것으로서 칩이 동작 불능 상태로 진입하였음을 의미한다. 즉, 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨이 되면 칩은 동작을 할 수가 없는 동작 불능 상태가 되어 버리는 것이다.따라서, 불량으로 판명되어 퓨즈 컷팅이 수행된 반도체 메모리 장치는 지속적으로 동작 불능 상태를 유지하게 된다.When power is applied from t0 onwards, there is a slight delay from t1 to the low level between t2 and t3 after the high level period from t1 to t2. This signal level indicates that the interval is fully initialized. It is a step to detect and operate internally that the chip is initialized normally. After t3, the level is high, which means that the fuse 20 is cut, and thus the initialization signal VCCHB of FIG. 2 becomes high level, which means that the chip has entered an inoperable state. In other words, when the initialization signal VCCHB reaches a high level, the chip becomes inoperable inoperable state. Therefore, the semiconductor memory device, which has been found to be defective and has undergone a fuse cutting, remains in an inoperable state. do.
그런데, 이렇게 불량 반도체 메모리 장치를 동작 불능 상태로 만들게 되면 제품의 불량 원인 분석 시에 제품의 불량 원인을 분석하고 싶어도 이미 동작 불능 상태로 내부 회로가 구성되어 버렸기 때문에 제품이 전혀 동작할 수 없어 제품의 불량 원인을 분석하는 것이 불가능하게 된다.However, if the defective semiconductor memory device is made inoperable in this way, the internal circuit is configured in an inoperable state even when the cause of product inferiority is analyzed, but the product cannot operate at all. It becomes impossible to analyze the cause of the failure.
즉, 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로의 퓨즈가 컷팅됨으로써, 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨로 고정되어 불량 원인을 파악하고 싶어도 반도체 메모리 장치 자체가 구동하지 않으므로 불량 원인을 분석할 수 없게 되는 문제점이 발생한다.That is, since the fuse of the defective product inoperable induction circuit of the semiconductor memory device is cut, the initialization signal VCCHB is fixed at a high level so that the semiconductor memory device itself does not operate even if the cause of the failure is determined, so that the cause of the failure cannot be analyzed. Problem occurs.
본 발명은 이러한 목적을 달성하기 위하여 창안된 것으로, 반도체 메모리 장치 테스트 통하여 검출되는 불량 제품의 동작 불능 유도 회로에 있어서, 퓨즈 컷팅(Fuse Cutting) 등을 통하여 동작 불능 상태로 전환된 반도체 메모리 장치를 회로적으로 동작 가능 상태로 복구 가능하도록 하여 불량 원인 분석 시에 다시 테스트할 수 있도록 하는 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above object, and in the inoperable induction circuit of a defective product detected through a semiconductor memory device test, the semiconductor memory device is switched to an inoperable state through fuse cutting or the like. It is an object of the present invention to provide a circuit incapable of malfunctioning a defective product of a semiconductor memory device that can be restored to an operational state, so that it can be retested when analyzing a failure cause.
도 1은 종래의 일반적인 동작 불능 유도 회로를 설명하기 위한 블록도이다.1 is a block diagram illustrating a conventional general inoperable induction circuit.
도 2는 종래의 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 장치를 설명하기 위한 회로도이다.FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a device for inducing a failure of a defective product of a conventional semiconductor memory device.
도 3은 도 2 회로의 동작을 통하여 불량으로 판명된 반도체 메모리 장치가 동작 불능 상태로 되는 과정을 주요 신호들을 통하여 설명하기 위한 타이밍도이다.FIG. 3 is a timing diagram for explaining a process in which a semiconductor memory device which is found to be defective through an operation of the circuit of FIG.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 회로의 구성을 설명하기 위한 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating a configuration of a defective product inoperable circuit of a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예를 설명하기 위한 회로도이다.5 is a circuit diagram for explaining another preferred embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 도 4 또는 도 5와 같이 구성된 회로의 주요 신호의 레벨을 나타내기 위한 타이밍도이다.FIG. 6 is a timing diagram illustrating levels of main signals of a circuit configured as shown in FIG. 4 or 5 according to a preferred embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
20 : 퓨즈20: fuse
10 : 동작 불능 유도 회로10: inoperable induction circuit
20a, 20b : 동작 전환 회로20a, 20b: operation switching circuit
이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로는 전원에 연결되고 반도체 메모리 장치가 정상인 경우에 컷팅되지 않고 불량인 경우에 컷팅되는 퓨즈, 상기 전원이 인가되면 제1노드의 신호에 응답하여 상기 반도체 메모리 장치의 동작을 제어하기 위한 초기화 신호를 발생하는 제1수단과, 상기 퓨즈에 연결되고, 상기 퓨즈가 컷팅되지 않은 경우에 상기 제1노드의 신호에 응답하여 제2노드의 신호의 상태가 변화되고, 상기 제2노드의 신호의 상태가 변화됨에 따라 상기 제1노드의 신호의 상태를 변화하고, 상기 퓨즈가 컷팅된 경우에 상기 제1노드의 신호에 응답하여 상기 제2노드의 신호의 상태가 고정되고, 상기 제2노드의 신호의 상태가 고정됨에 따라 상기 제1노드의 신호의 상태를 고정하는 제2수단을 구비하는 동작 불능 유도 수단, 및 상기 퓨즈가 컷팅된 경우에도 상기 외부로부터 입력되는 신호에 응답하여 상기 제2노드의 상태를 변화하는 동작 전환 제어수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a defective product inoperable induction circuit of the semiconductor memory device of the present invention is connected to a power supply and is a fuse which is not cut when the semiconductor memory device is normal but is cut when it is defective, and the first node when the power is applied. First means for generating an initialization signal for controlling an operation of the semiconductor memory device in response to a signal of the second memory device; and a second device connected to the fuse and in response to a signal of the first node when the fuse is not cut. The state of the signal of the node is changed, the state of the signal of the first node is changed as the state of the signal of the second node is changed, and in response to the signal of the first node when the fuse is cut. A second means for fixing the state of the signal of the first node as the state of the signal of the second node is fixed and the state of the signal of the second node is fixed; Compared is characterized by having a properly operating the induction means, and an operation switching control means for changing the state of the second node to the fuse in response to a signal inputted from the outside, even if the cutting.
이하, 본 발명이 속하는 분야에 통상의 지식을 지닌자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.
또한, 이해의 편의를 위하여 비록 다른 도면에 속하더라도 동일한 구성 요소에는 동일한 부호를 부여하였음을 주의하여야 한다.In addition, it should be noted that the same reference numerals are given to the same components, although belonging to different drawings for convenience of understanding.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 불량 제품 동작 불능 유도 회로의 구성을 설명하기 위한 회로도로서, 도2에 나타낸 동작 불능 유도 회로(10)에 동작 전환 회로(20a)를 추가하여 구성되어 있다. 그리고, 도2에 나타낸 바와 마찬가지로 동작 불능 유도 회로(10)는 제1수단(10-1) 및 제2수단(10-2)으로 구성되어 있다.FIG. 4 is a circuit diagram illustrating a configuration of a defective product inoperable induction circuit of a semiconductor memory device according to a preferred embodiment of the present invention, and an operation switching circuit 20a is added to the inoperable induction circuit 10 shown in FIG. 2. It is composed. As shown in Fig. 2, the inoperable induction circuit 10 is composed of first means 10-1 and second means 10-2.
도4에 도시된 바와 같이, 반도체 메모리 장치 내부에 구성되어 있는 동작 불능 유도 회로(10)는 반도체 메모리 장치가 정상으로 판단된 경우에 반도체 메모리 장치 내부의 각 회로들이 정상적으로 초기화되도록 로우 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 반도체 메모리 장치의 각 회로들로 공급하고, 반도체 메모리 장치가 불량으로 판단되면 퓨즈(20)를 컷팅하여 반도체 메모리 장치의 각 회로들의 동작이 불가능하도록 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 반도체 메모리 장치의 각 회로들로 공급한다. 그리고, 동작 전환 회로(20a)는 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨인 경우에 외부로부터 인가되는 신호에 응답하여 동작 불능 유도 회로(10)로부터 출력되는 하이 레벨의 초기화 신호(VCCHB)를 로우 레벨로 전환하여 동작 불능 상태의 반도체 메모리 장치를 동작 가능 상태로 전환한다.As shown in FIG. 4, the inoperable induction circuit 10 configured in the semiconductor memory device has a low level initialization signal such that each circuit in the semiconductor memory device is normally initialized when it is determined that the semiconductor memory device is normal. The VCCHB is supplied to the circuits of the semiconductor memory device, and when the semiconductor memory device is determined to be defective, the fuse 20 is cut to provide a high level initialization signal VCCHB so that operation of each circuit of the semiconductor memory device is impossible. Supply to each circuit of the semiconductor memory device. In addition, when the initialization signal VCCHB is at a high level, the operation switching circuit 20a sets the high level initialization signal VCCHB output from the inoperation induction circuit 10 to a low level in response to a signal applied from the outside. By switching, the semiconductor memory device in the inoperative state is switched to the inoperable state.
이때, 반도체 메모리 장치가 불량으로 판명되어 퓨즈(20)가 컷팅된 상태에서, 반도체 메모리 장치의 테스트 시 사용하는 외부 전압 레벨을 입력받을 수 있는 패드(PAD : Signal Pin) 및 노드 'A'에 연결된 동작 전환 회로(20a)를 통하여 초기화 신호(VCCHB)의 전압 레벨을 인위적으로 로우 상태로 유지하게 함으로써, 반도체 메모리 장치가 정상적인 동작 상태를 유지하도록 하여 웨이퍼 레벨 테스트 시 불량 원인을 분석할 수 있도록 구성된다.At this time, when the semiconductor memory device is found to be defective and the fuse 20 is cut, the pad (PAD: Signal Pin) for receiving an external voltage level used for testing the semiconductor memory device is connected to the node 'A'. By artificially maintaining the voltage level of the initialization signal VCCHB in the low state through the operation switching circuit 20a, the semiconductor memory device can be maintained in a normal operating state so as to analyze the cause of the failure during the wafer level test. .
바람직하기로는, 이때 사용하는 패드는 웨이퍼 레벨 테스트 시 통상적으로 사용되는 반도체 메모리 장치의 패드만으로 구성되어 별도의 추가 패드는 필요 없도록 한다.Preferably, the pad used at this time is composed of only pads of a semiconductor memory device that are commonly used in wafer level testing, so that no additional pad is required.
그 동작을 도 4를 참조하여 살펴보면, 노드 'A'에 반도체 메모리 장치의 동작 불능을 일으키기 위하여 퓨즈(20)을 컷팅하였을 경우, 반도체 메모리 장치의 외부와 접속할 수 있는 패드를 통하여 외부 입력부(20a)의 NOR 게이트(NOR1)의 입력 신호 중 어느 하나 이상의 입력(Input)이 하이 레벨이 되면, NOR 게이트(NOR1)의 출력(Output)은 로우 레벨 상태로 되어 인버터(INV2)의 입력으로 공급된다.인버터(INV2)의 입력이 로우 레벨이되면, NAND 게이트(NAND1)의 입력 레벨은 하이 상태로 되며, 이때 반도체 장치 내부의 동작 불능 상태를 위하여 사용된 초기화 신호(VCCHB) 신호는 이미 하이 레벨로 있었던 상태이므로 NAND 게이트(NAND1)의 출력은 로우 레벨 상태가 되어, PMOS트랜지스터(MP5)는 온된다.Referring to FIG. 4, when the fuse 20 is cut at the node 'A' to cause the semiconductor memory device to be inoperable, the external input unit 20a is connected through a pad that can be connected to the outside of the semiconductor memory device. When any one or more inputs of the input signals of the NOR gate NOR1 are at a high level, the output of the NOR gate NOR1 is at a low level and is supplied to the input of the inverter INV2. When the input of the (INV2) becomes a low level, the input level of the NAND gate (NAND1) is a high state, wherein the initialization signal (VCCHB) signal used for the inoperable state inside the semiconductor device is already at a high level Therefore, the output of the NAND gate NAND1 is at a low level, and the PMOS transistor MP5 is turned on.
PMOS트랜지스터(MP5)가 온되면 반도체 메모리 장치의 내부 전원(IVC) 레벨이 노드'A'로 공급되므로 노드 'A'의 레벨은 하이 상태가 되게 되며, 앞선 종래 기술에서 설명한 바와 같이 노드 'A'가 하이 레벨이므로 NMOS 트랜지스터들(MN1, MN3)이 온되어 결국 초기화 신호(VCCHB)는 다시 로우 레벨로 된다.When the PMOS transistor MP5 is turned on, the level of the internal power supply IVC of the semiconductor memory device is supplied to the node 'A', so that the level of the node 'A' becomes high. As described above, the node 'A' Since NMOS transistors MN1 and MN3 are turned on at the high level, the initialization signal VCCHB goes back to the low level.
즉, 초기화 신호(VCCHB)가 로우 레벨로 출력되면 반도체 메모리의 동작 불능 상태는 해제되게 되어 정상 동작하므로 웨이퍼 레벨 테스트 시에 회로 동작을 수행시켜 불량의 원인을 분석할 수 있다.That is, when the initialization signal VCCHB is output at the low level, the inoperable state of the semiconductor memory is released and operates normally. Therefore, the cause of the failure may be analyzed by performing a circuit operation during the wafer level test.
그런데, 도 4와 같이 구성된 회로의 경우 반도체 메모리 장치의 조립이 완료되어 반도체 메모리 장치의 내부 패드를 직접적으로 이용한 동작 불능 해제 작업이 불가능하게 된다.However, in the case of the circuit configured as shown in FIG. 4, the assembling of the semiconductor memory device is completed, and the operation of releasing the operation using the internal pad of the semiconductor memory device is impossible.
이럴 경우, 반도체 메모리 장치의 외부로 나와 있는 하나 이상의 핀(PINs)들을 이용하여 본 발명의 바람직한 또 다른 실시예를 나타내는 도 5와 같이 구성할 수 있다.In this case, the semiconductor memory device may be configured as shown in FIG. 5, which shows another exemplary embodiment of the present invention by using one or more pins (PINs) that are external to the semiconductor memory device.
이미 동작 불능 상태로 처리가 되어 있는 반도체 메모리 장치는 자체의 동작 불능 유도 회로(10)에 의하여 초기화 신호(VCCHB)의 레벨이 하이 상태로 세팅되어 있다.In a semiconductor memory device which has already been processed in an inoperative state, the level of the initialization signal VCCHB is set to a high state by its inoperable induction circuit 10.
그러므로, NMOS 트랜지스터(MN5)는 온되고 인버터(INV5)에 의하여 PMOS트랜지스터(MP6)이 온된다. 이때, 외부의 핀을 통하여 하이 레벨을 동작 불능 유도 회로(20b)로 공급받으면 NMOS 트랜지스터(MN5) 및 PMOS 트랜지스터 (MP6)가 앞서 설명한 바와 같이 온되므로 인버터들(INV3, INV4)을 거쳐 PMOS 트랜지스터(MP5)의 게이트 레벨이 로우 레벨이 되어 노드 'A'의 레벨은 하이 상태가 된다.Therefore, the NMOS transistor MN5 is turned on and the PMOS transistor MP6 is turned on by the inverter INV5. At this time, when the high level is supplied to the inoperable induction circuit 20b through an external pin, the NMOS transistor MN5 and the PMOS transistor MP6 are turned on as described above, and thus, the PMOS transistors may be passed through the inverters INV3 and INV4. The gate level of MP5) becomes the low level and the level of node 'A' becomes high.
결국 노드 'A'의 레벨이 하이가 되면 앞서와 같이, NMOS 트랜지스터들(MN1, MN3)이 온되어 초기화 신호(VCCHB)가 로우 레벨로 전환되어 동작 불능 상태가 해제된다.As a result, when the level of the node 'A' becomes high, as described above, the NMOS transistors MN1 and MN3 are turned on, and the initialization signal VCCHB is switched to the low level to release the inoperable state.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 도 4 또는 도 5와 같이 구성된 회로의 주요 신호의 레벨을 나타내기 위한 타이밍도이다.t0 이후부터 전원이 가해지면 t1까지 약간의 지연이 있고 t1부터 t2 동안의 하이 레벨 구간을 지나서 t2 이후부터 t3 구간 사이에서는 로우 레벨이 되는데 이 구간이 완전한 초기화가 되었음을 알리는 신호 레벨이며 이 레벨을 통하여 칩이 정상적으로 초기화 되었음을 칩 내부적으로 감지하여 동작을 할 수 있는 단계가 되는 것이다. t3 이후 부터는 하이 레벨로 되어 있는데 이것은 퓨즈(20)가 컷팅됨으로서 도2의 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨이 됨을 의미 하는 것으로서 칩이 동작 불능 상태로 진입하였음을 의미한다. t4에서, 외부의 핀 또는 패드 신호가 하이 레벨 신호를 공급하므로 초기화 신호(VCCHB)가 하이 레벨에서 로우 레벨로 천이하게 됨으로써 칩이 동작 가능한 상태로 전환하게 된다.6 is a timing diagram for indicating the level of the main signal of a circuit configured as shown in FIG. 4 or 5 according to a preferred embodiment of the present invention. There is a slight delay from t1 to t1 when power is applied from t0 and t2 to t2. After the high level interval, the low level is between t2 and t3, which is a signal level indicating that the initialization is complete, and through this level, the chip internally detects that the chip is normally initialized and operates. Will be. After t3, the level is high, which means that the fuse 20 is cut, and thus the initialization signal VCCHB of FIG. 2 becomes high level, which means that the chip has entered an inoperable state. At t4, since the external pin or pad signal supplies the high level signal, the initialization signal VCCHB transitions from the high level to the low level, thereby switching the chip to an operational state.
그러므로, 웨이퍼 레벨 테스트 등의 각종 반도체 테스트 시에 퓨즈 컷팅으로 동작 불능 상태인 반도체 메모리 장치에 대해서도 핀 또는 패드에 하이 레벨 신호를 인가함으로써 칩이 동작 가능한 상태로 전환되어 불량인 칩에 대한 불량 원인 분석을 수행할 수 있다.Therefore, even if the semiconductor memory device is inoperable by fuse cutting during various semiconductor tests such as wafer level test, the chip is converted into an operable state by applying a high level signal to the pins or pads, and the failure cause analysis for the defective chip is performed. Can be performed.
이상 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면 불량으로 판명되어 퓨즈 컷팅 등을 통하여 동작 불능 상태로 전환된 반도체 메모리 장치를 회로적으로 동작 가능 상태로 복구 가능하도록 함으로써, 불량 원인 분석 시에 반도체 메모리 장치의 회로를 정상적으로 구동시켜 테스트할 수 있도록 하는 장점이 있는 유용한 발명이다.As described above, according to the present invention, the semiconductor memory device, which has been found to be defective and has been converted into an inoperable state through a fuse cutting, can be restored to an operational state by a circuit. It is a useful invention that has the advantage of being able to run and test normally.
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH085711A (en) * | 1994-06-14 | 1996-01-12 | Nec Corp | Semiconductor integrated circuit testing system |
JPH0855498A (en) * | 1994-08-10 | 1996-02-27 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Control circuit for write-in of memory tester |
KR970003271A (en) * | 1995-06-28 | 1997-01-28 | 김광호 | Bad Cell Remedy Circuit in Semiconductor Memory |
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