KR100380555B1 - Black paste composition for the formation of black layer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 흑색 박막 형성에 유용한 흑색 페이스트 조성물에 관한 것으로, 비표면적 5 내지 40 m2/g 범위의 루테늄계 다산화물 미분말 15 내지 25 중량부, 평균입경 0.2 내지 2 ㎛ 범위 및 최대 크기 5 ㎛ 이하의 유리 프릿(glass frit) 40 내지 85 중량부 및 유기 비히클 8 내지 40 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 본 발명의 흑색 페이스트는, 유리 기판 또는 세라믹 기판 상에 치밀하고 흑색도가 높으며 여러 물성이 우수한 흑색 박막 패턴을 제공할 수 있다.The present invention relates to a black paste composition useful for forming a black thin film, comprising 15 to 25 parts by weight of ruthenium-based polyoxide fine powder having a specific surface area of 5 to 40 m 2 / g, an average particle diameter of 0.2 to 2 μm, and a maximum size of 5 μm or less. The black paste of the present invention comprises 40 to 85 parts by weight of a glass frit of and 8 to 40 parts by weight of an organic vehicle, which is dense, high in blackness and excellent in various physical properties on a glass substrate or a ceramic substrate. It is possible to provide a black thin film pattern.

Description

흑색층 형성용 흑색 페이스트 조성물{BLACK PASTE COMPOSITION FOR THE FORMATION OF BLACK LAYER}Black paste composition for black layer formation {BLACK PASTE COMPOSITION FOR THE FORMATION OF BLACK LAYER}

본 발명은 흑색 페이스트 조성물에 관한 것으로, 구체적으로는 디스플레이용 부재로 이용되는 흑색 페이스트 조성물에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to a black paste composition. Specifically, It is related with the black paste composition used as a display member.

최근, 디스플레이나 회로 기판 등에 있어서, 도체 회로 패턴의 저온 소성, 도체의 저 저항화, 고 세밀화 및 고 밀도화에 대한 요구가 증가되어 왔으며, 무거운 브라운관을 대체하는 화상표시장치로서 가벼운 박형(薄型)의 평면 디스플레이가 개발되었다. 평면 디스플레이로서 액정 디스플레이(LCD)가 활발히 개발되고 있는데, 이 액정 디스플레이는 화상이 어둡고 시야각이 좁다는 문제를 갖고 있다.In recent years, there has been an increasing demand for low-temperature firing of conductor circuit patterns, low resistance of conductors, high refinement and high density in displays and circuit boards, and is a light and thin type as an image display device replacing heavy CRTs. Flat display was developed. Liquid crystal displays (LCDs) are being actively developed as flat panel displays, which have problems of dark images and narrow viewing angles.

이 액정 디스플레이에 대체되는 것으로, 스스로 발광하는 형태(自發光型)의방전형 디스플레이인 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP) 또는 전자방출 소자를 이용한 화상 표시 장치가 있는데, 이들은 액정 디스플레이에 비해 밝은 화상이 얻어지면서도 시야각이 넓고 또한 대화면화, 고 정세화 요구에 부응하기 때문에 그 요구가 높아져 가고 있다.As an alternative to the liquid crystal display, there is an image display device using a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) or an electron-emitting device that is a self-emitting discharge type display, which produces a brighter image than a liquid crystal display. Its demands are increasing because of its wide viewing angle and its ability to meet the needs of large screens and high resolutions.

전자방출 소자에는 냉음극 전자 방출 소자로 대표되는 전계 방출형(FED)이 있고, 냉음극 전자원을 이용한 화상형성 장치는 전자방출소자로부터 방출되는 전자 빔(beam)을 형광체에 조사하여 형광을 일으키는 것으로 화상을 표시하는 것이다. 이 장치에서는 전면 유리 기판과 배면 유리 기판에 각각 기능을 부여하여 이용하는데, 배면 유리 기판에는 복수의 전자방출 소자와 그들 소자의 전극을 접속하는 매트릭스상의 배선이 설계되어 있다. 이러한 배선은 전자방출 소자의 전극 부분에서 교차하게 되기 때문에 절연하기 위한 유전체층이 설계되어 있다. 또한 양 기판의 사이에 내대기압 지지 부재로서 스페이서(spacer)가 형성되어 있다.The electron emitting device has a field emission type (FED) represented by a cold cathode electron emitting device, and an image forming apparatus using a cold cathode electron source emits fluorescence by irradiating an electron beam emitted from the electron emitting device to a phosphor. To display an image. In this apparatus, the front glass substrate and the back glass substrate are provided with functions, respectively, and the back glass substrate is designed with matrix wirings for connecting a plurality of electron-emitting devices and electrodes of those devices. Since these wirings intersect at the electrode portion of the electron-emitting device, a dielectric layer for insulating is designed. In addition, a spacer is formed between the substrates as an internal air pressure supporting member.

PDP는 액정 디스플레이에 비해 고속의 표시가 가능하며 대형화가 용이하기 때문에 OA 기기 및 정보표시장치 등의 분야에서 수요가 늘고 있다. PDP와 관련하여, 도 1에 교류형의 가스표시패널을 나타내었다. 도 1에서와 같이 PDP는 2장의 대향하는 유리 기판에 규칙적으로 배향된 1쌍의 전극을 위치시키고, 양 기판의 사이에 네온, 헬륨, 크세논 등의 불활성 가스를 봉입한 구조를 갖고 있으며, 이들 전극의 사이에 전압을 인가하고 전극 주변의 미소한 셀 내에서 방전시키는 것에 의해 각 셀을 발광시켜서 표시를 행하게 되어 있다. 한편, 상기 양 기판은 유리와 같은 투명 재료로 이루어진 표시측면 기판(1) (이하, 전면 기판으로 칭함)과 배면측 기판(2)로 구성되어 있다. 일반적으로 전면 기판에는 투명 전극(3)과 바스(bus) 전극(4)로 구성되고 횡방향으로 연장되며 서로 평행한 한 쌍의 방전유지전극으로 이루어진 방전유지전극쌍이 위치되어 있다. 이들은 투명한 유전체층(5), 나아가서는 투명한 보호층(6)으로 피복된다. 유사하게 유전체층(7)로 피복된 배면측 기판에는 상기 방전유지전극쌍과 직교하는 다수의 어드레스(address) 전극(8)이 위치되어 있다. 이들 방전유지전극쌍과 어드레스 전극(8)과의 교차부, 또는 그의 근방에는 간벽(9)에 의해 방전 셀이 화소화되어 이들 각 방전 셀을 선택적으로 방전시켜 형광체(10)을 발광시키는 것에 의해 표시가 행해진다.PDPs are capable of high-speed display and large-sized displays compared to liquid crystal displays, and thus demands are increasing in fields such as OA devices and information display devices. Regarding the PDP, an AC type gas display panel is shown in FIG. As shown in Fig. 1, the PDP has a structure in which a pair of electrodes regularly aligned are placed on two opposing glass substrates, and an inert gas such as neon, helium, and xenon is enclosed between the two substrates. By applying a voltage between and discharging in a small cell around the electrode, each cell is made to emit light to display. On the other hand, the both substrates are composed of a display side substrate 1 (hereinafter referred to as a front substrate) and a back side substrate 2 made of a transparent material such as glass. In general, a discharge holding electrode pair composed of a transparent electrode 3 and a bus electrode 4 and extending in a lateral direction and parallel to each other is disposed on the front substrate. They are covered with a transparent dielectric layer 5, furthermore a transparent protective layer 6. Similarly, a plurality of address electrodes 8 orthogonal to the discharge sustaining electrode pair are located on the back side substrate covered with the dielectric layer 7. The discharge cells are pixelated by the partition wall 9 at the intersections of the discharge sustaining electrode pairs with the address electrodes 8, or in the vicinity thereof, to selectively discharge these discharge cells to emit the phosphors 10. Display is performed.

상술한 PDP에 있어서 전면판의 전극은 예를 들면 은 페이스트로 형성하고 있는 것이 보통인데, 이 경우 유리 기판이 은 페이스트와 직접 접촉하게되면 반응하여 갈색으로 변해버리게 된다. 한편, 시인성(視認性)을 좋게 하고자 전극을 흑색으로 하기 위해 흑색 안료를 은 페이스트에 첨가한 재료가 검토되고 있으나, 충분한 흑색도가 얻어지지 않을 뿐 아니라 갈변화를 피할 수 없다는 문제점이 있다. 또한, 흑색층을 사용하는 경우 전면판의 은 전극은 유리 기판측에 흑색층을 형성한 다음 그 위에 형성하는 것이 통상적인데, 흑색 안료가 은 전극층으로 이동하여 은 전극의 저항을 낮추기도 하고 전극 단부가 에지 컬 현상을 일으키는 등의 문제가 있어왔다. 에지 컬은, 패턴 형성된 전극의 소성 공정에서, 유기 성분이 열분해에 의해 제거될 때에 전극이 수축되어 전극 폭 방향의 양단부가 전극 형성면에서 떨어짐으로써 일어나는 것으로 생각된다.In the above-described PDP, the electrode of the front plate is usually formed of, for example, silver paste. In this case, when the glass substrate comes into direct contact with the silver paste, it reacts to turn brown. On the other hand, in order to improve visibility, a material in which a black pigment is added to the silver paste to make the electrode black has been studied, but there is a problem that not only a sufficient degree of blackness is obtained but also browning is not avoided. In addition, when the black layer is used, the silver electrode of the front plate is usually formed on the glass substrate side, and then formed thereon. The black pigment moves to the silver electrode layer to lower the resistance of the silver electrode and the electrode end. There has been a problem such as causing an edge curl phenomenon. The edge curl is considered to occur when the organic component is removed by pyrolysis in the firing step of the patterned electrode, so that the electrode contracts and both ends in the electrode width direction fall from the electrode formation surface.

따라서 본 발명의 목적은, 상기와 같은 문제점을 해결하여, 전극의 저항치를 낮추지 않고 흑색층을 저온에서 형성할 수 있을 뿐 아니라 유리 기판을 변색시키지 않으면서 치밀하게 흑색도가 높은 박막을 형성할 수 있는 흑색 페이스트를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems, to form a black layer at a low temperature without lowering the resistance of the electrode, and to form a thin black film with high blackness without discoloring the glass substrate. To provide a black paste.

도 1은 전형적인 가스방전 디스플레이 패널의 기본 구조를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing the basic structure of a typical gas discharge display panel.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 한 태양에서는, 비표면적 5 내지 40 m2/g 범위의 루테늄계 다산화물 미분말 15 내지 25 중량부, 평균입경 0.2 내지 2 ㎛ 범위 및 최대 크기 5 ㎛ 이하의 유리 프릿(glass frit) 40 내지 85 중량부 및 유기 비히클 8 내지 40 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 페이스트 조성물 ("일반 흑색 페이스트")을 제공한다.In one aspect of the present invention for achieving the above object, 15 to 25 parts by weight of the ruthenium-based polyoxide fine powder in the specific surface area of 5 to 40 m 2 / g, the average particle diameter range of 0.2 to 2 ㎛ and the maximum size of 5 ㎛ or less It provides a black paste composition ("normal black paste") comprising 40 to 85 parts by weight of the glass frit and 8 to 40 parts by weight of the organic vehicle.

본 발명에서는 또한, 상기 일반 흑색 페이스트에서 유기 비히클 대신에 감광성 유기 성분을 사용하는 것을 특징으로 하는 특정 흑색 페이스트 조성물 ("감광성 흑색 페이스트")을 제공한다.The present invention also provides a specific black paste composition ("photosensitive black paste"), characterized in that the photosensitive organic component is used in place of the organic vehicle in the normal black paste.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 흑색 페이스트 조성물은 루테늄계 다산화물 미분말 및 유리 프릿을 사용하는 것을 특징으로 한다.The black paste composition of the present invention is characterized by using ruthenium-based polyoxide fine powder and glass frit.

본 발명의 일반 흑색 페이스트 조성물은 바람직하게는 루테늄계 다산화물 미분말 15 내지 25 중량부, 유리 프릿 40 내지 85 중량부 및 유기 비히클 8 내지 40 중량부를 포함한다. 본 발명의 감광성 흑색 페이스트 조성물은 바람직하게는 루테늄계 다산화물 미분말 15 내지 25 중량부, 유리 프릿 40 내지 84 중량부 및 감광성 유기 성분 8 내지 40 중량부를 포함한다.The general black paste composition of the present invention preferably comprises 15 to 25 parts by weight of ruthenium-based polyoxide fine powder, 40 to 85 parts by weight of glass frit and 8 to 40 parts by weight of organic vehicle. The photosensitive black paste composition of the present invention preferably comprises 15 to 25 parts by weight of ruthenium-based polyoxide fine powder, 40 to 84 parts by weight of glass frit and 8 to 40 parts by weight of the photosensitive organic component.

본 발명의 흑색 페이스트 조성물은 도 1에 도시한 바와 같은 PDP의 유리 기판 상에 도포되어 흑색 박막을 형성하는데 유용하게 사용할 수 있다.The black paste composition of the present invention can be usefully used to form a black thin film by coating on a glass substrate of a PDP as shown in FIG.

종래의 은 페이스트를 전극으로 사용한 경우에 있어서, 유리 기판 변색 현상은 은 페이스트 중의 은이, 소성 시에 은 페이스트 중의 알칼리 성분 등과 반응하여 이온화하여 이온화된 은이 하부층 등의 장벽층(유리 기판과 은 전극 층간의 층) 내로 확산되어 유리 기판 까지 도달하여 거기에서 주석과 산화환원 반응을 일으키게 되어 은이 콜로이드화하기 때문인 것으로 추정된다. 이 반응을 억제하기 위해 은 페이스트에 첨가하는 유리 프릿 성분으로서 알칼리 함량이 0.1 중량% 이하인 것을 사용하고 있다.In the case where a conventional silver paste is used as an electrode, the phenomenon of discoloration of the glass substrate is such that the silver in the silver paste reacts with an alkali component or the like in the silver paste during firing and ionized so that the ionized silver is a barrier layer such as a lower layer (between the glass substrate and the silver electrode layer). Layer is diffused into the glass substrate to cause a redox reaction with tin, whereby silver colloids. In order to suppress this reaction, an alkali content of 0.1 weight% or less is used as a glass frit component added to silver paste.

본 발명에서는 루테늄 다산화물 미분말을 페이스트 구성 성분으로 이용하므로 상기 문제의 발생을 피할 수 있다. 즉, 전극의 주성분인 은 이온의 이동(확산)력을 잃게 하여 유리 기판 중의 주석과의 반응을 피하여 은 전극의 갈색화를 방지함과 동시에 흑색 분말로 인해 콘트라스트가 향상되며, 은 전극의 도전성을 저하시키지 않는 흑색 박막을 얻을 수 있다.In the present invention, since the ruthenium multi-oxide fine powder is used as a paste constituent, occurrence of the above problem can be avoided. In other words, it loses the movement (diffusion) power of silver ions, the main component of the electrode, avoids reaction with tin in the glass substrate, prevents browning of the silver electrode, and improves contrast due to black powder, and decreases the conductivity of the silver electrode. A black thin film can be obtained which is not made.

본 발명의 흑색 페이스트는 콘트라스트를 향상시키기 위해 블랙 스트라이프 또는 격자 상의 절연 패턴으로 형성될 수 있다.The black paste of the present invention may be formed with an insulating pattern on a black stripe or lattice to improve contrast.

본 발명의 흑색 페이스트에는 도전성을 부여하기 위해 도전성 분말이 사용될 수도 있으며, 이 경우 소성 후에 형성된 흑색 전극층의 두께는 2 내지 5 ㎛ 범위가 바람직하다. 흑색 전극 및 바스 도체 전극의 2층을, 노광시키는 것에 의해 패턴을 형성하고 현상한 후 소성하는 것에 의해 전극 복합체를 형성할 수 있다.In the black paste of the present invention, a conductive powder may be used to impart conductivity, and in this case, the thickness of the black electrode layer formed after firing is preferably in the range of 2 to 5 μm. The electrode composite can be formed by baking a pattern after forming a pattern by exposing two layers of a black electrode and a bath conductor electrode, and developing.

본 발명에서 "흑색"이라는 용어는 백색에 대해 시각적으로 우위인 콘트라스트를 나타내는 흑색을 의미하며, 명도지수 L이 25 이하, 보다 바람직하게는 20 이하인 것이다. 상기 명도지수는 국제조명위원회(CIE) 또는 JIS Z 8729에 규정되어 있으며, Lab 표색계에서는 명도지수를 L, 색도를 a, b로 나타내고 있다. 이러한 규정 중의 Y로서 JIS Z 8701에 규정된 Y를 사용할 수 있다.In the present invention, the term "black" means black which represents a visually superior contrast with respect to white, and the brightness index L is 25 or less, more preferably 20 or less. The brightness index is defined in the International Illumination Commission (CIE) or JIS Z 8729. In the Lab colorimetric system, the brightness index is represented by L and the chromaticity a and b. Y specified in JIS Z 8701 can be used as Y in these regulations.

본 발명의 흑색 페이스트 조성물의 구성 성분 및 혼련 공정과 그의 사용 방법에 대해 이하에서 구체적으로 설명한다.The component, the kneading process of the black paste composition of this invention, and its use method are demonstrated concretely below.

(1) 루테늄계 다산화물 미분말(1) Ruthenium-based polyoxide fine powder

본 발명의 흑색 페이스트에 사용되는 루테늄계 다산화물 미분말은 RuO2및 기타 루테늄 다산화물일 수 있다. 상기 루테늄계 다산화물 미분말은 미국 특허 제3,583,931호에 기재된 화합물들을 포함하며, 바람직한 루테늄계 다산화물 미분말의 구체적인 예로는 RuO2, GdBiRu2O7, Pb2Ru2O6, Co2Ru2O6, PbBiRu2O6.5, CuxBi2-xRu2O7(x=0-1) 및 Bi2Ru2O7로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상이 포함된다.The ruthenium-based polyoxide fine powder used in the black paste of the present invention may be RuO 2 and other ruthenium polyoxides. The ruthenium-based fine oxide powder includes compounds described in US Pat. No. 3,583,931. Specific examples of preferred ruthenium-based polyoxide fine powders include RuO 2 , GdBiRu 2 O 7 , Pb 2 Ru 2 O 6 , and Co 2 Ru 2 O 6 At least one selected from the group consisting of PbBiRu 2 O 6.5 , Cu x Bi 2-x Ru 2 O 7 (x = 0-1), and Bi 2 Ru 2 O 7 .

상기 루테늄계 다산화물 미분말은 비표면적이 5 내지 40 m2/g 범위인 것이바람직하며, 보다 바람직하게는 10 내지 30 m2/g 범위이다. 비표면적이 5 m2/g 미만이면 입자가 너무 커지게 되어 흑색도가 높은 박막이 얻어지지 않으며, 비표면적이 40 m2/g 보다 크면 흑색 미립자가 너무 미세하여 인쇄특성이 저하되고 흑색 패턴의 정도(精度)가 저하되며 소결성이 저하되어 치밀한 막이 얻어지기가 어렵게 된다.The ruthenium-based polyoxide fine powder preferably has a specific surface area in the range of 5 to 40 m 2 / g, more preferably in the range of 10 to 30 m 2 / g. If the specific surface area is less than 5 m 2 / g, the particles become too large to obtain a thin film having a high blackness. If the specific surface area is larger than 40 m 2 / g, the black fine particles are too fine and print characteristics are deteriorated. Accuracy decreases and sinterability falls, and it becomes difficult to obtain a dense film.

상기 루테늄계 다산화물 미분말은 흑색 페이스트 중에 함유됨으로써, 페이스트가 유리 및 유기 비히클로부터의 영향을 받는 것을 줄이며, 흑색도가 높은 전극을 제공한다.The ruthenium-based polyoxide fine powder is contained in the black paste, thereby reducing the influence of the paste from the glass and the organic vehicle, and providing an electrode having a high blackness.

루테늄계 다산화물 미분말은 평균입경이 0.01 내지 0.1 ㎛ 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 0.08 ㎛ 범위이다. 평균 입경이 상기 범위를 벗어나면 흑색도가 낮아져 바람직하지 않다. 또한, 상기 루테늄계 다산화물 미분말은 평균입경 0.3 내지 1 ㎛ 범위이고 최대 크기가 3 ㎛이하인 루테늄계 다산화물 분말과 함께 사용될 수도 있다. 상기 분말을 병용하는 것에 의해 소성시의 수축율을 낮출 수 있다. 상기 루테늄계 다산화물 분말의 사용량은 상기 루테늄계 다산화물 미분말에 대해 5 내지 40 중량% 범위의 양이 바람직하며, 5 중량% 미만으로 사용하면 수축율 억제효과가 감소되고 40 중량%를 초과하면 얇은 흑색막의 표면평활성이 저하되어 바람직하지 않다.The ruthenium-based polyoxide fine powder preferably has an average particle diameter in the range of 0.01 to 0.1 µm, more preferably 0.02 to 0.08 µm. If the average particle diameter is out of the above range, the blackness is lowered, which is not preferable. In addition, the ruthenium-based polyoxide fine powder may be used with a ruthenium-based polyoxide powder having an average particle diameter of 0.3 to 1 ㎛ and a maximum size of 3 ㎛ or less. By using the said powder together, the shrinkage rate at the time of baking can be reduced. The ruthenium-based polyoxide powder is preferably used in an amount in the range of 5 to 40% by weight with respect to the ruthenium-based polyoxide fine powder, and when used at less than 5% by weight, the shrinkage inhibiting effect is reduced. The surface smoothness of the film is lowered, which is not preferable.

(2) 유리 프릿(2) glass frit

또한, 본 발명의 흑색 페이스트 조성물에 사용되는 유리 프릿은 흑색 분말에함유되는 루테늄계 다산화물 미분말들을 서로 결합시키는 결착제 역할을 하며, 페이스트의 세라믹 또는 유리 기판에 대한 접착성을 향상시킴과 동시에 소결시에 연화하여 유리 프릿을 기판 측에 응집시키는 작용 효과가 있다.In addition, the glass frit used in the black paste composition of the present invention serves as a binder for bonding the ruthenium-based polyoxide fine powders contained in the black powder to each other, and improves the adhesion of the paste to the ceramic or glass substrate and simultaneously sinters There is an effect of softening at the time to aggregate the glass frit on the substrate side.

상기 유리 프릿으로서는 유리 프릿 A 및 유리 프릿 B가 바람직하게 이용될 수 있다. 상기 유리 프릿 A로서는 산화비스무스(Bi2O3)를 함유하는 것이 이용가능하며, 산화물 환산 표기로 나타낸 조성 성분 및 함량이 하기 표 1과 같은 조성을 90 중량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 유리 프릿 B는 산화납(PbO)을 함유하는 것이 이용되며, 산화물 환산 표기로 나타낸 조성 성분 및 함량이 하기 표 2와 같은 조성을 90 중량% 이상 함유하는 것이 바람직하다.As the glass frit, glass frit A and glass frit B can be preferably used. As the glass frit A, it is possible to use bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and it is preferable that the composition component and content indicated in the oxide conversion notation contain 90 wt% or more of the composition as shown in Table 1 below, and the glass frit B The containing containing lead oxide (PbO) is used, It is preferable that the composition component and content which are represented by the oxide conversion notation contain 90 weight% or more of a composition as Table 2 below.

구성 성분Component 함량(중량부)Content (parts by weight) Bi2O3 Bi 2 O 3 40 내지 9040 to 90 SiO2 SiO 2 5 내지 305 to 30 B2O3 B 2 O 3 5 내지 305 to 30 BaOBaO 2 내지 402 to 40

구성 성분Component 함량(중량부)Content (parts by weight) PbOPbO 40 내지 9040 to 90 SiO2 SiO 2 10 내지 4010 to 40 B2O3 B 2 O 3 5 내지 305 to 30 ZnOZnO 0 내지 100 to 10 Al2O3 Al 2 O 3 0 내지 200 to 20

상기 유리 프릿의 사용에 의해, 유리 기판이 응력을 받지 않는 온도에서 폐이스트를 소부(燒付)하는 것이 가능하게 된다.By use of the said glass frit, it becomes possible to bake waste yeast at the temperature from which a glass substrate is not stressed.

상기 유리 프릿 A 조성에서, 산화 비스무스(Bi2O3)가 40 중량부 미만으로 사용되면 페이스트를 유리 기판에 소부할 때 접착강도를 증대시키는 효과가 적으며, 90 중량부를 초과하면 유리 프릿의 연화점이 너무 낮아 페이스트의 탈 비히클성이 나쁘게 되고 기판과의 접착강도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 산화비스무스의 바람직한 양은 50 내지 80 중량부 범위이다.In the glass frit A composition, when bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) is used in an amount less than 40 parts by weight, the effect of increasing the adhesive strength when baking the paste on the glass substrate is small, and when it exceeds 90 parts by weight, the softening point of the glass frit It is not preferable because this is too low and the de-vehicle property of the paste is bad and the adhesive strength with the substrate is lowered. The preferred amount of bismuth oxide is in the range of 50 to 80 parts by weight.

상기 유리 프릿 A 조성에서 산화규소(SiO2)가 5 중량부 미만인 경우는 유리 프릿의 안정성이 저하되며, 30 중량부 보다 많은 경우는 내열 온도가 상승하여 570 ℃ 이하에서 유리 기판 상에 소부하기가 곤란해진다. 바람직하게는, 산화규소는 5 내지 15 중량부 범위의 양으로 사용한다.When the silicon oxide (SiO 2 ) is less than 5 parts by weight in the glass frit A composition, the stability of the glass frit is lowered, and when it is more than 30 parts by weight, the heat resistance temperature rises and it is difficult to be baked on the glass substrate at 570 ° C. or less. It becomes difficult. Preferably, silicon oxide is used in amounts ranging from 5 to 15 parts by weight.

상기 유리 프릿 A 조성에서 산화붕소(B2O3)는 접착강도, 열팽창계수 등의 특성을 손상하지 않도록 유리 기판 상에서의 소부 온도를 제어하기 위해 첨가되는데, 5 중량부 미만에서는 접착강도가 저하되고, 30 중량부를 초과하면 유리 프릿의 안정성이 저하된다. 산화붕소는 7 내지 20 중량부 범위의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.In the glass frit A composition, boron oxide (B 2 O 3 ) is added to control the baking temperature on the glass substrate so as not to impair the properties such as adhesive strength and thermal expansion coefficient, but below 5 parts by weight, the adhesive strength is lowered. When it exceeds 30 weight part, the stability of a glass frit will fall. Boron oxide is preferably used in an amount in the range of 7 to 20 parts by weight.

상기 유리 프릿 A 조성에서 산화바륨(BaO)은, 2 중량부 미만으로 사용되면 유리 소부 온도를 제어하는 것이 곤란해지고, 40 중량부를 초과하면 유리층의 안정성이 저하된다. 바람직하게는 2 내지 30 중량부 범위의 양으로 사용한다.When the barium oxide (BaO) is used in the glass frit A composition at less than 2 parts by weight, it is difficult to control the glass baking temperature, and when it exceeds 40 parts by weight, the stability of the glass layer is lowered. Preferably used in amounts ranging from 2 to 30 parts by weight.

또한, 상기 유리 프릿 B 조성에서 산화납(PbO)이 40 중량부 미만인 경우는 페이스트를 유리 기판 위에 소부할 때 접착강도를 높이는 효과가 적고, 90 중량부를 초과하면 유리 프릿의 연화점이 너무 낮아 페이스트의 탈 비히클성이 나빠지고, 기판과의 접착강도가 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 산화납의 바람직한 양의 범위는 50 내지 80 중량부 범위이다.In addition, when the lead oxide (PbO) is less than 40 parts by weight in the glass frit B composition, the effect of increasing the adhesive strength when baking the paste on the glass substrate is small, and when it exceeds 90 parts by weight, the softening point of the glass frit is too low. It is not preferable because the de-vehicle property deteriorates and the adhesive strength with the substrate decreases. The preferred amount of lead oxide is in the range of 50 to 80 parts by weight.

상기 유리 프릿 B 조성에서 산화규소(SiO2)가 10 중량부 미만인 경우는 유리 프릿의 안정성이 저하되며, 40 중량부 보다 많은 경우는 내열 온도가 상승하여 570 ℃ 이하에서 유리 기판 상에 소부하기가 곤란해진다. 바람직하게는, 산화규소는 10 내지 30 중량부 범위의 양으로 사용한다.When the silicon oxide (SiO 2 ) is less than 10 parts by weight in the glass frit B composition, the stability of the glass frit is lowered, and when it is more than 40 parts by weight, the heat-resistant temperature rises and it is difficult to be baked on the glass substrate at 570 ° C. or less. It becomes difficult. Preferably, silicon oxide is used in amounts ranging from 10 to 30 parts by weight.

상기 유리 프릿 B 조성에서 산화붕소(B2O3)가 5 중량부 미만으로 사용되면 접착강도가 저하되고, 30 중량부를 초과하여 사용되면 유리 프릿의 안정성이 저하된다. 산화붕소는 5 내지 20 중량부 범위의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.When boron oxide (B 2 O 3 ) is used in less than 5 parts by weight in the glass frit B composition, the adhesive strength is lowered, and when used in excess of 30 parts by weight, the stability of the glass frit is lowered. Boron oxide is preferably used in an amount in the range of 5 to 20 parts by weight.

상기 유리 프릿 B 조성에서 산화아연(ZnO)이 10 중량부를 초과하여 사용되면 유리 층의 안정성이 저하되며, 바람직한 사용량은 2 내지 5 중량부 범위이다.When zinc oxide (ZnO) is used in excess of 10 parts by weight in the glass frit B composition, the stability of the glass layer is lowered, and the preferred amount of use is in the range of 2 to 5 parts by weight.

상기 유리 프릿 B 조성에서, 산화알루미늄(Al2O3)은 조성물의 변형 온도를 높이고 유리 조성이나 페이스트의 안정화를 위해 첨가되며, 20 중량부를 초과하면 유리의 내열 온도가 너무 높아져 유리 기판 상에 소부하기가 곤란해진다. 바람직한 사용량은 2 내지 15 중량부 범위이다.In the glass frit B composition, aluminum oxide (Al 2 O 3 ) is added to increase the deformation temperature of the composition and to stabilize the glass composition or paste, and if it exceeds 20 parts by weight, the heat-resistant temperature of the glass becomes too high to be baked on the glass substrate. It becomes difficult to do Preferred amounts of use range from 2 to 15 parts by weight.

또한, 본 발명에 따르면, 유리 프릿으로서 상기 유리 프릿 A와 유리 프릿 B 둘다를 함유하는 복합 유리 프릿을 사용할 수도 있으며, 산화물 환산 표기로 나타낸 구성 성분 및 함량이 하기 표 3과 같은 복합 유리 프릿을 90 중량% 이상 함유하는 것이 바람직하다.In addition, according to the present invention, a composite glass frit containing both the glass frit A and the glass frit B may be used as the glass frit, and the components and contents expressed in the oxide conversion notation may be 90 It is preferable to contain by weight or more.

구성 성분Component 함량(중량부)Content (parts by weight) Bi2O3 Bi 2 O 3 40 내지 9040 to 90 PbOPbO 40 내지 9040 to 90 SiO2 SiO 2 5 내지 305 to 30 B2O3 B 2 O 3 5 내지 305 to 30 BaOBaO 2 내지 402 to 40 ZnOZnO 0 내지 100 to 10 Al2O3 Al 2 O 3 0 내지 200 to 20

상기 유리 프릿 A, 유리 프릿 B 및 복합 유리 프릿은 평균입경 0.1 내지 2 ㎛ 및 최대 크기 5 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 평균입경이 0.1 내지 1 ㎛ 범위이고, 최대 크기가 3 ㎛ 이하이다. 상기 유리 프릿의 입경을 상기 범위로 하면, 저온에서의 유리 기판과의 접착강도가 높아지게 되고 저 저항성의 치밀한 막이 얻어질 수 있으며, 또한 박막으로 하는 경우에도 박막의 박리가 일어나기 어렵다는 장점이 있다.It is preferable that the said glass frit A, the glass frit B, and the composite glass frit are 0.1-2 micrometers of average particle diameters, and 5 micrometers or less of the largest sizes. More preferably, the average particle diameter is in the range of 0.1 to 1 mu m, and the maximum size is 3 mu m or less. When the particle diameter of the glass frit is in the above range, the adhesion strength with the glass substrate at low temperature can be increased, and a dense film of low resistance can be obtained, and even when the thin film is formed, there is an advantage that the peeling of the thin film is unlikely to occur.

상기 유리 프릿 A 및 유리 프릿 B의 연화점은 시차열(DSP)법에 의해 측정되는데, 연화점이 400 내지 550 ℃ 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 420 내지 500 ℃ 범위이다. 연화점이 400 ℃ 보다 낮으면, 유기 성분이 포함되기 쉽고 폴리머 등의 유기 성분이 분해됨에 따라 페이스트의 도포막 중에 블리스터(blister)가 생기기 쉽게 된다. 한편, 연화점이 550 ℃ 보다 높으면 소성 후의 막의 기판에 대한 접착강도가 저하된다.The softening point of the glass frit A and the glass frit B is measured by a differential thermal (DSP) method, and the softening point is preferably in the range of 400 to 550 ° C, more preferably in the range of 420 to 500 ° C. If the softening point is lower than 400 ° C., organic components are easily contained, and as organic components such as polymers are decomposed, blisters are likely to occur in the coating film of the paste. On the other hand, when the softening point is higher than 550 ° C., the adhesive strength to the substrate of the film after firing is lowered.

(3) 유기 비히클(3) organic vehicle

본 발명의 일반 흑색 페이스트에 사용가능한 유기 비히클 성분으로는 에틸셀룰로즈, 메틸셀룰로즈, 니트로셀룰로즈, 카복시메틸셀룰로즈 등의 셀룰로즈 유도체와 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 폴리비닐알콜, 폴리비닐부티랄 등의 수지 성분이 이용될 수 있다. 이들 중에서, 도전성 분말 및 도전성 미립자의 분산성, 페이스트의 도포 특성, 소성시의 탈 비히클성(분해성) 등의 점에서 아크릴 수지, 에틸셀룰로즈가 바람직하게 이용될 수 있다. 이들 수지 성분은 유기 용제에 용해되어 사용된다.Organic vehicle components usable in the general black paste of the present invention include cellulose derivatives such as ethyl cellulose, methyl cellulose, nitro cellulose and carboxymethyl cellulose, and resins such as acrylate ester, methacrylic acid ester, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, etc. Ingredients may be used. Among them, acrylic resins and ethyl cellulose can be preferably used in view of the dispersibility of the conductive powder and the conductive fine particles, the coating properties of the paste, and the de-vehicle (degradability) during firing. These resin components are dissolved and used in an organic solvent.

상기 유기 비히클 성분은 본 발명의 조성물에 8 내지 40 중량부의 양으로 사용되는데, 이 범위내에 있지 않으면 소성단계에서 완전히 증발(소결, 탈바인더)될 수 없게 되므로 바람직하지 않다.The organic vehicle component is used in the composition of the present invention in an amount of 8 to 40 parts by weight, which is not preferable because it cannot be completely evaporated (sintered, debindered) in the firing step.

(4) 감광성 유기 성분(4) photosensitive organic components

본 발명의 감광성 흑색 페이스트에 사용되는 감광성 유기 성분은 8 내지 40 중량부의 양으로 사용되는데, 감광성 유기 성분의 사용량이 8 중량부 미만이면 노광시의 광경화가 흑색층의 하부까지 충분히 행해지지 않아 소정의 극미세 패턴이 형성되기 어렵고 흑색층 막의 단면 형상이 불량해지고, 또한 현상성이 나빠지는 등의 문제가 생긴다. 또한 상기 감광성 유기 성분이 40 중량부를 초과하면, 소성에 의해 제거되는 유기 성분이 많아져 막의 치밀성이 나쁘게 되므로 바람직하지 않다.The photosensitive organic component used in the photosensitive black paste of the present invention is used in an amount of 8 to 40 parts by weight. When the amount of the photosensitive organic component used is less than 8 parts by weight, photocuring at the time of exposure is not sufficiently performed to the lower part of the black layer, and thus, It is difficult to form an ultrafine pattern, the cross-sectional shape of the black layer film is poor, and developability is deteriorated. Moreover, when the said photosensitive organic component exceeds 40 weight part, since the organic component removed by baking increases and the density of a film | membrane worsens, it is unpreferable.

상기 감광성 유기 성분은 감광성 수지 및 광중합 개시제로 이루어지며, 상기 감광성 수지로는 네가(nega)형 또는 포지(posi)형 어느 것이나 사용가능하며, 네가형이 취급이 용이하고 설계가 용이하므로 바람직하게 사용될 수 있다. 감광성 수지로는 직쇄상 또는 분지상의 반응성 폴리머와, 분자 구조 중에 아크릴로일기 등의 감광성 기를 갖고 노광에 의해 불용성 폴리머를 형성하는 모노머, 올리고머 등이 있다.The photosensitive organic component is composed of a photosensitive resin and a photopolymerization initiator, and the photosensitive resin may be either a negative type or a posi type, and the negative type is preferably used because it is easy to handle and easy to design. Can be. Examples of the photosensitive resin include linear or branched reactive polymers, monomers and oligomers having photosensitive groups such as acryloyl groups in the molecular structure and forming insoluble polymers by exposure.

직쇄상 또는 분지상의 반응성 폴리머로는, (메타)아크릴산 및/또는 그의 에스테르의 중합체 또는 공중합체, 또는 이들의 모노머와 스티렌계 화합물 및/또는 아크릴로니트릴과의 공중합체의 측쇄에 (메타)아크릴산기를 갖도록 변성된 폴리머와 같은 아크릴계; 불포화 폴리에스테르, 폴리에스테르, 폴리에스테리폴리올의 (메타)아크릴레이트와 같은 폴리에스테르계; 폴리에틸렌 글리콜 (메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌 글리콜 (메타)아크릴레이트와 같은 폴리에테르 (메타)아크릴레이트계; 비스페놀형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지 또는 지환식 에폭시 수지와 아크릴산과의 반응에서 얻어지는 에폭시 디아크릴레이트계; 폴리에테르 폴리올 또는 폴리에스테르 폴리올과 디이소시아네이트 및 히드록실기 함유 (메타)아크릴레이트의 반응에서 얻어지는 우레탄 (메타)아크릴레이트계; 비페닐테트라카르복실산 무수물과 2-(메타)아크릴아미드-디아미노디페닐에테르의 공중합체와 같은 폴리이미드계 등의 폴리머가 있다.Examples of the linear or branched reactive polymer include (meth) in the side chain of the polymer or copolymer of (meth) acrylic acid and / or its ester, or the copolymer of these monomers with a styrene-based compound and / or acrylonitrile. Acrylics such as polymers modified to have acrylic acid groups; Polyesters such as (meth) acrylates of unsaturated polyesters, polyesters and polyester polyols; Polyether (meth) acrylates such as polyethylene glycol (meth) acrylate and polypropylene glycol (meth) acrylate; Epoxy diacrylate type | system | group obtained by reaction of bisphenol-type epoxy resin, novolak-type epoxy resin, or alicyclic epoxy resin and acrylic acid; Urethane (meth) acrylate type | system | group obtained by reaction of a polyether polyol or polyester polyol, diisocyanate, and a hydroxyl-group containing (meth) acrylate; And polymers such as polyimide-based compounds such as a copolymer of biphenyltetracarboxylic anhydride and 2- (meth) acrylamide-diaminodiphenyl ether.

상기 폴리머는 분자량 50,000 미만, 바람직하게는 30,000 미만이 바람직하며, 이 범위로 조정하는 것에 의해 인쇄 특성 또는 패턴 형성성이 향상될 수 있다.The polymer has a molecular weight of less than 50,000, preferably less than 30,000, and by adjusting in this range, printing properties or pattern formability can be improved.

또한, 모노머, 올리고머로서는 상기 폴리머의 중합도가 낮은 올리고머외에 디에틸렌글리콜 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨의 트리- 또는 테트라-아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트와 같은 아크릴 에스테르계; 비스페놀 A-디(메타)아크릴레이트와 같은 에폭시 수지 등의 모노머가 있다.As the monomer or oligomer, in addition to the oligomer having a low polymerization degree of the polymer, triethylene glycol acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and pentaerythritol Or acrylic esters such as tetra-acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate; Monomers such as epoxy resins such as bisphenol A-di (meth) acrylate.

상기 광중합개시제로는 자외선과 같은 활성 광선에 노광될 때 자유 라디칼을 발생하는 라디칼계 광중합개시제, 예를 들면 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 아세토페논계; 벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계; 티오크산톤, 디에틸티오크산톤 등의 티오크산톤계 등을 사용할 수 있다. 이들 광중합개시제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여, 또는 아민류 등의 광중합 촉진제와 병용하여 사용할 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include radical photoinitiators which generate free radicals when exposed to active rays such as ultraviolet rays, for example, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Acetophenone series, such as 1-one; Benzophenones such as benzophenone and 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone; Thioxanthones, such as thioxanthone and diethyl thioxanthone, can be used. These photoinitiators can be used individually or in mixture of 2 or more types, or in combination with photoinitiators, such as amines.

(4) 유기 용매(4) organic solvent

또한, 본 발명의 흑색 페이스트 조성물에는, 유기 성분들을 용해시키고 페로스피넬 미분말 및 유리 프릿을 분산시켜 점도를 조정하기 위해, 유기 용매가 첨가될 수 있다. 유기 용매로는 텍사놀(texanol)(2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올모노이소부티레이트), 에틸렌글리콜(테르펜), 부틸칼비톨, 에틸셀로솔브, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 메틸에틸케톤, 디옥산, 아세톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 이소부틸알콜, 디메틸술폭사이드, 테레피네올, 파인 오일, 폴리비닐부티랄, 3-메톡시부틸 아세테이트, γ-부티로락톤, 디에틸프탈레이트 등이 있다. 이들 유기 용매는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.In addition, an organic solvent may be added to the black paste composition of the present invention in order to adjust the viscosity by dissolving the organic components and dispersing the fine phosphinel powder and the glass frit. Organic solvents include texanol (2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate), ethylene glycol (terpene), butyl carbitol, ethyl cellosolve, ethylbenzene, isopropylbenzene , Methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, dimethyl sulfoxide, terepineol, fine oil, polyvinyl butyral, 3-methoxybutyl acetate, γ-butyrolactone And diethyl phthalate. These organic solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

(5)도전성 분말(5) conductive powder

또한, 본 발명의 흑색 페이스트 조성물은 흑색 전극 형성에 이용될 경우,Ag, Au, Pd, Ni 및 Pt로 이루어진 군 중에서 선택되는 적어도 하나를 함유하는 도전성 금속 분말을 포함할 수 있다. 이들 분말의 형상은 구상, 판상, 괴상, 봉상 등일 수 있으며, 응집성이 적고 분산성이 좋은 구상 분말이 바람직하게 사용될 수 있다.In addition, the black paste composition of the present invention may include a conductive metal powder containing at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Pd, Ni, and Pt when used to form a black electrode. The shape of these powders may be spherical, plate-like, blocky, rod-like, and the like, and spherical powders having low cohesiveness and good dispersibility may be preferably used.

상기 도전성 분말의 평균입경은 0.8 내지 4 ㎛ 범위, 바람직하게는 1 내지 3 ㎛ 범위이다. 이 범위를 벗어나 입경이 0.8 ㎛ 미만이면, 입자가 너무 미세하게 되어 소결시 수축률이 커지고 막에 크랙이 생기기 쉬우며, 입자가 응집되기 쉽고 페이스트 중에 안정된 분산상태를 얻기가 곤란하고 인쇄 특성이 저하한다. 또한 입경이 4 ㎛ 보다 크면 페이스트 도포막의 표면이 거칠게 되고 매우 미세한 패턴을 얻기가 어려우며 또한 소결성이 저하되어 치밀한 박막이 얻어지기 어려워 바람직하지 않다.The average particle diameter of the conductive powder is in the range of 0.8 to 4 μm, preferably in the range of 1 to 3 μm. If the particle size is less than 0.8 µm outside of this range, the particles become too fine to increase the shrinkage rate during sintering and easily cause cracks in the film, the particles are agglomerated, it is difficult to obtain a stable dispersion state in the paste, and the printing characteristics are deteriorated. . In addition, when the particle diameter is larger than 4 µm, the surface of the paste coating film becomes rough, it is difficult to obtain a very fine pattern, and the sintering property is lowered, which makes it difficult to obtain a dense thin film, which is not preferable.

도전성 분말의 표면적/중량비(비표면적)는 0.5 내지 3.5 m2/g이고, 밀도는 2.5 내지 6 g/cm3범위인 것이 바람직하다. 비표면적이 0.5 m2/g 미만이면 입자가 너무 커져 소성 후의 도포막의 평활성이 저하되어 바람직하지 않으며, 3.5 m2/g 보다 크면 입자가 너무 미세해져 입자가 응집하기 쉽고 인쇄 특성이 저하된다. 상기 밀도가 상기 범위를 벗어나면 인쇄 특성이 불량해지므로 바람직하지 않다.The surface area / weight ratio (specific surface area) of the conductive powder is preferably 0.5 to 3.5 m 2 / g, and the density is in the range of 2.5 to 6 g / cm 3 . If the specific surface area is less than 0.5 m 2 / g, the particles become too large and the smoothness of the coated film after firing decreases, which is not preferable. If the specific surface area is larger than 3.5 m 2 / g, the particles become too fine, the particles tend to aggregate and the printing characteristics are degraded. If the density is out of the above range, the printing characteristics are poor, which is not preferable.

상기 도전성 분말은 상기 성분 (1), (2) 및 (3)의 총량에 대해 5 내지 30 중량% 범위의 양으로 사용할 수 있다.The conductive powder may be used in an amount ranging from 5 to 30% by weight based on the total amount of the components (1), (2) and (3).

(6) 기타 첨가제(6) other additives

본 발명의 흑색 페이스트 조성물에는 상술한 성분들 이외에도, 보존 중의 안정성을 부여하기 위해, 히드로퀴논 모노메틸 에테르와 같은 중합금지제; 폴리아크릴산염, 셀룰로즈 유도체와 같은 분산제; 기재에 대한 접착성을 개선하기 위한 실란 커플링제 등의 접착성 부여제; 도포성능을 개선하기 위한 소포제; 작업성을 개선하기 위한 가소제; 틱소트로피성 부여제 등의 첨가제가 포함될 수 있다.In addition to the above-mentioned components, the black paste composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor such as hydroquinone monomethyl ether to impart stability during storage; Dispersants such as polyacrylates, cellulose derivatives; Adhesion imparting agents such as a silane coupling agent for improving the adhesion to a substrate; Antifoaming agent to improve coating performance; Plasticizers for improving workability; Additives such as thixotropic imparting agents may be included.

(7) 혼련 및 흑색층 형성(7) kneading and black layer formation

본 발명의 흑색 페이스트 조성물은 상기 구성 성분들을 예를 들면 3개의 롤을 가진 롤밀, 믹서, 균질화기 등의 혼련기를 이용하여 혼련한다. 또한, 도포에 적합한 유동성을 부여하기 위해 페이스트 조성물의 점도는 통상 10,000 내지 150,000 센티포이즈 범위, 바람직하게는 30,000 내지 100,000 센티포이즈 범위이다. 인쇄시의 도포액의 점도는 통상 10,000 내지 70,000 센티포이즈 범위, 바람직하게는 20,000 내지 50,000 센티포이즈 범위로 조정될 수 있다.The black paste composition of the present invention is kneaded by using a kneader such as a roll mill, a mixer, a homogenizer and the like having three rolls. In addition, the viscosity of the paste composition is usually in the range of 10,000 to 150,000 centipoise, preferably in the range of 30,000 to 100,000 centipoise, in order to impart fluidity suitable for application. The viscosity of the coating liquid at the time of printing can be adjusted normally in the range of 10,000-70,000 centipoise, preferably in the range of 20,000-50,000 centipoise.

본 발명의 흑색 페이스트를 이용하여 스크린 인쇄법에 의해 유리 기판 또는 세라믹 기판 등의 기재 상에 원하는 전극 패턴을 형성하고, 건조 후에 500 내지 560 ℃ 범위의 저온으로 15 내지 30 분간 소성하여 흑색층을 형성할 수 있다.Using the black paste of the present invention, a desired electrode pattern is formed on a substrate such as a glass substrate or a ceramic substrate by a screen printing method, and after drying, the black layer is baked at a low temperature in the range of 500 to 560 ° C. for 15 to 30 minutes to form a black layer. can do.

감광성 유기 성분을 포함한 감광성 흑색 페이스트는 도포 또는 전사에 의해 유리 또는 세라믹 기판 상에 감광성 도전층을 형성하고 이를 소정의 포토마스크(photomask)로 가린 후 노광, 현상한 다음 소성하여 유기 성분을 제거하는 것에 의해 흑색 패턴으로 형성하는, 소위 포토리소그라피법에 의해 큰 면적의극미세 흑색 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.The photosensitive black paste containing the photosensitive organic component is formed by forming a photosensitive conductive layer on a glass or ceramic substrate by coating or transferring, covering the photosensitive conductive layer with a predetermined photomask, exposing, developing and firing to remove the organic component. The ultrafine black pattern of a large area can be easily formed by the so-called photolithography method formed in a black pattern by this.

구체적으로는, 본 발명의 감광성 흑색 페이스트를, 스크린 인쇄법, 바 코터(bar coater), 롤 코터법 등의 공지의 방법을 이용하여 유리 기판 또는 세라믹 기판 등의 기재 상에 도포하고, 통상 오븐 중에서 건조한 다음 유기용매를 제거한 후 포토마스크를 끼운 상태로 자외선, 적외선, 이온 빔과 같은 활성 광원에 패턴 부분을 노광하고 광경화시킨다. 활성 광원으로는, 비교적 간단한 장치에서 간편하게 조사할 수 있기 때문에 자외선이 바람직하다. 미경화부분을 현상액으로 현상하여 제거하고 이어서 세정하여 패턴을 형성시킨다. 현상 공정으로는 스프레이법, 침지법 등이 이용된다. 현상액으로는 알칼리 수용액이 사용된다. 알칼리 수용액으로는 탄산 나트륨 수용액 등이 사용될 수 있으며, 유기 알칼리 수용액을 이용하는 편이, 소성시에 알칼리 성분을 제거하기 쉬우므로 바람직하다. 유기 알칼리로서는, 일반적인 아민 화합물을 이용할 수 있으며, 구체적으로는 모노 에탄올아민, 디에탄올아민 등이 있다. 알칼리 수용액의 농도는 통상 0.1 내지 1.0 중량% 범위이다. 현상 시의 온도는 20 내지 50 ℃ 범위에서 행하는 것이, 공정관리상 바람직하다. 이와 같이하여 패턴을 형성한 막을 유리 기판 상에서는 480 내지 560 ℃ 범위의 온도에서 15 내지 30 분간 소성하여 흑색층을 형성할 수 있다.Specifically, the photosensitive black paste of this invention is apply | coated on base materials, such as a glass substrate or a ceramic substrate, using well-known methods, such as a screen printing method, a bar coater, and a roll coater method, and usually in oven After drying, the organic solvent is removed, and the pattern portion is exposed to photoactive light sources such as ultraviolet rays, infrared rays, and ion beams with a photomask inserted thereon, followed by photocuring. As the active light source, ultraviolet light is preferable because it can be easily irradiated with a relatively simple device. The uncured portion is developed and removed with a developer, and then washed to form a pattern. As the developing step, a spray method, a dipping method, or the like is used. As a developing solution, aqueous alkali solution is used. Aqueous sodium carbonate solution etc. can be used as aqueous alkali solution, It is preferable to use organic aqueous alkali solution because it is easy to remove an alkali component at the time of baking. As the organic alkali, a general amine compound can be used, and specific examples thereof include mono ethanolamine and diethanolamine. The concentration of the aqueous alkali solution is usually in the range of 0.1 to 1.0% by weight. It is preferable in process control that the temperature at the time of image development is performed in 20-50 degreeC. Thus, the film | membrane in which the pattern was formed can be baked on a glass substrate at the temperature of 480-560 degreeC for 15 to 30 minutes, and can form a black layer.

본 발명의 감광성 흑색 페이스트는 노광시에 자외선이 하부까지 충분히 도달하고 현상 후에 말단의 에지 컬(edge curl) 없이 양호한 패턴을 형성할 수 있으며, 소성 후에 기판과의 접착력이 좋고 흑색도가 높은 막이 얻어진다.The photosensitive black paste of the present invention is capable of forming a good pattern without sufficiently reaching the lower end of the ultraviolet ray at the time of exposure and developing edge curl after development, and obtaining a film having good adhesion to the substrate and high blackness after firing. Lose.

이하 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하나, 이들 실시예가 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 농도(%)는 특히 언급하지 않으면 중량%이다.The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which are not intended to limit the present invention. In addition, the concentration% is% by weight unless otherwise noted.

실시예 1Example 1

루테늄 다산화물 미분말로서의 평균입경 0.05 ㎛ 및 비표면적 8 m2/g의 Pb2Ru2O6분말 20 중량부, 및 유리 프릿 A 80 중량부를 균일하게 혼합하였다. 이때, 상기 유리 프릿 A는 Bi2O368.9 중량%, SiO210.0 중량%, B2O311.8 중량%, BaO 6.5 중량% 및 Al2O32.8 중량%로 구성되었으며, 평균 입경이 1.0 ㎛이고, 최대 크기가 3.6 ㎛이며 연화점이 460 ℃이고 열팽창계수가 90 ×10-7/K 였다.20 parts by weight of Pb 2 Ru 2 O 6 powder having an average particle diameter of 0.05 μm as a ruthenium multioxide fine powder and a specific surface area of 8 m 2 / g, and 80 parts by weight of glass frit A were uniformly mixed. In this case, the glass frit A was composed of 68.9 wt% Bi 2 O 3 , 10.0 wt% SiO 2 , 11.8 wt% B 2 O 3 , 6.5 wt% BaO and 2.8 wt% Al 2 O 3 , with an average particle diameter of 1.0 μm. It had a maximum size of 3.6 μm, a softening point of 460 ° C., and a thermal expansion coefficient of 90 × 10 −7 / K.

이어서, 상기 혼합 분말을 볼밀에서 분쇄 혼합하고 건조하여 순흑색의 분말을 수득하였다. 이 분말 92 중량부와 에틸 셀룰로즈 8 중량부를 유기 용매로서의 테레비네올에 가하여 점도를 조정한 후, 3축 롤로 혼련하여 인쇄용의 흑색 페이스트를 제조하였다.Subsequently, the mixed powder was pulverized and mixed in a ball mill and dried to obtain a pure black powder. 92 parts by weight of this powder and 8 parts by weight of ethyl cellulose were added to terebinol as an organic solvent to adjust the viscosity, and then kneaded with a triaxial roll to prepare a black paste for printing.

상기와 같이 얻어진 페이스트를 25 cm × 25 cm 크기의 소다 유리 기판에 스크린 인쇄법으로 도포하여 도막을 형성하였다. 도막을 80 ℃에서 40분간 건조한 후의 두께는 4.5㎛였다. 250 ℃/시간의 속도로 승온하고 최고온도 540 ℃에서 15분간 유지하여 소성을 행하였다.The paste obtained as described above was applied to a 25 cm × 25 cm sized soda glass substrate by screen printing to form a coating film. The thickness after drying the coating film at 80 degreeC for 40 minutes was 4.5 micrometers. It baked at the speed | rate of 250 degreeC / hour, hold | maintained at the maximum temperature of 540 degreeC for 15 minutes, and baked.

얻어진 흑색막은 두께가 2.4㎛이고, 미놀타(Minolta)제 CR200 형 분광광도계로 측정된 명도지수 L이 12인 흑색이었다. 또한, 유리 기판에서 황색 등의 변색은 관찰되지 않았다.The obtained black film was 2.4 micrometers in thickness, and was black with the brightness index L of 12 measured by the Minolta CR200 type spectrophotometer. Moreover, discoloration, such as yellow, was not observed in the glass substrate.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1에서, 루테늄 다산화물 미분말로서 평균 입경 0.06 ㎛ 및 비표면적 12 m2/g의 Co2Ru2O6분말을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 수행하였으며, 소성 후에 얻어진 흑색막은 두께가 2.3㎛이고, 명도지수 L이 15인 흑색이었으며, 유리 기판에서 황변 현상이 관찰되지 않았다.In Example 1, except that Co 2 Ru 2 O 6 powder having an average particle diameter of 0.06 ㎛ and a specific surface area of 12 m 2 / g as a ruthenium multi-oxide fine powder was carried out in the same manner, the black film obtained after firing has a thickness It was 2.3 micrometers, and was black with a brightness index L of 15, and the yellowing phenomenon was not observed in the glass substrate.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1에서, 루테늄 다산화물 미분말로서 평균입경 0.03 ㎛ 및 비표면적 15 m2/g의 PbBiRu2O6.5분말을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 수행하였으며, 소성 후에 얻어진 흑색막은 두께가 2.8㎛이고, 명도지수 L이 10인 흑색이었으며, 유리 기판에서 황변 현상이 관찰되지 않았다.In Example 1, except that PbBiRu 2 O 6.5 powder having an average particle diameter of 0.03 μm and a specific surface area of 15 m 2 / g was used as the ruthenium multioxide fine powder, the black film obtained after firing had a thickness of 2.8 μm. , The light index L was 10, and yellowing was not observed on the glass substrate.

실시예 4Example 4

상기 실시예 1에서, 루테늄 다산화물 미분말로서 평균입경 0.02 ㎛ 및 비표면적 35 m2/g의 RuO2분말을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 수행하였으며, 소성 후에 얻어진 흑색막은 두께가 2.8㎛이고, 명도지수 L이 17인 흑색이었으며, 유리 기판에서 황변 현상이 관찰되지 않았다.In Example 1, ruthenium multi-oxide fine powder was carried out in the same manner, except that RuO 2 powder having an average particle diameter of 0.02 ㎛ and a specific surface area of 35 m 2 / g, the black film obtained after firing has a thickness of 2.8 ㎛, It was black with a brightness index L of 17 and no yellowing was observed on the glass substrate.

실시예 5Example 5

상기 실시예 1에서, 루테늄 다산화물 미분말로서 평균입경 0.04 ㎛ 및 비표면적 14 m2/g의 CuxBi2-xRu2O7(x=0.5) 분말을 사용하고, 이 흑색 미분말 15 중량부와 유리 프릿 B 85 중량부를 혼합사용하는 것을 제외하고는 동일하게 수행하였다. 이때, 유리 프릿 B는 PbO 73 중량%, SiO214 중량%, B2O37 중량%, ZnO 3 중량% 및 Al2O33 중량%로 구성되고 평균 입경이 1.1 ㎛이고, 최대 크기가 3.8 ㎛이며 연화점이 435 ℃이고 열팽창계수가 80 ×10-7/K이었다.In Example 1, as the ruthenium polyoxide fine powder, Cu x Bi 2-x Ru 2 O 7 (x = 0.5) powder having an average particle diameter of 0.04 µm and a specific surface area of 14 m 2 / g was used, and this black fine powder was 15 parts by weight. The same process was conducted except that 85 parts by weight of glass frit B was mixed with the mixture. At this time, the glass frit B is composed of 73% by weight of PbO, 14% by weight of SiO 2 , 7% by weight of B 2 O 3 , 3% by weight of ZnO and 3% by weight of Al 2 O 3 and has an average particle diameter of 1.1 ㎛, the maximum size It had a softening point of 3.8 占 폚 and a coefficient of thermal expansion of 80 x 10 -7 / K.

소성 후에 얻어진 흑색막은 두께가 2.6㎛이고, 명도지수 L이 13인 흑색이었으며, 유리 기판에서 황변 현상이 관찰되지 않았다.The black film obtained after baking was 2.6 micrometers in thickness, and was black with a brightness index L of 13, and the yellowing phenomenon was not observed in the glass substrate.

실시예 6Example 6

루테늄 다산화물 미분말로서, 평균입경 0.1 ㎛ 및 비표면적 11 m2/g의 Bi2Ru2O7분말 70 중량부와 평균입경 0.6 ㎛ 및 최대 크기 2.3 ㎛의 Bi2Ru2O7분말 30 중량부의 혼합물을 사용하였다. 상기 루테늄 다산화물 혼합 분말 25 중량부, 복합 유리 프릿 40 중량부 및 도전성 분말로서의 Ag 분말 35 중량부를 균일하게 혼합하였다. 이때, 상기 복합 유리 프릿은 Bi2O368 중량%, PbO 11 중량%, SiO23.5 중량%, B2O313.5 중량%, BaO 2.5 중량% 및 Al2O31.5 중량%로 구성되고 평균 입경이 1.0 ㎛이고, 최대 크기가 3.6 ㎛이며 연화점이 450 ℃이고 열팽창계수가 80 ×10-7/K 였으며, 도전성 Ag 분말은 평균 입경이 1.8 ㎛이고, 비표면적이 2.4 m2/g이고,밀도가 3.6 g/cm3인 구상 분말이었다.Ruthenium multi-oxide fine powder, 70 parts by weight of Bi 2 Ru 2 O 7 powder having an average particle diameter of 0.1 ㎛ and specific surface area of 11 m 2 / g and 30 parts by weight of Bi 2 Ru 2 O 7 powder having an average particle diameter of 0.6 ㎛ and a maximum size of 2.3 ㎛ A mixture was used. 25 parts by weight of the ruthenium multioxide mixed powder, 40 parts by weight of the composite glass frit, and 35 parts by weight of Ag powder as the conductive powder were uniformly mixed. In this case, the composite glass frit is composed of 68% by weight of Bi 2 O 3 , 11% by weight of PbO, 3.5% by weight of SiO 2 , 13.5% by weight of B 2 O 3 , 2.5% by weight of BaO and 1.5% by weight of Al 2 O 3 The particle size was 1.0 μm, the maximum size was 3.6 μm, the softening point was 450 ° C., the thermal expansion coefficient was 80 × 10 −7 / K, the conductive Ag powder had an average particle diameter of 1.8 μm, a specific surface area of 2.4 m 2 / g, It was a spherical powder with a density of 3.6 g / cm 3 .

이어서, 상기 혼합 분말을 볼밀에서 분쇄 혼합하고 건조하여 순흑색의 분말을 수득하였다. 이 분말 90 중량부와 유기 성분으로서의 폴리비닐부티랄 10 중량부를 유기 용매로서의 테레비네올에 가하여 점도를 조정한 후, 3축 롤로 혼련하여 흑색 페이스트를 제조하였다.Subsequently, the mixed powder was pulverized and mixed in a ball mill and dried to obtain a pure black powder. 90 parts by weight of this powder and 10 parts by weight of polyvinyl butyral as an organic component were added to terebinol as an organic solvent to adjust the viscosity, and then kneaded with a triaxial roll to prepare a black paste.

상기와 같이 얻어진 페이스트를 25 cm × 25 cm 크기의 소다 유리 기판에 스크린 인쇄법으로 도포하여 도막을 형성하였다. 도막을 80 ℃에서 40분간 건조한 후의 두께는 4.0㎛였다. 250 ℃/시간의 속도로 승온하고 최고온도 540 ℃에서 15분간 유지하여 소성을 행하였다.The paste obtained as described above was applied to a 25 cm × 25 cm sized soda glass substrate by screen printing to form a coating film. The thickness after drying the coating film at 80 degreeC for 40 minutes was 4.0 micrometers. It baked at the speed | rate of 250 degreeC / hour, hold | maintained at the maximum temperature of 540 degreeC for 15 minutes, and baked.

얻어진 흑색막은 두께가 2.5㎛이고, 명도지수 L이 16인 흑색이었으며, 유리 기판에서 황변 현상이 관찰되지 않았다.The obtained black film was 2.5 micrometers in thickness, and was black with a brightness index L of 16, and the yellowing phenomenon was not observed in the glass substrate.

실시예 7Example 7

상기 실시예 1에서, 유리프릿 A 대신 실시예 5에 기재한 바와 같은 유리프릿 B를 사용하고, 이 분말 60 중량부와 하기 표 4에 기재된 조성의 감광성 유기 성분 40 중량부를 유기 용매로서의 텍사놀(2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올모노이소부티레이트)에 가하여 용해함을 제외하고는 실시예 1과 유사하게 실시하여 본 발명의 감광성 흑색 페이스트 조성물을 제조하였다.In Example 1, glass frit B as described in Example 5 was used instead of glass frit A, and 60 parts by weight of the powder and 40 parts by weight of the photosensitive organic component having the composition shown in Table 4 as texanol ( 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive black paste composition of the present invention was prepared.

구성 성분Component 사용량(중량%)Usage (% by weight) 폴리머:n-부틸메타크릴레이트 60몰%, 2-히드록시프로필메타크릴레이트 10몰% 및 메타크릴산 30 몰%로 이루어진 공중합체에 글리시딜 메타크릴레이트를 10몰% 부가한 폴리머(분자량 50,000, Tg50℃, 산가 100)Polymer: A polymer obtained by adding 10 mol% of glycidyl methacrylate to a copolymer composed of 60 mol% of n-butyl methacrylate, 10 mol% of 2-hydroxypropyl methacrylate and 30 mol% of methacrylic acid (molecular weight 50,000, T g 50 ° C, acid value 100) 88 모노머:펜타에리스리톨 트리/테트라아크릴레이트Monomer: Pentaerythritol tri / tetraacrylate 44 광중합 개시제:티바·스페셜리티·케미칼즈(주)의 Irgacure 369Photopolymerization initiator: Irgacure 369 of Tiba specialty chemicals 1.61.6

상기와 같이 얻어진 감광성 흑색 페이스트를 100 mm × 100 mm 크기의 소다 유리 기판에 스크린 인쇄법으로 도포하여 도막을 형성하였다. 도막을 90 ℃에서 30분간 건조한 후의 두께는 8 ㎛ 였다.The photosensitive black paste obtained as described above was applied to a soda glass substrate having a size of 100 mm × 100 mm by screen printing to form a coating film. The thickness after drying a coating film at 90 degreeC for 30 minutes was 8 micrometers.

상기 도막에 밀착되게 네가 패턴 마스크(스트라이프 형태의 패턴, 선폭 80 ㎛, 피취 230 ㎛)를 붙이고 자외선(광원:초고압 수은 램프)을 조사(400 mJ/cm2)하여 노광시켰다. 이어서, 30 ℃의 0.5% 탄산 나트륨 수용액을 분무하여 현상하여 노광된 부분을 제거하였다. 그 후 순수한 물을 분무하여 현상액을 세정한 후 80 ℃에서 20분간 건조하였다. 이어서, 200 ℃/시간의 속도로 승온하고 최고온도 540 ℃에서 30분간 유지하여 소성을 행하였다.A negative pattern mask (stripe-shaped pattern, a line width of 80 μm, a pitch of 230 μm) was attached to the coating film and exposed to ultraviolet rays (a light source: an ultrahigh pressure mercury lamp) by irradiation (400 mJ / cm 2 ). Subsequently, an aqueous solution of 0.5% sodium carbonate at 30 ° C. was sprayed and developed to remove the exposed portion. Thereafter, pure water was sprayed to wash the developer, and then dried at 80 ° C. for 20 minutes. Subsequently, it heated up at the speed | rate of 200 degreeC / hour, hold | maintained at the maximum temperature of 540 degreeC for 30 minutes, and baked.

얻어진 흑색막은 두께가 3.3㎛이고 명도지수 L이 17인 직사각형 형상의 막으로, 단부 박리나 에지 컬 없이 기판에 견고하게 접착되어 있었다.The obtained black film was a rectangular film having a thickness of 3.3 mu m and a brightness index L of 17, and was firmly adhered to the substrate without end peeling or edge curl.

실시예 8Example 8

실시예 7과 동일하게 실시하여 감광성 흑색 페이스트를 제조하고, 실시예 7에 기재한 바와 동일한 감광성 성분 35 중량부와 평균 입경 1.8 ㎛, 비표면적 2.4 m2/g 및 밀도 3.6 g/cm3인 도전성 Ag 구상 분말 65 중량부를 유기 용매로서의 3-메톡시부틸아세테이트에 가하여 용해하고 3축 롤러로 혼련하여 감광성 도전 페이스트를 제조하였다.A photosensitive black paste was prepared in the same manner as in Example 7, and 35 parts by weight of the same photosensitive component as described in Example 7, an average particle size of 1.8 mu m, a specific surface area of 2.4 m 2 / g, and a density of 3.6 g / cm 3 were used. 65 weight part of Ag spherical powder was added to 3-methoxybutyl acetate as an organic solvent, and it melt | dissolved and knead | mixed with the triaxial roller to produce the photosensitive electrically conductive paste.

상기 감광성 흑색 페이스트를 100 mm × 100 mm 크기의 소다 유리 기판에 스크린 인쇄법으로 도포한 후 90 ℃에서 20분간 건조하여 두께 3.5 ㎛의 도막 A를 형성하였다. 상기 도막 A의 위에 상기 감광성 도전 페이스트를 동일한 방식으로 도포하여 건조 두께 4.0 ㎛의 도막 B를 형성하였다.The photosensitive black paste was applied to a soda glass substrate having a size of 100 mm × 100 mm by screen printing, and dried at 90 ° C. for 20 minutes to form a coating film A having a thickness of 3.5 μm. The photosensitive conductive paste was applied on the coating film A in the same manner to form a coating film B having a dry thickness of 4.0 μm.

상기 도막 B에 밀착되게 네가 패턴 마스크(스트라이프 형태의 패턴, 선폭 80 ㎛, 피취 230 ㎛)를 붙이고 자외선(광원:초고압 수은 램프)을 조사(600 mJ/cm2)하여 노광시켰다. 이어서, 30 ℃의 0.5% 탄산 나트륨 수용액을 분무하여 현상하여 노광된 부분을 제거하였다. 그 후 순수한 물을 분무하여 현상액을 세정한 후 80 ℃에서 20분간 건조하였다. 이어서, 200 ℃/시간의 속도로 승온하고 최고온도 540 ℃에서 30분간 유지하여 소성을 행하였다.A negative pattern mask (stripe-shaped pattern, a line width of 80 μm, a pitch of 230 μm) was attached to the coating film B and exposed to ultraviolet light (a light source: an ultrahigh pressure mercury lamp) by irradiation (600 mJ / cm 2 ). Subsequently, an aqueous solution of 0.5% sodium carbonate at 30 ° C. was sprayed and developed to remove the exposed portion. Thereafter, pure water was sprayed to wash the developer, and then dried at 80 ° C. for 20 minutes. Subsequently, it heated up at the speed | rate of 200 degreeC / hour, hold | maintained at the maximum temperature of 540 degreeC for 30 minutes, and baked.

이와 같이 하여 얻어진 전극은 흑색 하부의 두께가 2.5㎛이고 백색 상부의 두께가 2.3 ㎛로 전극 전체의 두께가 4.8 ㎛였다. 또한, 상기 2층 막의 단면은 거의 직사각형으로, 단부 박리 없이 유리 기판에 견고하게 접착되어 있었다. 하부의 흑색막은 명도지수 L이 15인 흑색을 띄었으며, 유리 기판에는 은에 의한 황변 현상이 관찰되지 않았다.The electrode thus obtained had a thickness of black bottom portion of 2.5 mu m, a thickness of white top portion of 2.3 mu m, and a thickness of the whole electrode of 4.8 mu m. In addition, the cross section of the two-layer film was almost rectangular, and was firmly adhered to the glass substrate without end peeling. The lower black film was black with a brightness index of 15, and no yellowing by silver was observed on the glass substrate.

본 발명에 따르는 흑색 페이스트는, 루테늄 다산화물 미분말 및 유리 프릿을 함유하여 비교적 저온에서도 소성될 수 있고 기판에 대한 접착 강도가 높고 저 저항치를 가지며 흑색도가 높은 박막 패턴을 제공할 수 있다.The black paste according to the present invention contains a ruthenium multioxide fine powder and a glass frit, which can be fired even at a relatively low temperature, and can provide a thin film pattern having high adhesion strength to a substrate, low resistance and high blackness.

Claims (10)

비표면적 5 내지 40 m2/g 범위의 루테늄계 다산화물 미분말 15 내지 25 중량부, 평균입경 0.2 내지 2 ㎛ 범위 및 최대 크기 5 ㎛ 이하의 유리 프릿(glass frit) 40 내지 85 중량부 및 셀룰로즈 유도체, 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 폴리비닐알콜 및 폴리비닐부티랄로 구성된 군중에서 1종 이상이 선택된 유기 비히클 8 내지 40 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 흑색 페이스트 조성물.15 to 25 parts by weight of ruthenium-based polyoxide fine powders with a specific surface area of 5 to 40 m 2 / g, 40 to 85 parts by weight of glass frit with an average particle diameter of 0.2 to 2 μm and a maximum size of 5 μm or less and cellulose derivatives And 8 to 40 parts by weight of an organic vehicle selected from the group consisting of acrylic acid ester, methacrylic acid ester, polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 루테늄계 다산화물 미분말이 RuO2, GdBiRu2O7, Pb2Ru2O6, Co2Ru2O6, PbBiRu2O6.5, CuxBi2-xRu2O7(x=0-1) 및 Bi2Ru2O7로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.Ruthenium-based polyoxide powders include RuO 2 , GdBiRu 2 O 7 , Pb 2 Ru 2 O 6 , Co 2 Ru 2 O 6 , PbBiRu 2 O 6.5 , Cu x Bi 2-x Ru 2 O 7 (x = 0-1) And Bi 2 Ru 2 O 7 A composition comprising one or more selected from the group consisting of. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 루테늄계 다산화물 미분말이 평균입경이 0.01 내지 0.1 ㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.Ruthenium-based fine oxide powder is characterized in that the average particle diameter ranges from 0.01 to 0.1 ㎛. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 유리 프릿이, 산화물 환산 표기로 나타낼 때, Bi2O340 내지 90 중량부, SiO25 내지 30 중량부, B2O35 내지 30 중량부 및 BaO 2 내지 40 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.When the glass frit is expressed in terms of oxide, 40 to 90 parts by weight of Bi 2 O 3 , 5 to 30 parts by weight of SiO 2, 5 to 30 parts by weight of B 2 O 3 , and BaO 2 to 40 parts by weight, Composition. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 유리 프릿이, 산화물 환산 표기로 나타낼 때, PbO 40 내지 90 중량부, SiO210 내지 40 중량부, B2O35 내지 30 중량부, ZnO 0 내지 10 중량부 및 Al2O30 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.When the glass frit is expressed in terms of oxide, 40 to 90 parts by weight of PbO, 10 to 40 parts by weight of SiO 2 , 5 to 30 parts by weight of B 2 O 3 , 0 to 10 parts by weight of ZnO and 0 to 20 parts of Al 2 O 3 A composition comprising a weight part. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 유리 프릿이, 산화물 환산 표기로 나타낼 때, Bi2O340 내지 90 중량부, PbO 40 내지 90 중량부, SiO25 내지 30 중량부, B2O35 내지 30 중량부, ZnO 0 내지 10 중량부 및 Al2O30 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.When the glass frit is expressed in terms of oxide, 40 to 90 parts by weight of Bi 2 O 3, 40 to 90 parts by weight of PbO, 5 to 30 parts by weight of SiO 2, 5 to 30 parts by weight of B 2 O 3 , and ZnO 0 to 10 Composition by weight and Al 2 O 3 0 to 20 parts by weight. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 루테늄 다산화물 미분말, 유리 프릿 및 유기 비히클의 총량에 대해 5 내지 30 중량% 범위의 양의 도전성 분말을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.And further comprising an electrically conductive powder in an amount ranging from 5 to 30% by weight relative to the total amount of the ruthenium multioxide fine powder, glass frit and organic vehicle. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도전성 분말이 Ag, Au, Pd, Ni 및 Pt로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 조성물.The conductive powder is a composition characterized in that at least one selected from the group consisting of Ag, Au, Pd, Ni and Pt. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 도전성 분말이 평균 입경 0.8 내지 4 ㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.The composition characterized in that the conductive powder has an average particle diameter in the range of 0.8 to 4 μm. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 감광성 수지 및 광중합 개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.A composition comprising a photosensitive resin and a photopolymerization initiator.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100683669B1 (en) 2004-03-08 2007-02-15 삼성에스디아이 주식회사 Plasma display panel
US7678296B2 (en) * 2006-05-04 2010-03-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0959544A (en) * 1995-06-12 1997-03-04 Toray Ind Inc Photosensitive paste
JPH10182185A (en) * 1996-11-07 1998-07-07 Toray Ind Inc Photosensitive glass paste
JP2000119038A (en) * 1998-10-12 2000-04-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Material for plasma display panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0959544A (en) * 1995-06-12 1997-03-04 Toray Ind Inc Photosensitive paste
JPH10182185A (en) * 1996-11-07 1998-07-07 Toray Ind Inc Photosensitive glass paste
JP2000119038A (en) * 1998-10-12 2000-04-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Material for plasma display panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7381353B2 (en) * 2005-03-09 2008-06-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Black conductive thick film compositions, black electrodes, and methods of forming thereof

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