KR100369207B1 - 광 픽업 장치 - Google Patents

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Abstract

광 픽업 장치에서, 대물 렌즈(1)의 개구수(NA)는 0.7 이상으로 설정되고, 대물 렌즈(1)에 입사되는 광 비임의 편광의 타원율은 (1.4×NA)-0.7 보다 더 크게 되도록 설정되어 있다. 이러한 구성에 따르면, 예를 들어 비임 스폿의 타원형 변형으로 인해 발생하는 지터 및 크로스토크 특성의 악화를 방지할 수 있는 광 픽업 장치가 제공될 수 있다.

Description

광 픽업 장치{OPTICAL PICKUP DEVICE}
본 발명은 광학적 정보 기록 매체에 대해 정보를 기록 및 재생하기 위해 높은 NA(Numerical Aperture; 개구수)의 대물 렌즈를 구비한 광 픽업 장치에 관한 것이다.
빛을 이용한 기술은, 예를 들어 고주파수의 고속 처리, 공간 정보 처리 및 위상 처리가 가능한 등의 많은 특징을 갖고 있기 때문에, 통신, 계측 및 가공 등의 다방면에 걸친 분야에서 연구, 개발 및 실용화가 행해지고 있다.
이 기술들 중에서, 광 비임을 축소하기 위해서 고정밀도의 대물 렌즈가 이용되고 있다.
최근에는, 특히 빛을 이용하는 화상 기록 장치에 대한 기대가 높아지고 있으며, 대용량화(mass storage capacity)를 향한 기술이 중요시되고 있다. 광 정보 기록의 대용량화를 위해서는, 기록 매체의 개량이 중요할 뿐만 아니라 비임 스폿의 소직경화, 즉 대물 렌즈에 의한 비임 스폿의 충분한 축소가 필수적이다.
잘 알려져 있는 바와 같이, 비임 스폿의 반경은 빛의 파장에 비례하고, 대물 렌즈의 NA에 반비례한다. 파장에 대해서는, 최근에 청색 레이저 다이오드나 청색 또는 녹색 SHG 레이저가 개발되고 있다. 대물 렌즈의 고NA화에 대해서는, CD(콤팩트 디스크)의 NA 0.45에 비해 DVD(디지털 비디오 디스크)에서는 NA 0.6으로 하여 고밀도화를 달성하여 왔다. 그러나, 2개의 비구면을 갖는 단일 렌즈로는 이 이상의 NA를 얻기가 제조의 관점에서 곤란하였다. 따라서, 2군 2매(two-group, two-element)의 대물 렌즈 시스템을 사용하여 고NA화를 달성하기 위한 광 픽업 장치가일본 특허 공개 평10-123410호 공보에 개시되어 있다.
도11은 일본 특허 공개 평10-123410호 공보에 개시된 2군 2매의 대물 렌즈를 도시하고 있다. 이 대물 렌즈(101)는 2개의 비구면을 가진 제1 렌즈(102)와 평볼록(plano-convex) 렌즈로서 볼록면이 구면 형상인 제2 렌즈(103)로 구성되고, NA가 0.85이다. 대물 렌즈(101)를 투과한 빛은 투명체(104)로 입사되어 화상점(105)에 비임 스폿을 형성한다.
그러나, 본원 발명자들은 고NA의 대물 렌즈를 갖는 광 픽업 장치에 있어서는, 입사광의 편광 상태로 인해 비임 스폿의 형상이 타원형으로 되어, 지터 및 크로스 토크 특성에 악영향을 초래한다는 것을 발견하였다.
본원 발명은 상기 과제를 해결하기 위해, 예를 들어 비임 스폿의 타원형 변형에 의한 지터 및 크로스토크 특성의 악화를 방지할 수 있는 광 픽업 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도1은 본 발명의 원리를 설명하는 광학계를 도시하는 도면.
도2는 대물 렌즈의 입사동(entrance pupil)과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 편광 방향(전계 벡터의 방향) 사이의 관계를 도시하는 도면.
도3은 광 비임의 대물 렌즈로부터의 출사 위치에서의 편광 방향과 대물 렌즈의 사출동(exit pupil) 사이의 관계를 z-y 평면에 도시한 도면.
도4는 광 비임의 대물 렌즈로부터의 출사 위치에서의 편광 방향과 대물 렌즈의 사출동 사이의 관계를 z-x 평면에 도시한 도면.
도5는 NA가 0.95인 경우에 비임 스폿의 타원형율(ovality)과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 타원 편광의 타원율(ellipticity) 사이의 관계를 도시하는 도면.
도6은 NA가 0.85인 경우에 비임 스폿의 타원형율과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 타원 편광의 타원율 사이의 관계를 도시하는 도면.
도7은 NA가 0.75인 경우에 비임 스폿의 타원형율과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 타원 편광의 타원율 사이의 관계를 도시하는 도면.
도8은 NA가 0.65인 경우에 비임 스폿의 타원형율과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 타원 편광의 타원율 사이의 관계를 도시하는 도면.
도9는 타원율을 설명하는 도면.
도10은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 픽업 장치의 구성을 도시하는 도면.
도11은 2군 2매의 대물 렌즈의 구성을 도시하는 도면.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 대물 렌즈
2 : 제1 렌즈
3 : 제2 렌즈
8 : 광 기록 매체
9 : LD(레이저 다이오드)
10 : 콜리메이터 렌즈
11 : 정형 프리즘
12 : 편광 비임 분할기
13 : 1/4λ 판
15 : 볼록 렌즈
16 : 수광부
17 : 입사동
19 : 사출동
20 : 편광 방향
21 : 결상면
본 발명에 따라 상기 목적을 달성하기 위한 광 픽업 장치는 광원으로부터의 광 비임을 대물 렌즈에 의해 집광하여 광 기록 매체에 조사한다. 광 픽업 장치에서, 대물 렌즈의 개구수(NA)는 0.7 이상이며, 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 편광의 타원율은 (1.4×NA)-O.7 보다 더 크게 되도록 설정되어 있다.
상기 조건을 충족하도록 대물 렌즈의 개구수 및 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 편광의 타원율을 설정함으로써, 지터 특성을 개선하고 크로스토크를 감소시키는 것이 가능하게 된다.
본 발명에 따른 광 픽업 장치의 양호한 실시예에서, 대물 렌즈에 입사되는 광 비임은 타원 편광이고, 타원의 장축 방향은 광 기록 매체의 트랙 폭 방향과 거의 평행하다.
따라서, 트랙 폭 방향의 비임 스폿 반경은 가능한 한 작게 설정될 수 있어서, 그 결과 지터 특성의 악영향이 억제될 수 있다.
본 발명에 따른 광 픽업 장치에서, 대물 렌즈는 동일한 광축상에 배치되는 2개의 렌즈로 이루어질 수 있다.
본 발명의 전술한 목적과 다른 목적, 특징, 태양 및 잇점이 첨부된 도면과 관련하여 취해진 본 발명의 후속의 상세한 설명으로부터 보다 명백해질 것이다.
이하, 본 발명의 실시예에 대한 설명에 앞서 본 발명의 원리를 설명한다.
도1은 본 발명의 원리를 설명하기 위한 광학계를 도시하고 있다. 도1의 광학계에서, 대물 렌즈(1)는 제1 렌즈(2)와 제2 렌즈(3)으로 구성되어 있다. 대물 렌즈(1)로의 입사광은 제1 렌즈(2)의 제1 표면(4)에 입사하여 제2 표면(5)으로부터 출사한다. 이 입사광은 제2 렌즈(3)의 제3 표면(6)에 입사하여 제4 표면(7)로부터 출사한다. 따라서, 입사광은 고NA의 비임으로서 광 기록 매체에 조사된다.
본 발명자들은 이러한 고NA의 비임을 출력하는 광학계(대물 렌즈)에 있어서, 대물 렌즈에 입사되는 빛의 편광 특성이 광 기록 매체 상에 형성되는 비임 스폿의 주계(周界; perimeters)를 타원형으로 변형시켜, 그 결과 지터 특성 등을 악화시키게 된다는 사실을 발견하였다.
다음에, 비임 스폿 주계가 타원형이 되는 이유에 대해 설명한다. 본 명세서에서는, 직선 편광이 대물 렌즈(1)에 입사되는 경우에 관해서 설명될 것이다.
도2는 대물 렌즈(1)의 입사동(17)과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 편광 방향(전계 벡터 방향)(18) 사이의 관계를 도시하고 있다. 이 도면에서는 광 비임의 진행 방향(z축)에 수직한 평면을 x-y 평면으로 하고, 광 비임은 y축 방향으로 직선 편광하고 있는 것으로 하고 있다.
도3은 도2에 도시된 광 비임의 대물 렌즈(1)로부터의 출사 위치에서의 편광 방향(20)과 대물 렌즈(1)의 사출동(19) 사이의 관계를 z-y 평면으로 도시하고 있다. 도4는 광 비임의 대물 렌즈(1)로부터의 출사 위치에서의 편광 방향(20)과 대물 렌즈(1)의 사출동(19) 사이의 관계를 z-x 평면으로 도시하고 있다. 여기에서, 도3과 도4의 도면 부호 21은 결상면(광 디스크면)을 나타낸다.
도3 및 도4에서 알 수 있는 바와 같이, z-x 평면에 있어서는 사출동(19)에서 출사한 광 비임의 편광 방향(20)이 결상면(21)에 평행한 반면(도4 참조), z-y 평면에 있어서는 편광 방향(20)이 결상면(21)에 대해 경사져 있다(도3 참조). 이와 같이 편광 방향(20)이 결상면(21)에 대해 경사지게 되면, 광 비임이 결상면(21)에 닿을 때, 전계의 결상면(21)으로의 사영(projection)이 서로 간섭하게 되고, 이에 의해 회절 패턴에 영향을 미치게 된다. 따라서, 보다 더 작은 비임 스폿을 만들 수 없게 된다.
따라서, 상술한 바와 같이 직선 편광의 광 비임이 대물 렌즈(1)에 입사될 경우, 비임 스폿 반경은 일 방향으로 증가된다. 즉, 비임 스폿은 타원형화된다.
이는 대물 렌즈(1)로의 입사광이 직선 편광인 경우 뿐만 아니라 타원 편광에도 마찬가지이다. 즉, 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 편광의 타원 장축 방향을 y축과 평행하게 하면, 결상면에 가해지는 전계 간섭의 영향은 x축 보다는 y축에서 더 크게 되고, y축 방향의 비임 스폿 반경은 x축 방향의 비임 스폿 반경 보다 더 커진다. 이하, 타원 편광의 경우에 대해 보다 상세히 설명한다.
도5 내지 도8은 대물 렌즈의 NA가 0.95, 0.85, 0.75 및 0.65인 경우에 있어서, 광 기록 매체면에서의 비임 스폿의 장반경에 대한 단반경의 비임 타원형율(단반경/장반경)과 대물 렌즈에 입사되는 광 비임의 타원 편광의 타원율 사이의 관계를 도시하고 있다. 여기서, 타원율은 (a/b)2[=(타원 단축/타원 장축)2]이고, 여기서 타원율 0은 직선 편광을 의미하고 타원율 1.0은 원형 편광을 의미한다. 또한, 비임 스폿 반경은 광 비임의 피크 강도의 적어도 1/e2배의 강도를 갖는 부분의 반경이다. 여기서, "e"는 자연 로그의 밑(base)(=2.718...)이다.
이들 도면들로부터 알 수 있는 바와 같이, 편광의 타원율이 보다 작은 값을 갖는 부분에서는 비임 스폿의 타원형율 값이 작아진다. 즉, 비임 스폿의 타원형 도가 높아진다. 타원율이 보다 큰 값을 갖는 부분에서는, 비임 스폿의 타원형율 값이 커진다. 즉, 비임 스폿의 타원형도가 낮아진다. 대물 렌즈의 NA가 커질수록, 비임 스폿의 타원형율 값은 더욱 작아진다. 즉, 타원형도가 더욱 높아진다. 다시 말하면, 결상면에 대한 입사각이 클수록 타원형도는 높아진다. 이는 도2 내지 도4에 도시된 바와 같이 편광 방향이 결상면(광 기록면)에 대해 큰 각도를 갖게되기 때문이다.
그런데, 광 기록 매체에 조사되는 비임 스폿의 타원형율 값이 0.9 보다 더 작아지면, 비임 스폿의 장반경 방향이 광 기록 매체의 트랙 방향과 평행할 경우, 지터 특성은 현저한 악영향을 미친다. 비임 스폿의 장반경 방향이 트랙 폭 방향과 평행할 경우에는, 지터와 크로스토크가 증가된다. 따라서, 비임 스폿의 타원형율 값은 0.9 보다 더 큰 것이 바람직하다. 이러한 점을 고려해보면, 도8에 도시된 바와 같이 NA가 0.65일 경우에는 그다지 큰 영향을 받지 않지만, 도5 내지 도7에 도시된 바와 같이 NA가 높을 경우(본 발명자들에 의한 검토에 따르면 NA≥0.7일 경우), 비임 스폿의 타원형율 값은 0.9 보다 더 작아져, 상술한 바와 같이 악영향을 받을 수도 있음을 알 수 있다.
비임 스폿의 타원형율을 0.9 이상으로 설정하는 조건을 도5 내지 도8을 토대로 검토할 경우, 다음과 같은 식이 얻어진다. 즉,
(편광의 타원율)>(1.4×NA)-0.7 ...(1)
로 된다. 이러한 조건이 만족된다면, 지터 특성을 개선하고 크로스토크를 감소시키는 것이 가능하게 된다. 이 식(1)의 조건은 상술한 바와 같이 도5 내지 도8을 토대로 구한 것이지만, 비임 스폿의 타원형율은 도2 내지 도4에서 도시된 바와 같이 편광 방향과 결상면 사이의 각도, 즉 NA에 의해서 결정된다. 따라서, 식(1)은 어떤 임의의 대물 렌즈에도 적용되는 조건이다.
비임 스폿의 장반경 방향, 즉 대물 렌즈에 타원 편광이 입사될 때의 타원의 장축 방향은 광 기록 매체 상에서는 트랙 폭 방향인 것이 바람직하다. 고밀도 기록 매체에서는, 트랙 방향(트랙 폭 방향에 수직한 방향)의 비임 스폿 반경을 가능한 한 작아지도록 설정함으로써, 지터 특성에 대한 악영향을 억제할 수 있다. 트랙 폭 방향으로의 비임 스폿의 확장은 크로스토크 등에 악영향을 미친다. 그러나, 이는 랜드/그루브 기록, 크로스 토크 캔슬 등의 방법에 의해서 방지될 수 있다.
이하, 광 픽업 장치의 구체적 구성에 관해서 설명한다.
도10은 본 발명의 광 픽업 장치의 구성을 도시하고 있다. 도면에서, 대물 렌즈(1)는 도1에 도시된 것과 유사한 구성으로 되어 있다.
광원으로서의 LD(9; 레이저 다이오드)로부터 방출되는 635㎚의 파장을 갖는 레이저 비임(직선 편광)은, 콜리메이터 렌즈(10)에 의해 평행 광속으로 된 후, 정형 프리즘(11)에 의해 트랙 폭 방향으로 광속을 확대하여 정형되고, 편광 비임 분할기(12), 1/4λ 판(13)을 통하여 대물 렌즈(1)의 제1 렌즈(2)의 제1 면(4)에 입사된다. 대물 렌즈(1)를 투과한 광속은 광 기록 매체(8)의 신호 기록 면상에 비임 스폿을 형성한다. 광 기록 매체(8)상에서 반사된 빛은 상술한 경로를 되돌아 가서, 편광 비임 분할기(12)상에서 반사하여, 수광부(16)에서 RF(Radio Frequency; 라디오 주파수) 신호, RES(Radial Error Signal; 레이디얼 에러 신호) 및 FES(Focus Error Signal; 포커스 에러 신호)를 검출한다. 여기서, 도면 부호 15는 볼록 렌즈를 나타낸다.
여기에서 이용된 대물 렌즈(1)의 구성은 아래의 표1에서 도시된 바와 같다.
여기에서 이용된 대물 렌즈(1)의 NA는 표1의 하부 열에 기재된 바와 같이 0.85이고, 제1 렌즈(2)는 2개의 비구면을 갖고, 제2 렌즈(3)는 평볼록 렌즈로 그 볼록면은 비구면으로 되어 있다. 여기서, 비구면 계수는,
Z=(1/r)y2/{1+(1-(1+K)(1/r)2y2)1/2}+Ay4+By6+Cy8+Dy10+Ey12+Fy14+Gy16
로 나타낸다. 여기서, Z는 광축으로부터의 높이 y에서의 비구면상의 점과 비구면 정점 사이의 광축 방향의 거리, y는 광축으로부터의 높이, r은 비구면 정점의 곡률 반경이고, K는 원추 정수, A, B, C, D, E, F, G는 비구면 계수이다.
대물 렌즈(1)에 입사되는 빛은 타원 편광이고, 그 타원율은 0.8이었다. 타원 장축 방향에서, 타원 편광은 광 기록 매체 상의 트랙 폭 방향으로 형성되었다. 이 광학계에서, 광 기록 매체 상에 형성되는 비임 스폿은 타원형으로 되어 있고, 타원형율(단축/장축)은 0.97이었다.
이와 같이, 상술한 조건[식(1)]을 만족시키도록 대물 렌즈(1)를 포함하는 광학계를 설계 및 배치함으로써, 광 기록 매체에 조사되는 비임 스폿의 타원형율은 0.9 이상으로 될 수 있고, 지터 특성 등을 개량할 수 있다.
본 발명이 상세하게 설명 및 도시되었지만, 이는 단지 예시 및 설명을 위한 것일 뿐 제한을 위해 취해진 것이 아니며, 본 발명의 정신 및 범주는 단지 후속의 특허 청구 범위에 의해서만 제한될 뿐임을 명백히 이해할 수 있을 것이다.
본 발명에 따르면, 광기록 매체의 비임 스폿의 형상을 양호하게 하여, 비임 스폿의 타원형 변형으로 인한 지터 및 크로스토크 특성의 악화를 방지할 수 있고, 보다 고밀도의 광기록이 가능하게 된다.

Claims (5)

  1. 광원으로부터 나오는 광 비임을 대물 렌즈에 의해 집광하여 광 기록 매체에 조사하는 광 픽업 장치에 있어서,
    상기 대물 렌즈(1)의 개구수(NA)는 0.7 이상이고,
    상기 대물 렌즈(1)에 입사되는 광 비임의 편광의 타원율은 (1.4×NA)-0.7 보다 더 크게 되도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 대물 렌즈(1)에 입사되는 광 비임은 타원 편광이고, 이 타원의 장축 방향은 상기 광 기록 매체(16)의 트랙 폭 방향과 대체로 평행한 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 대물 렌즈(1)는 동일한 광축상에 배치되는 2개의 렌즈(2, 3)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 렌즈(2, 3)는 2개의 비구면을 갖는 제1 렌즈(2)와 평 볼록 렌즈로 그 볼록면이 비구면인 제2 렌즈(3)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치.
  5. 제2항에 있어서, 1/4 파장판이 상기 대물 렌즈의 광입사면 측에 배치되어 대물 렌즈에 입사되는 빛을 타원형으로 편광시키는 것을 특징으로 하는 광 픽업 장치.
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