KR100340411B1 - 양극이 처리된 유기발광소자 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 유기발광소자 제조방법에서는 양극인 ITO(Indium Tin Oxide)의 표면을 SF₆플라즈마로 처리하여 균일한 표면을 형성함과 동시에 일함수를 증가시킨다. 일함수의 증가는 발광층내로의 정공의 주입을 촉진하여 유기발광소자의 효율을 향상시킨다. SF₆플라즈마의 출력은 70W도 가능하지만, 30W의 출력이 더욱 바람직하다.

Description

양극이 처리된 유기발광소자 제조방법{A METHOD OF FABRICATING AN ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE HAVING PROCESSED ANODE}

본 발명은 유기발광소자에 관한 것으로, 특히 양극인 ITO의 표면을 SF₆플라즈마로 처리하여 양극의 표면을 균일하게 형성하고 일함수를 증가시킴으로써 발광층 내로의 정공을 주입을 촉진하여 소자의 효율을 향상시킬 수 있는 양극의 표면이 처리된 유기발광소자 제조방법에 관한 것이다.

근래, 공액고분자(conjugated polymer)의 하나인 폴리(p-페닐린비닐린)(PPV)을 이용한 유기발광소자가 개발된 이래 전도성을 지닌 공액고분자와 같은 유기물에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 유기물을 박막트랜지스터(thin film transistor), 센서, 레이저, 광전소자 등에 응용하기 위한 연구도 계속 진행되고 있으며, 그중에서도 유기발광소자에 대한 연구가 가장 활발하게 진행되고 있다.

인광물질(phosphors) 계통의 무기물로 이루어진 전계발광소자의 경우 작동전압이 교류 200V 이상 필요하고 소자의 제작공정이 진공증착으로 이루어지기 때문에 대형화가 어렵고 특히 청색발광이 어려울 뿐만 아니라 제조비용이 높다는 단점이 있다. 그러나, 유기물로 이루어진 발광소자는 뛰어난 발광효율, 대면적화의 용이화, 공정의 간편성, 특히 청색발광을 용이하게 얻을 수 있다는 장점과 함께 휠 수있는 발광소자의 개발이 가능하다는 점 등에 의하여 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.

도 1은 일반적인 유기발광소자를 나타내며, 도 2는 상기 유기발광소자의 밴드다이어그램(band diagram)이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 유기발광소자는 일함수(work function)가 높은 금속전극과 낮은 금속전극 사이에 발광물질이 삽입되는 구조로 되어 있다. 일함수가 높은 금속전극은 정공을 주입하는 양극(anode;3)으로 사용되고 낮은 금속전극은 전자를 주입하는 음극(cathode;7)으로 사용된다.

발광된 빛이 발광소자 외부로 발산되게 하기 위하여 기판과 한쪽 전극은 발광파장영역에서 빛의 흡수가 거의 없는 투명한 물질을 사용한다. 투명전극으로는 ITO(Indium Tin Oxide)가 가장 많이 사용되며, 이 금속은 통상 정공이 주입되는 양극(3)으로 사용된다. 음극(7)으로는 전자의 주입을 용이하게 하기 위해 일반적으로 일함수가 낮은 금속을 사용한다.

유기발광소자의 발광의 원리는 다음과 같다. 일함수가 높은 양극(3)과 낮은 음극(7)에서 각각 정공과 전자가 발광층(5)에 주입되면, 상기 발광층(5) 내에 엑시톤(exciton)이 생성되며, 이 엑시톤이 발광, 소멸(decay)함에 따라 도 2에 도시된 발광층(15)의 LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)와 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)의 에너지 차이에 해당하는 빛이 발생하게 된다.

현재, 유기발광소자의 연구는 주로 소자의 효율(efficiency) 및 수명의 향상에 집중되어 있다. 유기발광물질과 전극 사이의 계면상에서의 전하주입(charge injection) 특성이 발광소자의 양자효율(quantum efficiency) 및 작동전압에 가장큰 영향을 주며, 수명에도 중대한 역할을 하기 때문에, 유기발광소자에 대한 연구는 주로 계면특성을 향상시키는데 집중되고 있다.

소자의 효율을 향상시키기 위해서는 발광층내로의 전자 및 정공의 주입이 충분히 이루어지며 주입되는 전자 및 정공이 균형을 이루어야만 한다. 이상적인 발광소자는 전극금속의 페르미준위(Fermi level)와 발광물질의 HOMO 및 LUMO준위가 일치해야만 한다.

현재까지 소자의 효율을 향상시키기 위한 여러가지 방법이 시도되고 있지만, 이중에서도 양극인 ITO의 표면을 처리하여 소자의 효율을 향상시키는 방법이 그 공정상의 간단함 때문에 각광을 받고 있다.

ITO는 투명한 전도성 산화물 박막으로 높은 투명도와 낮은 면저항 및 패턴형성의 용이성이라는 장점때문에 유기발광소자 뿐만 아니라 액정표시소자(LCD)나 태양전지 등의 여러 분야에 응용되고 있다. 그러나, ITO는 비화학량론적 화합물(nonstoichiometric compound)이기 때문에 증착방법, 증착후 고정 또는 세척방법에 따라 특성상의 변화가 심하다는 문제점이 있다.

일반적으로 유기발광소자의 성능에 영향을 미치는 ITO의 물리화학적 특성은 일함수와 표면의 거칠기이다. 상술한 바와 같이, ITO의 일함수가 증가하면 정공주입의 에너지장벽이 작아져서 소자내로의 정공주입이 향상되는데, 이러한 ITO의 일함수는 표면의 화학적 조성에 따라 변화하게 된다. 한편, 표면의 거칠기는 유기물막의 균일한 정도와 전계의 분포에 영향을 미친다.

유기발광소자에 적합한 ITO의 세척 및 표면처리방법을 찾기 위한 여러가지방법이 현재 시도되고 있지만 아직 완전한 방법을 찾고 있지는 못한 실정이다. 현재 사용되고 있는 이러한 방법으로는 초음파(ultrasonification)세척, 자외선-오존 세척(UV-ozone cleaning), 러빙(rubbing), 열처리, 플라즈마처리 등이 있다. 이중에서도 플라즈마처리, 특히 산소 플라즈마처리는 소자의 효율을 향상시키고 수명을 증가시키는 결과를 가져온다(C.C.Wu et al., Applied Physics Letter, 70, 1348,1997). 산소 플라즈마처리에 의하여 ITO의 일함수가 증가되고 경우에 따라 표면거칠기가 약간 감소하거나 면저항이 증가하는 결과가 보고되었다(S.Fujita et al, Japanese Journal of Applied Physics, 36, 350, 1997/J.S.Kim et al, Journal of Applied Physics, 84, 6859, 1995). 따라서, 일함수의 증가에 의한 정공주입의 향상, 표면의 오염물질 제거에 의한 성능의 향상을 기대할 수 있게 된다.

한편, 불소를 산화주석에 도핑시킨 FTO(Fluorine Tin Oxide)를 양극으로 사용된 유기발광소자가 연구되었다(A.Anderson et. at., Advanced Materials, 10, 859, 1998). 스프레이방법 또는 CVD법에 의하여 제작되는 FTO를 ITO 대신 사용한 결과, ITO와는 달리 FTO의 경우 세척방법에 따라 특성이 변하지 않으며, 구동전압이 낮아져 동일한 전압에서 더 많은 전류가 흐르게 된다. 그러나, 상기한 FTO를 사용하는 경우에도 ITO를 사용하는 장점들, 즉 높은 투명도와 낮은 면저항 및 패턴형성의 용이함이라는 장점을 보유할 수 없는 문제가 있었다.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 양극인 ITO의 표면을 SF₆플라즈마로 처리하여 일함수를 증가시킴으로써 유기발광소자의 효율을 향상시킬 수있는 양극이 처리된 유기발광소자 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적은 유기발광소자의 ITO 표면을 SF₆플라즈마처리함으로써 표면의 균일하게 형성될 수 있는 유기발광소자 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 또 다른 목적은 유기발광소자의 양극을 처리하는 유기발광소자의 양극 표면처리방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 유기발광소자 제조방법은 유기기판위에 적층된 ITO(Indium Tin Oxide)를 준비하여 세척하는 단계와, 상기 세척된 ITO에 SF₆플라즈마를 작용시켜 표면을 처리하는 단계와, 상기 ITO 위에 발광층을 형성하는 단계와, 상기 발광층의 적어도 일부분 위에 음극을 형성하는 단계로 구성된다. SF₆플라즈마의 출력은 30W 또는 70W이지만, 분자들이 결정화되는 것을 방지하기 위해 30W의 출력으로 처리하는 것이 더욱 바람직하다.

도 1은 일반적인 유기발광소자의 구조를 나타내는 도면.

도 2는 일반적인 유기발광소자의 밴드다이어그램.

도 3은 본 발명에 따라 제작된 유기발광소자의 전압대 휘도에 대한 특성곡선을 나타내는 그래프.

도 4는 본 발명에 따라 제작된 유기발광소자의 전류대 효율에 대한 특성곡선을 나타내는 그래프.

도 5는 본 발명에 따라 제작된 유기발광소자의 시간에 따라 휘도의 세기를 나타내는 그래프.

도 6(a)는 ITO의 표면이 처리되지 않은 유기발광소자의 표면을 나타내는 도면.

도 6(b) ITO의 표면이 30W의 SF₆플라즈마에 의해 처리된 유기발광소자의 표면을 나타내는 그래프.

도 6(c)는 ITO의 표면이 70W의 SF₆플라즈마에 의해 처리된 유기발광소자의 표면을 나타내는 그래프.

도 7은 ITO의 표면이 70W의 SF₆플라즈마에 의해 처리된 유기발광소자의 XPS 피크변화를 나타내는 도면.

본 발명에서는 유기발광소자의 양극으로서 ITO를 사용한다. 일반적으로 ITO는 Sn으로 강하게 도핑된 n-형 산화인듐이다. 산화인듐은 산소이온의 2p 궤도(orbital)가 가전자대를 형성하고 In의 5s 궤도가 전도대를 형성하는 반도체인데, 일반적으로 어느 정도 환원됨에 따라 산소 이온가와 도핑된 Sn이온이 도너역할을 하며 이들 농도가 증가함에 따라 페르미레벨이 전도대 위에 위치하게 되어 금속의 성질을 띠게 된다.

이러한 ITO를 종래와 같이 산소 플라즈마로 처리하는 경우 일함수가 증가하여 정공주입이 용이하게 되는 결과를 얻게 된다. 일반적으로 ITO의 경우 Sn이 표면으로 이동하여 벌크상태에서 보다 표면에서의 농도가 크다. 따라서, 표면의 페르미레벨이 상승하게 되어 일함수가 작아진다. 이러한 ITO를 산소 플라즈마로 처리하게 되면 Sn이 많이 존재하는 표면이 어느 정도 식각되어 표면에서의 농도가 벌크상태에서의 농도와 비슷하게 된다. 또한, 플라즈마상태의 산소가 공급되면 표면의 산소 이온가가 작아지고 산소의 농도는 커진다.

다시 말해서, 산소 플라즈마처리에 의하여 표면의 Sn과 산소 이온가가 줄어 들어 도판트(dopant)의 농도가 감소하기 때문에 일함수가 커지게 되고 그 결과 정공주입의 장벽이 작아지게 되어 소자의 성능이 향상된다.

본 발명은 이러한 종래의 개념과 유사한 개념을 이용한다. 즉, 산소 플라즈마로 ITO의 표면을 처리하는 대신에 SF₆플라즈마로 ITO의 표면을 처리한다. 이러한 SF₆플라즈마처리는 ITO 표면의 F 도핑에 의한 효과를 얻기 위한 것이다. 일반적으로 O^2-와 F^-의 크기는 비슷하기 때문에 쉽게 치환될 수 있다는 것이 알려져 있다(P.Hagenmuller, Inorganic Solid Fluorides, Academic Press, 1985). F는 산소 보다 전자친화도와 이온화포텐셜이 더 크기 때문에 F의 도핑은 페르미레벨을 더욱 낮추게 되어 일함수를 증가시키는 역할을 하게 된다. 또한, 표면에 존재하는 F^-는 ITO 표면에 쌍극자모멘트(dipole memont)를 형성시켜 표면의 일함수를 증가 시키게 되어 발광층 내로의 정공의 주입을 더욱 용이하게 하여 소자의 효율을 향상시킬 수 있게 된다.

이하, 본 발명에 따른 유기발광소자의 ITO 표면처리방법의 일실시예를 설명한다.

면저항이 약 20Ω/cm²인 ITO가 750Å의 두께로 적층된 유리기판을 준비한 후 세척한다. 세척방법은 우선 기판을 DI워터샤워(water shower)로 세척하고 트리클로로에틸렌(trichloroethylene)에 넣고 초음파세척 한 후, 아세톤 및 이소프로필알콜(IPA)로 동일한 방법으로 세척한다.

세척된 ITO는 반응성 이온식각장치를 이용하여 플라즈마처리한다. 이때, 발생되는 플라즈마에 포함되는 SF₆는 유량을 약 25sccm으로 설정하여 반응기 내에 주입함으로써 반응기내 압력을 약 150mTorr로 유지한다. 플라즈마장치의 파워는 약 30W 또는 70W로 하였으며 상기 ITO를 플라즈마에 약 4분간 노출시켰다. 상기 SF₆는 통상 ITO를 식각하는데 사용되지만 본 실시예에서는 파워가 매우 약하기 때문에 식각속도가 대단히 느리게 된다.

이렇게 처리된 ITO 기판을 더 이상의 세척과정을 거치지 않고 글로브박스(glove box)로 이송한 후 도 1에 도시된 바와 같이 발광층과 음극을 형성하였다.

이후, SF₆로 처리된 ITO를 갖는 유기발광소자를 XPS, SIMS, AFM을 이용하여 분석하여 표면이 처리되지 않은 ITO와 비교하였다.

발광층으로는 폴리(2-메톡시-5-(2-에틸헥시록시)-1,4-페닐린비닐린)(MEH-PPV)을 사용하였다. 다음 화학구조식 1에 상기 MEH-PPV의 화학구조식을 나타내었다. 상기 발광층(15)을 구성하는 물질은 한정될 필요는 없다. 본 발명에서 발광층으로 MEH-PPV를 사용하는 것은 발명에 대한 설명을 용이하게 위한 것이지 물질자체를 한정하기 위한 것은 아니다. 따라서, 본 발명에서는 유기발광소자의 발광층으로 통상 사용되는 물질, 예를 들면, 공액고분자와 같은 물질을 발광층으로 적용할 수 있다.

MEH-PPV 용액은 약 4000∼6000ppm의 속도에서 약 90초 동안 약 900Å의 두께로 ITO 위에 스핀코팅된다. 용매는 클로로폼(chloroform)을 사용하였으며, 이때 용매의 농도는 약 0.3∼0.6wt％였다. 상기와 같이 준비된 시료를 약 2×10^-6Torr의 진공상태 또는 글로브박스내에서 30∼60℃의 온도를 유지하는 고온판(hot plate)에서 올려 놓고 약 2∼12시간 동안 건조하여 발광층을 형성하였다.

음극으로는 일함수가 작은 금속, 예를 들면 Ca를 사용하였다. 일반적으로 음극으로는 상기한 바와 같은 Ca 이외에 다른 금속을 사용할 수도 있다. 즉, 일함수가 약 2.5∼3.3eV인 금속은 본 발명에서 발광층으로의 전자의 주입을 용이하게 할 수 있는 음극으로 훌륭하게 사용될 수 있다.

상기 Ca와 같이 일함수가 작은 금속을 진공증착이나 스퍼터링방법으로 적층하여 음극을 형성한다. 이때, 약 0.5∼5.0Å/s의 증착속도로 약 300∼3000Å 두께의 음극이 완성되었다. 막의 두께는 Sycon사의 QOTM(Quartz Oscillator Thickness Monitor)으로 측정하였으며, 증착속도도 상기 장치를 이용하여 조절하였다. 증착시 금속의 가열수단은 탄탈리움보트(tantalium boat)를 이용하였으며, 진공정도는 약 1.0×10^-6Torr이었다. 이후, 상기 ITO와 음극에 은페이스트를 이용하여 와이어 본딩한다.

상기와 같이 제작된 유기발광소자의 특성을 검사하여 도 3∼도 7에 도시하였다. 도면에서 흑색 사각형은 ITO가 SF₆플라즈마처리된 유기발광소자의 특성을 나타내는 곡선이고 흑색 원은 산소 플라즈마처리된 유기발광소자의 특성을 나타내는 곡선이며, 속이 빈 원은 아무런 처리가 이루어지지 않은 특성을 나타내는 곡선이다.

우선, 도 3은 본 발명에 따라 제작된 유기발광소자의 전압대 휘도특성을 나타내는 그래프이다. 이때의 유기발광소자는 약 30W 파워의 플라즈마장치에서 약 4분 동안 처리되었다. 도면에 도시된 바와 같이, ITO가 SF₆플라즈마처리된 유기발광소자는 약 2V에서 소자가 턴온된 후 지수함수적으로 증가하여 약 3.8V에서 1000cd/m²에 달하는 것에 비해, ITO가 산소 플라즈마처리된 경우에는 약 4.1V에서 1000cd/m²에 도달하고 무처리된 경우에는 약 4.4V에서 1000cd/m²에 도달한다. 이것은 SF₆플라즈마로 ITO를 처리하는 경우 산소 플라즈마로 처리하는 경우나 무처리된경우 보다 더 낮은 전압에서 원하는 휘도를 발휘하는 것을 의미하는 것으로, 즉 소자의 효율이 향상됨을 뜻한다.

도 4에는 전류대 파워효율을 나타내는 그래프가 도시되어 있다. 도면에 도시된 바와 같이, ITO를 SF₆플라즈마처리한 유기발광소자는 약 1.14lm/W의 최고 효율을 갖는데 비해 산소 플라즈마처리된 유기발광소자는 약 0.96lm/W, 무처리된 유기발광소자는 약 0.85lm/W의 최고 효율을 갖는 것을 알 수 있다.

한편, ITO의 표면을 처리하는 경우 특히 수명이 개선되는데, 시간에 따른 휘도의 변화를 도 5에 도시하였다. 60℃의 온도에서 일정 전류를 유지하는 상태에서 초기의 휘도를 400cd/m²으로 하여 측정한 결과, 초기에 휘도가 급겨하게 감소하다가 안정되어 초기 휘도의 50％에 도달하는 시간은 약 120시간이었다. 이것을 상온에서의 수명으로 환산하면 1200시간이고 (10배) 초기 휘도를 100cd/m²인 경우로 환산하면 4800시간 (4배)이다. 이 환산계수는 실험에 의하여 확인된 것이며 문헌에도 같은 환산계수가 보고되었다. (I.D. Parker et al., Journal of Applied Physics, 85, 2441, 1999) 도면에는 비록 도시하지 않았지만, 무처리된 경우에는 50％에 도달하는 시간이 상온에서 약 3시간으로 SF₆플라즈마처리를 함에 따라 수 백 배 수명이 증가하는 것을 알 수 있다. 한편, 산소플라즈마로 처리한 경우 60℃, 400cd/m²에서의 수명은 60시간이었다.

또한, 플라즈마처리에 의한 ITO의 특성변화를 살펴보기 위하여, AFM으로 ITO 표면의 형태를 조사하였다. 도 6에 이러한 현상이 도시되어 있다. 도면에서, 도 6(a)는 무처리된 ITO의 표면을 나타내는 도면이고 도 6(b)는 30W로 SF₆플라즈마처리된 ITO의 표면을 나타내는 도면이며, 도 6(c)는 70W로 SF₆플라즈마처리된 ITO의 표면을 나타내는 도면이다.

도면에 도시된 바와 같이, 무처리된 경우의 ITO 표면의 조도는 약 18Å이지만, 30W의 SF₆플라즈마로 처리된 표면의 조도는 약 16Å이고 70W의 SF₆플라즈마로 처리된 표면은 약 7Å으로 조도가 감소하게 된다. ITO의 표면을 처리함에 따라 전체적으로 ITO의 표면이 균일하게 되며 무처리시 보다 작은 돌기를 형성하게 된다. 조도가 유기발광소자의 성능에 미치는 영향은 S. Fujita 등에 의해 이미 잘 알려져 있다(S.Fujita et al., Japanese Journal of Applied Physics, 36, 350, 1997). S. Fujita 등에 의하면 거친 표면에서는 균일한 막의 형성이 어려워지고 소자 내부의 전계가 균일하게 되지 않는 문제가 있다. 반면에, 조도가 10Å 이하인 경우와 같이 ITO 표면이 균일한 경우에는 분자들의 결정화를 촉진시키는 문제가 있다.

따라서, 상기한 실시예에서 보듯이 30W와 70W의 SF₆플라즈마로 ITO의 표면을 처리하는 경우, 상기와 같이 30W의 SF₆플라즈마로 처리하는 것이 ITO의 일함수를 증가시킬 뿐만 아니라 분자들의 결정화가 이루어지지 않기 때문에 70W의 SF₆플라즈마로 처리하는 경우 보다 소자의 성능이 더욱 안정적이다. 이때, 본 실시예에서는 비록 30W의 SF₆플라즈마처리가 이루어지지만, ITO의 표면 조도가 10Å 이상으로 되면, 어떤 출력의 SF₆플라즈마처리도 가능하다.

SIMS로 처리된 ITO의 표면을 분석하면, SF₆플라즈마로 처리된 ITO와 무처리된 ITO의 비교하는 경우 처리된 ITO는 전하대 질량비가 19인 음이온과 99인 음이온이 표면에 많이 존재하게 된다. 이것은 각각 F^-와 S₂FO^-해당된다. 한편, SO_x와 몇가지 S,F,O의 화합물의 피크(peak)가 약하게 검출된다. S₂FO^-를 비롯한 S, F, O의 화합물과 달리 F^-는 표면으로부터 약 90Å의 깊이에서도 계속 검출되었다.

XPS에 의한 분석결과를 도 7에 도시하였다. 도 7의 상단의 피크는 SF₆플라즈마로 처리된 ITO를 분석한 결과이고 하단의 피크는 무처리 ITO를 분석한 결과이다. 처리된 ITO와 처리되지 않은 ITO의 가장 큰 차이는 F 1s의 존재이며 그 다음으로 Sn 3d 피크의 전이(shift)이다. 또한 도면에는 나타내지 않았으나 처리된 ITO의 경우 S 2s 피크가 매우 약하게 나타났으며 In/Sn 비율이 증가하였다. 도 7의 상단에서 보듯이 SF₆플라즈마로 처리된 경우 F의 피크가 약 654.7eV에서 나타났는데, 그 위치로 보아 S에 결합되어 있다기 보다는 주로 이온 형태로 존재하거나 금속 원자에 결합되어 있음을 알 수 있다. 한편, Sn의 3d3/2의 최대 피크는 약 486.5eV에서 487.1eV로 약 0.5eV 증가하여 나타나며 이는 F와의 결합에 의한 효과에 의한 것으로 생각된다. S 2s 피크의 경우 170eV에 매우 약하게 나타난다. 한편 In/Sn비율이 무처리의 경우 7.3 인데 비하여 SF₆플라즈마로 처리한 경우 8.7로 증가하였다.

이러한 결과를 종합해보면, SF₆플라즈마처리에 의해 ITO 내에 F가 도입되어 어느 정도 깊이까지 존재하고 이들 F는 주로 이온 형태로 존재하는 것으로 생각된다. 또한 표면에는 S, F 및 O의 화합물이 얇게 존재하게 된다.

SF₆플라즈마 처리에 의한 소자의 성능 향상에 가장 큰 기여를 하는 것은 F이온이라고 생각되며 F를 함유하는 다른 기체의 플라즈마로 처리하여 비슷한 결과를 얻을 수 있다. 예를들어 CF₄, CCl₂F₂등의 플라즈마로 소자 성능의 향상을 가져올 수 있다.

상술한 본 발명의 실시예에서는 비록 특정한 발광층이나 플라즈마 출력을 사용하고 있지만, 본 발명은 이러한 특정한 구조나 특정한 값에만 한정되는 것은 아니다. 본 발명이 속하는 기술분야에 종사하는 사람이라면 SF₆플라즈마에 의한 ITO의 처리라는 본 발명의 개념을 이용하면, 어떠한 구조의 유기발광소자를 제작할 수 있을 것이다.

본 발명의 유기발광소자 제조방법에서는 상기한 바와 같이, SF₆플라즈마로 양극인 ITO의 표면을 처리하기 때문에, 양극의 일함수가 증가하게 된다. 따라서, 유기발광소자의 발광층으로의 정공이 주입이 용이하게 되어 소자의 효율이 대폭 향상된다.

Claims (11)

1. 유기기판위에 적층된 ITO(Indium Tin Oxide)를 준비하여 세척하는 단계;

   상기 세척된 ITO에 F를 함유하는 플라즈마를 작용시켜 표면을 처리하는 단계;

   상기 ITO 위에 발광층을 형성하는 단계; 및

   상기 발광층의 적어도 일부분 위에 음극을 형성하는 단계로 구성된 유기발광소자 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마는 SF₆플라즈마, CF₄플라즈마 및 CCl₂F₂플라즈마로 이루어진 일군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 ITO를 세척하는 단계는,

   ITO를 DI워터샤워로 세척하는 단계;

   ITO를 트리클로로에틸렌 속에서 초음파세척하는 단계; 및

   아세톤 및 이소프로필알콜로 세척하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마는 약 30W의 출력으로 작용하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제1항에 있어서, 상기 플라즈마는 약 70W의 출력으로 작용하는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 발광층을 형성하는 단계는,

   클로로폼이 함유된 MEH-PPV 용액을 ITO 위에 스핀코팅하는 단계; 및

   상기 코팅된 MEH-PPV 용액을 진공상태에서 고온의 판(hot plate)에 올려 놓고 건조하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 음극은 일함수가 2.5∼3.3 eV인 금속인 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 음극은 Ca인 것을 특징으로 하는 방법.
9. 유리기판위에 적층된 양극인 ITO와, 상기 ITO에 형성되어 빛이 발산되는 발광층 및 상기 발광층 위에 형성된 음극으로 이루어진 유기발광소자에 있어서,

   상기 ITO에 F를 함유하는 플라즈마를 인가하여 ITO의 표면을 처리하는 유기발광소자의 ITO 표면처리방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 SF₆플라즈마는 약 30W의 출력으로 작용하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제9항에 있어서, 상기 SF₆플라즈마는 약 70W의 출력으로 작용하는 것을 특징으로 하는 방법.