KR100339243B1 - 탄성계수 구배를 가지는, 성형재 탄성지지용 고분자탄성구조물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 탄성계수 구배를 가지는, 성형재(2) 탄성지지용 고분자탄성 구조물(1a, 1b)과, 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b) 및 그를 교환하기 위한 교환대(6)를 구비하는 성형재(2) 탄성지지 장치와, 그를 이용한 성형장치에 관한 것으로서, 본 발명은 성형재(2)를 중심으로 가압수단(3a, 3b)의 반대편에 설치되고, 탄성계수 구배를 가지는, 성형재(2) 탄성지지용 고분자탄성 구조물(1a, 1b)을 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b)과; 성형재(2)를 중심으로 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b)의 반대편에 설치되는 가압수단(3a, 3b)으로 이루어지는 성형장치를 제공하며, 아울러, 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b)과; 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b)을 교대하기 위한 교환대(6)로서, 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b)이 최소 두 개 장착될 수 있고, 각 단위 성형공정이 완료될 때마다 운동됨으로써, 그에 따라 상기 고분자탄성 구조물(1a, 1b) 각각을 순차적으로 성형위치로 이동시킬 수 있는 고분자탄성 구조물 교환대(6)로 이루어지는 성형재(2) 탄성지지 장치를 제공한다.

Description

탄성계수 구배를 가지는, 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물{ELASTOMER STRUCTURE HAVING A GRADIENT OF THE MODULUS OF ELASTICITY FOR SUPPORTING A FORMED MATERIAL}

본 발명은 탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물과, 상기 구조물 및 그를 교환하기 위한 교환대를 구비하는 성형재 탄성지지 장치와, 그를 이용한 성형장치에 관한 것이다.

일반적으로 암수 한 쌍, 즉 상호 일치하는 두 개의 금형을 사용하여 판재를 성형하는 방법과는 달리, 고분자 탄성체를 이용한 성형장치는 암수 중 어느 하나의 금형을 고분자 탄성체로 대신하여 하나의 금형과 고분자 탄성체 사이에 놓인 성형판재를 금형으로 눌러 성형하므로, 금형 제조 및 수리와 교체가 용이하고, 금형 제작비가 절감될 뿐 아니라 성형 소재의 종류나 두께에 대한 제약이 적고, 균일한 변형에 의한 성형 한계가 높은 장점이 있다.

그러나, 상기 종래의 고분자탄성체를 이용한 성형장치는 사용되는 탄성체의 탄성계수가 균일하였기 때문에 다음과 같은 문제점을 가지고 있었다. 즉, 탄성계수가 낮은 탄성체를 사용하면, 성형 반력이 충분하지 못해 완전한 성형이 이루어지지 못하였고, 반대로, 탄성계수가 높은 탄성체를 사용하면, 성형 반력이 과다하게 높아 전체 성형하중이 크게 증가하는 문제점이 있었다. 즉, 성형 하중을 낮추기 위하여, 압축강도가 낮은 고분자탄성체를 사용하면 금속판에 가해지는 압력이 낮아서 완전한 성형이 이루어지지 않는 문제점이 있었고, 반대로, 탄성계수가 높은 고분자탄성체를 사용하는 경우에는 성형하중이 높아져, 그 만큼 생산 단가가 증가하고 성형장비에무리가 가게 된다. 또한, 한번 눌린 고분자 탄성체가 성형 후, 원상태로 회복되는데 걸리는 시간 때문에 생산성이 낮은 단점이 있어 대량생산에 적합하지 못한 문제점이 있었다{Metals Handbook, 9판, Vol.14, Metals Pa가, Ohio, 1988,605~615쪽).

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 성형하중이 낮으면서도 완전한 성형을 이룰 수 있도록 하는, 고분자탄성체를 이용한 성형장치에 사용되는 고분자탄성 구조물을 제공하는데 목적이 있다.

또한, 본 발명은 성형 주기를 단축함으로써, 생산성을 향상시킬 수 있는 고속의 성형장치를 가능하게 하는 성형재 탄성지지 장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.

도 1a 내지 도 1c는 탄성계수 구배를 가지는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고분자탄성 구조물에 대한 정면도로서, 도 1a는 탄성계수 구배가 연속적인 고분자탄성 구조물을, 도 1b는 탄성계수 구배가 계단형인 고분자탄성 구조물을, 도 1c는 도 1b의 실시예에 대한 변형을 도시하고 있다.

도 2a 및 도 2b는 다수의 구멍을 가짐으로써 탄성계수 구배를 가지는 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따른 고분자탄성 구조물에 대한 정면도서, 도 2a는 가운데가 오목한 곡면 성형에 사용되는 고분자탄성 구조물을, 도 2b는 가운데가 볼록한 곡면 성형에 사용되는 고분자탄성 구조물을 도시한다.

도 3a 내지 도 3f는 도 2a 내지 도 2b에 도시된 실시예에 대한 변형 실시예를 도시하고 있는데, 도 3a는 일 실시예에 따른 고분자탄성구조물에 대한 정면도 및 평면도를 도시하고 있고, 도 3b 역시 일 실시예에 따른 고분자탄성 구조물에 대한 정면도 및 평면도를 도시하고 있고, 도 3c는 일 실시예에 따른 방사형 배치의 구멍을 가지는 고분자탄성 구조물에 대한 평면도를, 도 3d는 일 실시예에 따른 방사형 배치의 구멍을 가지는 고분자탄성 구조물에 대한 평면도를, 도 3e는 일 실시예에 따른직선형 배치의 구멍을 가지는 고분자탄성 구조물에 대한 평면도를, 도 3f는 일 실시예에 따른 직선형 배치의 구멍을 가지는 고분자탄성 구조물에 대한 평면도를 도시하고 있다.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예에 따른 성형장치를 도시하는데, 여기서는 가압수단으로 금형을 대신하여 펀치를 사용하고 있다.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고분자탄성 구조물을 교대시키기 위한 교환대를 구비하는 성형재 탄성지지 장치를 도시하는데, 도 5a는 교환대가 수직축을 중심으로 회전하는 회전형 성형재 탄성지지 장치에 대한 평면도를, 도 5b는 교환대가 수평축을 중심으로 회전하는 회전형 성형재 탄성지지 장치에 대한 측면도를, 도 5c는 교환대가 왕복하는 왕복형 성형재 탄성지지 장치에 대한 평면도를 도시하고 있다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1a, 1b : 고분자탄성 구조물 2 : 성형재

3a : 금형 3b : 펀치

4 : 성형장치구조물 5 : 구멍

6 : 교환대

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 성형재를 중심으로 가압수단의 반대편에 설치되고, 탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물을 제공한다. 즉, 성형 부위별로 변형량의 크기에 따라 필요한 만큼의 성형 반력이 고분자탄성체에 의해 발생되어 전체 성형하중을 낮출 수 있도록 압축강도와 탄성계수를 국부적으로 다양하게 변화시킬 수 있는 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물을 제공한다.

여기서, 상기 고분자탄성 구조물은 성형재의 변형량의 크기에 대응하여 부위별로 연속적으로 또는 계단형으로 탄성계수 구배를 가질 수 있는데, 이는 연속적 또는 계단형 탄성계수 구배를 가지는 단일부재 특수고분자탄성체를 사용함으로써 얻어질 수도 있고, 반면, 탄성계수가 다른 개별부재를 조합 또는 접합함으로써도 얻어질 수도 있다.

상기 탄성계수 구배는 다양한 배치를 가질 수 있는데, 예컨대, 선형 구배일 수도 방사형 구배일 수 있고, 또한, 2차원 구배일수도 3차원 구배일수도 있고, 또한, 그 구배 자체가 어느 정도 규칙성을 가질 수도 있고, 그렇지 않을 수도 있다. 요컨대, 어떠한 배치의 구배를 가지는가는 성형 대상으로 하는 제품의 형상 등과 밀접하게 연관될 수 있다.

한편, 고분자탄성 구조물에 상기와 같은 탄성계수 구배를 주기 위한 방법으로는 다양한 실시예를 가질 수 있다. 예컨대 물성 자체로 인하여 탄성계수가 다를 수도 있고, 물성 자체로는 동일한 탄성계수를 가지나 다수의 구멍을 형성하여 탄성계수를 다르게 할 수도 있으며, 탄성계수가 다른 개별 부재로서 구멍의 수와 배열을 달리한 부재들을 조합함으로써 탄성계수를 다르게 할 수도 있을 것이다. 전술한 바와 같이(즉, 어떠한 구배 배치를 주어야 하는가에 따라), 상기 구멍은 다양한 배치를 가질 수 있다. 예컨대, 직선 구멍을 가질 수도 있고, 곡선형 구멍을 가질 수도 있고, 굴절된 구멍을 가질 수도 있고, 내부 구멍을 가질 수도 있는 등, 그 실시예는 무수히 많을 것이나, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가지는 자라면 용이하게 변형 실시할 수 있을 것이므로, 본 명세서에서는 이에 대해서는 최소한의 예시로서 대신하나, 이들이 본 발명이 의도하는 발명의 범위에 속함은 물론이다.

본 발명의 고분자탄성체의 반대편에 설치되는 가압수단으로는, 예컨대, 금형, 펀치 등 다양한 수단이 사용될 수 있다. 즉, 본 발명이 의도하고자 하는 바는탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물을 제공하여, 전술한 바 있는 본 발명의 목적을 달성함에 있는 것이므로, 가압수단의 종류를 불문하고, 상기 고분자탄성 구조물을 사용하는 것만으로 본 발명이 의도하는 발명의 범위에 속함은 물론이다.

본 발명은 전술한 바와 같은 고분자탄성 구조물과, 성형재를 중심으로 그 반대편에 설치되는 가압수단으로 이루어지는 성형장치를 제공한다.

또한, 본 발명은 전술한 바 있는, 탄성 구조물의 원형 복원 시간이 오래 걸리기 때문에 생기는 문제점을 해결하기 위하여, 전술한 바와 같은 고분자탄성 구조물과, 상기 고분자탄성 구조물을 교대하기 위한 교환대로서 상기 고분자탄성 구조물이 최소 두 개 장착될 수 있고 각 단위 성형공정이 완료될 때마다 구동됨으로써 그에 따라 상기 고분자탄성 구조물 각각을 순차적으로 성형위치로 이동시킬 수 있는 고분자탄성 구조물 교환대로 이루어지는 성형재 탄성지지 장치를 제공한다.

물론, 본 발명에 따른 성형 장치는, 가압수단이 운동하는 경우도 있을 수 있고, 복수개의 가압수단을 사용하여 성형을 완료한 고분자탄성 구조물에 대해서는 소정 시간격의 간기를 부여하는 방식도 가능하다. 그러나, 고분자탄성 구조물에 운동을 부여하는 방식이 설비비용면에서 바람직할 수 있다. 여기서, 상기 교환대의 운동은 설계목적에 따라 다양한 방식으로 운동될 수 있도록 설계될 수 있는바, 예컨대, 수직축을 중심으로 하는 회전운동, 수평축을 중심으로 하는 회전운동, 왕복운동, 또한 이들의 조합운동 등 다양한 운동 방식을 가질 수 있다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.첨부도면에서는 본 발명의 용이한 이해를 돕기 위하여 가장 단순한 구성을 가지는 실시예만을 예시하고자 한다.

도 1a 내지 도 1c는 본 발명의 바람직한 실시예로서 위치에 따라 압축강도 및 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물(1a)을 사용한 성형장치를 보여준다. 도 1a는 연속적인 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물(1a)을 사용한 성형장치를 보여주는 정면도이다. 여기서 고분자탄성 구조물(1a)은 가운데로 갈수록 압축강도와 탄성계수가 감소하므로, 성형재(2)가 많이 변형되는 금형(3a)의 좌우 양 측면 부분은 탄성 반력이 큰 고분자 탄성체(1a)로부터 높은 압축응력이 가해져서 충분한 성형이 이루어지고, 성형재(2)의 변형이 그다지 크지 않은 금형(3a) 바닥 부분은 탄성반력이 작은 고분자 탄성체(1a)로부터 낮은 압축응력이 가해진다. 따라서, 본 발명은 전체 성형하중을 크게 낮추면서도 완전한 성형이 이루어지도록 한다. 도 1a의 실시예에의 고분자탄성 구조물(1a)은 2차원 탄성계수 구배 및 선형 탄성계수 구배를 가지는 실시예를 예시하고 있으나, 본 발명의 일 실시예에 따르면 3차원 탄성계수 구배, 곡선형 탄성계수 구배, 방사형 탄성계수 구배 등을 가질 수 있음은 전술한 바와 같다. 도면 중 미설명 부호 4는 성형장치구조물을 나타낸다.

도 1b는 금형(3a)의 형상에 따라, 즉 성형하고자 하는 제품의 형상에 따라 상기 고분자탄성 구조물(1a)이 다양한 탄성계수 구배를 가질 수 있음을 예시하는 도면으로서, 본 실시예에서는 계단형으로 변화하는 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물(1a)을 도시하고 있다. 여기서는, 압축강도 및 탄성계수가 서로 다른 여러 종류의 고분자탄성체를 사용하여 전체적으로 탄성계수 구배를 가지도록 한 고분자탄성구조물(1a)을 보여준다. 높은 압축강도가 필요한 부분과 그렇지 않은 부분에 서로 다른 압축강도 및 탄성계수를 가지는 고분자 탄성체를 쌓아서 위치에 따라 압축강도가 변화하도록 한 것이다. 이 방법은 도 1a의 실시예에 비하여 압축강도가 연속적으로 균일하게 변화하지는 않지만 제조방법이 간단하고, 설비비용면에서 저렴하다는 장점이 있다.

도 1c는 도 1b의 고분자 탄성체를 적층 방법과 순서 등을 바꾸어 다양한 압축강도 및 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물(1a)을 보여주고 있다.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예로서, 소정 위치에 다수의 구멍(5)을 형성하여 탄성계수 구배를 주는 고분자탄성 구조물(1b)을 도시하고 있다. 도 2a는 금형(3a) 가운데가 오목한 경우, 탄성계수 구배를 주기 위한 구멍(5)의 배치를 예시하고 있고, 도 2b는 금형(3a) 가운데가 볼록한 경우, 탄성계수 구배를 주기 위한 구멍(5)의 배치를 예시하고 있다. 도 2a 및 도 2b에서 도시한 실시예는 동일한 고분자탄성체를 사용하여 다양한 탄성계수 구배를 줄 수 있음을 보여준다. 도 2a에 도시한 바와 같이, 성형재(2)를 위로 볼록한 2차원적 곡면으로 성형하고자 할 경우, 구멍(5)이 없다면 탄성체의 탄성계수가 균일하므로 금형(3a) 중심에 비해, 긴 거리를 하강해야 하는 금형(3a) 바깥쪽에 작용하는 반력은 하강거리의 배율만큼 상대적으로 증가한다. 그러나, 중심에서 바깥쪽으로 갈수록 구멍(5)의 숫자를 늘려 탄성계수가 더 낮아지게 해주면 바깥쪽에 작용하는 반력을 저하시킬 수 있고, 이상적인 경우에는, 곡면의 형상에 따라서, 구멍(5)의 위치와 수를 적절히 배열하여 금형(3a)의 각 부분에 반력이 거의 동일하게 작용하게 해 줌으로써 성형곡면 형상의제어 정밀도를 높일 수 있다.

본 실시예에서는 구멍(5)으로서 원형 구멍을 사용하였으나, 반드시 이에 한정되지 아니하고 다양한 형태의 구멍(5)이 사용될 수 있다. 또한, 전술한 바와 같이, 2차원 배치의 구멍, 3차원 배치의 구멍, 곡선형 구멍, 직선형 구멍, 방사형 구멍, 내부 구멍 등 다양한 배치의 구멍(5)이 사용될 수 있음은 전술한 바와 같다.

도 3a 내지 도 3f는 도 2a 및 도 2b의 실시예에서 설명한 바 있는 탄성계수 구배를 주기 위한 구멍(5) 배치를 좀 더 상세히 설명하기 위한 도면이다.

도 3a는 고분자탄성 구조물(1b)의 정면도와 평면도를 보여주고 있는데, 도시한 바와 같이, 모서리 부근에서 대각선 방식으로 구멍(5)이 형성되어 있다. 도 3b는 역시 고분자탄성 구조물(1b)의 정면도와 평면도를 도시하고 있는데, 도시한 바와 같이, 모서리 부근에서 직각으로 형성된 구멍(5)을 보여주고 있다. 도 3a와 도 3b는 도 2a의 성형재를 3차원 곡면으로 성형하고자 할 경우에 적합한 구멍(5)배치를 보여준다. 상기 도 3a 및 도 3b에서는 관통 구멍을 예시하고 있으나 반드시 이에 한정되지 않음은 전술한 바와 같고, 더 나아가서는 내부 구멍 등이 형성된 고분자탄성 구조물(1b)도 가능하다. 이 경우는, 예컨대, 여러 개의 고분자탄성체가 조합된 고분자탄성 구조물(1b)의 경우 용이하게 내부 구멍을 가질 수 있을 것이다.

도 3c 내지 도 3d는 방사형 구멍(5)을 가지는 고분자탄성 구조물(1b)에 대한 평면도를 도시하고 있고, 도 3e 및 도 3f는 선형 탄성계수 구배 구멍(5) 배치를 가지는 고분자탄성 구조물(1b)에 대한 평면도를 도시하고 있다. 상기 도 3a 및 도 3b의 실시예의 단점은 구멍(5)의 측면에서 직선으로 뚫기 때문에 고분자탄성구조물(1b)의 탄성계수 구배가 원호를 따라서 일정하게 변화되지 않는다는 점에 있다. 따라서, 이에 대한 대안으로, 고분자탄성 구조물(1b)을 위에서 보았을 때 도 3c 및 3d에 도시한 바와 같이 동심원의 구멍(5)을 뚫으면 3차원 곡면이나 오목한 곡면을 성형할 수 있다. 또한, 고분자탄성 구조물(1b)을 위에서 보았을 때, 도 3e 및 3f에 도시한 바와 같이, 직선마다 구멍(5)의 수를 다르게 하면, 도 2a 및 도 2b에서와 같이 2차원적인 곡면을 성형할 수 있다. 그러나, 이러한 방법의 단점은 구멍(5)이 고분자탄성 구조물(1b)의 주된 변형 방향과 평행하기 때문에 측면에서 구멍(5)을 뚫는 방법에 비해 탄성계수 변화가 적다는 점이다. 따라서, 작은 구멍(5)을 더 많이 뚫어야 대등한 효과를 달성할 수 있다.

도 4a 내지 도 4b는 본 발명의 또 다른 바람직한 실시예로서, 가압수단으로서, 상기 도 1a 내지 도 1c에서 도시한 바와 같은 금형(3a)을 대체하여 펀치(3b)를 사용하는 본 발명의 무금형 성형장치를 보여주고 있다. 전술한 바와 같이, 성형장치의 가압수단으로서, 금형(3a), 펀치(3b) 등 다양한 가압수단이 사용될 수 있다.

도 4a는 아래로 오목한 제품을 성형하고자 할 경우이고, 도 4b는 파형 굴곡이 진 제품을 성형하고자 할 경우를 도시하고 있다. 위치에 따라 구멍(5)의 수를 변화시키면 성형하중을 낮추면서 다양한 곡면 형상을 성형할 수 있다. 또한 구멍(5)을 뚫는 대신 도 1a 나 도 1b의 고분자탄성 구조물(1b)이 사용될 수 있다.

도 5a 내지 도 5c는 성형 주기를 단축하기 위하여, 여러 조의 고분자탄성 구조물(1a, 1b)을 교환대(6) 위에 장착한 성형재 탄성지지 장치에 대한 일 실시예를 보여주는 도면으로서, 도 5a는 세로축을 중심으로 회전하는 회전형 교환대(6)를 사용한 성형재 탄성지지 장치에 대한 평면도이다. 도시한 바와 같이, 하나의 고분자탄성 구조물(1a, 1b)에 안착된 상태로 성형이 이루어진 후, 그 다음 성형은 회전하여 이동해 오는 옆의 고분자탄성 구조물(1a, 1b)에서 연속적으로 성형이 이루어짐으로써, 앞서 변형된 고분자탄성 구조물(1a, 1b)이 원상태로 회복되는 도중에도 계속적으로 성형이 이루어질 수 있다.

도 5b는 가로축을 중심으로 회전하는 회전형 교환대(6)를 사용한 성형재 탄성지지 장치에 대한 측면도이다.

도 5c는 왕복형 교환대(6)를 사용한 성형재 탄성지지 장치에 대한 평면도로서, 고분자탄성 구조물(1a, 1b)이 좌우로 왕복하면서 번갈아 성형에 사용된다. 설계자는 5a 내지 도 5c의 실시예 중에서 설계목적에 부합되는 배치의 교환대(6)를 사용할 수 있다. 예컨대, 높이(상·하) 방향으로 작은 공간 내에 고분자탄성 구조물(1a, 1b)을 배치하여야 하는 경우에는 도 5a의 교환대(6)가 적합할 수 있고, 좌·우 방향으로 작은 공간 내에 고분자탄성 구조물(1a, 1b)이 배치되어야 하는 경우에는 도 5b의 교환대(6)가 적합할 수 있으며, 탄성회복 속도가 그리 길지 않은 경우에는 도 5c의 교환대(6)가 적합할 수 있을 것이다.

상기한 구성의 본 발명에 따르면, 본 발명의 탄성계수 구배를 가지는 고분자탄성 구조물을 사용하여, 불필요한 곳은 탄성계수를 낮추고, 필요한 곳에서는 탄성계수를 높여 부위 별로 필요한 만큼의 압축응력이 고르게 가해지게 함으로써 완전한 성형이 이루어지면서도 전체 성형하중을 낮출 수 있는 효과가 있다. 또한, 여러 조의 고분자탄성 구조물을 회전형이나 왕복형 교환대에 장착하여 순차적으로 성형에 이용함으로써 생산속도를 높일 수 있는 효과가 있다.

Claims (9)

1. 삭제
2. 성형재를 중심으로 가압수단의 반대편에 설치되고, 연속적인 탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물.
3. 성형재를 중심으로 가압수단의 반대편에 설치되고, 탄성계수가 다른 다수의 개별부재가 조합됨으로써 점진적으로 변화하는 계단형 탄성계수 구배를 가지며, 내측 부재에 비해 외측 부재의 탄성계수가 더 큰 것을 특징으로 하는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물.
4. 성형재를 중심으로 가압수단의 반대편에 설치되고, 다수의 구멍이 형성됨으로써 탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물.
5. 성형재를 중심으로 가압수단의 반대편에 설치되고, 탄성계수가 다른 개별 부재로서 구멍의 수와 배열을 달리한 부재들을 조합함으로써 형성된 탄성계수 구배를 가지는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물.
6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가압수단은 금형 또는 다수의 펀치로 이루어지는 것을 특징으로 하는 성형재 탄성지지용 고분자탄성 구조물.
7. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항의 고분자탄성 구조물과;

   성형재를 중심으로 상기 고분자탄성 구조물의 반대편에 설치되는 가압수단으로 이루어지는 성형장치.
8. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항의 고분자탄성 구조물과;

   상기 고분자탄성 구조물을 교대하기 위한 교환대로서, 상기 고분자탄성 구조물이 최소 두 개 장착될 수 있고, 각 단위 성형공정이 완료될 때마다 운동됨으로써, 그에 따라 상기 고분자탄성 구조물 각각을 순차적으로 성형위치로 이동시킬 수 있는 고분자탄성 구조물 교환대로 이루어지는 성형재 탄성지지 장치.
9. 제 8항에 있어서, 상기 교환대는 회전 또는 왕복 운동을 하는 것을 특징으로 하는 성형재 탄성지지 장치.