KR100334536B1 - Semiconductor memory device having input buffer - Google Patents

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박종섭
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Abstract

본 발명의 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치는 외부 전원전압(VEXT)이 계속 상승하더라도 하이레벨로 인식하기 위한 최저 전압(VIH)이 상승되는 것을 방지하여 외부 로우 전압 TTL 레벨(LVTTL)을 잘못 인식하는 에러를 방지할 수 있도록, 입력 버퍼를 사용하는 반도체 메모리 장치에 있어서, 내부회로에 사용되는 제1 내부 전원전압을 발생하는 제1 내부 전원전압 발생부와, 상기 입력버퍼에 사용되는 제2 내부 전원전압을 발생하는 제2 내부 전원전압 발생부와, 상기 입력버퍼에 사용되는 내부 기준전압을 발생하는 내부 기준전압 발생부를 포함하여 구성되어, 상기 제2 내부 전원전압과 내부 기준전압은 번인 모드에서 외부 전원전압이 증가하더라도 일정 전압레벨을 유지하고, 상기 입력버퍼에는 레벨쉬프트부를 추가로 구비하여 제1 내부전압과 제2 내부전압의 전압차가 클 경우에도 안정된 동작을 수행하도록 한다.The semiconductor memory device including the input buffer of the present invention incorrectly recognizes the external low voltage TTL level LVTTL by preventing the minimum voltage VIH to be recognized as the high level even if the external power supply voltage VEXT continues to rise. In a semiconductor memory device using an input buffer, a first internal power supply voltage generation unit for generating a first internal power supply voltage used in an internal circuit, and a second internal device used in the input buffer, so as to prevent an error that may occur. And a second internal power supply voltage generator for generating a power supply voltage and an internal reference voltage generator for generating an internal reference voltage used for the input buffer, wherein the second internal power supply voltage and the internal reference voltage are used in a burn-in mode. Maintain a constant voltage level even when the external power supply voltage increases, and the input buffer further includes a level shift unit to provide a first internal voltage and a second internal voltage. And to perform a stable operation even if the voltage difference between the negative voltage is larger.

Description

입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치{Semiconductor memory device having input buffer}Semiconductor memory device having an input buffer

본 발명은 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 로우 전압 TTL 신호를 입력받아 CMOS 레벨로 바꾸는 입력 버퍼의 스위칭 전위가 번인 모드를 수행하더라도 일정 전위를 유지할 수 있는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device including an input buffer, and more particularly, to an input buffer capable of maintaining a constant potential even when a switching potential of an input buffer that receives a low voltage TTL signal and changes it to a CMOS level performs a burn-in mode. A semiconductor memory device is included.

일반적으로 디램에서는 외부에서 입력되는 전원전위를 직접 사용하는 것이 아니라 내부에서 전원 전위를 만들어서 사용한다. 또한, 번인 모드 동작 시에 테스트의 정확성을 기하기 위해 정상 모드에서는 내부에서 만들어지는 내부 전원 전위를 사용하고, 번인 모드 동작 시에는 내부의 동작 전위가 외부에서 입력되는 전원 전위와 동일한 전위를 사용하는 방법이 사용된다. 그리고, 이러한 경우, 번인 모드로 진입하는 것은 외부에서 특별한 테스트 모드 신호를 입력하여 번인 모드로 되는데 그 방법으로 동기 디램(SDRAM)에서 사용하는 방법은 모드 레지스터 세트(MRS) 명령과 제7 어드레스가 하이레벨이 되는 것이다.Generally, in DRAM, power potential input from the outside is not directly used, but power potential is made internally. In addition, in order to ensure the accuracy of the test during burn-in mode operation, an internal power supply potential generated internally is used in the normal mode, and when the burn-in mode operation, the internal operating potential uses the same potential as the power supply potential input from the outside. Method is used. In this case, the burn-in mode enters the burn-in mode by inputting a special test mode signal from the outside, and the method used in the synchronous DRAM (SDRAM) includes the mode register set (MRS) instruction and the seventh address being high. To become a level.

일반적으로 DRAM 외부의 신호레벨은 LVTTL 을 사용하고, DRAM 내부에서는 CMOS 레벨을 사용한다.In general, LVTTL uses the signal level outside the DRAM, and CMOS level inside the DRAM.

즉, DRAM 내부와 외부의 전압 레벨을 다르게 쓰이기 때문에, DRAM 외부에서 입력되는 신호의 레벨이 하이레벨 또는 로우레벨인지를 인식하는 버퍼 회로를 사용한다. 이러한 버퍼 회로는 CMOS 인버터 방식의 입력 버퍼와 차동 타입의 입력 버퍼 등의 방식이 사용되고 있다.That is, since the voltage level of the DRAM and the external voltage is used differently, a buffer circuit that recognizes whether the level of the signal input from the DRAM is high or low level is used. As such a buffer circuit, input methods such as a CMOS inverter type buffer and a differential type input buffer are used.

CMOS 인버터 방식의 입력 버퍼는 트랜지스터의 문턱전압을 이용하여 DRAM 외부에서 입력되는 신호의 레벨이 하이 또는 로우인지를 인식하는 방식이고, 차동 타입의 입력 버퍼는 내부에서 만들어지는 기준전압(VREF)을 기준으로 하여 하이 또는 로우인지를 인식하는 방식이다.The CMOS inverter type input buffer recognizes whether the level of the signal input from the outside of the DRAM is high or low by using the threshold voltage of the transistor, and the differential type input buffer refers to the internal reference voltage VREF. This is a method of recognizing whether it is high or low.

도 1 은 일반적인 CMOS 인버터 타입 입력 버퍼를 보인 회로도로써, 이에 도시된 바와 같이, 인에이블신호(EN)를 순차 반전시키는 제1, 제2 인버터(INV1, INV2)와, 내부 전원전압(QVDD)과 내부접지전압(QVSS) 사이에 직렬 연결되고, 게이트가 공통 연결되어 외부 입력신호(EXTIN)가 인가되는 벌크에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터(PM1) 및 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제1 엔모스 트랜지스터(NM1), 게이트에 상기 제2 인버터(INV2)의 출력이 인가되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터(NM2)와, 상기제1 피모스 트랜지스터(PM1)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM1)의 공통 연결된 드레인의 전압을 반전시켜 출력신호(OUT)를 출력하는 제3 인버터(INV3)와, 소오스에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되고, 게이트에 상기 제2 인버터(INV2)의 출력이 인가되어 제어되어 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM1)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM1)의 공통 연결된 드레인의 전압을 풀업시키는 제2 피모스 트랜지스터(PM2)를 포함하여 구성된다.FIG. 1 is a circuit diagram illustrating a general CMOS inverter type input buffer. As shown in FIG. 1, first and second inverters INV1 and INV2 for sequentially inverting an enable signal EN, an internal power supply voltage QVDD, Internal ground to the first PMOS transistor (PM1) and the bulk to which the internal power supply voltage (QVDD) is applied to the bulk connected to the internal ground voltage (QVSS) in series, the gate is commonly connected to the external input signal (EXTIN) The first NMOS transistor NM1 to which a voltage QVSS is applied, the output of the second inverter INV2 to a gate, and the second NMOS transistor NM2 to which an internal ground voltage QVSS is applied to a bulk. And a third inverter INV3 for outputting the output signal OUT by reversing the voltage of the drain connected to the first PMOS transistor PM1 and the first NMOS transistor NM1, and an internal power supply voltage to the source. (QVDD) is applied, the second inverter (INV2) to the gate The control outputs are applied is configured to include a second PMOS transistor (PM2) of the pull-up the voltage of the common connected drains of the first PMOS transistor (PM1) and the first NMOS transistor (NM1).

도 2는 차동 타입 입력 버퍼를 보인 회로도로써, 이에 도시된 바와 같이, 소오스에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터(PM11) 및 게이트와 드레인이 공통 연결된 제2 피모스 트랜지스터(PM12)와, 드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터(PM11, PM12)의 드레인에 각각 연결되고, 소오스가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 각각 외부 입력신호(EXTIN) 및 내부 기준전압(VREF)이 인가되는 제1, 제2 엔모스 트랜지스터(NM11, NM12)와, 드레인이 상기 제1, 제2 엔모스 트랜지스터(NM11, NM12)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 드레인과 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 인에이블신호(EN)가 인가되는 제3 엔모스 트랜지스터(NM13)와, 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM11)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM11)의 공통 연결된 드레인의 전압을 반전시켜 출력신호(OUT)를 출력하는 제1 인버터(INV11)를 포함하여 구성된다.FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a differential type input buffer. As shown in FIG. 2, an internal power supply voltage QVDD is applied to a source, a gate is commonly connected, and a first supply voltage is applied to a bulk. A MOS transistor PM11, a second PMOS transistor PM12 having a gate and a drain connected in common, and a drain connected to the drains of the first and second PMOS transistors PM11 and PM12, respectively, and a source connected in common; The first and second NMOS transistors NM11 and NM12 to which an internal ground voltage QVSS is applied to the bulk, and an external input signal EXTIN and an internal reference voltage VREF are applied to the gate, respectively, and a drain thereof. A third NMOS connected to the common source of the first and second NMOS transistors NM11 and NM12, an internal ground voltage QVSS is applied to the drain and the bulk, and an enable signal EN is applied to the gate Transistor NM13 and said first PMOS Transistor (PM11) of the first en invert the voltage of the common connected drains of the MOS transistor (NM11) is configured to include a first inverter (INV11) to output an output signal (OUT).

이러한 경우 외부의 입력 전압 레벨이 '하이' 임을 인식할 수 있는 최저 레벨(VIH)과 '로우' 임을 인식할 수 있는 최고 레벨(VIL)이 스펙(SPEC) 상에 정의되어 있다. 일반적인 경우 내부 입력 버퍼의 전압 레벨은 노이즈가 적은 내부 전원전압(QVDD)을 사용한다.In this case, the specification (SPEC) defines the lowest level (VIH) for recognizing that the external input voltage level is 'high' and the highest level (VIL) for recognizing the 'low'. In general, the voltage level of the internal input buffer uses a low noise internal power supply voltage (QVDD).

도 3 은 상기 내부 전원전압(QVDD)을 만드는 회로의 블록도로써, 외부 전원전압(VEXT)에 의해 기준전압(VREF08)을 만드는 기준전압 발생부(1)와, 상기 기준전압(VREF08)을 레벨쉬프트부(2)에 의해 설정전압(VR1)을 발생하고, 상기 설정전압(VR1)과 번인 레벨 검출부(3)의 번인 제어신호(BICON)를 멀티플렉서(4)에 의해 일반 동작과 번인 모드를 구분하여 예를 들어 2.5 V의 내부 전원전압(QVDD)을 발생시키기 위한 제어전압(VR25)을 출력한다.FIG. 3 is a block diagram of a circuit for making the internal power supply voltage QVDD. The reference voltage generator 1 generates a reference voltage VREF08 by an external power supply voltage VEXT, and the reference voltage VREF08 is leveled. The shifter 2 generates the set voltage VR1, and the multiplexer 4 separates the burn-in control signal BICON of the set voltage VR1 and the burn-in level detection unit 3 into a normal operation and a burn-in mode. For example, the control voltage VR25 for generating the internal power supply voltage QVDD of 2.5 V is output.

상기 제어전압(VR25)에 의해 내부 전원전압 드라이버(5)에 의해 2.5 V 레벨을 유지하는 내부 전원전압(QVDD)을 출력하게 된다.The control voltage VR25 causes the internal power supply voltage driver 5 to output the internal power supply voltage QVDD maintaining a 2.5 V level.

또한, 상기 전원전압(VDD)도 상기 내부 전원전압(QVDD)을 발생시키는 방법과 동일한 방법에 의해 발생한다.The power supply voltage VDD is also generated by the same method as the method of generating the internal power supply voltage QVDD.

한편, 상기 차동 타입 입력 버퍼에 사용되는 내부 기준전압(VREF)을 발생하기 위해서도 상기 내부 전원전압(QVDD)을 발생시키는 방법과 동일한 방법에 의해 발생된다.On the other hand, in order to generate the internal reference voltage (VREF) used for the differential type input buffer is generated by the same method as the method for generating the internal power supply voltage (QVDD).

그런데, 도 4 에 도시된 바와 같이, 칩의 번인 모드의 경우에 외부 전원전압(VEXT)의 레벨이 높아지게 되면, 어느 정도까지는 외부 전원전압(VEXT)에 관계없이 내부 전압(VDD, QVDD, VREF)의 레벨은 일정하지만, 외부 전원전압(VEXT)의 레벨이 계속 높아지면, 외부 전원전압(VEXT)에 따라 내부 전압(VDD, QVDD, VREF) 레벨도 비례하여 높아지게 된다.However, as shown in FIG. 4, when the level of the external power supply voltage VEXT is increased in the burn-in mode of the chip, the internal voltages VDD, QVDD, and VREF may be to some extent irrespective of the external power supply voltage VEXT. Although the level is constant, when the level of the external power supply voltage VEXT continues to increase, the level of the internal voltages VDD, QVDD, and VREF also increases proportionally according to the external power supply voltage VEXT.

그리고, 스페셜 방식 테스트(SFT; special function test)를 수행할 때, 외부 전원전압(VEXT)의 레벨과 내부 전압(VDD, QVDD)의 레벨이 같아지는 경우도 있다.When the special function test (SFT) is performed, the level of the external power supply voltage VEXT and the internal voltages VDD and QVDD may be the same.

이때, 버퍼 회로의 내부 전원전압(QVDD)의 레벨이 올라가면, 하이로 인식할 수 있는 외부 전압 레벨 또한 올라가게 되고, 입력 전위가 '하이' 임을 인식할 수 있는 최저 레벨(VIH)이 올라가게 되어 하이레벨의 데이터를 로우 레벨로 잘못 인식하게 되는 오동작을 하는 확률이 높아지게 되는 문제점이 발생하였다.At this time, when the level of the internal power supply voltage QVDD of the buffer circuit increases, the external voltage level that can be recognized as high also increases, and the minimum level VIH that recognizes that the input potential is 'high' goes up. There is a problem in that the probability of malfunction that causes the high level data to be incorrectly recognized as the low level increases.

이와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 칩 내부에서 사용하는 각 내부 전압의 전압 레벨을 분리하여 입력 버퍼에 사용하는 내부 전원전압과 내부 기준전압을 외부 전원의 레벨에 관계없이 일정한 값을 유지하여 안정된 동작을 수행할 수 있는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems is to separate the voltage level of each internal voltage used in the chip to set a constant value regardless of the level of the internal power supply voltage and the internal reference voltage used in the input buffer regardless of the level of the external power supply. A semiconductor memory device including an input buffer capable of holding and performing a stable operation is provided.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치는,A semiconductor memory device including an input buffer of the present invention for achieving the above object,

상기 입력버퍼는 내부회로에 사용되는 제1 내부 전원전압과 상기 입력버퍼에 사용되는 제2 내부 전원전압에 의해 구동되는 레벨쉬프트부를 포함하여 구성되고,The input buffer includes a level shift unit driven by a first internal power supply voltage used in an internal circuit and a second internal power supply voltage used in the input buffer.

상기 내부회로에 사용되는 제1 내부 전원전압과 상기 입력버퍼에 사용되는 제2 내부 전원전압을 번인 모드에서 외부전압이 증가하더라도 일정전압을 유지하는 것을 특징으로 한다.The first internal power supply voltage used for the internal circuit and the second internal power supply voltage used for the input buffer are maintained even if the external voltage increases in the burn-in mode.

상술한 목적 및 기타의 목적과 본 발명의 특징 및 이점은 첨부도면과 관련한다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해 질 것이다.The above and other objects and features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 은 일반적인 CMOS 타입의 입력 버퍼를 보인 회로도.1 is a circuit diagram showing a typical CMOS type input buffer.

도 2 는 일반적인 차동 타입의 입력 버퍼를 보인 회로도.2 is a circuit diagram showing an input buffer of a general differential type.

도 3 은 일반적인 내부전원전압(VDD, QVDD) 및 기준전압(VREF)을 발생하는 회로의 블록도.3 is a block diagram of a circuit for generating general internal power supply voltages VDD and QVDD and a reference voltage VREF.

도 4 는 도 3의 블록도에서, 외부전원전압(VEXT)에 따른 내부 전원전압(VDD, QVDD) 및 기준전압(VREF)의 변화를 보인 파형도.4 is a waveform diagram illustrating changes in the internal power supply voltages VDD and QVDD and the reference voltage VREF according to the external power supply voltage VEXT in the block diagram of FIG. 3.

도 5 는 본 발명에 따른 CMOS 타입의 입력 버퍼를 보인 회로도.5 is a circuit diagram showing an input buffer of a CMOS type according to the present invention;

도 6a 및 도 6b 는 본 발명에 따른 전원전압(VDD)을 발생시키는 장치를 보인 회로도.6A and 6B are circuit diagrams showing an apparatus for generating a power supply voltage VDD according to the present invention.

도 7a 및 도 7b 는 본 발명에 따른 내부전원전압(QVDD) 및 기준전압(VREF)을 발생시키는 장치를 보인 회로도.7A and 7B are circuit diagrams showing an apparatus for generating an internal power supply voltage QVDD and a reference voltage VREF according to the present invention.

도 8 은 본 발명에 따른 차동 타입의 입력 버퍼를 보인 회로도.8 is a circuit diagram showing an input buffer of a differential type according to the present invention;

도 9 는 도 5 및 도 7의 회로도에서, 외부 전원전압(VEXT)에 따른 내부 전원전압(VDD, QVDD) 및 기준전압(VREF)의 변화를 보인 파형도.FIG. 9 is a waveform diagram illustrating changes in the internal power supply voltages VDD and QVDD and the reference voltage VREF according to the external power supply voltage VEXT in the circuit diagrams of FIGS. 5 and 7.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

10 : 기준전압 발생부10: reference voltage generator

20 : 레벨쉬프트부20: level shift unit

40, 60 : 멀티플렉서40, 60: multiplexer

50 : 전압드라이버50: Voltage driver

LS1, LS2 : 레벨쉬프트부LS1, LS2: Level Shift Section

INV21-INV23, INV51 : 인버터INV21-INV23, INV51: Inverter

PM21-PM25, PM31-PM312, PM41-PM412, PM51-PM55 : 피모스 트랜지스터PM21-PM25, PM31-PM312, PM41-PM412, PM51-PM55: PMOS transistor

NM21-NM25, NM31-NM313, NM41-NM413, NM51-NM57 : 엔모스 트랜지스터NM21-NM25, NM31-NM313, NM41-NM413, NM51-NM57: NMOS Transistors

도 5 는 본 발명에 따른 CMOS 인버터 타입 입력 버퍼를 보인 회로도로써, 이에 도시된 바와 같이, 인에이블신호(EN)를 순차 반전시키는 제1, 제2 인버터(INV21, INV22)와, 내부 전원전압(QVDD)과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 직렬 연결되고, 게이트가 공통 연결되어 외부 입력신호(EXTIN)가 인가되는 벌크에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터(PM21) 및 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제1 엔모스 트랜지스터(NM21), 게이트에 상기 제2 인버터(INV22)의 출력이 인가되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터(NM22)와, 소오스에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되고, 게이트에 상기 제2 인버터(INV22)의 출력이 인가되어 제어되어 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM21)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM21)의 공통 연결된 드레인의 전압을 풀업시키는 제2 피모스 트랜지스터(PM22)와, 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM21)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM21)의 공통 연결된 드레인의 전압을 쉬프트 하는 레벨쉬프트부(LS1)와, 상기 레벨 쉬프트부(LS1)의 출력을 반전시켜 출력신호(OUT)를 출력하는 제3 인버터(INV23)를 포함하여 구성된다.FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a CMOS inverter type input buffer according to the present invention. As shown in FIG. 5, first and second inverters INV21 and INV22 sequentially inverting the enable signal EN, and an internal power supply voltage. A first PMOS transistor PM21 and a bulk connected in series between the QVDD) and the internal ground voltage QVSS, and having a gate connected in common, and to which the internal power supply voltage QVDD is applied to the bulk to which the external input signal EXTIN is applied. The first NMOS transistor NM21 to which the internal ground voltage QVSS is applied to the gate, and the second NMOS transistor to which the output of the second inverter INV22 is applied to the gate and the internal ground voltage QVSS to the bulk are applied. NM22 and an internal power supply voltage QVDD are applied to a source, and an output of the second inverter INV22 is applied to a gate to control the first PMOS transistor PM21 and the first NMOS transistor NM21. To pull up the voltage of the common connected drain A level shift unit LS1 for shifting a voltage of a drain connected in common between a second PMOS transistor PM22, the first PMOS transistor PM21, and the first NMOS transistor NM21, and the level shift unit And a third inverter INV23 for inverting the output of the LS1 and outputting the output signal OUT.

상기 레벨 쉬프트부(LS1)는 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM21)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM21)의 공통 연결된 드레인의 전압을 반전시키기 위해 내부전원전압(QVDD)과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 직렬 연결되어 벌크가 각각 내부 전원전압(QVDD)과 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터(PM23) 및 제3 엔모스 트랜지스터(NM23)와, 소오스와 벌크에 전원전압(VDD)이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결된 제4, 제5 피모스 트랜지스터(PM24, PM25)와, 드레인이 상기 제4, 제5 피모스 트랜지스터(PM24, PM25)의 드레인에 각각 연결되고, 소오스에 접지전압(VSS)이 인가되고, 게이트가 각각 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM21)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM21)의 공통 연결된 드레인 및 상기 제4 피모스 트랜지스터(PM24)와 제4 엔모스 트랜지스터(NM24)의 공통 연결된 드레인에 연결된 제4, 제5 엔모스 트랜지스터(NM24, NM25)를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM25)와 제5 엔모스 트랜지스터(NM25)의 공통 연결된 드레인의 전압이 출력된다.The level shift part LS1 is disposed between an internal power supply voltage QVDD and an internal ground voltage QVSS to invert a voltage of a drain connected in common between the first PMOS transistor PM21 and the first NMOS transistor NM21. The third PMOS transistor PM23 and the third NMOS transistor NM23, the source and the bulk, which are connected in series to the bulk, and are supplied with an internal power supply voltage QVDD and an internal ground voltage QVSS, respectively. The fourth and fifth PMOS transistors PM24 and PM25 having a power supply voltage VDD applied thereto and whose gates are connected to drains thereof, and drains of the fourth and fifth PMOS transistors PM24 and PM25 respectively. Respectively connected to the source, a ground voltage VSS is applied to a source, and a gate is commonly connected to the first PMOS transistor PM21 and the first NMOS transistor NM21 and the fourth PMOS transistor PM24, respectively. ) And the fourth NMOS transistor (NM2) The fourth and fifth NMOS transistors NM24 and NM25 connected to the common connected drain of 4) may be configured to include voltages of the common connected drains of the fifth PMOS transistor PM25 and the fifth NMOS transistor NM25. Is output.

여기서, 상기 레벨 쉬프트부를 사용하는 이유는 번인 모드 또는 스페셜 방식 테스트(SFT)를 수행할 때 전원전압(VDD)레벨과 내부 전원전압(QVDD) 레벨의 차이가 크게 되었을 때 동작을 안정화시키기 위해서 이다.The level shift unit is used to stabilize the operation when the difference between the power supply voltage VDD level and the internal power supply voltage QVDD level becomes large when the burn-in mode or the special method test SFT is performed.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 CMOS 인버터 타입 입력 버퍼를 사용하는 반도체 메모리 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the semiconductor memory device using the CMOS inverter type input buffer according to the present invention configured as described above is as follows.

일반적인 회로에 사용되는 전원전압(VDD)은 종래에 사용되는 방식과 동일한 방법으로 발생시킨다.The power supply voltage VDD used in the general circuit is generated in the same manner as the conventionally used method.

즉, 기준전압 발생부(10)에서 외부 전원전압(VEXT)에 의해 기준전압(VREF08)을 발생시키고, 상기 기준전압(VREF08)을 레벨 쉬프트부(20)에 의해 쉬프트한 설정전압(VR1)을 발생시키고, 상기 설정전압(VR1)과 번인 레벨 검출부(3)의 번인 제어신호(BICON)를 멀티플렉서(40)에 의해 일반 동작과 번인 모드를 구분하여 예를 들어 2.5 V 전원전압(VDD)을 발생시키기 위한 제어전압(VR25)을 출력한다.That is, the reference voltage generator 10 generates the reference voltage VREF08 by the external power supply voltage VEXT and shifts the set voltage VR1 by shifting the reference voltage VREF08 by the level shifter 20. For example, the set voltage VR1 and the burn-in control signal BICON of the burn-in level detection unit 3 are divided by the multiplexer 40 to generate a 2.5 V power supply voltage VDD, for example, by separating the normal operation and the burn-in mode. The control voltage VR25 is outputted.

이어서, 상기 제어전압(VR25)에 의해 전원전압 드라이버(50)에 의해 2.5 V 레벨을 유지하는 전원전압(VDD)을 출력하게 된다.Subsequently, the control voltage VR25 outputs a power supply voltage VDD maintained at a 2.5 V level by the power supply voltage driver 50.

따라서, 상기 전원전압(VDD)은 도 9에 도시된 바와 같이, 정상모드에서는 외부 전원전압(VEXT)이 증가하게 되면 동일하게 전원전압(VDD)도 증가하다가 2.5 V가 되면, 상기 제어전압(VR25)에 의해 2.5 V 레벨을 유지하게 된다. 이어서, 외부 전원전압(VEXT)이 계속 증가하여 4.3 V 가 되면, 외부 전원전압(VEXT)의 증가에 따라 전원전압(VDD)도 증가하게 된다. 여기서, 소자에 따라 외부 전원전압(VEXT)이 계속 증가하더라도 전원전압(VDD)을 2.5 V 레벨로 계속 유지하여 사용할 수도 있다.Accordingly, as shown in FIG. 9, when the external power supply voltage VEXT increases in the normal mode, the power supply voltage VDD also increases, and when the power supply voltage VDD reaches 2.5 V, the control voltage VR25. To maintain the 2.5 V level. Subsequently, when the external power supply voltage VEXT continues to increase to 4.3 V, the power supply voltage VDD also increases as the external power supply voltage VEXT increases. Here, even if the external power supply voltage VEXT continues to increase depending on the device, the power supply voltage VDD may be continuously maintained at a 2.5 V level.

번인 모드에서는 외부 전원전압(VEXT)이 증가함에 따라 전원전압(VDD)도 동일하게 증가한다.In the burn-in mode, as the external power supply voltage VEXT increases, the power supply voltage VDD also increases.

상기 전원전압(VDD)을 발생하기 위한 회로를 도 6a 및 도 6b에 도시하였다.6A and 6B show a circuit for generating the power supply voltage VDD.

즉, 도 6a에 도시된 바와 같이, 상기 기준전압 발생부(10)는 게이트에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 소오스, 드레인 및 벌크가 공통 연결된 제1 엔모스 트랜지스터(NM31)와, 드레인이 상기 제1 엔모스 트랜지스터(NM31)의 공통 연결된 소오스 및 드레인에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터(NM32)와, 게이트에 상기 제1 엔모스 트랜지스터(NM31)의 공통 연결된 소오스와 드레인 및 제2 엔모스트랜지스터(NM32)의 드레인이 공통 연결된 노드가 연결되고, 소오스와 드레인에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되어 드레인에서 기준전압(VREF08)을 출력하는 제3 엔모스 트랜지스터(NM33)를 포함하여 구성된다.That is, as shown in FIG. 6A, the reference voltage generator 10 has an external power supply voltage VEXT applied to a gate, and a first NMOS transistor NM31 and a drain having a common source, drain, and bulk. A second NMOS transistor connected to a source and a drain connected to the first NMOS transistor NM31, an internal ground voltage QVSS is applied to the source and the bulk, and an external power supply voltage VEXT is applied to the gate. An NM32 and a node having a common source and drain of the first NMOS transistor NM31 and a drain of the second NMOS transistor NM32 connected to each other are connected to the gate, and an internal ground voltage QVSS connected to the source and the drain. ) Is applied to the third NMOS transistor NM33 to output the reference voltage VREF08 at the drain.

상기 레벨 쉬프트부(20)는 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제1 피모스 트랜지스터(PM31) 및 제2 피모스 트랜지스터(PM32)와, 드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터(PM31, PM32)의 드레인에 각각 연결되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제4 엔모스 트랜지스터(NM34) 및 소오스에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제5 엔모스 트랜지스터(NM35)와, 상기 제4 엔모스 트랜지스터(NM34)의 드레인과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 연결된 저항소자(R)를 포함하여 구성되어 상기 제2 피모스 트랜지스터(PM32)와 제5 엔모스 트랜지스터(NM35)의 공통 연결된 드레인에서 설정전압(VR1)이 출력된다.The level shift unit 20 includes a first PMOS transistor PM31 and a second PMOS transistor PM32 to which an external power supply voltage is applied to a source and a bulk, a gate is commonly connected, and a gate is commonly connected to a drain; A fourth NMOS transistor NM34 and a source having a drain connected to the drains of the first and second PMOS transistors PM31 and PM32, a gate connected in common, and an internal ground voltage QVSS applied to the bulk. An internal ground voltage QVSS is applied to the resistor, and a fifth NMOS transistor NM35 having a gate commonly connected to the drain, and a resistor connected between the drain of the fourth NMOS transistor NM34 and the internal ground voltage QVSS. And a set voltage VR1 is output from a drain connected to the second PMOS transistor PM32 and the fifth NMOS transistor NM35 in common.

상기 멀티플렉서(30)는 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터(PM33) 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제4 피모스 트랜지스터(PM34)와, 드레인이 상기 제3, 제4 피모스 트랜지스터(PM34, PM35)의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가된 제6 엔모스 트랜지스터(NM36) 및 제7 엔모스 트랜지스터(NM37)와, 드레인이 상기 제6, 제7 엔모스 트랜지스터(NM36, NM37)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가된 제8 엔모스 트랜지스터(NM38)와, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터(NM37)의 게이트에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제9 엔모스 트랜지스터(NM39)와, 외부 전원전압(VEXT)과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 상기 제3 피모스 트랜지스터(PM33) 및 제6 엔모스 트랜지스터(NM36)의 공통 연결된 드레인에 연결된 제5 피모스 트랜지스터(PM35), 벌크와 소오스가 공통 연결되고, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터(NM37)의 게이트에 연결된 제6 피모스 트랜지스터(PM36) 및 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트가 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM35)의 드레인 및 제6 피모스 트랜지스터(PM36)의 소오스가 공통 연결된 노드에 연결된 제10 엔모스 트랜지스터(NM310)와, 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM35)의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터(PM36)의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터(NM310)의 게이트가 공통 연결된 노드의 전압을 외부 전원전압(VEXT)을 일정전압으로 전압 강하된 전압으로 풀업시키는 전압 강하부(41)를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM35)의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터(PM36)의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터(NM310)의 게이트가 공통 연결된 노드에서의 전압이 제어전압(VR25)으로 출력된다. 여기서, 상기 전압강하부(41)는 외부 전원전압(VEXT)과 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM35)의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터(PM36)의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터(NM310)의 게이트가 공통 연결된 노드 사이에 직렬 연결되고, 벌크에외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제7, 제8 피모스 트랜지스터(PM37, PM38) 및 게이트가 내부 접지전압(QVSS)에 연결된 제9 피모스 트랜지스터(PM39)를 포함하여 구성된다.The multiplexer 30 includes an external power supply voltage VEXT applied to a source and a bulk, a third PMOS transistor PM33 having a common gate connected thereto, a fourth PMOS transistor PM34 having a common gate connected to the drain, and a drain. The third and fourth PMOS transistors PM34 and PM35 are connected to drains, respectively, an internal ground voltage QVSS is applied to a bulk, a source is commonly connected, and the set voltage VR1 is applied to a gate. The sixth NMOS transistor NM36 and the seventh NMOS transistor NM37 and a drain are connected to a common connected source of the sixth and seventh NMOS transistors NM36 and NM37, and are internally grounded to the source and the bulk. An eighth NMOS transistor NM38 to which a voltage QVSS is applied, the set voltage VR1 is applied to a gate thereof, and a gate and a drain thereof are commonly connected to a gate of the seventh NMOS transistor NM37. , Sour and bulk inside The ninth NMOS transistor NM39 to which the ground voltage QVSS is applied is connected in series between the external power supply voltage VEXT and the internal ground voltage QVSS, and the external power supply voltage VEXT is applied to the bulk, and the gate A fifth PMOS transistor PM35 connected to a common connected drain of the third PMOS transistor PM33 and the sixth NMOS transistor NM36, a bulk and a source are commonly connected, and a gate and a drain are commonly connected to each other. The internal ground voltage QVSS is applied to the sixth PMOS transistor PM36 connected to the gate of the seventh NMOS transistor NM37 and the source and the bulk, and the gate of the fifth PMOS transistor PM35 is drained and formed. A sixth NMOS transistor NM310 connected to a node where a source of the six PMOS transistor PM36 is commonly connected, a drain of the fifth PMOS transistor PM35, a source of the sixth PMOS transistor PM36, and a tenth Nmost The fifth PMOS transistor PM35 includes a voltage drop unit 41 configured to pull up a voltage of a node to which the gate of the jitter NM310 is commonly connected to a voltage lowered from the external power supply voltage VEXT to a predetermined voltage. The voltage at the node where the drain of the source, the source of the sixth PMOS transistor PM36 and the gate of the tenth NMOS transistor NM310 are commonly connected is output as the control voltage VR25. Here, the voltage drop unit 41 includes an external power supply voltage VEXT, a drain of the fifth PMOS transistor PM35, a source of the sixth PMOS transistor PM36, and a gate of the tenth NMOS transistor NM310. Are connected in series between the nodes connected in common, an external power supply voltage VEXT is applied to the bulk, and the seventh and eighth PMOS transistors PM37 and PM38 connected in common to the drain and the gate are internal ground voltage QVSS. And a ninth PMOS transistor PM39 connected thereto.

상기 전원전압 드라이버(50)는 도 6b에 도시된 바와 같이, 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제10 피모스 트랜지스터(PM310) 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제11 피모스 트랜지스터(PM311)와, 드레인이 상기 제10, 제11 피모스 트랜지스터(PM310, PM311)의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 제어전압(VR25)이 인가되는 제11 엔모스 트랜지스터(NM311) 및 제12 엔모스 트랜지스터(NM312)와, 드레인이 상기 제11, 제12 엔모스 트랜지스터(NM311, NM312)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가되는 제13 엔모스 트랜지스터(NM313)와, 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 상기 제10 피모스 트랜지스터(PM310) 및 제11 엔모스 트랜지스터(NM311)의 공통 연결된 드레인에 연결되고, 드레인이 상기 제12 엔모스 트랜지스터(NM312)의 게이트에 연결되어 전원전압(VDD)의 레벨을 드라이브하는 제12 피모스 트랜지스터(PM312)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 6B, the power supply voltage driver 50 includes an external power supply voltage VEXT applied to a source and a bulk, and a gate connected to a drain and a tenth PMOS transistor PM310 and a gate connected to a drain. An 11 PMOS transistor PM311 and a drain are respectively connected to drains of the 10th and 11th PMOS transistors PM310 and PM311, an internal ground voltage QVSS is applied to the bulk, and a source is commonly connected; A source connected to the eleventh NMOS transistor NM311 and the twelfth NMOS transistor NM312 to which the control voltage VR25 is applied to a gate, and a drain thereof are commonly connected to the eleventh and twelfth NMOS transistors NM311 and NM312. A thirteenth NMOS transistor NM313 connected to the source, the internal ground voltage QVSS is applied to the source and the bulk, and the set voltage VR1 is applied to the gate, and an external power supply voltage VEXT at the source and the bulk. Applied, the gate A drain connected to a common connection drain of the tenth PMOS transistor PM310 and an eleventh NMOS transistor NM311 and a drain connected to a gate of the twelfth NMOS transistor NM312 to adjust a level of a power supply voltage VDD. And a twelfth PMOS transistor PM312 for driving.

한편, 상기 내부 전원전압(QVDD)을 발생하는 회로는 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 기준전압 발생부(10)에서 외부 전원전압(VEXT)에 의해 기준전압(VREF08)을 발생시키고, 상기 기준전압(VREF08)을 레벨 쉬프트부(20)에 의해 쉬프트한 설정전압(VR1)을 발생시키고, 상기 설정전압(VR1)과 번인 레벨 검출부(30)의 번인 제어신호(BICON)를 상기 전원전압(VDD)을 발생시키기 위한 멀티플렉서(40)에서 출력단자에 연결된 전압강하부(41)를 제거한 새로운 멀티플렉서(60)에 의해 일반동작과 번인 모드에서 외부 전원전압(VEXT)이 증가하더라도 2.5 V 레벨을 유지하기 위한 제어전압(QVR25)을 출력한다.Meanwhile, the circuit for generating the internal power supply voltage QVDD generates the reference voltage VREF08 by the external power supply voltage VEXT in the reference voltage generator 10, as shown in FIGS. 7A and 7B. The set voltage VR1 obtained by shifting the reference voltage VREF08 by the level shift unit 20 is generated, and the burn-in control signal BICON of the set voltage VR1 and the burn-in level detection unit 30 is supplied to the power supply voltage. The new multiplexer 60 removes the voltage drop section 41 connected to the output terminal of the multiplexer 40 for generating (VDD) even when the external power supply voltage VEXT increases in normal operation and burn-in mode. The control voltage QVR25 for holding is output.

이어서, 상기 제어전압(QVR25)에 의해 전원전압 드라이버(50)에 의해 2.5 V 레벨을 유지하는 내부 전원전압(QVDD)을 출력하게 된다.Subsequently, the power supply voltage driver 50 outputs the internal power supply voltage QVDD maintained at a 2.5 V level by the control voltage QVR25.

상기 차동 타입 입력 버퍼에 사용되는 내부 기준전압(VREF)을 외부 전원전압(VEXT)이 증가하더라도 2.5 V 레벨을 유지할 수 있는 전압으로 발생시키기 위해서는 상기 내부 전원전압(QVDD)을 발생하기 위한 회로와 동일한 회로에 의해 발생시킨다.In order to generate the internal reference voltage VREF used in the differential input buffer to a voltage capable of maintaining the 2.5 V level even when the external power supply voltage VEXT increases, the same circuit as that for generating the internal power supply voltage QVDD is used. Generated by the circuit.

따라서, 상기 내부 전원전압(QVDD) 및 내부 기준전압(VREF)은 도 10에 도시된 바와 같이 정상 모드와 번인 모드에서 동일하게 외부 전원전압(VEXT)이 증가하게 되면 2.5 V 까지는 외부전압과 동일하게 증가하다가 상기 제어전압(QVR25)에 의해 2.5 V 레벨을 유지하게 된다.Accordingly, the internal power supply voltage QVDD and the internal reference voltage VREF are equal to the external voltage up to 2.5 V when the external power supply voltage VEXT is increased in the normal mode and the burn-in mode as shown in FIG. 10. It increases and maintains 2.5V level by the control voltage QVR25.

상기 기준전압 발생부(10)는 게이트에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 소오스, 드레인 및 벌크가 공통 연결된 제1 엔모스 트랜지스터(NM41)와, 드레인이 상기 제1 엔모스 트랜지스터(NM41)의 공통 연결된 소오스 및 드레인에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터(NM42)와, 게이트에 상기 제1 엔모스트랜지스터(NM41)의 공통 연결된 소오스와 드레인 및 제2 엔모스 트랜지스터(NM42)의 드레인이 공통 연결된 노드가 연결되고, 소오스와 드레인에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되어 드레인에서 기준전압(VREF08)을 출력하는 제3 엔모스 트랜지스터(NM43)를 포함하여 구성된다.The reference voltage generator 10 has an external power supply voltage VEXT applied to a gate thereof, and a first NMOS transistor NM41 having a source, a drain, and a bulk connected in common, and a drain thereof having the first NMOS transistor NM41. A second NMOS transistor NM42 connected to a common source and drain of the second source, an internal ground voltage QVSS applied to the source and the bulk, and an external power supply voltage VEXT applied to a gate thereof, and a gate of the first NMOS transistor NM42. A node connected to a common source and drain of the NMOS transistor NM41 and a drain of the second NMOS transistor NM42 is connected, and an internal ground voltage QVSS is applied to the source and the drain so that the reference voltage VREF08 is applied at the drain. ) Is configured to include a third NMOS transistor NM43.

상기 레벨 쉬프트부(20)는 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제1 피모스 트랜지스터(PM41) 및 제2 피모스 트랜지스터(PM42)와, 드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터(PM41, PM42)의 드레인에 각각 연결되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제4 엔모스 트랜지스터(NM44) 및 소오스에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제5 엔모스 트랜지스터(NM45)와, 상기 제4 엔모스 트랜지스터(NM44)의 드레인과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 연결된 저항소자(R)를 포함하여 구성되어 상기 제2 피모스 트랜지스터(PM42)와 제5 엔모스 트랜지스터(NM45)의 공통 연결된 드레인에서 설정전압(VR1)이 출력된다.The level shift unit 20 includes a first PMOS transistor PM41 and a second PMOS transistor PM42 having an external power supply voltage applied to a source and a bulk, a gate of which is commonly connected, and a gate of which is commonly connected to a drain; A fourth NMOS transistor NM44 and a source having a drain connected to the drains of the first and second PMOS transistors PM41 and PM42, the gates connected in common, and an internal ground voltage QVSS applied to the bulk. An internal ground voltage QVSS is applied to the fifth NMOS transistor NM45 having a gate commonly connected to the drain, and a resistor connected between the drain of the fourth NMOS transistor NM44 and the internal ground voltage QVSS. The set voltage VR1 may be output from the drain connected to the second PMOS transistor PM42 and the fifth NMOS transistor NM45.

상기 멀티플렉서(60)는 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터(PM43) 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제4 피모스 트랜지스터(PM44)와, 드레인이 상기 제3, 제4 피모스 트랜지스터(PM44, PM45)의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가된 제6 엔모스 트랜지스터(NM46) 및 제7 엔모스 트랜지스터(NM47)와, 드레인이 상기 제6,제7 엔모스 트랜지스터(NM46, NM47)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가된 제8 엔모스 트랜지스터(NM48)와, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터(NM47)의 게이트에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되는 제9 엔모스 트랜지스터(NM49)와, 외부 전원전압(VEXT)과 내부 접지전압(QVSS) 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 상기 제3 피모스 트랜지스터(PM43) 및 제6 엔모스 트랜지스터(NM46)의 공통 연결된 드레인에 연결된 제5 피모스 트랜지스터(PM45), 벌크와 소오스가 공통 연결되고, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터(NM47)의 게이트에 연결된 제6 피모스 트랜지스터(PM46) 및 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트가 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM45)의 드레인 및 제6 피모스 트랜지스터(PM46)의 소오스가 공통 연결된 노드에 연결된 제10 엔모스 트랜지스터(NM410)를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터(PM45)의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터(PM46)의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터(NM410)의 게이트가 공통 연결된 노드에서의 전압이 제어전압(VR625)으로 출력된다.The multiplexer 60 includes an external power supply voltage VEXT applied to a source and a bulk, a third PMOS transistor PM43 having a common gate connected thereto, a fourth PMOS transistor PM44 having a common gate connected to the drain, and a drain. The third and fourth PMOS transistors PM44 and PM45 are respectively connected to drains, an internal ground voltage QVSS is applied to a bulk, a source is commonly connected, and the set voltage VR1 is applied to a gate. The sixth NMOS transistor NM46 and the seventh NMOS transistor NM47 and a drain are connected to a common connected source of the sixth and seventh NMOS transistors NM46 and NM47, and are internally grounded to the source and the bulk. An eighth NMOS transistor NM48 to which a voltage QVSS is applied, the set voltage VR1 is applied to a gate thereof, and a gate and a drain thereof are commonly connected to a gate of the seventh NMOS transistor NM47. , Sour and bulk inside The ninth NMOS transistor NM49 to which the ground voltage QVSS is applied is connected in series between the external power supply voltage VEXT and the internal ground voltage QVSS, and the external power supply voltage VEXT is applied to the bulk, and the gate A fifth PMOS transistor PM45 connected to a common connected drain of the third PMOS transistor PM43 and the sixth NMOS transistor NM46, a bulk and a source are commonly connected, and a gate and a drain are commonly connected to each other. The internal ground voltage QVSS is applied to the sixth PMOS transistor PM46 connected to the gate of the seventh NMOS transistor NM47 and the source and the bulk, and the gate of the fifth PMOS transistor PM45 is drained and formed. A source of the sixth PMOS transistor PM46 includes a tenth NMOS transistor NM410 connected to a node to which a common PMOS transistor PM46 is connected, and a source of the fifth PMOS transistor PM46 and a source of the sixth PMOS transistor PM46. And a voltage at a node to which the gates of the tenth NMOS transistor NM410 are commonly connected are output as the control voltage VR625.

상기 전원전압 드라이버(50)는 도 7b에 도시된 바와 같이, 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제10 피모스 트랜지스터(PM410) 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제11 피모스 트랜지스터(PM411)와, 드레인이 상기 제10, 제11 피모스 트랜지스터(PM410, PM411)의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 제어전압(VR25)이 인가되는 제11 엔모스 트랜지스터(NM411) 및 제12 엔모스 트랜지스터(NM412)와, 드레인이 상기 제11, 제12 엔모스 트랜지스터(NM411, NM412)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압(VR1)이 인가되는 제13 엔모스 트랜지스터(NM413)와, 소오스와 벌크에 외부 전원전압(VEXT)이 인가되고, 게이트가 상기 제10 피모스 트랜지스터(PM410) 및 제11 엔모스 트랜지스터(NM411)의 공통 연결된 드레인에 연결되고, 드레인이 상기 제12 엔모스 트랜지스터(NM412)의 게이트에 연결되어 전원전압(VDD)의 레벨을 드라이브하는 제12 피모스 트랜지스터(PM412)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 7B, the power supply voltage driver 50 includes an external power supply voltage VEXT applied to a source and a bulk, a gate connected to a drain, and a tenth PMOS transistor PM410 and a gate connected to a drain. An 11 PMOS transistor PM411 and a drain are respectively connected to drains of the 10th and 11th PMOS transistors PM410 and PM411, an internal ground voltage QVSS is applied to the bulk, and a source is commonly connected; A source connected to an eleventh NMOS transistor NM411 and a twelfth NMOS transistor NM412 to which a control voltage VR25 is applied to a gate, and a drain thereof are commonly connected to the eleventh and twelfth NMOS transistors NM411 and NM412. The NMOS413 is connected to the source, the internal ground voltage QVSS is applied to the source and the bulk, and the set voltage VR1 is applied to the gate, and the external power supply voltage VEXT is applied to the source and the bulk. Applied, the gate The drain of the tenth PMOS transistor PM410 and the eleventh NMOS transistor NM411 is connected to a gate of the twelfth NMOS transistor NM412, and the level of the power supply voltage VDD is increased. And a twelfth PMOS transistor PM412 for driving.

도 8 은 본 발명에 따른 차동 타입 입력 버퍼를 보인 회로도로써, 이에 도시된 바와 같이, 소오스에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 전원전압(QVDD)이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터(PM51) 및 게이트와 드레인이 공통 연결된 제2 피모스 트랜지스터(PM52)와, 드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터(PM51, PM52)의 드레인에 각각 연결되고, 소오스가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 각각 외부 입력신호(EXTIN) 및 내부 기준전압(VREF)이 인가되는 제1, 제2 엔모스 트랜지스터(NM51, NM52)와, 상기 제2 엔모스 트랜지스터(NM52)의 게이트에 인가되는 내부 기준전압(VREF)을 안정화시키기 위해 드레인, 소오스 및 벌크가 공통 접속되어 내부 접지전압(QVSS)에 접속되고, 게이트가 상기 제2 엔모스 트랜지스터(NM52)의 게이트에 접속된 제4 엔모스 트랜지스터(NM54)와, 드레인이 상기 제1, 제2 엔모스 트랜지스터(NM51, NM52)의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 드레인과 벌크에 내부 접지전압(QVSS)이 인가되고, 게이트에 인에이블신호(EN)가 인가되는 제3 엔모스 트랜지스터(NM53)와, 상기 제1 피모스 트랜지스터(PM51)와 제1 엔모스 트랜지스터(NM51)의 공통 연결된 드레인의 전압을 쉬프트 하는 레벨 쉬프트부(LS2)와, 상기 레벨 쉬프트부(LS2)의 출력을 반전시켜 출력신호(OUT)를 출력하는 제1 인버터(INV51)를 포함하여 구성된다.FIG. 8 is a circuit diagram illustrating a differential type input buffer according to the present invention. As shown therein, an internal power supply voltage QVDD is applied to a source, a gate is commonly connected, and an internal power supply voltage QVDD is applied to a bulk. A first PMOS transistor PM51 and a second PMOS transistor PM52 having a gate and a drain connected in common, and a drain connected to the drains of the first and second PMOS transistors PM51 and PM52, respectively. Are commonly connected, the internal ground voltage QVSS is applied to the bulk, and the first and second NMOS transistors NM51 and NM52 to which the external input signal EXTIN and the internal reference voltage VREF are respectively applied to the gate. In order to stabilize the internal reference voltage VREF applied to the gate of the second NMOS transistor NM52, a drain, a source, and a bulk are commonly connected to an internal ground voltage QVSS, and a gate is connected to the second NMOS transistor NM52. MOS transistor A fourth NMOS transistor NM54 connected to the gate of NM52 and a drain are connected to a common connected source of the first and second NMOS transistors NM51 and NM52, and an internal ground voltage is applied to the drain and the bulk. QVSS is applied and the enable signal EN is applied to the gate of the third NMOS transistor NM53 and the drain connected in common with the first PMOS transistor PM51 and the first NMOS transistor NM51. And a first inverter INV51 for inverting the output of the level shift unit LS2 and outputting the output signal OUT.

상기 레벨 쉬프트부(LS2)의 구성은 상기 도 5에 도시된 CMOS 인버터 타입 입력 버퍼에 사용된 레벨 쉬프트부(LS1)의 구성과 동일하게 구성된다.The configuration of the level shift unit LS2 is the same as that of the level shift unit LS1 used in the CMOS inverter type input buffer shown in FIG.

이와 같이 구성된 차동 타입 입력버퍼를 사용하는 반도체 메모리 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the semiconductor memory device using the differential type input buffer configured as described above is as follows.

일반적인 회로에 사용되는 전원전압(VDD)은 도 7에 도시된 바와 같이 종래에 사용되는 방식과 동일한 방법으로 발생시킨다.The power supply voltage VDD used in the general circuit is generated in the same manner as conventionally used as shown in FIG.

따라서, 상기 전원전압(VDD)은 도 9에 도시된 바와 같이, 정상모드에서는 외부 전원전압(VEXT)이 증가하게 되면 동일하게 전원전압(VDD)도 증가하다가 2.5 V가 되면, 상기 제어전압(VR25)에 의해 2.5 레벨을 유지하게 된다. 이어서, 외부 전원전압(VEXT)이 계속 증가하여 4.3 V 가 되면, 외부 전원전압(VEXT)의 증가에 따라 전원전압(VDD)도 증가하게 된다. 여기서, 소자에 따라 외부 전원전압(VEXT)이 계속 증가하더라도 전원전압(VDD)을 2.5 V 레벨로 계속 유지하여 사용할 수도 있다.Accordingly, as shown in FIG. 9, when the external power supply voltage VEXT increases in the normal mode, the power supply voltage VDD also increases, and when the power supply voltage VDD reaches 2.5 V, the control voltage VR25. To maintain the 2.5 level. Subsequently, when the external power supply voltage VEXT continues to increase to 4.3 V, the power supply voltage VDD also increases as the external power supply voltage VEXT increases. Here, even if the external power supply voltage VEXT continues to increase depending on the device, the power supply voltage VDD may be continuously maintained at a 2.5 V level.

번인 모드에서는 외부 전원전압(VEXT)이 증가함에 따라 전원전압(VDD)도 동일하게 증가한다.In the burn-in mode, as the external power supply voltage VEXT increases, the power supply voltage VDD also increases.

한편, 상기 내부 전원전압(QVDD) 및 내부 기준전압(VREF)은 도 9에 도시된 바와 같이 정상 모드와 번인 모드에서 외부 전원전압(VEXT)이 증가하여 일정레벨(2.5 V) 레벨이 되면, 일정레벨을 계속유지하며, 외부 전원전압(VEXT)이 계속 증가하더라도 일정레벨을 유지하도록 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같은 회로에 의해 발생시키게 된다.Meanwhile, as shown in FIG. 9, the internal power supply voltage QVDD and the internal reference voltage VREF are constant when the external power supply voltage VEXT is increased in the normal mode and the burn-in mode to reach a predetermined level (2.5 V). It is generated by a circuit as shown in Figs. 7A and 7B to maintain the level and to maintain a constant level even when the external power supply voltage VEXT continues to increase.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 외부 전원전압(VEXT)이 계속 상승하더라도 하이레벨로 인식하기 위한 최저 전압(VIH)이 상승되는 것을 방지하여 외부 LVTTL 레벨을 잘못 인식하는 에러를 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention prevents an error of incorrectly recognizing an external LVTTL level by preventing the minimum voltage VIH for recognizing a high level from rising even when the external power supply voltage VEXT continues to rise. There is.

아울러 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위한 것으로, 당업자라면 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상과 범위를 통해 다양한 수정, 변경, 대체 및 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.In addition, a preferred embodiment of the present invention is for the purpose of illustration, those skilled in the art will be able to various modifications, changes, substitutions and additions through the spirit and scope of the appended claims, such modifications and changes are the following claims It should be seen as belonging to a range.

Claims (15)

입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치에 있어서,In a semiconductor memory device including an input buffer, 상기 입력버퍼는 내부회로에 사용되는 제1 내부 전원전압과 상기 입력버퍼에 사용되는 제2 내부 전원전압에 의해 구동되는 레벨 쉬프트 수단을 포함하여 구성되고,The input buffer includes a level shift means driven by a first internal power supply voltage used in an internal circuit and a second internal power supply voltage used in the input buffer. 상기 내부회로에 사용되는 제1 내부 전원전압을 발생시키기 위한 제1 내부전압 발생수단과,First internal voltage generating means for generating a first internal power supply voltage used in the internal circuit; 상기 입력버퍼에 사용되는 제2 내부 전원전압을 발생시키기 위한 제2 내부 전원전압 발생수단을 포함하여 구성되어,A second internal power supply voltage generating means for generating a second internal power supply voltage used in the input buffer, 상기 제2 내부 전원전압 및 내부 기준전압을 번인 모드에서 외부전압이 증가하더라도 일정전압을 유지하는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.And a constant voltage even though an external voltage increases in the burn-in mode of the second internal power supply voltage and the internal reference voltage. 상기 제 1 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 1, 상기 제1 내부 전원전압을 발생시키기 위한 제1 내부전압 발생수단은,The first internal voltage generating means for generating the first internal power supply voltage, 외부 전원전압에 의해 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생수단과,Reference voltage generating means for generating a reference voltage by an external power supply voltage; 상기 기준전압을 쉬프트한 설정전압을 발생시키는 레벨 쉬프트 수단과,Level shift means for generating a set voltage shifted from the reference voltage; 상기 설정전압을 번인 레벨 검출수단의 번인 제어신호에 의해 일반 동작과 번인 모드를 구분하여 상기 제1 내부 전원전압을 발생시키기 위한 제어전압을 발생시키는 제1 멀티플렉서와,A first multiplexer configured to generate a control voltage for generating the first internal power supply voltage by dividing the set voltage into a burn-in control signal of a burn-in level detecting means; 상기 제어전압에 의해 일정 레벨을 유지하는 제1 내부 전원전압을 출력하는 전원전압 드라이버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.And a power supply voltage driver configured to output a first internal power supply voltage maintained at a predetermined level by the control voltage. 상기 제 2 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 2, 상기 기준전압 발생수단은,The reference voltage generating means, 게이트에 외부 전원전압이 인가되고, 소오스, 드레인 및 벌크가 공통 연결된 제1 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스 및 드레인에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 외부 전원전압이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터와, 게이트에 상기 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스와 드레인 및 제2 엔모스 트랜지스터의 드레인이 공통 연결된 노드가 연결되고, 소오스와 드레인에 내부 접지전압이 인가되어 드레인에서 기준전압을 출력하는 제3 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.The first NMOS transistor is connected to the gate with an external power supply voltage, the source, the drain, and the bulk are connected in common, the drain is connected to the common source and the drain of the first NMOS transistor, and the internal ground voltage is applied to the source and the bulk. A second NMOS transistor applied to the gate and an external power supply voltage is applied to the gate; a node connected to the gate of which the drain and the drain of the second NMOS transistor are commonly connected; And a third NMOS transistor configured to apply an internal ground voltage to the drain to output a reference voltage at the drain. 상기 제 2 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 2, 상기 레벨 쉬프트 수단은The level shift means 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제1 피모스 트랜지스터 및 제2 피모스 트랜지스터와,드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제4 엔모스 트랜지스터 및 소오스에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 드레인에 공통 연결된 제5 엔모스 트랜지스터와, 상기 제4 엔모스 트랜지스터의 드레인과 내부 접지전압 사이에 연결된 저항소자를 포함하여 구성되어 상기 제2 피모스 트랜지스터와 제5 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에서 설정전압이 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.An external power supply voltage is applied to the source and the bulk, a gate is commonly connected, and a gate is commonly connected to a drain, and a drain is connected to drains of the first and second PMOS transistors. A fourth NMOS transistor connected to each other, a gate connected in common, an internal ground voltage applied to a bulk, and a fifth NMOS transistor connected to an internal ground voltage applied to a source, and a gate connected to a drain in common; A semiconductor comprising an input buffer including a resistor connected between a drain of the MOS transistor and an internal ground voltage, wherein a set voltage is output from a common connected drain of the second PMOS transistor and the fifth NMOS transistor. Memory device. 상기 제 2 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 2, 상기 멀티플렉서는The multiplexer 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제4 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제3, 제4 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제6 엔모스 트랜지스터 및 제7 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제6, 제7 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제8 엔모스 트랜지스터와, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제9 엔모스 트랜지스터와, 외부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 상기 제3 피모스 트랜지스터 및 제6 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결된 제5 피모스 트랜지스터, 벌크와 소오스가 공통 연결되고, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결된 제6 피모스 트랜지스터 및 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인 및 제6 피모스 트랜지스터의 소오스가 공통 연결된 노드에 연결된 제10 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터의 게이트가 공통 연결된 노드에서의 전압이 제어전압으로 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.An external power supply voltage is applied to the source and the bulk, and a third PMOS transistor having a gate connected in common, a fourth PMOS transistor having a gate connected in common to a drain, and a drain connected to drains of the third and fourth PMOS transistors, respectively. And a sixth NMOS transistor and a seventh NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to a bulk, a source is commonly connected, and the set voltage is applied to a gate, and a drain of the sixth and seventh NMOS transistors An eighth NMOS transistor connected to a commonly connected source, an internal ground voltage applied to the source and the bulk, a set voltage applied to a gate, and a gate and a drain connected to the gate of the seventh NMOS transistor And a ninth NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to the source and the bulk, and between an external power supply voltage and an internal ground voltage. A fifth PMOS transistor, a bulk and a source are connected in series, a gate and a drain are connected in series, an external power supply voltage is applied to the bulk, and a gate is connected to a common connected drain of the third and sixth NMOS transistors. An internal ground voltage is applied to the sixth PMOS transistor and the source and the bulk connected to the gate of the seventh NMOS transistor, and the gate of the drain and the source of the sixth PMOS transistor And a tenth NMOS transistor connected to a commonly connected node such that the voltage at the node where the drain of the fifth PMOS transistor, the source of the sixth PMOS transistor, and the gate of the tenth NMOS transistor are commonly connected to each other is controlled. A semiconductor memory device comprising an input buffer, characterized in that output. 상기 제 2 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 2, 상기 전원전압 드라이버는The power supply voltage driver 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제10 피모스 트랜지스터 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제11 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제10, 제11 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 제어전압이 인가되는 제11 엔모스 트랜지스터 및 제12 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제11, 제12 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가되는 제13 엔모스 트랜지스터와, 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 상기 제10 피모스 트랜지스터 및 제11 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결되고, 드레인이 상기 제12 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결되어 전원전압의 레벨을 드라이브하는 제12 피모스 트랜지스터를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.An external power supply voltage is applied to the source and the bulk, a tenth PMOS transistor having a gate connected in common, an eleventh PMOS transistor having a gate connected to a drain, and a drain connected to drains of the tenth and eleventh PMOS transistors, respectively. The 11th NMOS transistor and the 12th NMOS transistor, wherein the internal ground voltage is applied to the bulk, the source is commonly connected, and the control voltage is applied to the gate, and the drain of the 11th and 12th A thirteenth NMOS transistor connected to a commonly connected source, an internal ground voltage applied to the source and the bulk, a set voltage applied to a gate, an external power supply voltage applied to the source and the bulk, and a gate of the tenth A drain connected to a common connected drain of the MOS transistor and the eleventh NMOS transistor, and the drain of the twelfth NMOS transistor And a twelfth PMOS transistor coupled to a gate of the twelfth PMOS transistor to drive a level of a power supply voltage. 상기 제 1 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 1, 상기 제2 내부 전원전압을 발생시키기 위한 제2 내부 전원전압 발생수단은,Second internal power supply voltage generating means for generating the second internal power supply voltage, 외부 전원전압에 의해 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생수단과,Reference voltage generating means for generating a reference voltage by an external power supply voltage; 상기 기준전압을 쉬프트한 설정전압을 발생시키는 레벨 쉬프트 수단과,Level shift means for generating a set voltage shifted from the reference voltage; 상기 설정전압과 번인 레벨 검출수단의 번인 제어신호를 일반동작과 번인 모드에서 외부 전원전압이 증가하더라도 일정 레벨을 유지하기 위한 제어전압을 출력하는 제2 멀티플렉서와,A second multiplexer for outputting a control voltage for maintaining a constant level even if an external power supply voltage increases in a burn-in control signal of the set voltage and the burn-in level detecting means; 상기 제어전압에 의해 전원전압 드라이버에 의해 일정 레벨을 유지하는 제2 내부 전원전압을 출력하는 전원전압 드라이버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.And a power supply voltage driver configured to output a second internal power supply voltage maintained at a predetermined level by the power supply voltage driver by the control voltage. 상기 제 7 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 7, 상기 멀티플렉서는The multiplexer 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제4 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제3, 제4 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제6 엔모스 트랜지스터 및 제7 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제6, 제7 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제8 엔모스 트랜지스터와, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제9 엔모스 트랜지스터와, 외부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 상기 제3 피모스 트랜지스터 및 제6 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결된 제5 피모스 트랜지스터, 벌크와 소오스가 공통 연결되고, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결된 제6 피모스 트랜지스터 및 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인 및 제6 피모스 트랜지스터의 소오스가 공통 연결된 노드에 연결된 제10 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터의 게이트가 공통 연결된 노드에서의 전압이 제어전압으로 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.An external power supply voltage is applied to the source and the bulk, and a third PMOS transistor having a gate connected in common, a fourth PMOS transistor having a gate connected in common to a drain, and a drain connected to drains of the third and fourth PMOS transistors, respectively. And a sixth NMOS transistor and a seventh NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to a bulk, a source is commonly connected, and the set voltage is applied to a gate, and a drain of the sixth and seventh NMOS transistors An eighth NMOS transistor connected to a commonly connected source, an internal ground voltage applied to the source and the bulk, a set voltage applied to a gate, and a gate and a drain connected to the gate of the seventh NMOS transistor And a ninth NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to the source and the bulk, and between an external power supply voltage and an internal ground voltage. A fifth PMOS transistor, a bulk and a source are connected in series, a gate and a drain are connected in series, an external power supply voltage is applied to the bulk, and a gate is connected to a common connected drain of the third and sixth NMOS transistors. An internal ground voltage is applied to the sixth PMOS transistor and the source and the bulk connected to the gate of the seventh NMOS transistor, and the gate of the drain and the source of the sixth PMOS transistor And a tenth NMOS transistor connected to a commonly connected node such that the voltage at the node where the drain of the fifth PMOS transistor, the source of the sixth PMOS transistor, and the gate of the tenth NMOS transistor are commonly connected to each other is controlled. A semiconductor memory device comprising an input buffer, characterized in that output. 상기 제 1 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 1, 상기 입력버퍼는 CMOS 인버터 타입 입력버퍼 또는 차동 타입 입력버퍼 등을사용하는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.The input buffer is a semiconductor memory device including an input buffer, characterized in that using a CMOS inverter type input buffer or a differential type input buffer. 상기 제 9 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 9, 상기 CMOS 인버터 타입 입력버퍼는The CMOS inverter type input buffer 인에이블신호를 순차 반전시키는 제1, 제2 인버터와, 내부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되고, 게이트가 공통 연결되어 외부 입력신호가 인가되는 벌크에 내부 전원전압이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터 및 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제1 엔모스 트랜지스터, 게이트에 상기 제2 인버터의 출력이 인가되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제2 엔모스 트랜지스터와, 소오스에 내부 전원전압이 인가되고, 게이트에 상기 제2 인버터의 출력이 인가되어 제어되어 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압을 풀업시키는 제2 피모스 트랜지스터와, 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압을 쉬프트 하는 레벨 쉬프트 수단과, 상기 레벨 쉬프트 수단의 출력을 반전시켜 출력신호를 출력하는 제3 인버터를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.First and second inverters for sequentially inverting an enable signal, and a first P that is connected in series between an internal power supply voltage and an internal ground voltage, and has a gate connected in common to apply an internal power supply voltage to a bulk to which an external input signal is applied. A first NMOS transistor, to which an internal ground voltage is applied to a MOS transistor and a bulk, a second NMOS transistor, to which an output of the second inverter is applied to a gate, and an internal ground voltage to a bulk, and an internal power supply voltage to a source. A second PMOS transistor applied to and controlled by the output of the second inverter being applied to a gate to pull up a voltage of a common connected drain of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor; Level shift means for shifting a voltage of a common connected drain of the first NMOS transistor; A semiconductor memory device comprising the input buffer, characterized in that the force reversal configured by including a third inverter for outputting the output signal. 상기 제 10 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 10, 상기 레벨 쉬프트 수단은 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압을 반전시키기 위해 내부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되어 벌크가 각각 내부 전원전압과 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터 및 제3 엔모스 트랜지스터와, 소오스와 벌크2에 전원전압이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결된 제4, 제5 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제4, 제5 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 소오스에 접지전압이 인가되고, 게이트가 각각 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인 및 상기 제4 피모스 트랜지스터와 제4 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결된 제4, 제5 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터와 제5 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압이 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.The level shifting means is connected in series between an internal power supply voltage and an internal ground voltage to invert a voltage of a common connected drain of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, so that a bulk may have an internal power supply voltage and an internal ground voltage. A third PMOS transistor and a third NMOS transistor connected to a common gate thereof, a power supply voltage is applied to the source and the bulk 2, and fourth and fifth PMOS transistors having a gate connected to the drains of each other, and a drain Respectively connected to a drain of the fourth and fifth PMOS transistors, a ground voltage is applied to a source, and a gate is commonly connected to the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, respectively, and the fourth PMOS transistor And fourth and fifth NMOS transistors connected to a common connected drain of the fourth NMOS transistor. And an input buffer for outputting a voltage of a drain connected in common between the fifth PMOS transistor and the fifth NMOS transistor. 상기 제 9 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 9, 상기 차동 타입 입력버퍼는The differential type input buffer 소오스에 내부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결되고, 벌크에 내부 전원전압이 인가되는 제1 피모스 트랜지스터 및 게이트와 드레인이 공통 연결된 제2 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제1, 제2 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 소오스가 공통 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 각각 외부 입력신호 및 내부 기준전압이 인가되는 제1, 제2 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제1, 제2 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 드레인과 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 인에이블신호가 인가되는 제3 엔모스 트랜지스터와, 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압을 쉬프트 하는 레벨 쉬프트 수단과, 상기 레벨 쉬프트 수단의 출력을 반전시켜 출력신호를 출력하는 제3 인버터를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.A first PMOS transistor to which an internal power supply voltage is applied to a source, a gate is commonly connected, and an internal power supply voltage is applied to a bulk, a second PMOS transistor having a gate and a drain connected in common, and a drain to the first and second First and second NMOS transistors connected to the drain of the PMOS transistor, the source is commonly connected, an internal ground voltage applied to the bulk, and an external input signal and an internal reference voltage applied to the gate, respectively, A third NMOS transistor connected to a common source of the first and second NMOS transistors, an internal ground voltage applied to a drain and a bulk, and an enable signal applied to a gate; Level shifting means for shifting the voltage of the common-connected drain of the first NMOS transistor and the output of the level shifting means is inverted. The semiconductor memory device includes an input buffer, characterized in that configured to include a third inverter for outputting the output signal. 상기 제 12 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 12, 상기 레벨 쉬프트 수단은The level shift means 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압을 반전시키기 위해 내부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되어 벌크가 각각 내부 전원전압과 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터 및 제3 엔모스 트랜지스터와, 소오스와 벌크2에 전원전압이 인가되고, 게이트가 서로의 드레인에 연결된 제4, 제5 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제4, 제5 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 소오스에 접지전압이 인가되고, 게이트가 각각 상기 제1 피모스 트랜지스터와 제1 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인 및 상기 제4 피모스 트랜지스터와 제4 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결된 제4, 제5 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터와 제5 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인의 전압이 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.In order to invert the voltage of the common connected drain of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, the bulk is connected between an internal power supply voltage and an internal ground voltage so that an internal power supply voltage and an internal ground voltage are applied, respectively, and a gate A third PMOS transistor and a third NMOS transistor commonly connected to each other, a power source voltage is applied to the source and the bulk 2, and the fourth and fifth PMOS transistors having gates connected to drains of each other, and the drains of the fourth and fifth PMOS transistors; 5 is connected to the drain of the 5 PMOS transistor, a ground voltage is applied to the source, and a gate is commonly connected to the drain of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor, and the fourth PMOS transistor and the fourth NMOS, respectively. The fifth PMOS transistor includes fourth and fifth NMOS transistors connected to a common connected drain of the transistor. A semiconductor memory device comprising the input buffer, characterized in that the register in the fifth en which the output voltage of the common connected drains of the MOS transistors. 상기 제 1 항 또는 제 12 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,The semiconductor memory device of claim 1 or 12, wherein 상기 내부 기준전압을 발생시키기 위한 내부 기준전압 발생수단은,Internal reference voltage generating means for generating the internal reference voltage, 외부 전원전압에 의해 기준전압을 발생시키는 기준전압 발생수단과,Reference voltage generating means for generating a reference voltage by an external power supply voltage; 상기 기준전압을 쉬프트한 설정전압을 발생시키는 레벨 쉬프트 수단과,Level shift means for generating a set voltage shifted from the reference voltage; 상기 설정전압과 번인 레벨 검출수단의 번인 제어신호를 일반동작과 번인 모드에서 외부 전원전압이 증가하더라도 일정 레벨을 유지하기 위한 제어전압을 출력하는 멀티플렉서와,A multiplexer for outputting a control voltage for maintaining a constant level of the burn-in control signal of the set voltage and the burn-in level detecting means even when the external power supply voltage increases in the normal operation and the burn-in mode; 상기 제어전압에 의해 전원전압 드라이버에 의해 일정 레벨을 유지하는 내부 기준전압을 출력하는 전원전압 드라이버를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 입력 버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.And a power supply voltage driver configured to output an internal reference voltage maintaining a constant level by the power supply voltage driver by the control voltage. 상기 제 14 항의 반도체 메모리 장치에 있어서,In the semiconductor memory device of claim 14, 상기 멀티플렉서는The multiplexer 소오스와 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 공통 연결된 제3 피모스 트랜지스터 및 게이트가 드레인에 공통 연결된 제4 피모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제3, 제4 피모스 트랜지스터의 드레인에 각각 연결되고, 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 소오스가 공통 연결되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제6 엔모스 트랜지스터 및 제7 엔모스 트랜지스터와, 드레인이 상기 제6, 제7 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 소오스에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트에 상기 설정전압이 인가된 제8 엔모스 트랜지스터와, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결되고, 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되는 제9 엔모스 트랜지스터와, 외부 전원전압과 내부 접지전압 사이에 직렬 연결되고, 벌크에 외부 전원전압이 인가되고, 게이트가 상기 제3 피모스 트랜지스터 및 제6 엔모스 트랜지스터의 공통 연결된 드레인에 연결된 제5 피모스 트랜지스터, 벌크와 소오스가 공통 연결되고, 게이트와 드레인이 공통 연결되어 상기 제7 엔모스 트랜지스터의 게이트에 연결된 제6 피모스 트랜지스터 및 소오스와 벌크에 내부 접지전압이 인가되고, 게이트가 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인 및 제6 피모스 트랜지스터의 소오스가 공통 연결된 노드에 연결된 제10 엔모스 트랜지스터를 포함하여 구성되어 상기 제5 피모스 트랜지스터의 드레인, 제6 피모스 트랜지스터의 소오스 및 제10 엔모스 트랜지스터의 게이트가 공통 연결된 노드에서의 전압이 제어전압으로 출력되는 것을 특징으로 하는 입력버퍼를 포함하는 반도체 메모리 장치.An external power supply voltage is applied to the source and the bulk, and a third PMOS transistor having a gate connected in common, a fourth PMOS transistor having a gate connected in common to a drain, and a drain connected to drains of the third and fourth PMOS transistors, respectively. And a sixth NMOS transistor and a seventh NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to a bulk, a source is commonly connected, and the set voltage is applied to a gate, and a drain of the sixth and seventh NMOS transistors An eighth NMOS transistor connected to a commonly connected source, an internal ground voltage applied to the source and the bulk, a set voltage applied to a gate, and a gate and a drain connected to the gate of the seventh NMOS transistor And a ninth NMOS transistor to which an internal ground voltage is applied to the source and the bulk, and between an external power supply voltage and an internal ground voltage. A fifth PMOS transistor, a bulk and a source are connected in series, a gate and a drain are connected in series, an external power supply voltage is applied to the bulk, and a gate is connected to a common connected drain of the third and sixth NMOS transistors. An internal ground voltage is applied to the sixth PMOS transistor and the source and the bulk connected to the gate of the seventh NMOS transistor, and the gate of the drain and the source of the sixth PMOS transistor And a tenth NMOS transistor connected to a commonly connected node such that the voltage at the node where the drain of the fifth PMOS transistor, the source of the sixth PMOS transistor, and the gate of the tenth NMOS transistor are commonly connected to each other is controlled. A semiconductor memory device comprising an input buffer, characterized in that output.
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