KR100323708B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법 및 제조장비 - Google Patents
플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법 및 제조장비 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 전극을 제조하는 방법 및 제조장비에 관한 것이다. 종래의 전극제조방법은 전극재료가 많이 소모되고, 전극제조공정에서 전극이 오정렬되는 문제가 있었다. 본 발명에 의한 전극제조방법은 일정한 간격으로 홈이 형성된 성형로울러를 이용하여 전극재료를 상기 홈의 형상으로 전극을 성형하는 단계, 성형된 전극을 상기 기판 위에 전사하는 단계를 포함하여 이루어져 전극재료의 소모량이 줄어드는 효과가 있고, 스크린 마스크를 사용하지 않음으로써 전극의 정렬오차가 발생하지 않는 효과가 있다.
Description
플라즈마 디스플레이 패널과 액정표시장치(LCD)는 평판형 표시장치 중에서 가장 실용성이 높은 차세대 표시장치로 각광받고 있다. 특히 플라즈마 디스플레이 패널은 액정표시장치보다 휘도가 높고 시야각이 넓어 옥외 광고탑 또는, 벽걸이 티브이, 극장용 디스플레이와 같이 박형의 대형 디스플레이로서 응용성이 넓다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 CRT 브라운관과 달리 각 방전셀의 방전에 의해 화면을 표시한다.
일반적인 3전극 면방전 방식의 플라즈마 디스플레이 패널은 도 1a에 도시된 것과 같이 서로 대향하여 설치된 상부기판(10)과 하부기판(20)이 서로 합착되어 구성된다. 도 1b는 도 1a에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널의 단면구조를 도시한 것으로서, 설명의 편의를 위하여 하부기판(20)이 90°회전되어 있다.
상부기판(10)은 한 쌍의 유지전극과, 유지전극을 도포하는 유전층(11), 및 보호막(12)으로 구성되어 있으며, 하부기판(20)은 어드레스전극(22)과, 어드레스전극(22)을 포함한 기판 전면에 형성된 유전체막(21), 어드레스전극(22) 사이의 유전체막(21) 위에 형성된 격벽(23), 그리고 각 방전셀 내의 격벽(23) 및 유전체막(21) 표면에 형성된 형광체(24)로 구성되어 있으며, 상부기판(10)과 하부기판(20) 사이의 공간은 불활성 가스가 봉입되어 방전영역을 이루고 있다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 설치된 격벽(23)은 방전가스 주입구부터 모든 방전셀까지 가스통로를 형성하기 위해 어드레스 전극(22)에 평행한 방향으로 형성되어 있고, 밀봉재(sealing region)로부터 소정의 거리를 두고 설치된다. 그리고, 방전가스 주입구를 통해 주입된 방전가스는 가스통로를 통해 모든 방전셀에 고르게 분포된다.
도 2a는 유지전극(16, 17)의 평면도이며, 도 2b는 유지전극(16, 17)의 단면도이다. 한 쌍의 유지전극은 각 방전셀의 광투과율을 높이기 위하여 도 2a와 도 2b에 도시된 것과 같이 투명전극과 금속전극으로 구성되어 있다. 즉, 유지전극(16)은 투명전극이고, 유지전극(17)은 금속전극이다. 금속전극인 유지전극(17)은 외부에 설치된 구동 IC로부터 방전전압을 인가받고, 투명전극인 유지전극(16)은 금속전극인 유지전극(17)에 인가된 방전전압을 전달받아 방전을 일으키는 것이다. 대략 유지전극의 전체 폭은 300 마이크로 미터(㎛) 정도이며, 투명전극인 유지전극(16)은 산화인듐 또는, 산화주석으로 이루어지고, 금속전극인 유지전극(17)은 크롬(Cr)-구리(Cu)-크롬(Cr)으로 구성된 3층의 박막으로 이루어진다. 이 때, 금속전극 라인의 폭은 대략 유지전극 라인 폭의 1/3 정도로 설정된다.
한 쌍의 유지전극이 투명전극과 금속전극으로 구성된 이유는 투명전극(16)의 높은 투과율과 금속전극(17)의 낮은 저항을 모두 활용할 수 있기 때문이다. 일반적으로 투명전극은 투과율이 높은 대신에 저항이 높고, 금속전극은 저항이 낮은 대신에 투과율이 낮다. 따라서, 유지전극(16, 17)이 투명전극(16)과 금속배선으로 구성되면, 높은 광투과율과 낮은 저항이 일정한 수준으로 보전되는 것이다.
이러한 전극을 형성하는 방법은 투명기판 위에 구리(Cu)와 크롬(Cr)을 차례로 스퍼터링(sputtering)하여 3층의 박막을 형성한 후에 소정의 패턴으로 그 3층의 박막을 에칭(etching)하는 금속박막법과, 은(Ag)을 투명기판 위에 형성한 후에 금속전극을 형성하는 후막 페이스트(paste) 방법이 널리 이용되고 있다.
특히, 후막 페이스트 방법은 도 3a와 도 3b에 도시된 것과 같은 패턴 인쇄법(pattern printing)과 도 4a 내지 도 4c에 도시된 것과 같은 포토리소그래피(photolithography)법이 주로 사용된다. 이 때, 후막 페이스트 방법은 저항이 구리보다 낮고 형성공정이 단순한 감광성 은(Ag)을 주로 이용하여 전극을 형성한다.
그런데, 전극을 형성하는 종래의 방법, 금속박막법과 후막 페이스트 방법은 패터닝을 위하여 사용되는 스크린 마스크(screen mask)의 반복 사용에 따라 형성공정중에 전극이 오정렬되는 문제점이 있다. 전극이 오정렬되는 이유는 스크린 마스크가 고온의 환경 중에 변형되기 때문이다.
이러한 전극의 오정렬은 플라즈마 디스플레이 패널의 방전품질을 저하시키고 크로스토크(Crosstalk)를 야기시킬 뿐만 아니라, 스크린 마스크의 제작비를 증가시키는 결과를 초래한다. 뿐만 아니라, 재료의 손실율이 높아 제조효율이 낮은 문제점이 있다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 형성하고자 하는 전극모양으로 홈이 형성된 성형로울러를 이용하여 전극을 형성함으로써, 제조효율이 높고, 전극이 오정렬되는 비율이 낮은 전극 제조방법 및 제조장비를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1a는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 도시한 사시도.
도 1b는 상기 도 1a에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀을 개략적으로 도시한 단면도.
도 2a는 종래의 유지전극을 개략적으로 도시한 평면도.
도 2b는 상기 도 2a에 도시된 유지전극을 도시한 단면도.
도 3a 내지 도 3b는 전극을 형성하는 종래의 패턴인쇄법을 도시한 공정도.
도 4a 내지 도 4c는 전극을 형성하는 종래의 포토리소그래피법을 도시한 공정도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 전극제조장비.
도 6는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 전극제조장비.
도면의 상세한 기호설명
100 : 성형로울러(제 1 실시예) 100' : 성형로울러(제 2 실시예)
200 : 이송부(탄성로울러) 300 : 기판
400 : 압연로울러 500 : 전극재료(페이스트)
500' : 전극
본 발명은 전극의 재료를 소정의 로울러로 성형하여 기판 위에 전사시켜 전극을 형성하는 것이 특징이다.
본 발명에 의한 전극형성방법은 일정한 간격으로 홈이 형성된 성형로울러를 이용하여 전극재료를 홈의 형상으로 전극을 성형하는 단계와, 성형된 전극을 기판 위에 전사하는 단계를 포함하여 이루어져 있다.
본 발명에서 전극을 형성하는 원리는 일정한 간격으로 홈이 형성된 성형로울러를 이용하여 그 홈의 형상대로 전극을 생성하는 것이다. 이 때, 성형로울러에 의해 생성된 전극을 기판 위에 위치시키기 위하여 본 발명에 의한 전극제조장비는 기판을 탄성로울러로 이동시키고, 탄성로울러에 의해 이동하는 기판을 따라 성형로울러가 지속적으로 전극을 성형하여 토출시킨다. 그리고, 본 발명에 의해 성형되는 전극의 재료는 소정의 점도를 가진 페이스트로 구성된다.
본 발명에 의한 전극형성방법은 전극을 제조하는 장비에 따라 두 가지의 실시예로 나뉘어진다.
(제 1 실시예)
본 제 1 실시예에 의한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극제조장비는 도 5에 도시된 것과 같이 전극재료(500)를 압연가공하여 전극(500')으로 성형하여 토출하는 성형로울러(100) 및 압연로울러(400)와, 상기 성형로울러(100) 및압연로울러(400)에 의해 성형된 전극(500')이 기판(300) 위에 부착되도록 기판(300)을 소정의 속도로 이동시키는 이송부(200)를 포함하여 이루어져 있다. 이 때, 성형로울러(100)는 일정한 간격으로 홈이 형성되어 있고, 그 홈은 성형로울러(100)의 원주방향으로 형성되어 있다. 그리고, 이송부(200)는 기판(300)에 가해지는 압력이 일정하도록 탄성을 가진 탄성로울러(200)로 구성되는 것이 바람직하다.
본 제 1 실시예에 의한 전극제조방법은 다음과 같다.
먼저, 전극재료(500)를 성형로울러(100)와 압연로울러(400) 사이에 투입한다. 그러면, 성형로울러(100)와 압연로울러(400)가 회전하여 전극재료(500) 페이스트를 전극(500')으로 성형한다. 전극재료(500)는 성형로울러(100)에 형성된 다수개의 홈을 통과하면서 기판(300) 위에 전극(500')을 전사한다. 이 때, 본 제 1 실시예에 의한 전극제조방법은 전극재료(500)를 성형로울러(100)에 투입하기 전에 그 전극재료(500)를 일정 수준의 점도를 가진 페이스트로 형성하는 단계가 부가될 수 있다. 그 이유는 전극(500')의 성형공정이 용이하게 실시되려면, 전극재료(500)가 페이스트 형태가 되어야 하기 때문이다.
먼저, 전극재료(500)를 성형로울러(100)와 압연로울러(400) 사이에 투입한다. 그러면, 성형로울러(100)와 압연로울러(400)가 회전하여 전극재료(500) 페이스트를 전극(500')으로 성형한다. 전극재료(500)는 성형로울러(100)에 형성된 다수개의 홈을 통과하면서 기판(300) 위에 전극(500')을 전사한다. 이 때, 본 제 1 실시예에 의한 전극제조방법은 전극재료(500)를 성형로울러(100)에 투입하기 전에 그 전극재료(500)를 일정 수준의 점도 즉, 50~300(pascal) 범위의 점도를 가진 페이스트로 형성하는 단계가 부가될 수 있다. 그 이유는 전극(500')의 성형공정이 용이하게 실시되려면, 전극재료(500)가 페이스트 형태가 되어야 하기 때문이다.
(제 2 실시예)
본 발명의 제 2 실시예에 의한 전극제조장비는 도 6에 도시된 것과 같다. 도 6에 도시된 전극제조장비는 도 5의 전극제조장비의 구조와 거의 동일하지만, 성형로울러(100)의 형상이 조금 다르다. 제 1 실시예의 성형로울러는 홈이 성형로울러의 원주방향으로 형성되어 있었으나, 제 2 실시예의 성형로울러는 홈이 성형로울러의 축방향으로 형성되어 있다.
본 발명의 제 2 실시예에 의한 전극제조장비는 도 6에 도시된 것과 같다. 도 6에 도시된 전극제조장비는 도 5의 전극제조장비의 구조와 거의 동일하지만, 성형로울러(100')의 형상이 조금 다르다. 제 1 실시예의 성형로울러는 홈이 성형로울러의 원주방향으로 형성되어 있었으나, 제 2 실시예의 성형로울러는 홈이 성형로울러의 축방향으로 형성되어 있다. 이때 전극재료(500)는 200~500(pascal)범위의 점도를 갖는 페이스트가 사용된다.
즉, 도 6에 도시된 성형로울러(100')는 전극(500')을 전사하는 홈의 형성방향이 도 5에 도시된 제 1 실시예에 의한 성형로울러(100')의 홈 형성방향에 비해 직각으로 틀어져 있다. 그 결과, 본 제 2 실시예에 의한 전극제조방법은 기판(300) 위에 전극(500')이 한 줄 단위로 완성되는 효과가 있다. 반면, 제 1 실시예에 의한 전극제조방법은 기판(300) 위에 복수 줄의 전극(500')이 조금씩 형성되면서 하나의 기판(300)이 성형로울러(100')와 압연로울러(400) 사이를 완전히 통과했을 때에 전극(500')이 완성되는 효과가 있다.
본 발명에 의한 전극제조방법은 종래의 전극제조방법에 비해 전극재료의 소모량이 줄어드는 효과가 있고, 스크린 마스크를 사용하지 않음으로써 전극의 정렬오차가 발생하지 않는 효과가 있다. 그 결과, 종래의 전극제조방법에서 에칭되어 소모되는 전극재료가 줄어들고 오정렬된 전극이 감소되므로, 제조단가가 낮아지고 크로스토크를 방지함으로써, 화질도 개선된다.
Claims (7)
- 플라즈마 디스플레이 패널의 기판 위에 전극을 형성하는 공정에서,일정한 간격으로 홈이 형성된 성형로울러를 이용하여 전극재료를 상기 홈의 형상으로 전극을 성형하는 단계,상기 성형된 전극을 상기 기판 위에 전사하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 성형하는 단계는 상기 전극재료를 일정 수준의 점도를 가진 페이스트로 형성하는 단계; 그리고,상기 전극재료의 페이스트를 상기 홈에 통과시켜 가는 실 모양의 전극으로 건조가공하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법.
- 제 1 항에 있어서, 전극을 상기 기판 위에 부착하는 단계는상기 성형로울러가 이동하면서 상기 성형된 전극을 상기 기판 위에 위치시키는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극형성방법.
- 전극모양으로 다수 개의 홈이 형성된 성형로울러,상기 성형로울러와 연동하여 전극재료를 압연하여 전극을 형성하는 압연로울러,상기 성형로울러에 의해 성형된 전극이 기판 위에 부착되도록 상기 기판을 소정의 속도로 이동시키는 이송부를 포함하여 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장비.
- 제 4 항에 있어서, 상기 이송부는 상기 기판에 의해 가해지는 압력에 대한 일정한 탄성을 가진 탄성로울러인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장비.
- 제 4 항에 있어서, 상기 홈은 상기 성형로울러의 원주방향으로 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장비.
- 제 4 항에 있어서, 상기 홈은 상기 성형로울러의 축방향으로 형성됨을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장비.
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
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