KR100293081B1 - 중합방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 37
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 11
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N diethyl fumarate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-AATRIKPKSA-N 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 4
- ZOYBJFQCRAGXHQ-UHFFFAOYSA-N benzene 1,1-dimethoxyprop-1-ene Chemical compound C1=CC=CC=C1.COC(=CC)OC ZOYBJFQCRAGXHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 9
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- -1 aryl substituted alkenyl benzenes Chemical class 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 4
- BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N (z)-but-2-enediamide Chemical compound NC(=O)\C=C/C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- IDJOZXROMVANRU-UHFFFAOYSA-N butoxy hydrogen carbonate Chemical compound CCCCOOC(O)=O IDJOZXROMVANRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 3
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N norethisterone Chemical compound O=C1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enediamide Chemical compound NC(=O)\C=C\C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- GLQKSXFFEWKIEL-ARJAWSKDSA-N (z)-n',n'-dimethylbut-2-enediamide Chemical compound CN(C)C(=O)\C=C/C(N)=O GLQKSXFFEWKIEL-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- ODGJJMUVZXDCFG-SREVYHEPSA-N (z)-n'-phenylbut-2-enediamide Chemical compound NC(=O)\C=C/C(=O)NC1=CC=CC=C1 ODGJJMUVZXDCFG-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenoxy)ethane Chemical compound C=COCCOC=C ZXHDVRATSGZISC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUNIOFWUJYBVGQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-(3,4-dimethoxyphenyl)-10-fluoro-4,5,6,7-tetrahydrobenzo[1,2]cyclohepta[6,7-d]pyran-3-carbonitrile Chemical class C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1C(C#N)=C(N)OC2=C1CCCC1=CC=C(F)C=C12 UUNIOFWUJYBVGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKPZVXWHCCJTPK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyethoxymethyl)pent-1-en-3-ol Chemical compound CCC(O)(C=C)COCCO GKPZVXWHCCJTPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVRPVXRNGMELTP-UHFFFAOYSA-N 5-(5-aminopent-1-enoxy)pent-4-en-1-amine Chemical compound NCCCC=COC=CCCCN QVRPVXRNGMELTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GICHONKZHXCJGO-WLHGVMLRSA-N adamantane;(e)-but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O.C1C(C2)CC3CC1CC2C3 GICHONKZHXCJGO-WLHGVMLRSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005160 aryl oxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- KQQHLHAGUIMAPM-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(1,3,5-trimethylcyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound C1C(C)=CC(C)=CC1(C)C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KQQHLHAGUIMAPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- BQZGVMWPHXIKEQ-UHFFFAOYSA-L iron(ii) iodide Chemical compound [Fe+2].[I-].[I-] BQZGVMWPHXIKEQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N itaconic acid Chemical class OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- FSQQTNAZHBEJLS-UPHRSURJSA-N maleamic acid Chemical compound NC(=O)\C=C/C(O)=O FSQQTNAZHBEJLS-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RUVINXPYWBROJD-UHFFFAOYSA-N para-methoxyphenyl Natural products COC1=CC=C(C=CC)C=C1 RUVINXPYWBROJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical group 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Chemical class 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical class S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N trans-anethole Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1 RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- NNWHUJCUHAELCL-SNAWJCMRSA-N trans-isomethyleugenol Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1OC NNWHUJCUHAELCL-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
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- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Abstract
전자공여기와 전자흡인기를 갖는 하나 이상의 불포화 화합물로부터 얻어진 착화합물을 포함하며, 광개시 화합물이 없는 조성물이 자외선에 노광됨에 의해 중합되어 진다.
Description
[발명의 명칭]
중합방법
[도면의 간단한 설명]
제 1도는 본 발명의 착화합물에 대한 흡광도를 보여준다.
제 2도는 광개시재를 본 발명의 착화합물에 첨가한 효과를 보여준다.
제 3도는 본 발명의 공정에서 사용된 램프의 조사 피크를 나타낸다.
제 4도는 본 발명의 공정에서 사용된 램프의 조사량을 나타낸다.
제 5도는 D 전구를 가진 퓨전 F450의 방사 스펙트럼의 에너지 분포를 나타낸다.
제 6도는 퓨젼 450램프의 초점 가동 프로파일을 나타낸다.
[도면의 간단한 설명]
[발명의 상세한 설명]
기술분야
본 발명은 중합공정에 관한 것으로서, 특히 자외선을 이용한 중합공정에 관한 것이다. 좀 더 상세하게는 본 발명의 중합공정은 광개시제가 없으나, 그럼에도 불구하고 자외선을 이용하여 중합될 수 있는 중합 조성물과 관련된 것이다. 본 발명의 중합가능한 조성물은 하나의 전자공여기(electron donor group)를 갖는 적어도 하나의 불포화화합물과 하나의 전자 흡인기(electron withdrawing group)를 갖는 적어도 하나의 불포화 화합물로 된 전하전달착화합물(charge transfer complex)을 포함한다.
종래기술
방사선 중합성 코팅제, 잉크 및 필름등의 공업적 응용품들은 지난 몇년 동안 급증하고 있다. 방사선 중합에서 크게 관심을 일으키는 하나의 요인은 환경관련사항으로서 특히 대기에 대한 용매오염을 감소시키기 의한 노력이다. 더구나 전통적인 중합방법과 비교되는 방사선 중합은 경화시간의 현격한 감소와 함게 훨씬 적은 에너지를 필요로 한다.
현재 이용되는 방사선 중합의 2개의 중요한 에너지원은 자외선과 전자선이다. 그러나 두 개의 에너지원 중에서 전자선은 그런 공정을 위해 필요한 장비가 고가이기 때문에 많은 비용이 요구되므로 방사선 중합을 위해 가장 선호되는 에너지원은 자외선이며, 이것은 광중합시에 제공된다
전형적으로, 광중합가능한 조성물은 광개시제(photoinitiator), 감광제 (phtosensitizer) 및 특별한 성질을 제공하는 보조물질들과 함께 감광성 단량체 (phtosensitive monomeric) 및/또는 고분자 물질을 포함한다. 특별한 공업적 응용을 위해 의도된 특정 성질을 띠는 물질의 개발, 사용된 조성물이나 제조공정의 비용을 절감시키고자 하는 노력 등이 계속하여 진행되고 있다.
따라서 본 발명의 목적은 광개시제를 필요로 하지 않는 광중합공정을 제공하는데 있다.
감광성 물질의 첨가 없이 자외선을 이용하여 어떤 불포화단량체를 중합시키는 것이 과거부터 제안되어 오고 있다. 그러나, 자외선의 파장은 특유하게 짧아서 광원의 사용과 짧은 자외선을 투과하는 용융 석영 또는 다른 물질로 제조된 반응용기를 필요로 한다. 일례로, 힐쯔 등의 미국특허 2,880,152를 보라. 따라서, 그러한 공정은 상업적인 관점에서 볼 때 실용적이지 않을 뿐더러, 앞서 제안된 시스템의 또 다른 문제는 많은 경우에 단지 표면에 있는 얇은 물질 층만이 중합된다는 것이다.
발명의 요약
전자공여기와 전자흡인기를 갖는 적어도 하나의 불포화합물로부터 얻어진 전하전달착화합물을 구성요소로 포함하는 조성물은 자외선을 이용하여 광중합될 수 있으며 광개시화합물이 필요하지 않다는 것이 본 발명으로부터 밝혀졌다. 적어도 하나의 불포화 화합물은 전자공여기와 결합된 중합 가능한 불포화 부분과 전자흡인기와 결합된 중합가능한 불포화부분을 포함한다.
광개시제를 배제함으로써, 본 발명에 의해 얻어진 중합된 산물은 가장 안정하며 변색이 거의 일어나지 않아 옥외 응용품에 이용될 수 있다. 더구나, 광개시제를 배제시키는 기술은 광개시제가 광중합 조성물 중에서 보다 비싼 성분중의 하나이므로 비용을 현격히 감소시킬 뿐만 아니라 광개시제는 그것이 존재하는 조성물의 독성에 대한 중요한 기여물질이기 때문에 조성물의 상대적인 안전성을 증대시킨다.
또한, 본 발명의 조성물은 놀랍게도 경화를 위해서 상대적으로 짧은 파장의 자외선을 필요로 하지는 않으나, 대신에 보다 손쉽게 이용할 수 있는 약 310나노미터 이상의 파장을 이용하여 경화할 수 있으며, 본 발명 조성물의 경화는 표면에 있는 얇은 층에만 제한되는 것이 아니라 두꺼운 부분에까지 진행된다.
본 발명을 실행하는 최적의 다양한 모드
(Best and Various Mode for Carring Out Invention)
본 발명에 따라 사용되는 전하전달착화합물은 전자공여기를 갖는 적어도 하나의 불포화 화합물과 전자 흡인기를 갖는 적어도 하나의 불포화 화합물로부터 얻어진다. 적어도 하나의 불포화 화합물은 전자공여기에 결합된 중합가능한 불포화된 부분(moiety)과 전자흡인기에 결합된 중합가능한 또 다른 불포화된 부분(moiety)과 전자흡인기에 결합된 중합가능한 또 다른 불포화 부분(moiety)을 포함한다. 결합은 전형적으로 공유결합이다.
본 발명의 목적은 전자공여기와 전자흡인기 모두를 포함하는 하나의 불포화 화합물을 이용하여 달성될 수 있다. 바람직하게는 전하전달착화합물은 전자공여기를 갖은 적어도 하나의 불포화 화합물과 전자흡인기를 갖는 적어도 또 다른 하나의 불포화 화합물로부터 얻어진다.
전하전달착화합물을 공급하기 위해 이용되는 화합물은 에틸렌과 같이 (et-hylenically) 불포화된 것이나 아세틸렌과 같이(acetylenically) 불포화 된 것이다. 착화합물이 둘 이상의 화합물로 되었을 때, 전자공여화합물 대 전자흡인화합물의 2중결합의 몰비율은 전형적으로 대략 0.5내지 2이며, 일반적으로 0.8내지 1.2이며, 바람직하게는 1.1이다. 본 발명에 따라 이용된 착화합물은 보통의 상태에서 안정하다. 특히 조성물은 자발적으로 중합하지 않는다. 다시 말해서, 전자 공여그룹과 수용그룹의 강도는 그러한 자발적인 중합을 야기할 만큼 높은 수준은 아니며, 다만 필요한 자외선의 영향하에서는 중합된다.
본 발명의 목적에 적합한 착화합물은 그것을 형성하기 위해 이용되는 개개의 공여기와 흡인기에 의해 흡수되는 빛의 스펙트럼 중에서 가장 긴 파장보다 더 큰 파장을 갖는 빛을 흡수해야 하며 따라서 이용되는 자외선은 착화합물을 형성하는 개개의 기 또는 구성요소에 의해서가 아닌 착화합물에 의해 흡수된다.
다시 말해서, 이러한 흡광도의 차이는 단지 착화합물에 있는 개개의 기 또는 그들의 구성요소에 의해서만 흡수된 빛을 갖는 것에 비하여, 빛에 의하여 진행되는 중합을 허용하기에 충분하며, 열에너지로의 전환뿐만 아니라 중합이 발생되게 된다.
상업적 관점에서 볼 때, 상기 착화합물은 개개의 공여 및 흡인기 또는 구성요소에 의해 흡수된 광스펙트럼에서의 가장 긴 파장 보다 적어도 약 10나노미터가 더 긴 파장을 갖는 빛을 흡수한다. 이러한 점은 원하는 중합을 보장하는 자외선 광원으로부터의 스펙트럼 출력을 만드는 것(tailoring)을 촉진한다.
더구나, 형성된 착화합물은 자외선에 노출된 초기상태에서 쯔비터이온 상태(양이온 그룹과 음이온 그룹으로 동일하게 이온화되는 것)로 분열된게 되는 것이 아니라, 대신에 자유 라디칼 중합을 촉발시킬 수 있는 이(二) 라디칼상태 (bir-adical)로 분열되어야 한다.
이용되는 전자흡인화합물과 공여화합물은 다음의 화학식 1에 의해 표시될 수 있다.
(여기에서 n은 바람직하게는 1 내지 4의 정수이고; Z는 A나 D 또는 둘 다인데, A는 이중결합에 수용성질을 부여하는 구조적 조각(structural fragment)이며, D는 이중결합에 공여성질을 부여하는 구조적 조각이고; R은 골격구조이다)
상기 화학식 1의 Z가 A인 경우의 전형적인 예는 아래와 같다.
화학식 2의 말레익 디에스테르(maleic diesters)
화학식 3의 말레익 아미드 하프(Half) 에스테르(maleic amide halfester)
화학식 4의 말레익 디아미드(maleic diamide)
화학식 5의 말레이미드(maleimide)
화학식 6의 말레인산 하프에스터
화학식 7의 말레인산 하프 아미드(maleic acid half amide)
화학식 8의 푸마릭 디에스테르(fumaric diester)
화학식 9의 푸마린산 모노에스터 하프아미드(fumaric acid monoester halfamide)
화학식 10의 푸마릭 다아미드(fumaric diamide)
화학식 11의 푸마린산 모노에스터
화학식 12의 푸마린산 모노아미드
화학식 13의 이타콘산 무수물(itaconlc acid anhydride)과 같은 엑소 메틸렌 (exomethylene) 구조
화학식 14의 이타콘산의 유도체(itaconic acid derivative)
여기에서 각각의 X와 Y는 OR1과 OR2, NHR1, NHR2, NR1및 OH로 구성된 그룹 중에서 각각 선택되어지며, 상기 화학식의 R1과 R2는 각각 지방족 또는 방향족 그룹이다.
전형적인 지방족 그룹은 탄소원자수가 1내wl 22, 바람직하게는 1내지 12인 알킬기를 포함한다.
전형적인 방향족그룹은 페닐, 벤질, 바이페닐(biphenyl)을 포함한다.
적당한 화합물의 다른 예로는 말레이난과 푸마르산의 해당 니트릴과 이미드 (imide) 유도체를 포함한다.
특정 전자흡인화합물은 말레인 무수물, 말리아미드(maleamide), N-매틸 말리아미드, N-페닐 말리아미드, 디메틸 말리에이트(dimethyl maleamide), 디메틸 및 디에틸 퓨마레이트, 아다망탄 푸마레이드(adamantane fumarate) 및 푸마린 디니트릴 (fumaric dinitrile)이다.
둘, 셋, 넷 혹은 그 이상의 불포화 그룹들을 갖는 것을 포함하는 다(多)불포화된(polyunsaturated), 다(多)작용성(polyfunctional) 화합물이 사용되는 것이 사실상 바람직하다.
실시예는 예를 들자면 푸마린산과 말레인산 또는 이들의 무수물 같은, 폴리 에틸렌 같은(polyethylenically) 불포화 폴리에스테르를 포함한다.
상기 화학식 1의 Z 가 D인 경우의 전형적인 예는 아래와 같다.
화학식 15의 비닐에테르
화학식 16의 알케밀에테르(alkenyether)
화학식 17의 치환도니 엑소알콕시(exoalkoxy) 또는 아릴 옥시시클로펜텐 (aryloxycyclopentene)
화학식 18의 치환된 엑소알콕시 또는 아릴옥시시클로헥센
화학식 19의 부분적으로 치환된 퓨란(furane)또는 티오펜(thiophene)
화학식 20의 부분적으로 치환된 피란(pyrane) 또는 티오피란
화학식 21의 부분적으로 고리치환된 알콕시 또는 아릴로스티렌 (aryoeyst-yrene) 또는 티오알킬 또는 티오아리에스티렌(thioaryestyrene)
화학식 22의 알콕시 및/또는 아릴옥시, 알킬 및/또는 아릴 치환된 알케닐 벤젠
화학식 23의 알콕시 및-또는 아릴옥시, 알킬 및-또는 아릴 치환된 알케닐-시클로 펜텐,
화학식 24의 알콕시 및/또는 아릴옥시 알킬 및/또는 아릴치환된 알케닐 시클로헥산:
상기 화학식은 n은 1-5의 정수이며, 그 최대치는 고리의 탄소원자수에 의존하며; Rx와 R은 각각 1내지 12의 탄소원자를 포함하는 전형적인 지방족이거나 페닐과 같은 방향족이며; R3,R4및R5는 각각 수소 또는 지방족, 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필과 같은 1-12의 탄소원자로 된 알킬이며; 각각의 Z는 O, S 그룹으로부터 각자 선택되고, k와 ℓ은 각각 0 내지 5의 정수이고, 여기에서 0 ≤k+ℓ≥5이다.
상기 화학식 19와 20에서 R은 수소이고, n은 2인 것이 바람직하다.
화학식 21에서 치환체가 파라와 오르쏘 위치에만 있는 것이 바람직하다.
또한, 둘, 셋, 넷 혹은 그 보다 많은 불포화 그룹들을 갖는 것을 포함하는 다작용성, 다불포화성 화합물이 이용될 수 있고, 사실상 바람직하다.
에테르와 관련해 볼 때 모노비닐 에테르와 디비닐에테르가 특히 바람직하다. 모노비닐에테르는 전형적으로 1 내지 22개, 보다 전형적으로는 4 내지 12개의 탄소원자로 된 사슬을 갖는 알킬비닐 에테르를 포함한다. 디비닐에테르는 예를 들어, 에틸렌 글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌 글리콜, 3메틸 프로판 트리올(triol) 및 펜타에리트리톨(pentaerythritol)을 포함하는 2내지 6개의 하이드록시 그룹을 갖는 폴리올(polyol)의 디비닐 에테르를 포함한다.
몇몇 특정 전자 공여 물질의 예로는 모노부틸 4비닐 부톡시 카보네이트, 모노베닐 4비닐 부톡시 카보네이트, 에틸 비닐 디에틸렌 글리콜, P-메톡시 스티렌, 3,4디메톡시 프로페닐 벤젠, N-비닐 카바졸, 모노부틸 4프로 페닐 부톡시 카보네이트, 모노페닐 4-프로페닐 부톡시 카보네이트, 이소 엔지놀(isoenginol), 및 4-프로페닐아니솔(4-propenylanisole) 등이 있다.
수용기 또는 흡인기 그룹과 이들에 대한 공여그룹을 함께 갖고 있는 전형적인 이(二)기성능(bifunctional) 화합물은 상기 화학식 2 내지 12에서 표시된 화합물을 포함한다. 단, 화학식 2 내지 12의 R1과 R2각각은 다음 그룹으로부터 선택된다.
(여기서 n은 적어도 2로서 전형적으로 2내지 12이고; R1은 지방족그룹이며, 전형적으로 1 내지 2개의 탄소원자를 포함하는 알킬 그룹이고; 아릴은 페닐과 같은 방향족임)
적절한 이기능성 화합물의 예는 당업계에서 공지된 방법에 의해 제조 될 수 있으며, 실례로서 전형적인 화합물들은 다음의 반응물로부터 얻어질 수 있다.
1) 말레인산무수물 4-하이드록시 부틸 비닐에테르
2) 말레인산무수물 3-아미노-n-프로필비닐에테르
3) 말레인산무수물
본 발명에 따라 조성물은 자외선에 노광(露光)되어 그것의 중합을 일으킨다. 자외선은 중합되어야 하는 조성물의 표면적의 평방 센티멘터당 적어도 200밀리주울의 조사량을 제공하는 매우 강한 빛이어서 적절한 경화 속도를 달성할 정도인 것이 바람직하다. 보다 낮은 에너지의 빛이 사용되는 경우, 적절한 중합에 소요되는 시간을 줄이기 위해 조성물이 증가된 온도상태에 놓이도록 의도해야 한다.
또한 전형적으로 이용되는 자외선은 적어도 310나도미터의 파장을 갖는다. 원하는 고강도와 유용한 파장 및 스펙트럼 분포를 제공할 수 있도록 이용되는 적절한 램프에는 퓨젼 시스템社의 D 전구를 가진 F-450모델이 포함된다. 제 5도는 D 전구를 가진 퓨전 450 램프의 방사스펙트럼의 에너지 분포도를 보여주며, 제 6도는 퓨전 450램프의 촛점 강도 프로파일(profile)을 보여준다. 분당 20 내지 100피트의 속도(FPM)의 전형적인 밴드(band)속도에서 조성물 표면적에 1 내지 2.6 watt/㎠의 피크 방사(irradiance)를 나타낸다.
제 3도와 4도는 상기 램프에 대하여, 방사피크와 조사량의 함수로 표시된 각각의 경화속도를 보여준다.
본 발명의 공정을 수행하기에 적합한 이런 램프들은 주로 350내지 450nm 사이의 스펙트럼을 갖는 빛을 방사하는데, 이것은 수은 전구와 같은 표준 전구와 비교해 볼 때 원자외선(deep UV)에서 매우 낮은 것이다. 본 발명에 적합한 램프는 불필요한 실험없이 당업자에 의해 제공될 수 있으므로 여기에서 더 이상 상세하게 설명하지 않는다. 실례로 우리(Ury) 등에 의한 미국특허 4,042,850에 상기 램프가 공개되어 있으며, 여기서 그 공개는 참고문헌으로 반영되었다. 그러나 요오드화 철 3.0밀리그램, 수은 50밀리그램 및 아르곤 70토르의 충전물을 가진 램프는 350 내지 450나토미터 범위의 스펙트럼을 제공한다.
본 발명의 가장 바람직한 실시예에 따르면, 적절한 경화 속도, 경도의 부착성과 같은 상업적으로 허용 가능한 물리적 성질을 갖는 경화된 코팅제를 얻기 위하여, 중합되는 조성물 표면적의 평방 센티미터 당 적어도 200밀리주울의 최소 조사량과; 착화합물의 흡수도에 적합하거나 일치하는 빛의 스펙트럼과 함께 조성물 표면적의 평방 센티미터당 적어도 500밀리와츠의 피크 강도가 조합되어 사용되어야 한다. 피크 강도와 조사량의 수치는 일렉트로닉 인스트루먼테이션 앤 테크놀로지社의 "유비맵"(UVIMAP)방사계(radimeter)를 이용하여, 메이(May) 등에 의해, 1992 라드테크 (Radtech) 회보 "눈금 측정 불일치를 제거하는 방사계 매칭"에서 논의된 300 내지 420 나노미터 사이의 파장에서 측정하였는데, 그 수치는 참조문헌으로서 반영되었다. (유비맵에 대한 반응 곡선은 논문의 제 5도에서 보여준다.)
생산자로부터 얻은 정보에 따르면 유비맵의 빛을 발사하는 구멍은 직경이 3mm인 원형이다. 전하전달착화합물의 직접적인 광분해(phptolysis)는 전형적인 타입의 수은 스펙트럼 분포를 갖는 통상의 아크 전구 조사원(irradiation source)을 이용하여 달성될 수 있으나, 상대적으로 적은 정도의 전환을 하는데 필요한 조사시간은 공업적 관점에서 볼 때 너무 길다. 더구나 그런 공정의 중합 정도는 다음의 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 달성되는 물리적 성질의 수준을 제공하기에는 충분하지 않다.
본 발명의 조성물은 특히 금속, 플라스틱 호일이나 필름, 나무 및 유리와 같은 다양한 물질 위를 코팅하기에 적합하다.
조성물의 필름은 전형적으로 1마이크론 내지 5밀리미터이다.
또한, 위에서 언급된 바와 같이, 본 발명의 조성물은 광개시제를 포함하지 않으므로 조성물은 현격한 변색의 염려없이 옥외용 응용품에 이용될 수 있다. 더 나아가 광안정제를 조성물에 첨가하여 변색의 가능성에 대해 더욱 단단히 방어할 수 있다. 본 발명의 조성물은 산소의 존재하에서 더욱 쉽게 중합될 수 있다.
만일 원한다면, 조성물은 계면활성제, 레벨링 에이젼트(leveling agent), 소포제(deforming agent), 감광제, 슬립 에이젼트(slip agant), 충전제 및 안료와 같은 통상의 참가제를 포함할 수 있다. 물론, 조성물은 이런 첨가제를 필요로 하는 것은 아니며, 첨가제 모두 혹은 그 어느 하나가 없어도 가능하다.
더구나, 본 발명의 조성물은 보조제로서 95내지 5퍼센트 양의 아크릴 레이트 광중합성 시스템(photopolymerizable system)과 함께 이용될 수 있다.
더구나, 본 발명의 조성물은 보조제로서 95내지 5퍼센트 양의 아크릴 레이트 광중합성 시스템(photopolymerizable system)과 함께 이용될 수 있다.
제 1도는 본 발명에 따른 디에틸 퓨마레이트와 디메톡시 프로필렌 벤젠으로 된 착화합물의 흡광도를 그 각각의 단량체와 대비하여 나타낸 것이다.
제 2도는 본 발명에 따른 디에틸 퓨마레이트/디메톡시 프로필렌 벤젠 착화합물에 광개시제(1,3,5 트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드)의 1-2%의 첨가가 실질적으로 경화기간을 악화시킨다는 것을 보여준다.
다음의 비제한적인 실시에에 따라 본 발명은 더욱 상세하게 설명된다.
실시예 1
말레인 무수물(maleic anhydride)과 3 에틸렌글리콜 디비닐 에테르의 이중결합이 1:1비로 이루어진 전하전달 착화합물을 약 10마이크론의 두께로 유리기질 위에 코팅시킨다. 코팅된 유리를 약 1와트/㎠의 피크 자외선 강도로 분당 30피트의 속도, 1회 조사량이 약 200밀리주울/cm2인 D 전구를 갖는 퓨전 450램프 밑으로 통과시킨다. (제 3도와 4도 참조) 코팅제는 중합되어 두께 전체가 완전히 경화된 코팅 상태가 된다.
실시예 2
실시예 1과 같이 하되, 약 1.6 와트/cm2의 피크 강도, 분당 60피트의 속도, 1회 조사량이 450밀리주울/cm2이 되도록 한다. (제 3도와 4도 참조) 얻어진 결과는 실시예 1의 것과 유사하다.
실시예 3
실시예 1과 같이 하되, 약 26와트/cm2의 피크 강도, 분당 100피트의 속도 및 1회 조사량이 600 밀리주울/cm2이 되도록 한다. (제3도 및4도 참조) 얻어진 결과는 실시예 1의 것과 유사하다.
실시예 4
약 35 중량부(parts by weight)의 퓨마린산, 37 중량부의 이소프탈린산, 8중량부의 아디핀산(adipic acid) 및 37중량부의 니에틸렌글리콜로 된 분자량이 1100인 플리에스터를 제조한다. 이 플리에스터와 디에틸렌 디비닐 에테르의 이중결합의 비가 1:1인 전하전달착화합물을 10마이크론 두께로 유리기질 위에 코팅시킨다. 코팅된 유리는 2.6와트/cm2의 피크 자외선 강도로 분당 40피트 및 1회 조사량이 600주울/cm2에서 퓨전 420램프 밑으로 통과 시킨다.
실시예 5
말레인 무수물과-메톡시스티덴의 이중결합의 몰 비율이 1:1인 혼합물을 분당 40피트, 1.6 W /cm2의 피크 강도로 경화시켜 단단한 필름으로 만든다. 이것은 420밀리주울/cm2조사량에 상응한다. 조사는 F 600램프와 퓨전 D 전구의 방출 특성을 이용하여 수행된다. 강력한 씨티(CT) 착화합물이 형성되므로, 혼합과정에서 짙은 노란색이 생기며, 실온에서 혼합물의 안정성은 겔화(化)(gelation)가 개시되기 전에 수 시간 정도에 불과하다.
실시예 6
말레인산 무수물과 트리에틸렌글리콜디비닐에테르가 1:1의 이중결합몰 비율을 갖는 혼합물은 지방족 다기능성 우레탄아크릴레이트인, 미국 래드큐어 스페셜리티社(Radcure Specialities) 에베크릴(Ebecryl) 230과 1:9의 비로 혼합된다. 2.6W/ cm2의 피트 강도, 분당 20내지 30피트의 퓨젼 D스펙트럼을 이용하여 경화를 한다. 20 내지 500㎛의 두께를 갖는 질긴 필름을 얻는다.
실시예 7
실시예 6과 같이 하되, 전하전달착화합물 대 에베크릴 230의 혼합비가 9:1이 되도록 한다. 결과는 실시예 6에서 얻어진 것과 유사하다.
Claims (22)
- 전자공여기(electron donor group)와 중합가능한 불포화 부분(moiety)을 가지는 하나 이상의 불포화 화합물로부터 얻어지는 전하전달착화합물(charge transfer complex)을 포함하여 구성된 조성물이되; 상기 조성물에 광개시 화합물이 없고; 상기 착화합물을 중합시키는데 충분한 시간 동안 상기 조성물을 자외선에 노광(露光)시키는 것을 포함하여 구성된 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 자외선은 약 310나노미터 이상인 파장크기를 가지는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 자외선은 350나노미터와 450나노미터 사이에 있는 그 에너지의 절반 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 3항에 있어서, 상기 자외선의 피크는 350나노미터와 450나노미터 사이에 있는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 자외선의 조사량은 상기 조성물 표면적의 평방센티미터 당 약 200밀리주울 이상인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 전하전달착화합물은 전자공여기를 가진 적어도 하나의 불포화 화합물과 전자흡인기를 가진 적어도 하나의 불포화화합물로 부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 6항에 있어서, 상기 착화합물은 착화합물을 구성하는 화합물에 의해 흡수되는 광스펙트럼의 가장 높은 파장보다 약 10나노미터 이상 더 큰 파장을 가지는 빛을 흡수하는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 6항에 있어서, 전자공여기를 가지는 상기 화합물과 전자흡인기를 가지는 상기 화합물의 불포화 결합의 몰비율이 약 0.5에서 2인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 8항에 있어서, 상기 몰비율이 약 0.8에서 1.2인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 몰비율이 약 1:1인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 착화합물은 디에틸푸마레이트와 디메톡시 프로필렌 벤젠의 착화합물인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 착화합물은 말레익 무수물(maleic anhydride)과 트리에틸렌 글리콜 디비닐 에테르의 착화합물인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 자외선의 피크 강도는 상기 조성물 표면적의 약 500밀리왓트/cm2이상인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 13항에 있어서,상기 자외선의 조사량은 상기 조성물 표면적의 평방센티미터 당 약 200밀리주울 이상인 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 13에 있어서, 상기 빛의 총 조사량이 300나노미터와 420나노미터 사이의 스펙트럼파장에서 측정되어진 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 자외선의 피크는 350나노미터와 450나노미터 사이에 있고, 상기 자외선에너지의 절반 이상은 350나노미터와 450나노미터 사이에 있으며, 상기 자외선의 피크 강도는 약 500밀리왓트/㎠ 이상이고, 상기 조사량은 약 200밀리주울/㎠ 이상이며, 빛으로부터 측정되어진 피크 강도와 조사량은 300나노미터와 400나노미터의 파장 사이에 있는 빛에서만 측정되어진 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 자외선은 제 5도에서 보여지는 것과 같은 스펙트럼을 갖고, 상기 자외선의 피크 강도는 약 500왓트/㎠이상이고, 조사량은 약 200밀리주울 /㎠이상이며, 상기 피크 강도와 조사량은 300나노미터와 400나노미터의 파장 사이에 있는 빛에서만 측정되어진 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 자외선은 약 310나노미터 이상의 파장크기를 가지는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 전하전달착화합물은 전자공여기를 가진 하나 이상의 불포화 화합물과 전자흡인기를 가진 하나 이상의 불포화 화합물로부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 착화합물은 착화합물을 구성하는 화합물에 의해 흡수되는 광수펙트럼의 가장 높은 파장보다 약 10나노미터 이상 더 큰 파장을 가지는 빛을 흡수하는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 전하이동착화합물은 전자공여기를 가진 하나 이상의 불포화 화합물과 전자흡인기를 가진 하나 이상의 불포화 화합물로부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 중합방법.
- 제 15 항에 있어서, 상기 착화합물은 착화합물을 구성하는 화합물에 의해 흡수되는 광스펙트럼의 가장 높은 파장보다 약 10나노미터 이상 더 큰 파장을 가지는 빛을 흡수하는 것을 특징으로 하는 중합방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/041,423 | 1993-03-31 | ||
| US08/041,423 US5446073A (en) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | Photopolymerization process employing a charge transfer complex without a photoinitiator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940021586A KR940021586A (ko) | 1994-10-19 |
| KR100293081B1 true KR100293081B1 (ko) | 2001-10-24 |
Family
ID=21916436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940006825A KR100293081B1 (ko) | 1993-03-31 | 1994-03-31 | 중합방법 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5446073A (ko) |
| EP (1) | EP0618237B1 (ko) |
| JP (1) | JP3353020B2 (ko) |
| KR (1) | KR100293081B1 (ko) |
| AT (1) | ATE170534T1 (ko) |
| DE (1) | DE69412888T2 (ko) |
| DK (1) | DK0618237T3 (ko) |
| ES (1) | ES2125362T3 (ko) |
| TW (1) | TW283151B (ko) |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6025409A (en) * | 1996-02-29 | 2000-02-15 | Dsm N.V. | Radiation curable coating composition |
| WO1997031981A1 (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-04 | Dsm N.V. | Radiation curable coating composition |
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1993
- 1993-03-31 US US08/041,423 patent/US5446073A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-03-03 EP EP94103194A patent/EP0618237B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-03 ES ES94103194T patent/ES2125362T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-03 AT AT94103194T patent/ATE170534T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-03-03 DE DE69412888T patent/DE69412888T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-03 DK DK94103194T patent/DK0618237T3/da active
- 1994-03-10 JP JP04015494A patent/JP3353020B2/ja not_active Ceased
- 1994-03-31 KR KR1019940006825A patent/KR100293081B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-04-14 TW TW083103320A patent/TW283151B/zh active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0618237B1 (en) | 1998-09-02 |
| EP0618237A1 (en) | 1994-10-05 |
| ES2125362T3 (es) | 1999-03-01 |
| JPH06298817A (ja) | 1994-10-25 |
| ATE170534T1 (de) | 1998-09-15 |
| KR940021586A (ko) | 1994-10-19 |
| JP3353020B2 (ja) | 2002-12-03 |
| TW283151B (ko) | 1996-08-11 |
| US5446073A (en) | 1995-08-29 |
| DE69412888T2 (de) | 1999-04-01 |
| DE69412888D1 (de) | 1998-10-08 |
| DK0618237T3 (da) | 1999-05-31 |
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| JPH0473448B2 (ko) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |