KR100225151B1 - 광학 표적 포착 시스템 및 방법 - Google Patents

광학 표적 포착 시스템 및 방법 Download PDF

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KR100225151B1
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optical
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고빈 샤
데이비드 굳윈 쇼
도날드 고돈 챈들러
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엠.피.젠킨스
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Abstract

광학 표적은 광학 주사 장치로부터의 입력 신호내의 대역내 표적 주파수에 따라서 광학 주사 시스템에 의해 포착된다. 상기 광학 주사장치로부터의 입력신호의 대역내 에너지 레벨과 대역외 에너지 레벨이 결정된다. 상기 두 에너지 레벨은 비교되며 상기 비교에 따라 표적의 가능한 검출이 결정된다.
가능검출이 보장되도록 대역내 에너지의 최소한계가 요구된다. 상기 입력신호는 상기 광학 주사 장치에 의해 주사될 때 표착 표적의 확대량이 다양하기 때문에 다양한 주파수를 갖는다. 그러므로 입력신호는 확대량이 다양하기 때문에 다양한 주파수로서 표적을 나타낸다. 표착 표적의 다양한 확대량은 주사장치와 포착 표적 사이의 다양한 주사거리에 기인한다. 그러므로 필터의 중심주파수 또는 입력 신호 주파수의 주파수 변환량을 제공하므로써 확대 보상이 수행된다. 주파수 변화량은 주사거리에 따라 결정된다. 주파수 변환은 고정 주파수로 디지털 입력 신호상에 디지털을 아날로그로 변환하므로써 수행된다. 디지털-아날로그 전환기의 출력은 아날로그 신호가 변하는 리샘플링 주파수에서 아날로그 신호가 리샘플링되는 아날로그-디지탈 전환기에 적용된다.
리샘플링 주파수가 샘플링 주파수와 다를 때 신호는 주파수 변환된다.
대체방식으로, 상기 리샘플링된 신호가 완충되거나 클록 아웃될 수 있으며, 이러한 경우에는 입력 신호의 주파수가 효과적으로 변환된다. 주사거리에 따라 주파수 변환량을 변화시키기 위하여, 아날로그-디지털 전환기에 적용된 리샘플링 주파수가 주사거리에 따라 변화된다. 다양한 리샘플링 주파수와 변하는 주사거리 사이의 관계는 주사된 포착 표적을 나타내는 다양한 입력 주파수가 소정의 단일 기본 주파수로 변환되도록 선택되어질 수 있다.

Description

[발명의 명칭]
광학표적 포착 시스템 및 방법
[발명의 상세한 설명]
[발명의 분야]
본 발명은 광학적으로 암호화된 라벨을 광학적으로 판독하는 분야, 특히 광학적으로 암호화된 라벨상에 설비된 포착 표적을 인지하는 시스템 및 그 방법에 관한 것이다.
[관련 기술]
상품, 다양한 구성부품, 편지, 소포, 컨테이너 및 선적되거나 빈번하게 운송되어지는 관련 상품의 전반은 원산지, 편수, 목적지, 상품명, 가격, 부품번호 및 다양한 종류의 정보들이 확인되어져야만 한다. 또한, 전술한 관련 품목에 부착된 라벨상에 인쇄된 암호화된 정보를 판독하면 판매 상황과 재고 뿐아니라 전자 금전등록기의 동작도 자동화할 수 있다.전술한 암호화된 라벨은 우편물, 소포, 화물등의 자동발송 과 분류 및 제조공정시에 원재료 또는 구성부품에 제조지시를 담고있는 라벨에도 적용할 수 있다.이러한 형태의 물품들에 사용되는 라벨은 종래에는 바코드로 표시되었으며, 그중의 하나가 유니버설 프로덕트코드이다. 다양한 그외의 바코드 시스템 또한 공지되어 있다.
통상 사용되는 바코드 시스템은 보다 작은 크기의 라벨상에 보다 많은 정보를 암호화해야하는 현재의 요구 및 증가일로에 있는 요구를 충족시키기 위한 충분한 데이터 밀도를 가지지 못한다.정보밀도를 증가시키기 위하여, 다양한 바코드 시스템에 있어서, 바의 전체 크기와 간격을 줄이려는 노력이 시도되었으나 이러한 문제를 해결하지는 못하였다. 5/1000 인치 또는 그 이하의 간격으로 떨어져있는 콘트라스트바로 이루어진 바코드를 검지하기 위한 충분한 해상도를 갖는 광학 스캐너는 상기 크기의 비트 - 암호화된 바를 해독하는데에는 복잡한 광학 장치가 필요하기 때문에 제작이 경제적으로 용이하지 않다. 또한, 라벨 인쇄 공정상의 작은 공차 조건은 전술한 라벨을 제공하는 것을 매우 곤란하게 한다.
따라서. 이에 대한 대체 방안으로 증가된 데이타의 양을 수용하기 위하여 매우 큰 바코드 라벨이 제공되었다. 그러나, 증가된 양의 데이타를 수용하기에 충분한 큰 바코드를 사용하였을때 라벨은 작은 물품에 적용할 정도로 컴팩트하지 않다. 또 다른 중요한 요소는 종이와 같은 라벨 재료의 비용이다. 작은 라벨는 큰 라벨보다 소모되는 종이 비용이 작다. 이러한 비용은 그양이 많을 경우에는 중요한 요소이다. 그러므로 큰 바를 사용하는 라벨은 너무 비싸다.
바코드에 대한 대체 방안은 다음을 포함한다 : 멜빈등에게 허여된 미합중국 특허 제3,553,438 호 (1971.1.5) 의 표시 감지 시스템 둥에 개시된 것등의 방사상으로 설비된 쐐기형태의 코드요소, 또는 매독스 등에게 허여된 미합중국 특허 제3,971,917 호 (1976.7.27) 의 라벨 및 라벨 판독기외 노컬트 등에게 허여된 제3,916,160 호(1975.10.28)의 자동 판독 시스템용 코드화된 라벨 에 개시된 것등의 흑백의 비트 암호화 동심환 등을 사용하는 원형 포맷; 마사까주 등에게 허여된 미합중국 특허 제4,286,146호 ( 1981.8.25) 의 암호화된 라벨 및 암호화된 라벨용 암호 판독기에 개시된 것 등의 데이터 암호화 사각형 또는 입방체의 행 및 열의 그리드; 벅스톤 등에게 혀여된 미합중국 특허 제4,634,850 호(1987.1.6)의 4겹밀도 데이터 시스템에 개시된 것 등의 통상의 간격으로 형성된 격자를 형성하는 셀내에 설비된 미세 점들; 복홀트 등에 허여된 미합중국 특히 제4,448,679호(1984.12.18)의 코드 및 판독 시스템에 개시된 것등의 점 또는 요소의 조밀하게 짜여진 다중색 데이타 체계.
전술한 예들에서 설명된 코드화 시스템들중 일부와 공지된 다른 코드화 시스템은 암호화된 원형태 및 사각형 또는 입방형 상자의 격자등의 경우에 있어서 기본적으로 데이터 밀도가 부족했다. 대체 방도로서, 전술한 미세점으로 이루어진 격자 또는 다중색 요소로 이루어지는 격자들의 경우에 있어서는, 이러한 시스템들은 특별한 배향 및 전송수단을 필요로 하기 때문에 고도로 제어된 판독 환경하에서만 사용될 수 있다. 챈들러 등에게 허여된 미합중국 특허 제4,874,936호 (1989.10.17) 의 6각정보 암호화물, 공정 및 시스템 및 미합중국 특허 제896,029호 (1990.1.23) 다각형 정보 암호화물, 공정 및 시스템 에는 조밀하게 짜여진 정보를 저장하며 어떤 방향에서든 고속 판독 가능한 정보 암호화 다각형을 보지하는 라벨을 개시한다. 챈들러의 시스템에 사용된 라벨은 포착 표적으로서 동심환들을 사용한다. 챈들러에 의해 제안된 것과 같은 시스템은 난이한 작업 조건하에서 라벨상의 포착 표적으로서의 동심화들의 존재를 감지해야만 한다.
현재 사용되는 컨베이어 시스템은 벨트의 폭이 3 내지 4피트이고 벨트 속도가 초당 100 인치 또는 그이상되는 컨베이어 벨트를 채용할 수 있다. 컨베이어 시스템은 정보가 암호화된 라벨이 부착된 다양한 높이의 물품들을 이송한다. 그러므로 광학 시스템이나 해독 시스템이 표적을 포착하고 상기 신속하게 이동하는 물품들에 부착된 데이터를 암호화한 라벨를 판독하는 것은 매우 난이하다. 이러한 상태에서는, 광학 스캐너가, 예를 들어 챈들러 등에 의해 제안된 환들을 사용한 라벨 이미지를 단지 포착하는 것도 곤란하다. 일단 포착 또는 인지되면 라벨 이미지는 순식간에, 컨베이어 시스템내의 물품들에 발생하는 다음 공정이 시작되기전에, 정확하게 해독되어야만한다.
이러한 문제점들을 해결하기위하여, 컨베이어 벨트 전체를 주사할 수있게 장착된 광학 스캐너를 사용하면서 데이터 암호화 라벨의 존재를 감지하고 신호 할 수 있는 단순하고, 신속하며 저가인 수단을 제공할 필요성이 대두된다. 챈들러 등에 의해 제시된 동심환 이외의 포착 표적을 갖는 데이터 열은 종래기술 예를 들어, 삼각형, 사각형, 오각형 및 다양한 변형등 이외의 동심형태로 웰돈에 허여된 미합중국 특허 제3,513,320호 ( 1970.5.19) 의 물품에 설비된 복수의 색을 검지하는 물품 인지 시스템 과 아끼무라에게 허여된 제3,603,728 호 (1979.9.7) 의 패턴을 사용하는 위치 및 방향 검지시스템에 공지되어 있다.아끼무라 등에 허여된 미합중국 특허 제3,693,154 호 (1977.9.19) 의 미세물의 위치 및 방향 검지방법 과 아이커에 허여된 제3,801,775호 (1974.4.2.) 의 물체 인지 방법 및 장치 는 또한 인지 및 위치 지시체로서 동심원으로 이루어진 표식을 사용하는 시스템을 개시하며, 상기 표식은 광학적으로 주사될 물품에 부착되어 있다.
그러나, 아이커 시스템은 데이터 영역의 인지와 그 위치를 결정하는 데 두 개의 별개의 표식을 사용하므로써, 상기 표식을 검지하는데 필요한 논리회로 및 라벨의 인쇄가 보다 복잡하게될 뿐 아니라, 연관 데이터 영역의 데이터 유지능력을 저하시킨다. 또한, 두 개의 표식을 사용하게되면, 하나의 표식이 손상되게되면 데이터 영역의 위치를 탐지하고 데이터 영역으로부터 정보를 회복시키는 능력에 문제점을 야기한다. 후자로서 설명한 시스템에 있어서, 별개의 위치 및 방향 표식이 단지 제한된 데이터 보지 능력을 갖는 데이터 암호화 선형 표식을 갖는 데이터 트랙의 반대 단부들에 사용된다. 그러나. 이러한 시스템은 두 개의 별개 표식을 필요로한다는 결점을 나타낸다. 제1의 표식은 이미지를 포착하는데 필요하며, 제2의 표식은 상기 이미지의 방향을 결정하는데 필요하다.
또한, 광학 센서의 디지털화된 신호 출력을 위치 및 방향 표식 모두를 나타내는 소정의 비트 순서와 맞추는 공정은 잘못된 판독을 낳을수 있으며, 이는 종래 기술의 라벨 포착 시스템이 포착표식 신호 렐벨이 고정된 특색을 가지기 때문이다.
전술한 시스템들은 일반적으로 비디오 신호 출력을 발생시킬 수 있는 광학 센서를 사용하여 주사한다. 비디오 출력신호는 데이터 열에서 반사되는 빛의 강도변화에 대응하며, 그에 따라서 주사된 표식의 위치 및 방향을 나타내게된다. 상기 시스템들의 비다오 출력은, 디지털화된 후에, 소정의 비트 패턴에 맞추어 특별한 비트패턴을 갖는다.이러한 타입의 통상의 비트 패턴은 단순 고조파( simple harmonic )이다. 디지털 및 아날로그 분야 모두에서 고조파 형태의 존재를 검지하는 것은 공지이다.그러나, 디지털 데이타를 포착하기 위한 고속 광학 시스템에 있어서는, 표적의 인지는 예를 들어 누름 단추식 전화기의 단추누름을 감지하는 시간보다 매우 짧은 시간내에 발생되어야만한다. 그러므로, 단지 포착 표적이 실제로 주사되는 시간동안만 지속되는 신호로부터 통상의 광학 포착 표적의 광학 주사에 의해 야기되는 고조파 형태를 인지할 수 있는 시스템을 제공하는 것이 바람직하다.
멜빈에 허여된 미합중국 특허 제3,553,438 호에는 일련의 동심원들로 이루어진 중심위치된 포착 표적을 갖는 원형 데이터 열이 개시되어 있다. 상기 포착 표적은 광학 주사 장치로 라벨의 위치를 탐지하는데 사용될 수 있는 이미지를 제공한다. 멜빈의 포착 표적은 또한 라벨의 가하학적 중심 및 데이터 열의 기하학적 중심을 결정할수 있게 한다. 이것은 소눈 형태의 동심환 포착 표적을 나타내는 펄스 패턴을 인지하는 로직회로를 통하여 달성된다. 그러나, 바코드의 경우에서와 같이, 데이터열은 단지 제한된 데이터 능력을 가지며 상기 시스템은 선형 및 원형 주사 공정을 필요로 한다. 상기 제한된 데이터 능력을 갖는 시스템에 선형 및 원형 주사 모두를 사용하는 것은 종래의 바코드에 대하여 데이터의 저장 능력이 약간 증가하는데 대하여 시스템이 바람직하지 못하게 복잡해지게 한다. 그러므로, 광학 주사 시스템은 매우 난이한 상황하에서 표적을 표착해야만한다. 이려한 표적들은 주사 영역내의 상이한 위치에 나타날 수 있으며 신속하게 이동할 수 있다.
또한, 포착 표적은 공학 주사장치로부터 상이한 위치에 설비될 수도 있다. 예를 들어, 물품에 부착된 라벨은 물품의 크기가 다양하기 때문에 상이한 거리에서 주사될 것이다. 그에 따라 주사된 포착 표적을 표시하기 위해 공학 주사장치에 의해 제공된 샘플시퀀스를 확대시키게 된다. 주사 장치에 포착 표적이 가까워질수록 설비될수록, 표적은 보다 크게 나타나며 샘플시퀀스의 주파수는 더욱 낮아진다. 배율의 변화에 의해 야기되는 주파수의 변화를 검지하는 것은 가변 극 및 영점을 구비한 디지탈 필터가 비싸고 복잡하기 때문에 곤란하다. 또한 거리가 변화되므로 포착 표적을 정확하게 주사하기 위해서는 촛점을 맞출 필요성이 도입된다. 종래 기술상의 전술한 문제점들을 해결하는데는 두가지의 통상적인 해결책이 있다. 종래기술에 공지된 촛점 맞춤 문제를 해결하는 통상의 해결책은 광학 주사장치로 부터의 다양한 거리에서 포착 표적을 검지할 수 있는 촛점거리를 사용하는 것이다. 확대의 문제점을 해결하는 통상의 해결책은 확대하지 않아도 되도록 광학 주사 장치와 포착 표적 사이의 거리를 고정하는 것이다
촛점 맞춤 문제를 회피하기 위하여 촛점거리를 크게하는 종래기술은 다음을 포함한다 : 펠더에 허여된 미합중국 특허 제4,544,064 호의 이동하는 상품 분배 설비, 액커에 허여된 미합중국 특허 제4,801,775 호의 물체 인지 방법 및 장치, 룬드에 허여된 미합중국 특허 제3,550,770 호의 물체 자동 분류 및 기록 방법 및 상기 방법을 실시하기 위한 장치, 그리고 스지클레이어에 허여된 미합중국 특허 제4,454,610 호의 패턴의 자동 분류 방법 및 장치. 포착 표적과 광학 주사 장치사이의 고정 거리를 제안한 참고 실시예는 다음을 포함한다 : 매독스 등에 허용된 미합중국 특허 제3,971,917 호의 라벨 및 라밸 판독기, 그리고 헤팰리 등에 허여된 미합중국 특허 제3,757,090 호의 정보 담체상에 설비된 정보의 기계적판독 및 인지.
전술한 촛점문제 및 확대문제 모두를 해결하기 위한 방책은 포착 표적과 광학 주사 장치 사이의 거리를 조절하는 것이다. 밀러에 허여된 미합중국 특허 제4,776,464 호는 전술한 타입의 조정을제시한다. 그러나, 이러한 방법을 신속하게 이동하며 큰폭으로 변화하는 다양한 크기의 밀접하게 설비된 다수의 물품에 사용하는 것은 기계적으로 곤란한다.
[발명의 개요]
광학 표적은 광학 주사 장치로부터의 입력 신호내의 대역내 표적 주파수에 따라 광학 주사 시스템에 의해 포착된다. 광학 주사 장치로부터의 입력 신호의 대역내 에너지 레벨과 대역외 에너지 레벨 모두가 결정된다. 이러한 두 에너지 레벨은 서로 대비되며 표적의 가능한 검지는 대비에 따라 결정된다. 가능한 검지가 확실하게 하기 위해서 대역내 에너지의 최소 한계가 요구된다. 입력 신호는 광학 주사 장치에 의해 주사된 포착 표적의 확대량이 상이하기 때문에 다양한 주파수를 가질 수 있다. 그러므로, 입력 신호는 확대량이 상이하기 때문에 다양한 주파수로서 표적을 나타낼 수 있다. 포착 표적의 다양한 확대는 주사장치와 포착 표적 사이의 주사거리가 상이한데서 연유한다. 그러므로, 필터의 중심 주파수 또는 상당량 입력신호를 시프트시키므로써 확대 보상이 수행된다. 시프팅되는 양은 주사거리에 따라 결정된다. 주파수를 시프트시키는 것은 고정 주파수로 디지털 입력 신호상에서 디지털 - 아날로그 변환을 수행하므로써 달성된다. 디지털 - 아날로그 변환기의 출력은 아날로그 신호가 변화하는 리샘플링 주파수에서 리샘플링되는 아날로그 - 디지털 변환기에 가해진다. 상기 리샘플링 주파수가 샘플링 주파수와 상이할 때 필터의 중심 주파수가 효율적으로 변화될 수 있다. 이에 대한 대체 방식으로, 리샘플링된 신호는 완충 및 리클록될 수 있으며, 이러한 경우 입력 신호의 주파수가 효율적으로 시프트된다. 주사거리에 따라 주파수 시프트량을 변화시키기 위하여 아나로그 - 디지털 변환기에 가해진 리샘플링된 주파수가 주사 거리에 따라 변화된다. 다양한 리샘플링 주파수와 다양한 주사거리 사이의 관계는 주사된 포착 표적을 나타내는 다양한 입력 주파수가 단일의 소정 기본 주파수로 시프트되게 하도록 선택된다.
[도면의 간단한 설명]
제1도는 라벨에 동심환 포착 표적이 제공된 2 진수의 데이터를 암호화하기 위한 3 개의 광학 성질의 밀접하게 설비된 다각형을 갖는 종래기술의 광학 판독 가능한 라벨의 평면도.
제2도는 제1도의 광학 판독 가능한 라벨의 바람직한 실시예에 제공된 종래 기술의 광학 판독 가능한 동심환 포착 표적의 평면도.
제3도는 제1도의 광학 판독 가능한 라벨의 바람직한 실시예의 동심환 포착 표적을 포착하기 위한 본 발명의 광학 표적 포착 시스템의 블록도.
제4도는 제3도의 표적 포착 시스템에 포착 표적을 나타내는 샘플 시퀀스를 제공하기 위한 본 발명의 광학 라벨 주사 사스템을 보여주는 블록도,
제5도는 물품에 부착된 제1도의 광학 판독 라벨을 주사영역을 통과하여 진행시키기위한 컨베이어 벨트를 포함하는 제4도의 광학 주사 시스템의 사시도,
제6도는 제4도의 광학 라벨 주사 시스템의 주사 광선의 개략 단면도,
제7a,b도는 제3도의 광학 표적 포착 시스템의 리샘플러 또는 주파수 시프터의 대체 실시예를 보여주는 상세도,
제8도는 제3도의 광학 표적 포착 시스템의 일부를 보여주는 상세 블록도.
제9도는 제3도의 광학 표적 포착 시스템의 이중 필터회로를 보여주는 상세도,
제10도는 제3도의 광학 표적 포착 시스템의 추가부분을 보여주는 상세 블록도.
제11도는 제3도의 광학 표적 판독 시스템의 디지털 제어 오실레이터를 보여주는 개략 상세도,
제12도는 제3도의 표적 포착 시스템내의 대역내 에너지 검출기를 보여주는 상세도,
제13도는 제3도의 표적 포착 시스템내의 대역외 에너지 검출기를 보여주는 대략 상세도.
[발명의 상세한 설명]
제1도 및 제2도에 있어서, 종래 기술의 광학 판독 라벨(4)내의 종래기술의 동심환 포착 표적(2)이 도시된다. 동심환 포착 표적(2)은 중심원(5)과 다수의 동심환(3)으로 형성되며 본 발명의 광학 주사 시스템에 의해 포착될 수 있다. 다수의 동심환(3)으로 이루어진 포착 표적(2) 또는 황소눈(2)은 바람직하게는 광학 판독 라벨 (4)의 중심부에 배치된다.
광학 판독 라벨(4)의 바람직한 실시예에서는 동심환 포착 표적(2)뿐아니라 약 888 개의 다각형(7)또는 정보 암호화 셀(7)이 제공된다. 888 개의 다각형(7)을 갖는 광학 판독 라벨(4)은 약 1인치× 1인치 크기이다. 다각형(7)은 본 발명의 광학주사 시스템에 의해 암호가 해독되는 데이터를 표시할 수 있다. 그러나, 본 발명의 시스템이 어떤 형태이던 데이터를 가지는 어떤 표면상에 설비된 포착 표적에 적용될수 있다는 것을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다. 또한, 본 발명의 시스템은 데이터를 가지거나 가지지 않은 포착 표적에 적용될 수 있다.
1인치 × 1인치 크기 광학 판독 라벨(4)의 888 개의 다각형(7)은 33개의 수평 열 및30 개의 수직 열로 배치된다. 광학 판독 라벨 (4)의 개개의 6각형 (7)은 약8/10mm 의 직경을 가지며, 6면 이외의 다각형으로 설계될 수도 있다. 광학 판독라벨(4)의 바람직한 실시예에 있어서, 6각형(7)은 무질서하게 설비되어 있으며, 광학 판독 라벨(4)상의 6각형(7)의 밀도를 최대로 하기 위하여 공통의 선형 축을 갖는 교대로 수직 간격을 두고 설비된 정보 암호화 6각형 (7)과 수직기둥이 부분적으로 겹쳐진다.
다각형(7) 뿐만 아니라 포착 표적(2)의 동심환(3)과 중앙원(5)이 둘 또는 그이상의 상이한 광학 특성을 제공하는 공정에 의해 형성된다. 예를 들어, 포착 표적(2)의 동심환(3)과 중앙원(5)그리고 다각형(7)은 대비색으로 할 수 있다. 이러한 색은 백색, 흑색또는 회색일 수 있다. 그러나, 다른 대비색 또한 포착 표적(2) 및 다각형(7)을 형성하는데 사용될 수 있음이 통상의 지식을 가진 자에게 공지되어 있다. 백색,흑색 그리고 회색의 독특한 색조는 본 발명의 주사 시스템내의 광 - 전자 센서에 의해 용이하게 인지되도록 최적의 대비를 달성하기 위해 선택될 수 있다. 회색레벨은 바람직하게는 그 광학 특성이 백색 구역의 광학 특성과 광학 판독 라벨(4)의 흑색구역 사이의 대락 중간 정도가 되도록 선택된다.
광학 판독 라벨(4)은 물품의 표면 등의 표면에 부착될 수 있는 별개의 라벨(4)로서 형성될 수 있다. 또한, 백색 등의 수용 가능한 색 배경이 사용 된다면, 광학 판독라벨(4)은 물품의 표면상에 직접 인쇄되거나 개개의 라벨을 사용하지 않아도된다. 개개의 대조색들의 제어된 광학 특성 배경을 갖는 것이 중요하기 때문에, 개개의 라벨(4)를 사용하는 것이 바림직하며, 이는 라벨(4)이 개별적일 때 광학 판독 라벨(4)이 더욱 용이하게 제어되기 때문이다.
광학 판독 라벨(4)의 바람직한 태양 등의 라벨가 챈들러 등에 허여된 미합중국 특허 제4,874,936 호(1989.10.17)의 6각형 정보 암호화물, 공정 및 시스템 그리고 미합중국 특허제4,896,029 호(1990.1.23)의 다각형 정보 암호화물, 공정 및 시스템에 개시되어 있으며, 이들 두 특허의 내용은 본 명세서에서 참고로 사용된다.
전술한 바와 같이, 동심환 포착 표적(2)은 중앙원(5)과 흑색, 회색,백색 등의 대비색의 복수의 동심환(3)으로 이루어진다. 동심환 포착 표적(2)은 바람직하게는 광학 판독 라벨(4)의 기하학적인 중심부에 위치되어, 전체적으로 또는 광학 판독 라벨(4)의 외주부가 찢겨지거나, 회손 또는 손상되는 경우 부분적으로 손상되거나 파손되는 것을 줄일 수 있다. 동심환 포착 표적(2)내의 동심환(3)의 수는 변할 수 있으나, 6개의 동심환(3)을 수용 가능한 것으로 알려졌다. 중앙원(5)과 6개의 동심환(3)으로 형성된 포착 표적(2)이 광학 주사 장치에 의하여 중앙부를 통하여 주사될때 11개의 반-사이클 고조파 샘플시퀸스가 생성된다. 반사이클은 주사가 개개의 동심환(3)을 2회 가로지를 때 각각 생성되며, 다른 반사이클은 중앙원(5)이 주사될 때 생성된다.
동심환포착 표적(2)은 광학 판독 라벨(4)의 전체 데이터 열과 같거나 또는 그보다 작은 어떤 전체 직경일 수 있다. 동심환 포착 표적(2)의 면적은 광학 판독 라벨(4) 면적의 25% 일 수 있다. 바람직한 실시예에 있어서, 동심환 포착 표적(2)은 광학 판독 라벨(4)의 면적의 약 7%를 형성한다. 바람직하게는 동심환 포착 표적(2)은, 동심환 포착 표적(2)이 광학 판독 라벨(4)의 대부분을 차지할때에는 광학판독 라벨(4)상에 암호화될 수 있는 정보의 양이 감소되기 때문에 가능한 작아야 한다.
동심환 포착 표적(2)의 바람직한 실시예에 있어서, 표적(2)의 최외각 환(3)으로서 약 71/2 mm직경의 것을 사용하게되면 표적(2)을 에워싼 다각형(7)의 열내에 암호화될 수 있는 상당량의 정보를 간섭하지 않으면서 1인치 사방의 광학 판독 라벨 (4)상에 만족할만한 포착 표적을 제공한다. 동심환 포착 표적(2)의 환(3)의외측 경계에 인접한 단편의 다가형(7)들은 본 발명의 시스템내의 광학 판독 라벨(4)내에 정보를 암호화하기 위한 목적으로 사용되지 않는다.
본 발명의 시스템을 사용하는 검지에 적합한 포착 표적은 동심환 포착 표적(2)이외의 형태를 취할 수 있다. 예를 들어, 편심원, 동심 또는 편심 사각형, 나선 또는 그외의 다각형이 대비 동심형체의 변화를 생성하기 위하여 사용될 수 있다. 또한, 대체형태로 형성된 포착 표적(2)의 선형부가 광전자 센서에 감지되지 쉬운 소정의 인지 변화를 광학특성에 생성한다면 어떠한 대체형태도 사용될 수 있음을 통상의 지식을 가진자라면 이해할 것이다. 비곡 나선은 동심원의 집합은 아니지만, 나선의 크기 및 반경에 따라서, 나선을 사용하여 동심원에 매우 근사한 형태가 얻어질 수 있다. 그러므로, 동심환 포착 표적(2)이외의 형태를 갖는 포착 표적이 본 발명의 시스템 및 방법을 사용하여 얻어질 수 있다는 것을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
동심환(3)으로 형성된 포착 표적(2)은 동심환 포착 표적(2)등의 중앙부를 통하여 광학 주사에 의하여 발생된 신호가 주사가 어떤 방향에서 수행될때와 동일한 주파수를 가지기 때문에 예를 들어 4각형 또는 6각형 등 모두 바람직하다. 그러므로 동심환 포착 표적(2)은 순환적으로 독립된다. 이것은 동심환 포착 표적(2)의 인지를 다른 형태에 비하여 용이하게 하며 광전자 스캐너의 아날로그 또는 디지털 출력의 일차원적 탐색으로 포착 표적(2)의 위치를 인지하게 한다. 그러나, 본 발명의 시스템 및 방법은 포착 표적 뿐만 아니라 순환적으로 종속된, 그리고 또한 순환적으로 독립되어 실행될 수 있음을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
대체 방식의 실시예에 있어서, 본 발명의 시스템은 주사 신호가 분석될 때 보다 정확한 탐색을 위해 2 차원 탐색을 수행할 수 있다. 이와 같은 주사는 디지털 또는 아날로그 주사일 수 있다. 또한, 실체적으로 동일한 두께를 갖는 동심환대신에 변화하는 환형 두께를 갖는 동심환(3)이 사용될 수 있으며, 동심환의 두께와는 다른 직경을 가지는 중심원(5)이 사용될 수 있다. 환 두께가 변화하는 동심환(3)이 본 발명의 시스템에 의해 주사되면, 변화하는 두께를 갖는 동심환이 광학적으로 주사될 때 레이다 정보(chirp)와 유사한 파형이 생성된다. 이러한 정보파형은 실체적으로 동일한 두께의 동심환(3)의 주사에 의해 발생되는 고조파 파형과는 상이하다. 그러나, 이러한 정보 파형은 통상의 기술뿐 아니라 매치된 필터를 구비한 본 발명의 광학 표적포착시스템(10)에 의해서 검지될 수 있음을 통상의 지식을 가진자라면 이해할 것이다. 그러므로, 본 명세서에서 동심환은 원호, 진 환, 반원형태의 부분원, 180°와 360° 사이를 점유하는 동심환의 부분, 변화하는 두께를 갖는 환, 그리고 동심환에 가까운 동심 나선 등의 대비되는 광학 특성을 갖는 기하학적 형태를 포함하며, 이에 제한되지는 않는다. 이러한 기하학적 형태는 동일하거나 두께가 변화할 수 있으며 동심, 편심 또는 간격이 띄어질 수 있다. 광학 표적 포착 시스템(10)이 전술한 다양한 기하형태를 갖는 포착표적을 탐지하는데 사용될 수 있음을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
본 명세서에 사용되는 라벨(Label)은 물체에 적용된 이미지 뿐만아니라 그에 적용된 이미지를 갖는 별개의 구성부를 포함하지만 그에 제한되지는 않으며, 상기 이미지를 띄는 개개의 구성부는 대상물과 연관되도록 만들어 진다. 상기와 같은 개개의 구성부에는 구성부를 대상물에 부착하기 위한 적절한 개조 형태가 제공되거나 또는 그렇지 않을 수 있다. 전술한 개조 형태는 예를 들어 대상물에 개개의 구성부를 부착하기 위해한면에 접척성을 갖게하는 것일 수 있다. 전술한 바과 같은 개개의 라벨은 컨테이너 또는 다른 여타 대상물의 외표면상에 부착될 수 있다. 포착 표적 뿐 아니라, 그외의 광학 판독 정보가 개개의 라벨 또는 대상물상에 새겨지거나 또는 그렇지 않을 수 있다. 본 명세서에 사용되는 광학 특성 은 상이한 매체에서 나타나는 이미지의 광흡수, 반사 그리고 굴절 등의 특성을 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 제3, 4 그리고 제5도에 있어서, 광학 판독 라벨(4)를 포착하고 판독하기 위한 본 발명의 광학 표적 포착 시스템(10)의 블록도 뿐 아니라 광학 라벨 주사 시스템(9)의 블록도와 컨베이어벨트(42)와 광학 주사 장치(60)를 포함하는 광학 라벨 주사시스템의 일부의 사시도가 도시된다. 광학 라벨 주사 시스템(9)의 광학 주사 장치(60)는 컨베어어 벨트(42)와 컨베이어 벨트(42)상에 설비된 이동하는 물품을 상부의 거울(56)에 의해 반사되는 부채꼴 광선(58)을 사용하여 주사한다. 부채꼴 광선(58)의 테두리 주사광선(62)은 부채꼴 광선(58)의 대략적인 외곽 경계를 표시한다. 그러므로 테두리 주사선(62)은 광학 주사 장치(60)에 의해 주사된 면적의 외측 한계를 지시한다. 테두리 주사 광선(68)은, 점선(68)으로 지시된 바과 같이, 컨베이어 벨트(42)상의 0 높이에서 컨베이어 벨트(42)의 폭보다 약간 넓게 분산된다. 부채꼴 광선(58)내의 물품의 모서리에 닿는 광산(64)은 이동하는 물품(67)의 상대편 단부들에 닿으며 이동하는 물품(67)이 광학 주사 장치(60)의 주사영역을 통하여 진행할 때 물품 주사선(66)을 한정한다. 물품 모서리 광선(64)은 부채꼴 광선(58)의 테두리 주사 광선(62)과 동일 평면내에 있다. 물품 주사선(66)은 컨베여 벨트(42)의 이동에 의해 물품(67)에 주사될 때 물품(67)에 대하여 상대적으로 이동한다. 주사선(66)에 대한 물품(67)의 이동은 주사선(66)이, 이동하는 물품(67)상에 설비된 라벨(4)내의 동심환 포착 표적을 포함하는 광학 판독 라벨(4)에 의해 한정되는 광학영역을 통하여 통과하게 한다.
이동하는 물품(67)이 광학 라벨 주사 시스템(9)내의 부채꼴 광선을 통하여 진행할 때 물품 주사선(66)은 동심환 포착 표적(2)의 원(5)의 중앙부를 통과한다. 물품 주사선(66)이 동심환 포착 표적(2)의 중앙부를 통과할 때 11개의 반사이클을 갖는 샘플시퀀스가 광학 주사 장치(60)의 전하 결합 소자(30)의 출력에 제공된다. 이러한 샘플시퀀스는 전술한 바와 같이 포착 표적(2)을 형성하는 6 개의 동심환(3)과 중앙원(5)의 교호하는 광학 특성에 의해 생성된다. 광학 주사 장치(60)는 주사에 의해 생성된 샘플시퀀스를 광학 표적 포착 시스템(10)내의 주파수 시프터(12)나 리샘플러(12)에 가하여 동심환 포착 표적(2)을 표시하는 샘플시퀀스를 탐지하게 한다.
제6도에 있어서, 본 발명의 광학 라벨 주사 시스템(9)의 부분 단면이 도시 된다. 상기 단면은 광학 라벨 주사 시스템(9)의 부채꼴 광선(58)을 통하여, 테두리 주사 광선(62)에 의해 한정된 것을 나타낸다. 테두리 주사광선(62)과 물품 모서리 광선(64)은 모두 부채꼴 광선(58) 평면내에 설비된다. 4096 개의 화소가 광학 주사시스템(9)내의 광학 주사 장치(60)의 전하결합 소자(30)에 의해 수행된 개개의 주사내에 제공된다. 상기 4096개의 화소는 확대 높이(72)가 0 인 파선(68)을 따라 대략 46인치상의 주사 정부를 표현한다. 그러나, 확대높이(72)가 대략 36인치 일때, 컨베이어 벨트(42)상부의 최대거리(71)에서 파선(70)을 따른 단지 36인치만이 상기와 동일한 수의 화소에 의해 표현된다.
그러므로, 광학 주사 장치(60)에 의해 감지된 동심환 포착 표적(2)은 보다 많은 표본들이 동일한 수평 주사거리에서 추출되기 때문에 보다 큰 확대 높이(72)에서 보다 크게 나타난다. 이것은 광학 주사장치(60)의 출력에서의 샘플시퀀스가, 광학 포착 표적(2)이 컨베이어 벨트(42)상부의 보다 큰 확대높이(72)에서주사될 때 보다 낮은 주파수를 갖게 한다. 그러므로, 광학 판독 라벨(4)는 컨베이어벨트(42) 상부로 라벨(4)을 상승시키는 이동 물품(67)상에 설비될 때 확대되어 나타난다. 전술한 확대는 광학 라벨 주사 시스템(9)내의 주파수 시프터(12) 또는 리샘플러(12)에 의해 보상된다. 컨베이어벨트(42)상부의 확대높이(72)는 광학 라벨 주사 시스템(9)의 바람직한 실시예에 있어서 최대 36 인치로 제한될 수 있다.
광학 라벨 주사 시스템(9)내의 광학 판독 라벨(4)의 확대를 보상하기 위하여, 라벨 주사 시스템(9)의 높이 탐지기 설비(40) 또는 높이 센서(40)가, 이동하는 물품(67)이 높이 탐지기 설비(40)를 지나 컨베이어 벨트(42)에 의해 진행될 때, 이동하는 물픔(67)의 정상부의 확대높이 (72)를 탐지한다. 높이 탐지기 설비(40)는 예를 들어, 확대높이를 감지하기 위한 적외선 방사 다이오드 (되시되지 않음)를 포함할 수 있다. 이에 대체되는 실시예에 있어서, 음파(도시되지 않음)또는 그외의 타입의 센서가 확대높이 (72)를 감지하기 위하여 주사 시스템(9)의 높이 탐지기 설비(40)내에 사용될수 있다. 높이 탐지기 설비 (40) 또는 높이 센서 (40)로 부터의 높이 또는 거리 정보는 높이 탐지기 설비 출력라인(50)을 통하여 높이 정보처리기(36) 또는 높이 계산장치(36)로 보내진다.
높이 탐지기 설비 (40)로부터의 정보를 처리하기 위한 계산을 수행한 후, 높이 정보 처리장치(36)는 높이 정보를 라인(52)을 통하여 주사 시스템 제어기 (46)로 보낸다. 주사 시스템 제어기(46)는 또한 컨베이어 벨트 암호기 (44)로부터 컨베이어 벨트 속도 정보를 수신한다. 상기 컨베이어 벨트 속도 정보는 암호기라인 (54)을 통하여 컨베이어 암호기 (44)로부터주사 시스템 제어기(46)에의하여 수신된다.
주사 시스템 제어기(46)는 높이 정보 처리기 (36)에 의해 주사 시스템 제어기(46)에 가해진 높이정보를 계산한 결과에 따라, 촛점 제어 라인(48)을 사용하여스캐너 촛점 맞춤 회로 (32)를 제어한다. 스캐너 촛점 맞춤 회로 (32)는 주사 시스템 제어기(46)로부터의 확대높이 (72)를 나타내는 계산된 정보를 사용하여 광학 주사장치(60)의 전하 결합 소자(30)와 주사 촛점 맞춤 렌즈 (24)사이의 거리를 조정한다. 그러므로 광학 주사 장치 (60)는 확대높이(72)에 따라 조정된다. 전술한 바와 같이 조정하므로써, 광학 주사 장치 (60)가 이동하는 물품(67)상에 설비된 광학 판독 라벨(4)에 촛점이 맞추어진 주사를 수행한다.
광학 라벨 주사 시스템(90)의 바람직한 실시예에 있어서, 전하 결합소자(30)의 부피가 촛점 렌즈(24)보다 작기 때문에 촛점 맞춤 렌즈 (24)보다는 스캐너(60)의 전하결합소자(30)가 스캐너 촛점 맞춤 회로 (32)로부터의 높이 정보에 따라서 이동된다. 그후 전하 결합 소자 (30)는 표적 포착 입력 라인(26)을 사용하여 주사 정보를 본 발명의 광학 표적 포착 시스템(10)의 리샘플러(12) 또는 주파수 시프터(12)로 보낸다. 광학 라벨 주사 시스템 (9)내의 리샘플러 (12)는 확대를 보정한다. 전술한 바와 같이 변화하는 크기의 이동물품(67)에 의해 컨베이어 벨트(42)상부의 변화되는 확대 높이(72)로 광학 판독 라벨 (4)이 상승되기 때문에 광학 라벨 주사 시스템(9)내의 확대가 변화된다. 컨베이어 벨트 (42)상부의 변화하는 확대높이(72)는 광학 주사 장치(60)와 포착 표적(2)사이의 주사 거리가 변화하게 한다. 그러므로 리샘플러 (12)는 주사거리가 변화하기 때문에 본 발명의 광학 표적 포착 시스템(10)내에 변화 하는 확대 보상을 제공하기 위하여 주파수 시프트의 양을 변화시킬 것이 필요하다.
표적 광학 포착 시스템(10)의 리샘플러 (12)는 확대 수정신호 또는 주파수 제어 신호에 따라 변화하는 확대 수정을 제공한다.상기 시스템(9)내에서의 주파수 시프트는 ① 대역내 에너지 지시기(14) 또는 대역외 에너지 지시기 (16)내의 필터의 중심 주파수의 효율적인 시프트, 또는 ② 표적 포착 입력 라인 (26)을 사용하여 광학 표적 포착 시스템(10)에 가해진 입력 신호내의 주파수의 효율적인 시프트를 언급한다는 것을 통상의 지식을 가진자라면 이해할 것이다. 각각의 타입의 시프트는 소정의 입력신호 주파수가 탐지되도록 주파수들중 하나를 다른 하나로 또는 두 개의 주파수 모두를 상호 이동시키는 것이 가능한한 제공될 것이다.
변하는 확대 제어를 제공하기 위한 확대 수정 신호는 확대 수정 제어 라인 (28)에 의해서 주사 시스템 제어기(46)로부터 리샘플러(12)로 가해진다. 비록 표준의 확대 수정이 사용된다 할지라도 광학 라벨 주사 시스템(9)의 바람직한 실시예에 있어서 리샘플러 (12)는 전하 결합 소자 (30)로부터의 신호를 컨베이어 벨트 (42)상부의 0의 높이로 수정하여 표준에 맞게한다.광학 판독 라벨 (4)를 주사하므로써 얻은 정보를 내포하는 전하 결합 소자 (30)로부터의 광학 주사 신호는 수정되어, 주파수 시프터(12)의 출력에서의 수정된 신호가 라벨(4)이 컨베이어 벨트 (42)상부의 0 이 아닌 확대높이 (72) 대신에 컨베이어 벨트(42)의 레벨에 설비된다면 입력라인 (26)상에 나타날 수 있는 주파수를 갖는다.
그러므로, 광학 라벨 주사 시스템 (9)의 컨베이어 벨트 (42) 레벨에서의 확대매개요소는 단일화된다. 동심환 포착 표적(2)이 동심환 포착 펴적 (2)이 컨베이어 벨트 (42)레벨에서 주사될 때 제공된 샘플시퀀스 주파수는 주사 시스템(9)의 기본 환 주파수 로 한정된다. 컨베이어 벨트 (42) 상부의 다양한 확대높이 (72)에서 주사된 광학 판독 라벨는 주사 영역의 대부분을 점유하고 보다 많은 표본이 동일한 11개의 반사이클내에서 추출되기 때문에 표적 포착 입력 라인 (26) 또는 탐지기 입력 신호 라인(26)상에 저주파수 신호를 제공한다. 그러나 컨베이어 벨트 상부의 다양한 확대 높이 (72)로 상승된 광학 주사장치(60)의 샘플시퀀스가 상기 시스템 (9)의 실시예에 의해 확대를 위해 수정되고 샘플시퀀스의 주파수가 시프트되면, 그들 모두는 소정의 기본 환 주파수와 실체적으로 동일한 주파수를 갖는다. 그외에도, 광학 표적 포착 시스템(10)이 지시기(14,16)의 특이점을 시프트시키는 것이 효과적일 때 상기 특이점은 확대에서 비롯된 주파수로 시프트된다.
다양한 높이 (72) 또는 변하는 높이 (72)가 하나의 이동하는 물품(67)에서 다른 이동하는 물품으로 변하는 높이를 언급하는 것이며, 단일의 이동하는 물품(67)을 주사하는 중에 발생할 수 있는 높이의 변화에 대한 것이 아님을 이해한 것이다. 또한, 광학 표적 포착 시스템 (10)에 연관된 변화는, 다양한 또는 상이한 주파수 또는 확대가 단일의 이동하는 물품 (67)의 주사중에 발생할 수 있는 주파수 또는 확대가 아니라 하나의 이동하는 물품(67)으로부터 다른 물품으로 변화하는 주파수를 언급한 것임을 이해할 것이다. 어떠한 타입의 높이 변화 및 그에 따르는 확대 그리고 주파수 변화가 높이 센서 (40)에 의해 탐지되고 광학 표적 포착 시스템(10)내에서 보상되는 반면에 본 발명의 표적 포착 시스템(10)의 바람직한 실시예는 단지 하나의 이동하는 물품(67)으로부터 다른 물품으로 변화만을 보상한다.
리샘플러(12)의 출력 신호는 광학 표적 포착 시스템(10)내의 대역내 에너지 지시기(14)와 대역외 에너지 지시기(16)에 동시에 가해진다. 대역내 에너지 지시기(14)는 광학 주사 장치 (60)로부터의 신호내의 기본 환 주파수에서의 에너지 레벨을 결정하도록 만들어진다. 전술한 바와 같이, 기본 환 주파수는 동심환 포착 표적(2)이 컨베여 벨트 (42)레벨에서 주사될 때 광학 주사 장치 (60)의 출력에 제공되는 주파수이다.
그러므로, 동심환 포착 표적 (4)이 0 이 아닌 확대높이(72)에 설비된다면 대역내 에너지 지시기(14)에 의해 탐지된 에너지 레벨은 상기 시스템(9)의 바람직한 실시예에서 리샘플러(12)에 의해 대역내 에너지 지기시 (14)의 탐지 대역으로 시프트된다. 그외에도, 대역내 에너지 지시기(14)의 특이점은 사용된 주파수 시프트 타입에 따라서 주사 표적(2)에 의해 생성된 에너지의 주파수로 시프트될 수 있다. 후술한 실시예에 있어서, 0 이 아닌 확대높이 (72)를 갖는 포착 표적(2)이 주사될 때 대역내 지시기 (16)의 특이점도 따라서 시프트된다.
동심환 포착 표적(2)의 중앙원(5)의 중심부가 광학 주사 장치(60)의 주사 경로를 통과하게되면, 부채꼴 광선(58)이 포착 표적(2)의 중심부를 통과한다. 표착 표적(2)이 컨베이여 벨트(42)상부의 0이 아닌 변화하는 확대높이972)로 상승되었을 때 확대된 포착 표적(2)을 표시하는 변하는 주파수 신호가 리샘플러(12)에 가해진다. 이러한 변하는 주파수들중 어떤 것이 리샘플러(12)의 입력에 가해지면 포착 표적(2)을 나타내는 기본 환 주파수 또는 표적 주파수가, 주파수 시프터(12)가 특이점 주파수 보다 입력 신호 주파수를 시프트 시키도록 적응될 때 확대 제어 라인 (28)의 신호에 따른 입력 주파수 신호의 수정후에 리샘플러(12)의 출력 라인(13)에 나타난다. 확대 제어 라인(28)의 신호는 포착 표적(2)이 설비된 이동하는 물품(67)의 확대높이 (72)를 나타내는 정보에 따라 주사 시스템 제어기 (46)에 의해 주파수 시프터(12)에 가해진다.
리샘플러(12)의 출력 라인(13)에서의 기본 환 주파수가 존재하게되면 대역내 에너지 지시기 (14)에 가해지는 대역내 에너지 레벨이 증가하게 된다. 이러한 대역내 에너지는 동심환 포착표적(2)내의 중앙원(5)과 인접한 동심환(3)사이의 광학적 대비에 의해 생성된 11개의 반사이클에 기인한다. 전술한 바가 발생할 때 광학 표적 포착 시스템(10)의 대역내 에너지 지시기(14)의 지시기 출력 라인(15)이 하이로 간다. 동심환 포착 표적(2)의 중심부가 광학 주사장치(60)에 의해 주사되고 대역내 에너지 레벨이 증가하면 대역외 에너지 레벨은 동시에 감소한다. 대역외 에너지가 감소하는 것은 지시기 출력 라인(17)의 진폭을 감소시키는 대역외 에너지 지시시(16)에 의해 탐지된다.
대역내 에너지 지시기(14)의 출력과 대역외 에너지 지시기(16)의 출력은 각각의 지식 출력 라인(15,17)을 통하여 에너지 비 비교기 (20)에 보내진다. 에너지 비 비교기 (20)는 대역내 에너지 레벨과 대역외 에너지 레벨의 비율을 대비한다. 대역내 에너지 지시기(14)의 출력라인 (15)에 지시된 바와 같은 대역내 에너지와 대역외 에너지 지시기(16)의 출력라인(17)에 지시된 바와 같은 대역외 에너지의 비가 소정의 레벨에도달할 때, 에너지 비 비교기(20)의 출력이 하이로간다. 에너지 비 비교기(20)의 높은 출력은 광학 주사 장치(60)의 주사 경로내의 광학 판독 라벨(4)의 동심환 포착 표적의 존재 가능성을 지시한다.
대역내 에너지 지시기(14)의 출력 또한 지시기 출력 라인(15)을 통하여 한계검출기 (18)또는 한계치 비교기 (18)에 가해진다. 고정된 직류(dc)레벨이 대역내 에너지 지시기(14)의 출력에 더하여 한계치 비교기(18)에 가해진다. 한계치 비교기 (18)의 입력에 가해진 고정된 직류 레벨에 의하여 결정된 바와 같이 대역내 에너지 지시기(14)의 출력이 소정의 한계에도달하면, 한계치 비교기 (18)의 출력은 하이로간다. 한계 검출기(18) 및 에너지 비 비교기 (20)의 출력은 광학 표적 포착 시스템(10) 내의 표적 포착 출력 AND 게이트 (22) 에 가해진다. 표적 포착 출력 AND 게이트 (22)의 출력은 표적 포착 프리거 라인 (34)을 통하여 주사 시스템 제어기 (46)에 인가된다.
AND 게이트 (22)의 출력에서 표적 포착 트리거 라인 (34)상에나타나는 트리거 신호는 다음의 경우에만 하이로 간다 : (1) 대역내 에너지 레벨 대 대역외 에너지 레벨의 비가 높을 때, 그리고 (2) 대역내 에너지 레벨이 소정의 한계치 또는 지시점을 초과할 때, 그러므로, 광학 표적 포착 시스템(10)은 동심환 포착 표적 (2)이 광학 주사 장치 (60)에 의해 주사되는 것을 결정할 때 표적 포착 트리거 라인(34)은 하이로 간다. 표적 포착 트리거 라인(34)은 광학 라벨 주사 시스템(9)을 제어하기 위하여 주사시스템 제어기(46)에 가해진다. 표적 포착 트리거 라인(34)은 또한 완충기 및 라벨 해독기 (38)에도 적용되므로써 광학 판독 라벨(4)로부터의 데이터가 판독, 저장, 해독될수 있다. 트리거 신호가 표적 포착 트리거 라인(34)에 적용될 때에만 광학 주사 시스템(9)내에 데이터가 요구된다.
제7a,b도에 있어서, 본 발명의 광학 표적 포착 시스템 (10)내의 주파수 시프터(11) 또는 리샘플러 (11) 뿐 아니라 주파수 시프터 (12)가 상사하게 도시된다. 주파수 시프터(11)는 주파수 시프터(12)또는 리셈플러(12)의 대체 방식이다. 샘플시퀀스(101)는 광학 주사 장치 (60)의 전하 결합 소자(3)로부터의 표적 포착 입력 라인(26)을 통하여 리샘플러(11,12)의 입력에 가해진다. 표적 포착 입력 라인 (26)의 파형은 동심환 포착 표적(2)의 중심이 광학 주사 장치 (60)의 주사경로를 통과할 때 ta내지 tb의 시간간격중의 샘플시퀀스 (101)를 포함한다. ta내지tb의 시간간격 전후에 있어서는 불규칙 신호가 입력 라인(26)상에 나타난다.
변하는 확대정도 때문에 변하는 주파수를 갖는 샘플시퀀스 (101)가 리샘플러(11,12)에 가해질 때 이들은 그에 대응하는 변화하는양의 주파수 시프트를 제공한다. 이러한 변하는 주파수 시프트는 샘플시퀀스 (101)의 주파수 또는 표적 포착 시스템(10)의 다른 실시예에서의 지시기(14,16)의 특이점 주파수에 가해질 수 있다. 리샘플러(11)에 의해 제공된 주파수 시프트는 주파수 시프터 출력라인(13)에서 기본 환주파수를 갖는 보상된 신호 파형 (124)또는 리샘플링된 신호 파형을 생성하는데 효과가 있다.
샘플시퀀스 (101)는 주파수 시프터 입력 라인 (26)을 통하여 광학 표적 포착 시스템(10)내의 리샘플러 (11,12)의 디지털 - 아날로그 변환기(106)에 적용된다. 디지털 - 아날로그 변환기 (106)는 동심환 포착 표적(2)을 갖는 이동하는 물품 (67)의 확대 높이(72)에 따른 확대 수정을 위하여 샘플시퀀스 (101)에 해당하는 아날로그 신호를 제공한다. 확대 수정에 사용되는 높이정보는 이동하는 물품이 컨베이어 벨트(42)에 의해 진행되고 높이 정보 처리기(36)에 의해 처리될 때 높이 검출기 설비(40)에 의해 감지된다. 주사 시스템 제어기(46)로부터의 처리된 높이 정보는 확대 제어 라인(28)을 통하여 주사 시스템 제어기 (46)에 의하여 리샘플러(12)에 가해진다.
디지털 -아날로그 변환기 (106)는 디지털 - 아날로그 변환기 라인(104)을 통하여 변환기(106)에 가해진 고정된 40 MHZ클록 신호에 의해서 클록된다. 변환된 입력 신호는 디지털 - 아날로그 변환기 (106)의 출력에서 나타나며 디지털 - 아날로그 출력라인(105)을 통하여 저역 필터에 가해진다. 저역 필터(108)는 광학 표적 포착 시스템(10)의 리샘플러(12)내에 제공되어 에이리어싱에 의한 디지털 - 아날로그 변환기 (106)의 출력에서 신호의 고주파수 성분을 제거한다. 그러므로 저역 필터 (108)는 광학 표적 포착 시스템(10)의 리샘플러 (12)내에 반 - 에이리어싱을 제공한다. 저역필터(108)의 출력에서 필터링된 아날로그 신호는 필터 출력 라인 (109)을 통하여 아날로그 - 디지털 변환기 (110)에 가해진다.
리샘플러 (11) 내에서의 아날로그 - 디지털 변환기 (110)에 의한 디지털 신호로의 변환중에. 라인(109)을 통하여 변환기(110)에 가해진 저역 필터 (108)로 부터의 변환된 아날로그 신호는 조절가능한 샘플링 비율로 또는 변하는 샘플링 비율로 다시 샘플링된다. 시프트 처리중에 주파수 시프터(11,12)에 리샘플링이 제공되기 때문에 리샘플러 (11,12)라 할 수 있다. 리샘플러 (11)의 아날로그 - 디지탈 변환기 (110)의 조절 가능한 또는 변하는 샘플링 비율은 변하는 주파수 클록 신호 또는 변하는 주파수 제어신호에 의해 결정된다. 상기 변하는 주파수 제어 신호는 아날로그 - 디지날 변환기 (110) 및 에너지 지시기 (14,16)에 가해지므로써 에너지 지시기(14,16)는 특이점을 측정된 높이(72)에 대응하는 주파수로 스프트시키는데 필요한 정확환 비율로 클록된다.
리샘플러 (12)의 아날로그 - 디지털 변환기(110)는 완충된 출력 래치 (110)에 의해 출력 래치되어 이중 필터 회로 (127)에 가해지는 그 출력을 완충기 (115)에 가한다. 출력 래치 (117)는 이중 필터 회로(127)를 클록하는데 사용되는 40MHZ라인에 의해 클록된다.이중 필터(127) 자체에 가해지는 출력은 아날로그 - 디지털 변환기 (110)가 가변 비율로 클록될 때 고정된 동일 비율로 클록되기 때문에 주파수 변환기 (12)는 이중필터 (127)의 특이점을 시프트하는데 효과적이다.
가변 클록 라인(112)의 리샘플링 클록 신호 주파수는 광학주사 장치에 의해 광학 판독 라벨 (4)이 주사되는 컨베이어 벨트상부의 확대 높이에 따라 31MHZ와 40MHZ사이에서 변화될수 있다.40MHZ의 최대 리샘플링주파수는 광학 판독 레벨(4)가 컨베여 벨트 (42)레벨이고 확대 높이 (72)가 0 일 때 발생한다.라벨(4)이 상기 베벨일 때, 다지탈 - 아날로그 변환기의 리샘플링 비율과 아날로그 - 다지털 변환기의 리샘플링 비율은 40MHZ이다. 그러므로, 확대 매개요소는 동심환 포착 표적 (2)이 컨베이어 벨트 (42)의 레벨에서 주사되고 리샘플러(11,12)에 의한 확대 수정이 수행되지 않을 때 단일화된다.
가변 클록 라인(112)상의 31 MHZ의 최소 리샘플링 주파수는 동심환 포착표적 (2)이 컨베이어 벨트(42)상부의 36 인치의 확대 높이 (72)에 설비될 때 발생한다. 이것은 컨베이어 벨트 (42) 상부의 최대 확대 높이 (71)와 광학 표적 포착 시스템(10)내의 리샘플러(12)에 의한 최대 주파수 보상에 대응한다. 31 MHZ내지 40MHZ범위의 가변 클록 주파수는 확대제어 라인(28)을 통하여 주사 시스템 제어기(46)로부터 디지털식 으로 제어되는 오실레이터(107)에 가해지는 높이 정보에 따라 디지털식으로 제어되는 오실레이터에 의해 생성된다. 그러므로 리샘플된 신호 파형(124)은, 아날로그 - 디지털 변환기 (110)의 출력에서, 조절가능 리샘플링 비율에 의해서 컨베이어 벨트(42)상부의 광학 판독 라벨 (4)의 확대 높이 (72)가 보상된다.
표적 포착 시스템(10)의 바람직한 실시예에 있어서, 디지털 - 아날로그 변환기(106)의 클록킹 주파수는 고정되며 아날로그 - 디지털 변환기 (110) 또는 재변환기 (110)의 클록킹 주파수는 라인 (26)의 입력 신호 (101)의 주파수를 시프트하기 위해 변화된다.그러나, 변환기 (106) 의 클록킹 주파수를 변화될 수 있으며 재변환기 (110)의 클록킹 주파수는 샘플 시퀀스 (101)의 주파수를 시프트시키기 위해 고정될 수 있다는 것을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다. 또한. 변환기(106)의 클록킹 주파수와 재변환기(110)의 클록킹 주파수 또한 변환될 수 있음도 이해할 것이다.
그러나, 이외의 보간 및 선택술이 주파수를 시프트시키는데 사용될 수 있음을 이해할 것이다. 변하는 확대에 의해 생성된 다양한 주파수가 소정의 기본 주파수로 시프트되는 주파수 시프터(12)의 바람직한 실시예에 있어서, 필요한 다양한 주파수시프트가 에너지 지시기(14,16)에 라인(13)의 보상된 부호 파형(124)을 적용하기전에 어떠한 공지의 주파수 시프트 방법에 의해 수행될 수 있다.
또한, 주사 시스템 제어기(46)로부터의 리샘플링 비율 제어 정보가 입력 주파수를 단일 주파수보다는 상이한 출력 주파수로 시프트하도록 만들어진 상이한 주파수 시프트를 제공하기 위하여 계산되어질 수 있다. 이러한(도시되지 않은)대체 실시예는 바람직한 실시예에서와 같이 모든 입력 주파수를 동일한 기본 주파수로 변환하는 것과는 다르다. 이러한 대체 실시예에 있어서 상이한 주파수는 검출용의 상이한 필터에 적용될 수 있다.
제8도에 있어서, 동심환 광학 포착 표적(2) 등의 광학 표적을 포착하기 위한 본 발명의 광학 표적 포착 시스템(10)의 부분 상세도가 도시된다. 광학 표적 포착 시스템(10)내에서, 리샘플러(12)의 출력에서의 보상된 신호 파형(12)이 주파수 시프터 출력라인을 통하여 이중 필터 회로에 적용된다. 이중 필터 회로(127)는 보상된 파형 (124)내의 대역내 에너지 레벨을 결정하기 위한 대역통과 필터(126)와 보상된 파형(124)내의 대역외 에너지 레벨을 결정하기 위한 대역 소거 필터(128) 또는 노치 필터 (128)를 포함한다. 이중 필터 회로(127)는 샘플링된 신호 파형(124)이 신호 파형(124)내의 표적 주파수를 검출하기 위해 대역외 에너지 레벨과 대역내 에너지 레벨을 비교하는 것을 허용한다.
보상된 신호 파형(124) 또는 주파수 시프터 출력 라인(13)은 동심환 포착 표적(2)의 중앙부가 광학 주사장치(60)의 주사 경로내에 있을 때 ta내지 tb의 시간 간격중에 일반적으로 사인 곡선 샘플로 이루어진다. 보상된 신호 파형(124)은 상기 시간 간격 이외의 임의의 신호로 이루어진다. 리샘플러(12)의 아날로그-디지털 변환기(110)로부터의 주파수 시프터 출력 라인(13)은 적어도 6비트 폭인 것이 바람직하나, 그 보다 넓어도 된다.
제9도에 있어서, 광학 표적 포착 시스템(10)의 이중필터 회로(127)가 도시된다. 이중필터 회로(127)는 광학 표적 포착 시스템(10)의 대역통과 필터(126)와 대역 소거 필터(128)를 포함한다. 전술한 바와 같이, 보상된 신호 파형(124)이 주파수 시프터 출력 라인(13)을 통하여 리샘플러(12)로부터 이중필터 회로(127)에 적용된다. 또한, 디지털 제어 오실레이터(107)의 주파수 제어 신호는 가변 클록 라인(112)을 통하여 이중 필터 회로(127)의 레지스터 클록 입력 단자(113)를 시프트하기 위하여 적용된다. 오실레이터(107)로부터의 주파수제어 신호에 의한 필터 지연 시프트 레지스터(116)의 클록킹은 확대 정보에 따라 시프트 레지스터(116)를 통하여 리샘플링된 파형(124)의 시프팅을 허용하기 위하여 제공된다.
전술한 바에 따라, 물품(67)의 높이에 따라 필터(126, 128)의 특이점의 가상 시프트 또는 효율적인 시프트를 제공하는 것으로 믿어진다. 이중 필터 회로(127)내에서, 대역 통과 필터(126) 및 대역 소거 필터(128)에는 각각의 필터 응답 파형(130, 132)으로 도식적으로 표시되는 바와 같이 필요한 대역 통과 및 대역 소거 필터 응답을 제공하기 위하여 각각의 평가 함수(125, 118)가 제공된다. 표적 포착 시스템(10)내에서 주파수 시프터(12)가 사용될 때 가변 클록 라인(112)대신에 40MHz 클록라인이 시프트 레지스터(116)의 입력 단자(113)에 수용된다는 것을 이해할 것이다.
이중 필터 회로(127)의 필터 지연 시프트 레지스터(116)는 대역 통과필터(126) 및 대역 소거 필터(128)에 모두 통상적인 것이다. 필터 지연 시프트 레지스터(116)는 광학 표적 PLC포착 시스템(10)의 이중 필터 회로(127)내에서 지연 라인으로 작용하기 위해 변화기(110)와 동일한 비율로 클록되는 통상의 지연 시프트 레지스터일 수 있다. 필터 지연 시프트 레지스터(116)에는 평가 함수(118)와 연관되어 대역소거 필터(128)내에서 사용하기 위하여 다수의 지연 라인 출력 탭(119)이 제공된다. 필터 지연 시프트 레지스터(116)에는 또한 평가 함수와 연관하여 대역통과 필터(126)내에서 사용하기 위하여 다수의 지연 라인 출력 탭(123)이 제공된다.
시프트 레지스터(116)의 클록 라인(113)에 가변 클록킹 비율 또는 리샘플링 비율을 적용하므로써 데이터가 필터내로 시프트되는 비율이 변할 때, 본 발명의 방법은 중심 주파수 또는 필터(126,128)특이점의 가상의 시프트 또는 효율적인 시프트로서 개념화된다. 그러나, 그외에도 리샘플러(11)의 방법 또한 표적 포착 입력 라인(26)에 의하여 리샘플러(12)에 적용된 신호 파형 주파수의 가상 시프트 또는 효율적 시프트로서 개념화될 수도 있다고 본다.
또한, 리샘플러(12)의 방법은 샘플 시퀀스(101)주파수의 가상 또는 효율적 시프트 또는 이중필터(127)의 특이점의 시프트로써 보여질 수도 있다. 데이터의 가용상태 이전에 데이터를 시프트 레지스터(116)내로 시프트시키는 것을 방지하기 위하여 상기 실시예에서는 세심한 주위를 기울여야한다. 그러므로, 광학 표적 포착 시스템(9) 내에서의 주파수 시프트는 ①신호 주파수를 특이점 주파수로 시프트시키고, ②특이점 주파수를 신호 주파수로 시프트하는 것을 포함한다. 또한, 주파수 시프트는 전술한 두가지 타입의 주파수 시프트 모두를 언급하는 것이다.
그러나, 전술한 방법중 어느 방식으로 주파수 변환이 수행되는 가에 관계없이, 동심환(2)의 주사를 나타내는 샘플 시퀀스 파형(101) 그리고 필터(126, 128)의 특이점의 관련 주파수는 시스템(9)의 주파수 시프트에 의하여 교대 변환된다. 이러한 주파수들을 상호 주파수가 되게하는 어떠한 방법도 본 발명의 주파수 시프트의 개념에 속하는 것이다. 또한, 리샘플러(12)의 입력주파수를 이중 필터(127)의 특이점 주파수로 시프트할 때 그 이외의 공지된 주파수 시프트 방식이 사용될 수도 있다. 신호 또는 특이점 주파수 시프트는 표적(2)이 컨베이어 벨트(42)레벨에서 주사되는 것과 기본 환 주파수를 만들어내는 것처럼 상승된 광학 포착 표적(2)을 효과적으로 검출하게한다.
이중 필터 회로(127)내의 각각의 지연 라인 출력 탭(119, 123)은 각각의 지연시간 간격과 각각의 중량 WNO내지 WNG또는 WBO내지 WBG에 연관된다. 광학 표적 포착 시스템(10)의 바람직한 실시예에 있어서, 대역 통과필터(126)에는 26개의 지연라인 출력 탭(123)이 제공되며 대역 소거 필터(!28)에는 23개의 지연라인 출력 탭(119)이 제공된다. 지연라인 출력 탭(119) 123의 수가 이중 필터 회로(127)의 0 또는 특이점의 수를 결정하여 필터(126, 128)에는 23개의 이상의 탭 또는 23보다 적은 수의 탭 (119,123)이 제공될 수 있다는 것을 통상의 지식을 가진자라면 이해할 것이다.
필터 지연 시프트 레지스터(116)의 대역 소거 필터 (128)의 각각의 지연라인 출력 탭(119)은 대역 소거 평가 함수 (118)에 각각 적용된다. 각각의 대역 소거 평가 기능(118)은 대역 소거 필터(128)의 필요한 대역 소거 특성을 실현하기 위하여 시프트 레지스터(116)의 각각의 지연 라인 출력 탭(119)을 평가한다. 대역 소거 필터(128)의 바람직한 실시예에 있어서 각각의 지역 라인 출력 탭(119)의 평가 함수는 고정 레지스터(도시되지 않음)값 또는 접지이다.
효과적인 필터 계수의 값은 노치 주파수(133)를 갖는 대역 소거 필터 응답 파형(132)을 실현하기 위하여 통상의 지식을 가진자에게 공지된 통상의 방식중에서 선택된다. 효과적인 필터 계수를 실현하기 위한 레지스터의 선택은 오프라인으로 계산 된다. 본 발명의 광학 표적 포착 시스템(10)내의 대역 소거 필터(132)의 응답을 나타내는 필터 응답 곡선(132)의 노치 주파수(133) 또는 특이점(133)은 기본 환 주파수로서 선택된다.
대역 소거 평가 함수(118)의 평가된 출력은 합산을 위해 합산 회로(120)에 적용된다. 합산 회로(120)는 통상의 합산 함수일 수 있다. 합산 회로(120)에 의해 대역 소거 필터 출력 라인(137)에 적용된 대역통과 출력 파형(136)은 대역 소거 필터(128)의 모든 평가된 출력 탭(119)의 신호들의 합이다. 대역 소거 필터(128)또는 노치 필터(128)에는 23개의 0또는 특이점들이 제공될 수 있다. 노치 필터(128)의 0는 주파수(133)에서 첨부 및 급격한 곡부를 제공하기 위하여 동일 주파수에 위치될 수 있다. 그러나, 몇몇 0는 노치 필터(128)의 직류(dc)응답을 감소시키는데 사용될 수 있다.
필터 지연 시프트 레지스터(116)의 지연 라인 출력 탭(123)은 이중 필터 회로 (127)의 대역 통과 필터 (126)를 형성하도록 제공된다. 지연 라인 출력 탭(123)은 시프트 레지스터(116)의 각각의 출력 탭(123)을 개별적으로 평가하기 위하여 각각의 대역통과 평가 함수(125)에 적용된다. 평가 함수 (125)는 기본 환 주파수의 주파수(131)또는 특이점(131)에서 최대 응답을 갖는 대역통과 필터(126)의 대역통과 필터응답 파형을 제공하기 위하여 선택된 고정 레지스터(도시되지 않음)이다. 그러므로,리샘플러(12)가 포착 표적(2)이 변하는 확대높이(72)에서 주사될 때 광학 주사장치(60)에 의해 제공된 변하는 주파수에 변하는 시프트를 제공할 때 하나의 바람직한 실시예에서 변하는 주파수는 대역 통과 필터(126)의 고정 특이점으로 모두 시프트된다.
대역 통과 평가 함수(125)으로부터의 평가된 출력은 합산을 위해 대역통과 필터(126)의 합산회로(121)에 적용된다. 합산 회로(121)는 다수의 입력 레벨을 수용하고 수용된 입력 레벨의 합을 제공하기 위한 통상의 합산 함수일 수 있다. 합산회로(121)에 의해 대역통과 출력라인(129)에 적용된 출력 파형(134)은 각각의 평가기는 (125)에 의해 평가된 시프트 레지스터(116)의 모든 출력 탭(123)의 신호들의 합이다.
그러므로, 광학 표적 포착 시스템(10)의 이중 필터 회로 (127)내에서, 리샘플된 신호 파형(124)은 주파수 시프터 출력 라인(13)에 의하여 대역통과 필터(126)에 적용된다. 리샘플된 신호 파형(124)은 대역통과 필터 응답 파형(130)으로 표시되는 진폭 대 주파수 필터 응답 곡선에 연관하여 고정 특이점 대역통과 필터(126)에 의해 처리된다. 필터(126)의 특이점은 파형(124)이 필터(126)에 적용되는 바와 같이 높이 정보에 따라 이동될 것이다. 대역 통과 필터 응답 파형(130)은 중심 주파수(131)에서 최고 응답을 제공하는 고정 대역통과 평가 레지스터에 의해 결정된다.
리샘플러(12)의 출력에서의 보상된 신호 파형(124)또는 리샘플된 신호파형(124)은 파형(124)이 대역 통과 필터(126)에 적용되는 시간과 동일한 시간에 주파수시프터 출력 라인(13)에 의해서 대역 소거 필터(128)에 적용된다. 보상된 파형(124)의 동시처리는 대역 소거 필터 응답 파형(132) 으로 나타내지는 진폭대 주파수 필터 응답 곡선과 관련하여 대역 소지 필터(128)에 의해 수행된다. 대역 소거 필터 응답 파형(132)는 고정 대역 소거 평가 함수(118)에 의해 결정된다. 대역 소거 필터의 가중치 WBO내지 WBL그리고 대역통과 필터(126)의 가중치 WNO내지 WNL은 종래의 저항망에 의해 결정된다.
대역 통과필터(126)의 대역 통과 필터 응답 파형(130)의 중심 주파수(131)또는 특이점(131)은 기본 환 주파수와 실체적으로 동일하게 선택된다. 상기 기본 환 주파수는 동심환 포착 표적(2)의 중앙부가 컨베이어 벨트(42) 상부의 0인 확대 높이에 설비될 때 생성된 샘플 시퀀스(101)의 주파수에 대응한다. 0이 아닌 확대 높이(72)에 대응하는 샘플 시퀸스는 센서(40)으로부터의 높이 정보에 따른 기본 주파수로 시프트된 주파수일 수 있다. 또한, 특이점(131)은 파형(124)이 필터(126)에 적용될 때 높이 정보에 따라 시프트될 것이다. 대역통과 필터(126)는 유한 임펄스 응답 필터로서 대역 통과 필터 응답 파형(130)으로 표시되는 진폭 대 주파수 필터 응답 곡선은 적절한 대역 통과 평가 함수(125)를 선택 하므로써 얻어진다.
유사한 방식으로, 대역 소거 필터(128)의 대역 소거 필터 응답 파형(132)의 노치주파수(133)는 동일한 포착 표적(2)의 기본 환 주파수로서 선택된다. 그러므로, 노치주파수 대역통과 필터(126)의 대역통과 필터 응답 파형(130)의 중심 주파수와 대략 동일하다. 대역 소거 필터 (128) 또한 유한 임펄스 응답 필터이다. 대역 소거 필터 응답 파형(132)으로 표시되는 진폭 대 주파수 필터 응답곡선은 대역 소거 평가 함수(118)의 적절한 값을 선택함으로써 얻어진다. 대역 소거 필터 (128)의 하나의 바람직한 실시예에 있어서, 대부분의 0또는 특이점은 동심환포착 표적(2)의 기본 환 주파수에서 선택된다. 수개의 0는 닉류(dc)에서 롤 오프를 제공하기 위하여 사용된다.
이중 필터 회로(127)의 대역 통과 필터(126) 및 대역 소거 필터 (128)는 모두 피드백을 갖는 무한 임펄스 응답 필터보다는 유한 임펄스 응답 필터로 선택된다. 그러므로, 필터(126,128)의 출력은 단지 동심환 포착 표적(2)에 대응하는 샘플 시퀸스(124)가 필터 지연 시프트 레지스터(116)내에 존재하는 동안에만 지속된다. 이중 필터 회로 (127)의 바람직한 실시예에 있어서, 변환 레지스터(116)는 포착 표적(2)을 가로질러 주사된 샘플의 수와 동일한 길이이다. 그러므로, 보상된 신호 파형(124)은 시프트 레지스터(116)를 완벽하게 채워야 한다. 전술한 바와 같이, 부채꼴 광선(58)또는 주사선(58)의 주사선 (66)에 의해 지시된 바와 같이 동심환 포착 표적(2)이 그 중심부를 통하여 주사될 때, 11개의 반사이클를 갖는 한정된 존속기간을 갖는 신호가 생성된다. 트리거 라인(34)의 레벨은 상기 11개의 반사이클에 대응하는 데이터의 양에 의해서만 결정된다. 이것은 짧은 지속기간의 톤이 광학 표적 포착 시스템(10)내에서 정확하게 검출되도록하며 라벨 주사 시스템(9)내에 긴 톤이 있을때에는 필요하지 않게 된다. 이것은 라벨 주사 시스템(9)의 컨베이어 벨트(42)가 광학 포착 표적(4)의 동심환(2)이 고속으로 주사장치 (60)를 통과하게 하기 때문에 광학 라벨 주사 시스템 (9)내에 필요하다. 상기 속도는 초당 약 100인치이다. 광학 주사 시스템(9)에 40MHZ를 초과하는 샘플링 비율이 제공되면 컨베이어 벨트(42)의 속도는 초당 500인치가 될 것이다. 샘플 파형(124)을 나타내는 23개의 비트가 시프트 레지스터(116)내의 정위치에 있을 때, 광학 표적 포착 시스템(10)은 그것들을 신뢰성 있게 인지할 것이다. 그러므로, 이중 필터(127)는 광학 포착 표적(2)의 길이에 맞는 필터이다.
대역 통과 필터의 출력은 대역통과 필터 파형(134)으로 도식화된다. 대역 통과 필터 파형(134)또는 대역 통과 출력 라인(129)은 동심환 포착 표적(2)이 광학 주사 장치(60)의 주사 경로내에있을 때 상기 시간 간격 동안 삼각형 인벨로프내에서 실체적으로 싸인파 형태를 취한다. 파형(134)은 상기 시간간격 전, 후에 실체적으로 작은 응답을 갖는다. 대역 소거 필터 파형(136)에 의해도식화된 대역 소거 필터 (128)의 출력은 대역 소거 필터 (128)에 의해 새겨진 기본 고리 주파수가 광학 주사 장치 (60)에 의한 동심환 포착표적(2)의 중앙부 주사에 의하여 시프트 레지스터(116)내에 존재할 때 상기 시간 간격에 대응하는 편평기 또는 정숙기를 포함한다. 대역 소거 출력 라인(137)상의 필터된 파형(136)은 상기 시간 간격 전후에 불규칙한 신호를 포함한다.
필터된 파형(134), 대역 통과 필터 출력 라인(129)상의 대역 통과 필터(126)의 출력은 적응 수단(138)에 적용될 수 있다. 광학 표적 포착 시스템(10)의 바람직한 실시예에 있어서, 적응수단(138)은 적용된 필터된 파형을 일치시키기 위해 제공된다. 그러나, 필터된 파형의 졀대값을 제공하기 위한 종래의 어떤 수단도 적응 수단(138)대신에 대역내 에너지 지시기(14)내에 사용될 수 있다. 필터된 파형(134)의 절대값을 제공하기 위한 수단은 필터된 파형(134)의 전파 정류를 생성한다.
적응 수단(138)의 출력은 적응된 파형(142)으로서 도식화되며, 필터된 파형(134)의 적응은 적응 수단(138)에 의해 제공되었다. 적응된 파형(142)은 대역내 에너지 지시기 파형(150)을 생성하기 위하여 스퀘어러 출력 라인(139)에 의하여 저역필터(146)에 적용된다. 저역필터(146)의 출력에서의 대역내 에너지 지시기 파형(150)은 샘플 시퀸스(101)가 동심환 포착 표적(2)의 기본 주파수 수에 대응하는 기간동안 하이이다. 저역 필터(146)의 출력에서 , 대역내 에너지 지시기 파형(150)은 중앙 동심환 포착 표적(2)이 광학 주사 장치(60)의 주사 경로내에 있을 동안 하이 이도록 만들어진다. 대역내 에너지 파형(150)은 불규칙 신호가 표적 포착 입력 라인(26)에 의해 광학 표적 포착 시스템(10)에 가해질 때 나머지 시간동안 실체적으로 0이 되게 만들어진다.
적응수단(140)의 출력은 적응된 파형(144)으로도식화되며 대역 소거 필터된 파형(136)의 적응은 적응 수단(140)에 의해 제공되었다. 대역 소거 필터된 파형(136)의 절대값을 얻기 위한 수단 은 파형(136)의 전파정류를 제공하도록 적응수단(140)대신에 제공될 수 있다. 적응수단(140)의 출력에서의 적응된 파형(144)은 대역외 에너지 지시기 파형(152)을 생성하기 위하여 스퀘어러 출력 라인(141)을 통하여 저역 필터(148)에 적용된다. 대역외 파형(152)의 진폭의 저 레벨은 샘플 시퀸스가 동심환 포착 표적(2)의 기본 주파수에 대응하는 기간동안 저역 필터(148)의 출력에 나타난다. 대역외 에너지 지시기파형(152)은 동심환 포착 표적(2)의 중앙부가 광학 주사 장치 (60)의 주사 경로내에 있는 동안에는 낮게, 그리고 불규칙 신호가 표적 포착 입력 라인(26)에 의하여 광학 표적포착 시프템(10)에 적용될때의 나머지 시간에 서는 0이 아니게 만들어진다.
대역 통과 필터(126)에 의해 처리되며 저역 필터(147)의 출력에서의 대역내 에너지 지시기 파형(150)은 광학 주사 장치(60)에 의한 동심환 포착 표적(2)의 중앙 부의 주사 시간 간격중에는 높은 값을 갖는다. 대역 소거 필터 (128)에 의해 처리되며 저역 필터(148)의 출력에서의 대역외 에너지 지시기 파형(152)은 광학 주사장치(60)에 의한 동심환 포착 표적(2)의 중앙부의 주사 시간 간격중에는 낮은 값을 갖는다. 대역내 에너지 파형(150)과 대역외 에너지 파형(152)모두는 에너지 비 비교기 (20)에 적용된다.
제10도에 있어서, 광학 표적 포착 시스템(10)의 비교 및 논리부의 상세가도시된다. 광학 표적포착 시스탬(10)내에서, 에너지 비 비교기(20)는 저역 필터(146)의 에너지 레벨과 져역필터(148)의 출력의 에너지 레벨을 지시기 라인 (15,17)각각을 통하여 수신한다. 저역필터(146)와 저역 필터(148)의 출력 레벨은 종해의 어떤 이득 조절장치(158)에 의해서 조절 될 수 있다.
필터(126,128)의 출력에서의 두 에너지 레벨은 비교기 출력 라인 (156)상에 이진 출력을 제공하기 위하여 에너지 비 비교기(20)에 의하여 비교된다. 에너지 비 비교기 (20)의 라인(156)상의 이진 출력은 기본 환 주파수 또는 기본 환 주파수의 확대된 표현이 표적 포착 입력 라인(26)을 통하여 광학 표적 포착 시스템(10)에 적용되었음을 지시한다. 에너지 비 비교기 (20)에 의한 결정은 관심있는 대역외보다 대역내에 더 많은 에너지가 있는지에 대한 결정이다. 관심있는 대역은 리샘플러(12)에 의해 확대된 표적에 대응하는 신호의 시프팅후에 동심환 포착 표적(2)의 기본 주파수 주변에 중심을 둔 협소한 대역으로 이해된다.
제2의 비교는 에너지 비 비교기 (20)에 의한 비교에 더하여 광학 표적 표착 시스템(10)내에서 수행된다. 제2의 결정은 동심환 포착 표적(2)이 에너지 비 비교기(20)의 출력으로 지시된 바와 같이 광학 주사 장치(60)의 주사경로내에 존재하는지의 여부를 확인하기 위하여 만들어진다. 대역내 에너지 한계 비교기(18)는 제2의 비교를 수행한다. 대역내 에너지 한계치 비교기(18)에 의해 수행된 비교에 있어서, 저역 필터(146)의 출력에서의 대역내 에너지 지시기 파형(150)은 대역내 에너지 한계치 비교기 (18)의 양의 입력에 적용된다. 저역 필터 (146)의 입력이 대역통과 필터(126)에 의해 처리되기 때문에, 대역내 에너지 파형(150)은 관심있는 주파수대, 포착 표적(2)의 동심환의기본 환 주파수내 에너지의 양을 나타낸다. 그러므로, 전술한 바와 같이, 대역내 에너지 파형(150)의 레벨은 동심환 포착 중앙부가 광학 주사 장치(60)의 주사경로내에 있는 시간간격중에 올라간다. 대역내 에너지 한계치 비교기(18)의 음의 입력은 조절 직류(dc)한계를 제공하기 위하여 고정 전압원과 접지사이에 결합된 종래의 이득 조절수단(162)에 결합된다. 그러므로, 대역내 에너지 한계치 비교기 (18)의 출력은 관심있는 대역내의 에너지가 이득 조절 장치(162)를 사용하여 변화될 수 있는 소정의 한계 이상으로 상승할 때에 만 하이로 간다. 이득 조절 장치 (162)를 조절하므로써, 광학 표적 포착 시스템(10)의 검출 한계가 변할 수 있다.
관심있는 대역내의 에너지를 고정 직류(dc)한계와 비교하는 대역내 에너지 한계치 비교기(18)의 출력은 한계 비교기 출력 라인(167)에 의하여 비교기AND 게이트(22)에 적용된다. 에너지 비 비교기(20)의 출력은 비율 비교기 출력 라인(156)을 통하여 비교기AND게이트(22)에 적용된다. 비교기AND게이트(22)의 표적 포착 트리거 라인(34)에 제공된 비교기 AND 게리트(22)의 출력은 다음의 경우에 하이로 된다 : (1) 에너지 비교기(20)의 출력은 다음의 경우에 하이로 된다 : (1)에너지 비 비교기(20)에 의해 결정된 바와 같이 관심있는 대역내에 대역외보다 더 많은 에너지가 있으며, 비율 비교기 출력라인(156)이 하이로 가게하며,(2)관심있는 대역내의 에너지 양이 한계 비교기 출력 라인(167)이 하이로 가게하는 대역내 에너지 한계치 비교기(18)에 의해 결정된 바와 같이 고정한계 이상일 때이다.
제11도에 있어서, 디지털 제어 오실레이터(107)가 상세하게도시된다. 디지털 제어 오실레이터(107)에는 N으로 나뉜 출력을 갖는 내림 계수기 (1102)가 제공된다. 내림 계수기 (1102)는 확대 제어라인(28)을 통하여 주사 시스템 제어기(46)에 결합된다. 확대 제어라인(28)에 의해 내림 계수기(1102)에 부화된 값은 주사 시스템 제어기(46)에 의하여 룩업 테이블 (도시되지 않음)로부터 복원된다. 룩업 테이블 은 높이정보 처리기(36)로부터의 높이 정보를 오실레이터(107)요한 주파수 제어신호를 제공하도록 만들어진 6 비트 높이 값으로 변환한다. 출력라인 (112)상의 주파수 제어신호는 학대 제어라인(28)에 의해 제어기(46)로부터 오실레이터(107)에 적용된 높이 정보에 따라 변환기 (110)내에 가변 리샘플링 비율을 제공하기 위하여 아날로그-디지털 변환기(110)에 적용된다. 이러한 제어 신호는 이중 필터(127)의 시프트 레지스터(116)에도 적용될 수 있다.
예를 들어. 높이 정보 처리기(36)에 의한 높이 정보에 응한 디지털 제어 오실레이터(107)의 출력에 31 MHZ 신호가 필요하다면. 라인 (28)을 통하여 상기 값 31 이 내림 계수기 (1102) 에 두어진다. 이러한 주어진 값은 0 이 될 때까지 그리고 최종 계수가 라인(1108)상에 생설될때까지 내림 계수기(1102)에 의해 내림 계수된다. 최종 계수는 디지털 제어 오실레이터(107)내에 위상기준을 제공한다. 또한, 라인 (1108)상의최종 계수는 내림 계수기 (1102) 가 확대 제어 라인 (28)을 통하여 제어기 (46) 로부터 수신된 높이 값을 반복적으로 사전에 인가하도록 하기 위해 내림 계수기로 피드백 된다.
디지털 제어 오실레이터 (107) 에는 또한 1 MHZ의 국부 오실레이터 (1104) 가 제공된다. 국부 오실레이터는(1104)는 라인 (1106) 상에 국부 기준 신호를 제공한다. 라인 (1106) 상의 국부 기준 신호 및 라인 (1106) 상의 최종 계수는 통상의 위상록루프 (1110) 내의 통상의 위상 비교기 (1112) 에 적용된다. 최종 계수와 국부 기준신호 사이의 위상차는 위상록루프 (1110) 의 출력 주파수가 바뀌게 한다. 그러므로, 31 과 40MHZ사이의 가변 리샘플링 비율이 디지털 제어 오실레이터 (107) 의 출력 라인 (112) 상의 개개의 1 MHZ단계에 제공한다. 이외의 형태 (도시되지 않음) 가 보다 정교한 제어 또는 정교하지 않은 제어를 제공할 수도 있을 것이다. 이러한 가변 리샘플링 비율 신호는 리샘플러 (12) 내에서 가변 주파수의 시프트를 제공하기 위하여 아날로그- 디지털 변환기 (110) 와 지연 시프터 레지스터 (116) 에 제공된다.
제12, 13도에 있어서, 스퀘어러 (138, 140), 그리고 저역 필터 (146, 148) 뿐 아니라 대역내 에너지 비교기 (18) 와 에너지 비 비교기 (20)를 포함하는, 대역내 에너지 지시기 (14) 와 대역외 에너지 지시기 (16) 의 부분 상세가 개략적으로도시된다. 대역 통과 필터 (126) 의 출력 파형 (134) 은 스퀘어러 (136)의 라인 (129) 상에 나타나며 스퀘어러 (138)의 다이오드 (198) 에 적용된다. 대역통과 필터(126)로부터의 파형(134)의 절대값은 스퀘어러(138)내의 다이오드(198)에 의해서 대역내 에너지 지시기에 제공된다. 스퀘어러 (138) 의 출력은 스퀘어러 라인 (139)을 통하여 RC 저역필터 (146)에 적용 된다. RC 저역 필터 (146) 는 병렬 저항기 (190) 및 축전기 (192)를 포함한다.
대역 소거 필터 (128) 의 출력 파형 (136) 은 노치필터 (128) 로부터의 라인 (137) 상에 나타난다. 파형 (136) 은 대역외 에너지 검출기 (16) 내의 파형 (136) 의 절대값을 제공하기 위하여 스퀘어러 (140) 의 다이오드 (201) 에 적용된다. 파형 (136) 의 절대값은 스퀘어러 출력 라인 (141)을 통하여 RC 저역 필터 (148)에 적용된다. 저역 필터(148) 는 병렬 저항기 (194) 와 커패시더 (196)를 포함한다. 저역 필터(146) 의 출력과 저역 필터 (148) 의 출력은 샘플 시퀸스 (101)의 대역내 에너지를 샘플시퀸스 (101) 의 대역외 에너지와 비교하기 위하여 에너지 비 비교기 (20) 에 적용된다. 또한, 저역 필터(146) 의 출력은 대역내 에너지 한계치 비교기 (18) 에 적용된다. 비교기 (18, 20) 의 출력에 와이어드 OR 설비는 AND 게이트 (22) 의 논리적 AND 함수를 수행한다. 비교기 (18, 20) 의 출력 모두가 하이일 때, 광학 표적 포착 시스템 (10) 의 출력에서의 트리거 라인 (34) 은 동심환 포착 표적 (2) 이 광학 주사장치 (60) 의 주사경로를 통과한다는 것을 지시하면서 하이로 간다는 것을 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
본 발명의 특성을 설명하기 위해 설명 및 지시된 상세부, 부품의 재료 및 설비는 본 발명의 개념 및 주장을 벗어남없이 통상의 지식을 가진자라면 다양하게 변형 및 개조가 가능하다는 것 또한 이해될 것이다.

Claims (22)

  1. 광학주사장치의 시계내에 위치하며, 상기 광학주사장치에 의하여 주사될 때 검출가능한 대표 표적 주파수를 가지는 포착 표적 및 또한 광학적으로 판독 가능한 정보를 포함하는 라벨을 검출하고 상기 라벨로부터 광학 판독가능 정보를 포착하는 방법에 있어서, 상기 방법은
    (a) 검출기 입력 신호를 결정하기 위하여 상기 광학주사장치로서 상기 시계를 광학적으로 주사하는 단계;
    (b) 상기 검출기 입력신호의, 상기 대표 표적 주파수에 의하여 결정되는, 표적 주파수의 대역내 에너지 레벨을 결정하기 위하여 대역통과필터로 상기 검출기 입력신호를 필터링하는 단계;
    (c) 상기 검출기 입력신호의 상기 표적 주파수의 대역외 에너지 레벨을 결정하기 위하여 대역소거필터로 상기 검출기 입력신호를 필터링하는 단계;
    (d)상기 표적 주파수의 결정된 대역내 에너지 레벨과 상기 표적 주파수의 결정된 대역외 에너지 레벨을 비교하는 단계;
    (e) 상기 표적 주파수의 결정된 대역내 에너지 레벨과 소정의 기준점을 비교하는 단계; 및
    (f)상기 표적 주파수의 상기 결정된 대역내의 에너지 레벨이 상기 표적 주파수의 상기 결정 대역외 에너지 레벨을 초과하고 상기 표적 주파수의 상기 결정된 대역내 에너지 레벨이 상기 소정의 기준점을 초과하면 표적 주파수 신호를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단계 (d) 의 비교가 상기 대역내 에너지 레벨과 상기 대역외 에너지 레벨사이의 비율 비교를 수행하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 소정의 기준점을 변화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 단계 (f) 에서의 검출에 따라서 검출신호를 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 단계 (f) 에서의 검출에 따라서 상기 광학판독가능 정보를 포착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 검출기 입력신호의 주파수가 변화하며, 상기 표적 주파수 대역내의 상기 에너지 레벨과 상기 표적 주파수 대역외의 상기 에너지 레벨을 결정하기 앞서 상기 검출기내의 주파수를 시프트하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 표적 주파수 신호는 상기 광학 주사장치로 부터의 주사거리에 설치된 광학 포착표적을 나타내며, 상기 광학 주사장치와 광학 표착 표적사이의 상기 주사거리에 따라 주파수를 시프트 시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 주사거리에 따라 주파수를 시프트하는 단계는 변하는 주사거리에 의하여 상기 광학 표착 표적의 변화하는 확대도를 보상하기 위한 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 단계 b 와 c 는 특이점을 갖는 필터 수단에 상기 검출기 입력신호를 적용하는 단계를 포함하며, 상기 주파수 시프트는 상기 특이점을 시프트 시키는 것을 특징으로 하는 라벨 섬출 및 포착 방법.
  10. 제8항에 있어서 , 상기 주파수 시프팅 단계가 상기 검출기 입력신호의 상기 변화는 주파수를 단일 기본 주파수로 주파수 시프트 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 기본 주파수가 소정의 주사거리에 해당하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 방법.
  12. 광학주사장치의 시계내에 위치하며, 상기 광학주사장치에 의하여 주사될 때 검출 가능한 대표 표적 주파수를 가지는 포착 표적 및 또한 광학적으로 판독 가능한 정보를 포함하는 라벨을 검출하고 상기 라벨로부터 광학 판독가능 정보를 포착하는 시스템에 있어서, 상기 시스템은
    (a) 검출기 입력 신호를 결정하기 위하여 상기 광학주사장치로서 상기 시계를 광학적으로 주사하는 수단;
    (b) 상기 검출기 입력신호의, 상기 대표 표적 주파수에 의하여 결정되는, 표적 주파수의 대역내 에너지 레벨을 결정하기 위하여 대역통과필터로 상기 검출기 입력신호를 필터링하는 수단;
    (c) 상기 검출기 입력신호의 상기 표적 주파수의 대역외 에너지 레벨을 결정하기 위하여 대역소거필터로 상기 검출기 입력신호를 필터링하는 수단;
    (d) 상기 표적 주파수의 결정된 대역내 에너지 레벨과 상기 표적 주파수의 결정된 대역외 에너지 레벨을 비교하는 수단.
    (e) 상기 표적 주파수의 결정된 대역내 에너지 레벨과 소정의 기준점을 비교하는 수단; 및
    (f) 상기 표적 주파수의 상기 결정된 대역내의 에너지 레벨이 상기 표적 주파수의 상기 결정된 대역외 에너지 레벨을 초과하고 상기 표적 주파수의 상기 결정된 대역내 에너지 레벨이 상기소정의 기준점을 초과하면 표적 주파수 신호를 검출하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 상기 비교수단이 상기 대역내 에너지 레벨과 상기 대역외 에너지 레벨사이의 비율 비교를 수행하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  14. 제12항에 있어서, 상기 소정의 기준점을 변화 시키는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  15. 제12항에 있어서, 상기 검출 결정에 따라서 검출신호를 제공하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  16. 제12항에 있어서, 상기 검출 결정에 따라서 상기 라벨로부터 상기 광학 판독가능 정보를 포착하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  17. 제12항에 있어서, 상기 검출기 입력신호의 주파수가 변화하며, 상기 표적 주파수 대역내의 상기 에너지 레벨과 상기 표적 주파수 대역외의 상기 에너지 레벨을 결정하기에 앞서 상기 검출기내의 주파수를 시프트하는 수단을 더 포함 하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 표적 주파수 신호는 상기 광학 주사장치로부터의 주사거리에 설치된 광학 포착 표적을 나타내며, 상기 광학 주사장치와 광학표착 표적사이의 상기 주사거리에 따라 주파수를 시프트 시키는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  19. 제18항에 있어서, 상기 주사거리에 따라 주파수를 시프트 하는 수단은 변하는 주사거리에 의하여 상기 광학 표착 표적의 변화하는 확대도를 보상하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  20. 제19항에 있어서, 상기 검출기 입력신호를 대역통과 필터로 필터링하는 수단과 상기 검출기 입력신호를 대역소거필터로 필터링하는 수단은 특이점을 갖는 필터링 수단을 포함하고, 상기 특이점을 주파수 시프트하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
  21. 제19항에 있어서, 상기 주파수 시프트수단이 상기 검출기 입력신호의 상기 변하는 주파수를 단일 기본 주파수로 주파수 시프트하도록 하는 것을 특징으로 하는 검출 및 포착 시스템.
  22. 제21항에 있어서, 상기 기본 주파수가 소정의 주사거리에 해당하는 것을 특징으로 하는 라벨 검출 및 포착 시스템.
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