KR100217953B1 - Fed 의 스트라이프형 에미터 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 FED 의 에미터를 스트라이프형으로 제조하는 방법에 관한 것으로 특히 글라스 기판 (1) 상에 박막적층 공정을 사용하여 편리하고 또한 대면적으로 제조가능하고, 또 저온공정을 사용가능하게 한 것으로, 본 발명의 공정은, 글라스기판 (1) 상에 절연막 (2) 과 메탈막 (3) 을 도포하고 그 위에 포토레지스트 (4) 를 패터닝에 의해 도포하는 단계 ;잔류하는 포토레지스트 (4) 주위 부분에의 메탈막 (3) 을 제거하는 단계 ;메탈막 (3) 상에의 포토레지스트 (4) 를 제거하고 다시 절연막 (2) 을 에칭하는 단계 ;그 위에 절연막 (5), 메탈막 (6), 절연막 (7), 메탈막 (8) 을 순차 도포하는 단계 ;메탈막 (3) 상의 상면층을 평탄화하는 단계 ;절연층 (5) 을 에칭하는 단계 ;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

FED 의 스트라이프형 에미터 제조방법

본 발명은 FED 의 메탈 팁 제조방법에 관한 것으로 특히 스트라이프형의 에미터 제조방법에 관한 것이다.

필드에미터 어레이 (FEA) 의 종류로는 크게 3 가지로 분류되는 바 에미터 형태가 원뿔형인 포인트 에미터와, 스트라이프 형태인 웨지형 에미터와, 그리고 박막 에지형 에미터 (Thin Film edge emitter) 가 있다.

본 발명은, 상기 중, 스트라이프 형태인 웨지형 에미터를 제조하는 방법에 관한 것으로, 유사한 종래의 기술로는 실리콘 기판 자체를 방향성 식각으로 에칭하여 스트라이프 형태의 팁을 형성하는 것이 나와 있다.

본 발명은 스트라이프 형태의 트라이오드 구조를 만들되 기판을 글라스 재질을 사용하여 그 위에 다른 여러재질을 적층하는 방식에 의해, 즉 박막적층공정에 의해, 스트라이프형의 팁을 제작가능토록 함으로서 그의 제조가 용이하고, 저온공정이 가능하고 또한 대면적화 할 수 있게 함과 동시에, 제작시 게이트와 에미터의 거리조절도 용이토록한 것으로, 이하 첨부도면에 의거 본 발명을 상술한다.

도 1 의 a ∼ e 는 본 발명에 따른 제조공정을 나타내는 제조공정도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 글라스기판 2,5,7 : 절연막

3,6,8 : 메탈막 4 : 포토레지스트

10 : 게이트 11 : 에미터

도 1 의 a ∼ e 는 본 발명에 따라 글라스 기판상에 스트라이프 형태의 팁을 제조하는 공정을 예로써, 순차 나타내는 도면이다.

먼저 a 도에서 보듯이, 예로서, 글라스기판 (1) 상에 절연막 (2) 을 약 1 ㎛ 정도 쌓고 그 위에 메탈막 (3) 을 약 3,000 Å 정도 쌓는다. 그후 포토레지스트 (4) 를 패터닝에 의해 폭 1 ㎛ ∼ 5 ㎛ 정도의 포토레지스트 (4) 가 남도록 한다.

그후, 메탈막 (3) 을 에칭으로 제거한 후, 메탈막 (3) 상부에 얹혀있는 포토레지스트 (4) 를 제거한 후 다시 하부쪽에의 절연막 (2) 을 에칭한다.

그러면 c 도와 같은 형상이 이루어진다. 절연막 (2) 에칭이 끝난뒤에는, d 도에서 보듯이, 약 5,000 Å 정도의 두께로 절연막 (5) 을 코팅하고, 계속하여 메탈막 (6) 약 1,000 Å 두께, 절연막 (7) 약 5,000 Å 두께, 메탈막 (8) 약 3,000 Å 두께로 순차 쌓는다.

그러면 d 도와 같은 상태가 된다.

상기와 같은 연속적인 박막형성공정이 완성되면, CMP (Chemical Mechanical Polishing) 으로 메탈막 (3) 상의 즉, A-A 라인 상면층을 평탄하게 만든후, 절연층 (15) 을 에칭시키면 e 도와 같은 형태가 이루어진다.

그리하여 메탈막 (3) 층은 게이트 (10) 가 되고, 그 위에 적층 제거후 남은 메탈막 (6) 의 솟아오른 끝 부위의 뾰족한 띠형태 (stripe) 는 에미터 (11) 가 된다.

이상과 같은 본 발명에 따른 스트라이프형 팁 제조방법에 의하면, 게이트 (10) 와 에미터 (11) 의 거리조절을, 제조시의 박막의 두께를 조절함으로서 조절할 수 있어 제조에 있어 편리함을 제공한다.

또한 박막적층 공정만으로 스트라이프형 팁을 제작 가능하므로 제작공정이 간편하고 쉽게 제작되는 장점이 있다.

또한 본 발명에서는 특히, 글라스 기판 (1) 상에서 스트라이프 형태의 팁을 제조함으로서 저온공정과 대면적화가 가능한 효과가 있다.

Claims (4)

1. 글라스 기판 (1) 상에 박막공정을 이용하여 스트라이프 형태의 에미터를 제조함에 있어,

   글라스기판 (1) 상에 절연막 (2) 과 메탈막 (3) 을 도포하고 그 위에 포토레지스트 (4) 를 패터닝에 의해 도포하는 단계 ;

   잔류하는 포토레지스트 (4) 주위 부분에의 메탈막 (3) 을 제거하는 단계 ;

   메탈막 (3) 상에의 포토레지스트 (4) 를 제거하고 다시 절연막 (2) 을 에칭하는 단계 ;

   그 위에 절연막 (5), 메탈막 (6), 절연막 (7), 메탈막 (8) 을 순차 도포하는 단계 ;

   메탈막 (3) 상의 상면층을 평탄화하는 단계 ;

   절연층 (5) 을 에칭하는 단계 ;를 포함하는 것을 특징으로 하는 FED 의 스트라이프형 에미터 제조방법.
2. 제 1 항에 있어서, 절연막 (2) 두께는 1 ㎛, 메탈막 두께는 3,000 Å , 절연막 (5) 두께는 5,000 Å, 메탈막(6) 두께는 1,000 Å, 절연막 (7) 두께는 5,000 Å, 메탈막 (8) 두께는 3,000 Å 인 것을 특징으로 하는 FED 의 스트라이프형 에미터 제조방법.
3. 제 1 항에 있어서, 패터닝에 의해 형성하는 포토레지스트 (4) 의 폭은 1 ㎛ ∼ 5 ㎛ 인 것을 특징으로 하는 FED 의 스트라이프형 에미터 제조방법.
4. 제 1 항에 있어서, 연속 박막형성 공정후에 메탈막 (3) 상의 상면층 평탄화는 CMP (Chemical Mechanical Polishing) 방법에 의한 것을 특징으로 하는 FED 의 스트라이프형 에미터 제조방법.