KR100217240B1 - 암로디핀 베실레이트의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 2의 아지드 화합물을 금속 또는 금속염 촉매하에서 2당량 이상의 벤젠술폰산과 반응시켜 하기 화학식 1의 암로디핀 베실레이트를 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명에 의하면 상기 화학식 2의 아지드 화합물의 환원반응에 벤젠술폰산을 양성자원(proton source)으로 사용함으로써, 단일공정에 의하여 고수율로 화학식 1의 화합물을 제조할 수 있다.

Description

암로디핀 베실레이트의 제조방법{PREPARATION OF AMLODIPINE BESYLATE}
본 발명은 허혈 및 고혈압 치료제로서 유용한 하기 화학식 1의 암로디핀 베실레이트의 새로운 제조방법에 관한 것이다.
암로디핀 베실레이트는 하기 화학식 3으로 표시되는 암로디핀의 벤젠술폰산염으로서, 화학명은 3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아미노에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘-디카르복실레이트 모노벤젠술포네이트이고, 장기간에 걸쳐 활성을 나타내는 강력한 칼슘 통로 차단제(Calcium Channel Blocker)이다.
화학식1
암로디핀베실레이트 자체는 이미 공지이며, 여러가지 제조방법들이 소개되어 있다.
먼저, 대한민국 특허공고 제 87-809호에는 암로디핀(화학식 3)을 제조할 수 있는 여러 가지 방법들이 개시되어 있다. 예를 들어, 화학식 2의 아지드 화합물을, 트리페닐포스핀이나 아연 및 염산, 또는 H2/Pd 등으로 환원시켜 암로디핀(A)을 제조한다. 제조된 암로디핀(A)을 정제하기 위하여, 말레인산을 부가하여 암로디핀말레이트로 전환하고, 이를 다시 염기로 처리하여 유리형태의 정제된 암로디핀(화학식 3)을 얻을 수 있다.
그리고, 대한민국 특허공고 제 95-6710호에서는, 암로디핀의 여러 가지 염들 중에서 암로디핀 베실레이트가 특이하게 우수한 약제학적 특성을 갖는다고 밝히고, 그 제조방법으로서 유리염기 형태의 암로디핀(화학식 3)을 불활성용매 중에서 벤젠 술폰산 또는 그의 암모늄염 용액과 반응시켜 생성된 암로디핀 베실레이트를 회수하는 방법을 개시하고 있다.
이러한 종래 방법으로 암로디핀 베실레이트를 제조하기 위해서는,하기의 반응식 2에 의한 바와 같이 먼저 아지드화합물(화학식 2)을 환원시켜 암로디핀 염기(A)를 제조하고, 이어서 암로디핀말레이트를 이용하여 정제된 유리형태의 암로디핀을 얻은 다음, 이를 다시 벤젠 술폰산과 반응시켜 암로디핀 베실레이트를 수득하게 된다.
따라서, 적어도 4단계 이상의 공정을 거쳐야 하므로 제조과정이 복잡할 뿐아니라, 그 과정에서 목적물의 수율이 떨어지게 된다는 등의 문제점이 있었다.
한편, EP 899,200에는 암로디핀의 아미노기를 트리틸기로 보호한 상태에서, 벤젠술폰산으로 처리한 후 트리틸기를 제저함으로써 암로디핀 베실레이트를 제조하는 방법이 기재되어 있다.
그러나 이러한 방법에서도, 아미노기를 보호하는 공정이 추가되는 등, 공정이 번거롭고, 수율도 저조한 문제점이 있었다.
이에, 본 발명에서는 종래기술이 가지는 문제점을 해결하여 보다 단축된 공정에 의하여 고수율로 암로디핀 베실레이트를 제조하는 방법을 제공하고자 한다.
이를 위하여 본 발명에 의하여 하기 화학식 2의 아지드 화합물[3-에틸 5-메틸(±)2-[(2-아지드에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트]을 금속 또는 금속염 촉매하에서 2당량 이상의 벤젠술폰산과 반응시키는 것을 특징으로하는 화학식 1의 암로디핀 베실레이트의 제조방법이 제공된다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
금속 또는 금속염 촉매로는 주석이나 아연, 철, 마그네슘, 염화주석 이수화물, 팔라디움 등을 사용할 수 있으나, 이 중에서 주석 또는 아연을 사용하는 것이 바람직하다. 금속 또는 금속염 촉매는 출발물질(화학식 2) 1몰당 2당량 이상을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 방법에 있어서는 통상의 유기용매 또는 유기용매와 물과의 혼합용매를 반응용매로 사용할 수 있다. 유기용매의 예로는, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 테트라하이드로푸란, 디옥산 및 아세토니트릴 등을 들 수 있다. 특히, 바람직한 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올과 같은 알코올류와 테트라하이드로푸란이다.
본 발명의 중요한 특징은 아지드기를 포함하는 출발물질(화학식 2)을 환원하기 위하여 벤젠술폰산을 사용하는 데 있다. 벤젠술폰산은 종래 암로디핀을 암로디핀 베실레이트로 전환하는 염생성 반응에 사용하였으나, 본 발명에서는 화학식 2의 아지드 화합물의 환원 반응에서 양성자원을 제공하는 역할을 하며, 이로써 아지드화합물을 환원함과 동시에 베실레이트로 전환시킴으로써 단일 공정에 의하여 고수율로 화학식 1의 화합물을 수득하게 된다. 벤젠술폰산은 출발물질(화학식 2) 1몰당 2당량 이상을 사용하는 것이 바람직하다. 반응은 통상 환류온도 및 환류조건하에서 수행한다.
본 발명에 따른 화합물의 제조방법을 하기의 실시예로써 보다 상세히 설명한다. 그러나, 이들 실시예에 의하여 본 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예 1
3-에틸 5-메틸(±) 2-[(2-아지드에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 0.87g을 메탄올 30ml에 가하고, 환류시켜 녹인 다음 주석 분진 0.71g을 가하였다. 이 혼합물에, 90% 벤젠술폰산 1.40g을 메탄올 20ml에 녹인 용액을 천천히 적가한 후 30분간 비등환류시키고, 뜨거운 상태에서 여과하여 불용성 물질을 제거한 다음 감압증류하여 농축시켰다. 이 잔류물을 에테르 100ml에서 교반하고, 여과하여 침전물을 얻었다. 이 침전물을 다시 물 10ml에서 교반한 후 여과하여 건조시켰다. 건조된 생성물을 메탄올에서 재결정시켜서 3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아미노에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6 -메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 모노벤젠술포네이트 1.02g을 수득하였다.(수율: 90%) 융점: 198~200℃
실시예 2
3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아지드에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 0.87g을 메탄올 30ml에 가하고, 환류시켜 녹인 다음 주석 분진 0.48g을 가하였다. 이 혼합물에, 90% 벤젠술폰산 1.40g을 메탄올 20ml에 녹인 용액을 천천히 적가한 후 30분간 비등환류시키고, 뜨거운 상태에서 여과하여 불용성 물질을 제거한 다음 감압증류하여 농축시켰다. 이 잔류물을 에테르 100ml에서 교반하고, 여과하여 침전물을 얻었다. 이 침전물을 다시 물 10ml에서 교반한 후 여과하여 건조시켰다. 건조된 생성물을 메탄올에서 재결정시켜서 3-에틸 5-메틸 (±)2[(2-아미노에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 모노벤젠설포네이트 0.99g을 수득하였다.(수율: 87%)
융점: 198~200℃
실시예 3
3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아지드에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 0.87g을 메탄올 30ml에 가하고, 환류시켜 녹인 다음 아연 분진 0.31g을 가하였다. 이 혼합물에, 90% 벤젠술폰산 1.40g을 메탄올 20ml에 녹인 용액을 천천히 적가한 후 30분간 비등환류시키고, 뜨거운 상태에서 여과하여 불용성 물질을 제거한 다음 감압증류하여 농축시켰다. 이 잔류물을 에테르 100ml에서 교반하고, 이 혼합물에 물 10ml을 가한 다음 다시 교반한 후 여과하여 건조시켰다. 건조된 생성물을 메탄올에서 재결정시켜서 3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아미노에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 모노벤젠술포네이트 0.94g을 수득하였다. (수율 :84%)
융점: 198~200℃
실시예 4
3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아지드에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6-메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 0.87g을 메탄올 30ml에 가하고, 환류시켜 녹인 다음 아연 분진 0.46g을 가하였다. 이 혼합물에, 90% 벤젠술폰산 1.40g을 메탄올 20ml에 녹인 용액을 천천히 적가한 후 30분간 비등환류시키고, 뜨거운 상태에서 여과하여 불용성 물질을 제거한 다음 감압증류하여 농축시켰다. 이 잔류물을 에테르 100ml에서 교반하고, 여과하여 침전물을 얻었다. 이 침전물을 다시 물 10ml에서 교반한 후 여과하여 건조시켰다. 건조된 생성물을 메탄올에서 재결정시켜서 3-에틸 5-메틸 (±)2-[(2-아미노에톡시)메틸]-4-(2-클로로페닐)-1,4-디하이드로-6- 메틸-3,5-피리딘디카르복실레이트 모노벤젠술포네이트 0.89g을 수득하였다.(수율: 79%) 융점: 198~200℃
본 발명에 의하면 암로디핀의 전구체로부터 환원하여 말레이트를 제조하는 단계와 그 염을 유리염기 형태로 분리하는 종래 방법에 의한 두 단계의 공정을 생략하고, 아지드기를 포함하는 암로디핀을 출발물질(화학식 2)로하여 직접 암로디핀 베실레이트를 합성하므로, 단축된 공정에 의하여 간단하게, 종래의 방법에 의한 경우보다 월등히 향상된 수율로 암로디핀 베실레이트를 제조할 수 있다.

Claims (1)

  1. 하기 화학식 2의 아지드 화합물을 주석 또는 아연 촉매하에서 2당량 이상의 벤젠술폰산과 반응시키는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 암로디핀 베실레이트의 제조방법.
    화학식 1
    화학식 2
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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KR101125123B1 (ko) * 2008-12-04 2012-03-16 화일약품주식회사 높은 광학적 순도의 ｓ-(-)-암로디핀을 제조하는 방법 및 그 중간생성 화합물

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950006710A (ko) * 1993-08-03 1995-03-21 이헌조 자기기록매체의 배향장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100467669B1 (ko) * 2002-08-21 2005-01-24 씨제이 주식회사 암로디핀의 유기산염

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