KR100191988B1 - 음이온 디스아조 화합물 - Google Patents

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KR100191988B1
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잔 디해머 한스루돌프 하우스
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    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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Abstract

음이온 디스아조 화합물
본 발명은 질소 함유 기재, 특히 천연 또는 합성 폴리아미드를 포함하는 섬유 물질과 같은 음이온에 의해 염색할 수 있는 유기 기재를 염색 또는 날염하는데 유용한, 유리산 또는 염 형태 및 그의 혼합물 형태의 하기 일반식(Ⅰ)의 음이온 디스아조 화합물에 관한 것이다:
상기식에서, D는 아미노벤젠 또는 아미노나프탈렌 계열의 설포 그룹 함유 디아조 성분 라디칼이며, R1, R2, R3및 X 는 상기 명세서에 정의한 바와 같다.

Description

음이온 디스아조 화합물
본 발명은 특히, 천연 또는 합성 폴리아미드를 염색 또는 날염하기 위한 음이온 염료로 사용되는, 설포 그룹 함유 디스아조 화합물 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.
더욱 특히, 본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염과 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물과 염의 혼합물을 제공한다:
상기식에서,
D 는또는이고,
R4는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시 또는 할로겐이고,
R2는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시, -NHCOC1-4알킬, -NHCOOC1-4알킬 또는 -NHCONH2이고,
R3는 수소, 할로겐, C1-4알킬 또는 C1-4알콕시이고,
R1은 수소, C1-4알킬 또는 C2-4하이드록시알킬이고,
X 는 하기 라디칼 (c) 또는 (d) 이고,
R5는 염소, 하이드록시 또는 -NHCN 이고,
R6은 수소, 염소 또는 시아노이고,
R7은 수소; C1-12알킬; 하이드록시로 일치환되거나 이치환된 C2-8알킬; 페닐; 페닐(C1-4알킬) 또는 사이클로헥실이고,
R8은 C4-20알킬; 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환되거나 또는 할로겐, 페닐, 카복시 또는 C1-12알콕시로 일치환된 C4-20알킬; -A-O-C1-12알킬(이때, A 는 C2-3알킬렌이다); 페닐; 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환된 페닐; 페닐(C1-3알킬); 페닐 고리가 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환되는 페닐(C1-3알킬); 사이클로헥실 또는 1 내지 3 개의 C1-4알킬 그룹으로 치환된 사이클로헥실이나, 단, R7및 R8에 함께 존재하는 총 탄소수는 8이상 이거나 또는 -NR7R8은이다.
명세서에 나타낸 임의의 알킬, 알콕시 또는 알킬렌 그룹은 달리 명시하지 않는 한 선형이거나 또는 분지되어 있다. 질소원자에 결합된, 임의의 하이드록시-또는 알콕시-치환된 알킬 또는 알킬렌 그룹에서, 하이드록시 또는 알콕시 그룹은 질소원자에 직접 결합하지 않은 탄소원자에 결합되는 것이 바람직하다. 바람직하게는, 2개의 하이드록시 그룹으로 치환된 임의의 알킬 그룹에서, 하이드록시 그룹은 상이한 탄소 원자에 결합하며, 서로 인접하지 않는 것이 바람직하다. 임의의 할로겐은 불소, 염소 또는 브롬이 바람직하며, 특히 염소가 바람직하다.
일반식 (b)의 라디칼에서, 아조 그룹의 위치에 따라 변하는 설포 그룹의 위치는 다음과 같은 것이 바람직하다:
(ⅰ) 아조 그룹이 1-위치에 있을 때,
설포 그룹은 4-, 5-, 6-, 7- 또는 8-위치가 바람직하며, 특히 4-, 5-, 6-또는 7-위치가 바람직하고;
(ⅱ) 아조 그룹이 2-위치에 있을 때,
설포 그룹은 5-, 6-, 7-또는 8-위치가 바람직하며, 특히 5-또는 6-위치가 바람직하다.
D는 라디칼(a)인 것이 바람직하다.
D는 바람직하게는 D1인, 일반식의 라디칼(a1)이며, 이때 R4a는 수소, 염소, 메틸 또는 메톡시이다.
더욱 바람직하게는, D는 D2인, 일반식의 라디칼(a2)이며, 이때 R4b는 수소 또는 메틸이다.
더 더욱 바람직하게는, D는 D3인, 일반식의 라디칼(a3)이며, 이때 설포 그룹은 4- 또는 5-위치이며, R4b는 상기 정의한 바와같다.
가장 바람직하게는, D 는 D4인데, D4는 설포 그룹이 4-위치이고, R4b가 수소인 라디칼(a3)이다.
페닐렌 중간 성분의 치환체로 R2및 R3는 하기 일반식에 나타낸 바와같이 서로 파라 위치인 것이 바람직하다:
R2는 바람직하게는 R2a인데, R2a는 수소, 메틸, 메톡시, -NHCOCH3, -NHCOOC1-2알킬 또는 -NHCONH2이다. 더욱 바람직하게는 R2b인데, R2b는 수소, 메틸, -NHCOCH3또는 -NHCONH2이다. 가장 바람직하게는 R2c인데, R2c는 수소 또는 메틸이며, 수소가 특히 바람직하다.
R3는 바람직하게는 R3a인데, R3a는 수소, 메틸 또는 메톡시이며, 가장 바람직하게는 R3는 수소이다.
R1은 바람직하게는 R1a인데, R1a는 수소, C1-2알킬 또는 2-하이드록시에틸이다. 더욱 바람직하게는 R1은 R1b인데. R1b는 수소 또는 메틸이며, 가장 바람직하게는 R1은 수소이다.
R7은 바람직하게는 R7a인데, R7a는 수소, C1-4알킬, 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환된 C2-4알킬이거나 또는 페닐이며, 더욱 바람직하게는 R7b인데, R7b는 수소, 메틸, 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환된 C2-4알킬이거나 또는 페닐이다. R7은 더 더욱 바람직하게는 R7c인데, R7c는 수소, 메틸, 1-위치가 아닌 위치에서 하이드록시로 일치환된 C2-4알킬이거나 또는 하이드록시로 이치환된 C3-4알킬이나, 단 어느 하이드록시 그룹도 1-위치에 있지 않고 2개의 하이드록시 그룹은 동일하거나 인접한 탄소원자에 결합되지 않는다. 가장 바람직하게는 R7은 수소이다.
R8은 바람직하게는 R8a인데, R8a는 D1-14알킬, 페닐로 일치환된 C4-14알킬, -A1-0-C6-12알킬(이때, A1은 선형 C2-3알킬렌이다), 2 또는 3개의 C1-2알킬 그룹으로 치환된 페닐이거나 C6-16알킬 또는 페녹시로 일치환된 페닐, 페닐(C1-2알킬), 페닐 고리가 C6-14알킬로 일치환된 페닐(C1-2알킬)또는 1 내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 사이클로헥실이다.
더욱 바람직하게는 R8은 R8b인데, R8b는 C8-14알킬, C8-14알킬 또는 페녹시로 일치환된 페닐이거나 또는 3개의 C1-2알킬 그룹으로 치환된 페닐, 또는 1 내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 사이클로헥실이다.
가장 바람직하게는, R8은 R8C인데, R8C는 C10-14알킬 이거나 또는 C10-14알킬 또는 페녹시로 일치환된 페닐이다.
X는 바람직하게는 X1인데, X1은 하기 라디칼(c1) 또는 (d1)이고,
더욱 바람직하게는 X2인데, X2는 하기 라디칼(c2)이고,
가장 바람직하게는 X3인데, X3는 하기 라디칼(c3)이다:
이때, R7C는 특히 수소이다.
일반식(Ⅰ)의 바람직한 화합물은 하기 일반식(Ia)(이때, R1b, R2b, R3a, D2및 X1은 상기 정의한 바와 같으나, 단 X1의 R7a및 R8a에 함께 존재하는 총 탄소수는 8이상이다) 및 그의 염 및 혼합물에 상응한다.
더욱 바람직한 일반식(Ⅰ)의 화합물은(1) 내지 (7)과 같은 일반식(Ia)의 화합물이다:
(1) D2가 D3인 일반식(Ia)의 화합물 ;
(2) D2가 D4인 일반식(Ia)의 화합물 ;
(3) R2b가 R2C인 일반식(Ia)의 화합물 ;
(4) R2C가 R3a가 모두 수소인, (3)과 같은 일반식(Ia)의 화합물 ;
(5) X1이 X2인 일반식(Ia)의 화합물 ;
(6) X1이 X3인 일반식(Ia)의 화합물 ;
(7) R1b가 수소인, 상기 (1) 내지 (6)과 같은 일반식(Ia)의 화합물.
일반식(Ⅰ)의 화합물이 염 형태일 때, 설포 그룹 및 임의의 카복시 그룹과 결합된 양이온은 중요하지 않으며 음이온 염료 분야에 통상적인 비-발색단 양이온중 어느 하나일 수 있다. 상기 양이온의 예는 알칼리 금속 양이온 및 치환되지 않은 및 치환된 암모늄 양이온, 예를들면, 리튬, 나트륨, 칼륨, 암모늄, 모노-, 디-, 트리- 및 테트라-메틸 암모늄, 트리에틸암모늄 및 모노-, 디-, 및 트리-에탄올암모늄이다.
바람직한 양이온은 알칼리 금속 양이온 및 암모늄이고, 나트륨이 가장 바람직하다.
일반식(Ⅰ)의 화합물에서, 설포 및 임의의 카복시 그룹의 양이온들은 같거나 다를수 있으며, 예를들면, 이들은 또한 전술한 양이온의 혼합물일 수 있으며, 이는 일반식(Ⅰ)의 화합물이 혼합된 염형태일 수 있음을 의미한다.
본 발명은 동물량의 각 단일 성분, 즉, 하기 일반식(Ⅱc) 또는 (Ⅱd)의 화합물, 하기 일반식(Ⅲ)의 아민의 디아조늄염, 유리산 또는 염형태의 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물 및 하기 일반식(Ⅴ)의 아민을 사용하여 임의의 원하는 순서로 중성 내지 약알칼리성 반응 매질에서 커플링 및 상응하는 축합 반응에 의해 상기 성분들을 반응시키고, 염소이외의 다른 R5그룹을 도입하기 위해서는 반응 과정중 임의의 단계에서 염기 또는 시아나미드와 임의로 반응시킴을 포함하는 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 혼합물의 제조방법을 제공한다:
상기식에서,
D는또는이고,
R4는 수소, C1-4알킬, C1-4알콜시 또는 할로겐이고,
R2는 수소, C1-4알킬, C1-4알콜시, -NHCOC1-4알킬, -NHCOOC1-4알킬 또는 -NHCONH2이고,
R3는 수소, 할로겐, C1-4알킬 또는 C1-4알콕시이고,
R1은 수소, C1-4알킬 또는 C2-4하이드록시알킬이고,
X는 하기 라디칼 (c) 또는 (d)이고,
R5는 염소, 하이드록시 또는 -NHCN 이고,
R6은 수소, 염소 또는 시아노이고,
R7은 수소; C1-12알킬; 하이드록시로 일치환되거나 이치환된 C2-8알킬; 페닐; 페닐(C1-4알킬) 또는 사이클로헥실이고,
R8은 C4-20알킬; 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환되거나 또는 할로겐, 페닐, 카복시 또는 C1-12알콕시로 일치환된 C4-20알킬; -A-0-C1-12알킬(이때, A는 C2-3알킬렌이다); 페닐; 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환된 페닐; 페닐(C1-3알킬); 페닐 고리가 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환되는 페닐(C1-3알킬); 사이클로헥실 또는 1 내지 3개의 C1-4알킬 그룹으로 치환된 사이클로헥실이나, 단, R7및 R8에 함께 존재하는 총 탄소수는 8이상 이거나 또는 -NR7R8은이다.
디아조화 및 커플링 반응은 공지된 방법과 유사하게 수행할 수 있다. 일반식(Ⅱc) 또는 (Ⅱd)의 화합물에 존재하는 각 단일 염소원자의 교환은 트리클로로-트리아진 또는 -피리미딘의 제 1, 제 2 및 선택적으로 제 3 염소원자의 교환에 관해 통상적인, pH 및 온도와 관련된 조건하에서 적절히 이룩된다.
일반식(Ⅰ)의 화합물은 통상적인, 알칼리 금속염을 사용한 염석, 여과 및 건조와 같은 공지된 방법에 따라 단리시킬 수 있다.
반응 및 단리 조건에 따라, 일반식(Ⅰ)의 화합물은 유리산 또는 바람직하게는 염형태 또는 더한층, 예를들면 하나 이상의 전술한 양이온을 함유하는 혼합 염형태로 수득된다.
유리산 형태를 염 형태 또는 그의 혼합물로 전환시킬 수 있거나 또는 그 역도 가능하고, 하나의 염형태를 통상적인 수단에 의해 또다른 염 형태로 전환시킬 수 있다.
출발물질로 사용된 일반식 (Ⅱc), (Ⅱd) 및 (Ⅲ)내지 (Ⅴ)의 화합물은 공지되어 있거나 또는 공지된 적절한 출발 화합물을 사용하여 공지된 방법과 유사하게 제조할 수 있다.
일반식(Ⅰ)의 화합물은 음이온에 의해 염색할 수 있는 유기 기재를 염색 또는 날염하는데 유용한 음이온 염료이다.
적합한 기재는 질소 함유 기재, 특히 아미도 그룹 함유 기재, 예를들면 염기성으로 변형시킨 폴리올레핀, 폴리우레탄 또는 천연 또는 합성 폴리아미드를 포함하는 가죽 또는 섬유 재료(그중 천연 또는 합성 폴리아미드를 포함하는 직물이 바람직하다), 특히 모, 실크, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6.6, 폴리아미드 11, 폴리아미드46 또는 Qiana(듀퐁에서 시판하는 등록상표; 4,4'-메틸렌-비스(사이클로헥실아민)을 C12디카복실산과 반응시켜 수득할 수 있는 폴리아미드 섬유이다) 및 이들의 혼방 또는 다른 섬유와의 혼방이다. 상기 기재들은 수성 매질로부터 염색하기 위해 통상적인 사용된 임의의 형태로, 예를들면, 푼섬유, 얀(yarns), 트레드(threads), 필라멘트, 타래(hanks), 실패(spools), 직물, 택스쳐, 펠트(felts), 폴리스(fleeces), 벨벳(velvet), 카펫트, 터프팅 웨어(tufing ware) 및 반마감 또는 완전히 패셔닝(fashioning)된 제품으로 사용될 수 있다.
전술한 기재는 통상적인 염색법에 따라, 예를들면 수성 염색액으로부터 염착 염색(exhaust dyeing)시키거나 또는 수성 염색액 또는 염색 제제로 함침시키므로써 염색할 수 있다.
염료는 통상적인 적절한 건조 또는 액체 형태, 예를들면 분말, 과립 또는 액체 염색 제제로 사용할 수 있다. 이들은 수용성 염(특히 염화 나트륨, 탄산 나트륨 및 황산 나트륨)과 같은 적합한 표준화제, 덱스트린 및 우레아와 같은 비전해질형 표준화제 및 고체 또는 액체 제제의 배합에 적합한 임의의 추가 첨가제를 함유할 수 있다. 전해질이 특히 낮은 염료가 필요하다면, 공지된 삼투법에 따라 정제시키므로써 얻을수 있다.
임의의 수성 액체 염색 제제는 비-이온성 및/또는 음이온성 계면 활성제, 예를들면 탄화수소 설포네이트 또는 리그닌 설포네이트와 같은 추가의 첨가제; 더욱더 하이드로트로프제(hydrotropic agents) 및/또는 비이온성 가용화제, 예를들면, 우레아 또는 모노-또는 올리고-에틸렌 글리콜 및 그의 모노C1-6알킬 에테르를 함유할 수 있다.
임의의 과립은 과립화 보조제, 음이온 또는 비-이온성 계면활성제 및/또는 하이드로트로프제, 예를들면 우레아 또는 덱스트린을 함유할 수 있다.
바람직하게는, 염색 제제는 제제의 형태 및 조성에 따라 일반식(Ⅰ)의 화합물을 적어도 5 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 90 중량%를 함유하며; 분말 및 과립은 예를들면 20 내지 90 중량%를 함유하는 반면, 액체 염색 제제는 10 내지 40 중량%를 함유한다. 임의의 표준화제를 선택적으로 함유하는 분말 형태의 전술한 염료가 사용하는데 가장 편리하다.
염착 염색은 40℃ 내지 120℃의 온도범위 및 pH3.5 내지 10, 바람직하게는 pH4 내지 7의 pH 범위와 같은 통상적인 조건에 따라 이룩할 수 있다. 염욕의 pH는 포름산, 아세트산, 타르타르산, 또는 시트르산과 같은 보통 사용되는 산 또는 포스페이트, 타르트레이트 또는 아세테이트 완충액과 같은 완충용액을 첨가하므로써 조절할 수 있다. pH조절된 염색법의 경우, pH9 내지 10에서 공정을 시작한 후 염색 공정 도중에 pH를 3.5 내지 4.5로 강하시킬 수 있다. 일반식(Ⅰ)의 화합물은 합성 폴리아미드를 염색하기 위해 중성 염색성을 갖기 때문에, 염욕의 pH는 약산내지 중성 반응으로 조절하는 것이 바람직하며, pH4.5 내지 6으로 유지시키는 것이 더욱 바람직하다. 모의 염색에 대해서는 낮은 pH가 바람직하며, 더욱 특히 pH4 내지 5.5의 범위가 바람직하다.
함침 공정을 사용할 때, 임의의 통상적인 방법이 적합하며, 상기에 의해 기재를, 예를들면 침지, 패딩 또는 날염공정에 의해 수성 염색액 또는 페이스트에 함침시킨다. 후속단계로, 수득한 염색물을 통상적인 수단에 따라 예를들면 15 내지 40℃ , 바람직하게는 20 내지 30℃의 온도에서 적절하게 콜드 드웰법(cold dwell method)에 의하거나 또는 예를들면 85 내지 105℃에서 증기 처리(steaming)하므로써 고착시킨다.
천연 폴리아미드 뿐 아니라 합성 폴리아미드를 염색시키기 위해, 유리하게는 균염제를 사용하여 흡착 속도를 어느 정도 지연시키므로써 가벼운 염색물에 대해서조차도 전 염색 표면에 우수한 균염성을 얻는다.
일반식(Ⅰ)의 화합물은 우수한 침착성과 함께 우수한 수용성 및 우수한 중성 염색 친화성을 나타낸다. 특히 균염제가 존재할 때, 이들은 나일론을 염색시키며 스키터리(skittery)염색물을 고르게 염색시키기 쉽다. 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 혼합물을 사용하여 수득한 염색물은 높은 명도와 우수한 광 견뢰도를 나타낸다. 또한, 염색물은 현저하게 우수한 습윤견뢰성, 특히 세탁, 물, 밀링 및 땀에 대해 우수한 견뢰도를 나타낸다.
본 발명을 또한 하기 비-제한적인 실시예를 참조하여 예시하는데, 모든 부는 달리 언급하지 않는 한 중량으로 나타내며, 모든 온도는 섭씨온도이다.
[실시예 1]
2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 18.5 부를 물 50 부 및 얼음 50부에서 교반하여 미세한 균질 현탁액을 수득한다.
이 현탁액에, 중성 반응 매질에서 디아조화시킨 4-아미노산-1,1'-아조벤젠-4'-설폰산을 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산과 커플링시켜 수득한 아미노디스아조 화합물 52.7 부와 물 500 부로 이루어진 중성(pH=7)용액을 2시간 이내에 0 내지5°에서 적가한다. 첨가하는 동안, 반응 혼합물의 pH를 고형 탄산나트륨을 첨가하므로써 5 내지 6으로 유지시킨다. 반응이 종결된 후, 도데실아민 18.5 부와 에틸렌 글리콜 50부의 용액을 혼합물에 첨가하고, 50°로 가열하고 이 온도에서 3시간동안 교반시킨다. 그 시간동안 pH를 10 중량% 탄산 나트륨 용액 150부를 첨가하므로써 9 내지 9.5로 유지시킨다. 반응이 종결된 후, 혼합물을80°로 가열하고, 염료 현탁액에 30 중량% 수산화나트륨 용액 50부와 염화 나트륨 100부를 첨가한다.
이어서 생성된 침전물을 여과시키고 건조시킨다. 하기 일반실의 염료가 수득된다.
상기 염료는 합성 폴리아미드 또는 모를 밝은 적색조로 염색 시킨다. 수득한 염색물을 우수한 습윤 견뢰성을 나타낸다.
[실시예 2]
4-아미노-1,1'-아조벤젠-4'-설폰산 27.7부를 50°에서 물 750 부 및 30 중량% 수산화 나트륨 용액 15 부에 용해시킨다. 후속단계로, 아질산 나트륨 7부를 가한다. 30분 이내에, 30 중량% 염산 용액 30부와 물 100부의 혼합물에 생성된 용액을 가한다. 4시간동안 교반시킨 후, 디아조화를 종결시킨다.
과량의 아질산을 설팜산을 가하므로써 분해시킨다.
2-클로로-4-(5'- 하이드록시-7' -설포나프틸-2'- 아미노)-6-(3, 5, 5- 트리메틸사이클로헥실아미노)-1, 3, 5-트리아진의 나트륨염 49.2부를 물200부에 용해시킨다. 이 용액에 중탄산 나트륨 12부를 가한 후, 앞서 제조한 디아조 현탁액을 첨가한다. 커플링 반응이 완결될 때까지 혼합물을 교반시킨다. 이어서, 염화 나트륨 100부를 가하고, 혼합물을 밤새 교반한다.
침전된 염료를 여과시키고 건조시킨다. 염료는 하기 일반식을 가지며, 모 또는 합성 폴리아미드를 밝은 적색조로 염색시킨다.
상기 염색물은 우수한 습윤 견뢰성을 나타낸다.
실시예 2에 사용된 커플링 성분은 다음과 같이 제조할 수 있다;
2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 18.5 부를 물 50 부 및 얼음 50 부에서 교반하여 미세한 균질 현탁액을 수득한다.
이 현탁액에 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산 24 부, 물 200 부 및 30 중량% 수산화 나트륨 용액 15 부의 용액을 1시간이내에 가한다. 반응 혼합물을 0 내지 5°에서 3시간 동안 교반시키면서, pH는 15 중량% 탄산 나트륨 용액을 적가하므로써 2.0 내지 2.5로 유지시킨다. pH가 일정하게 유지되자마자, 3,5,5-트리메틸사이클로헥실아민 14 부를 혼합물에 가하고, 55°로 가열하고 이 온도에서 3시간동안 유지시킨다.
동시에, 혼합물의 pH가 7내지 7.5로 유지되는 속도로 10 중량%의 수산화나트륨 용액 45 부를 적가한다. 최종적으로, 염화나트륨을 가하므로써 반응 생성물을 침전시킨후 여과시킨다.
[실시예3 내지 59]
실시예1 또는 2에 개시된 방법과 유사하게, 적절한 출발 화합물을 사용하여 하기 표 1 및 2에 나타낸 일반식(Ⅰ)의 추가의 화합물을 제조할 수 있다. 단리조건에 의존하여 상기 염료들을 나트륨 염으로 수득하는데, 하기 표 1은 하기 일반식(1A)에 상응하며 하기 표 2는 하기 일반식(2A)에 상응하며, 각각의 기호들은 하기 표에 정의한 바와 같다.
실시예 3 내지 39의 화합물에 있어서, 모 또는 합성 폴리아미드상에서 적색 염색물이 얻어졌으며 이들은 우수한 습윤 견뢰성을 나타낸다.
실시예 12, 23, 37, 41, 42, 48 내지 50, 54 및 55의 화합물을 제조하는데 사용된 일반식의 아민은 통상적으로 사용할 수 있는 생성물이며, 이의 알킬 그룹은 선형 및 이성체성 분지된 C12알킬 그룹의 혼합물임을 주목한다.
[실시예 60 내지 62]
실시예 1 또는 2개에 개시된 방법과 유사하게, 하기 일반식을 갖는 염료도 또한 제조할 수 있으며, 실시예 60의 경우, R6는 C1이고, 실시예 61의 경우, R6는 CN이고, 실시예 62의 경우 R6는 H이다.
실시예 60 내지 62의 화합물은 모 또는 합성 폴리아미드를 적색조로 염색시킨다. 이 염색물은 우수한 습윤 견뢰성을 나타낸다.
실시예 60 내지 62의 화합물은 변화하는 치환체들이 피리미디닐 라디칼의 질소원자에 대해 상이한 탄소원자에 결합될 수 있는, 피리미딘 라디칼에 대한 위치 이성체의 혼합물 형태로 수득된다. 이 이성체 혼합물은 통상적인 염색 또는 날염 공정에 사용될 수 있으며, 통상적으로 사용하기 위해 단일 이성체를 단리 할 필요는 없다.
선행 실시예에 개시된 제조방법에 의해, 실시예 1 내지 62의 화합물을 이들의 나트륨 염 형태로 수득한다. 반응 또는 단리 조건을 변화시키므로써 또는 다른 공지된 방법을 사용하므로써, 유리산 형태 또는 다른 염 형태 또는 하나 이상의 전술한 양이온을 함유하는 혼합 염 형태의 화합물을 제조할 수 있다.
하기 실시예에, 본 발명 화합물의 적용을 예시한다.
[적용실시예 A]
로 이루어진 염욕에 40°에서 폴리아미드 6직물 100부를 넣는데, pH는 40 중량%의 아세트산 용액 1 내지 2부를 가하므로써 5로 조절했다. 40°에서 10분 후, 매분마다 온도를 1°씩 상승시키므로써 염욕을 98°로 가열하고, 비등온도에서 45 내지 60분간 유지시킨다. 후속 단계로, 염욕을 15분 이내에 70°로 냉각 시킨다. 염색한 기재를 염색액으로부터 꺼내 따뜻한 물로 헹군후 냉수로 헹구고 건조시킨다. 우수한 광 및 습윤 견뢰성을 나타내는 적색 폴리아미드 염색물이 수득된다.
[적용실시예 B]
로 이루어진 염욕에 40°에서 폴리아미드 6.6직물 100부를 넣는데, pH는 40 중량%의 아세트산 용액 1 내지 2부를 가하므로써 5.5로 조절했다. 40°에서 10분 후, 매분마다 온도를 1.5°씩 상승시키므로써 염욕을 120°로 가열하고, 120°에서 15 내지 25분간 유지 시킨다. 후속 단계로, 염욕을 25분 내에 70°로 냉각시킨다.
염색한 기재를 염색액으로부터 꺼내 따뜻한 물로 헹군 후 냉수로 헹구고 건조시킨다. 우수한 균염성 및 우수한 광 및 습윤 견뢰성을 나타내는 적색 폴리아미드 염색물이 수득된다.
[적용실시예 C]
로 이루어진 50°의 액을 갖는 플라드(foulard)상에 폴리아미드 6직물 100부를 패드하여 패딩용액 총 1000부를 얻고 30 중량%의 압착 효과를 얻는다.
이렇게 함침시킨 직물을 둘둘 말아 85 내지 98°에서 포화 증기조건하에 증기 챔버에서 3 내지 6시간동안 고착시키기위해 둔다. 후속단계로, 염색물을 따뜻한 물로 헹군 후 냉수로 헹구로 건조시킨다. 우수한 균염성 및 우수한 광 및 습윤 견뢰성을 나타내는 적색 폴리아미드 염색물을 수득한다.
[적용실시예 D]
로 이루어진 40°의 염욕에 모직물 100부를 넣고, pH는 초산 나트륨 4부 및 아세트산 2부를 가하므로써 5로 조절했다. 40°에서 10분후, 매분마다 온도를 1°씩 상승시키므로써 염욕을 98°로 가열하고, 비등온도에서 40 내지 60분간 유지시킨다.
후속 단계로, 염욕을 20분 이내에 70°로 냉각시킨다. 염색한 기재를 염욕으로부터 꺼내 따뜻한 물로 헹군 후 냉수로 헹구고 건조시킨다. 우수한 광 및 습윤 견뢰성을 나타내는 적색 모 염색물이 수득된다.
비슷하게, 실시예 2 내지 62의 염료 또는 예시한 염료의 혼합물을 적용실시예 A 내지 D에 개시한 방법에 따라 합성 폴리아미드 또는 모에 적용할 수 있다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물, 그의 염 및 일반식(Ⅰ)의 화합물의 혼합물:
    상기식에서, D는또는이고,
    R4는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시 또는 할로겐이고, R2는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시, -NHCOC1-4알킬, -NHCOOC1-4알킬 또는 -NHCONH2이고, R3는 수소, 할로겐, C1-4알킬 또는 C1-4알콕시이고, R1은 수소, C1-4알킬 또는 C2-4하이드록시알킬이고, X 는 하기 라디칼 (c) 또는 (d) 이고,
    R5는 염소, 하이드록시 또는 -NHCN 이고, R6은 수소, 염소 또는 시아노이고,
    R7은 수소; C1-12알킬; 하이드록시로 일치환되거나 이치환된 C2-8알킬; 페닐; 페닐(C1-4알킬) 또는 사이클로헥실이고, R8은 C4-20알킬; 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환되거나 또는 할로겐, 페닐, 카복시 또는 C1-12알콕시로 일치환된 C4-20알킬; -A-O-C1-12알킬(이때, A 는 C2-3알킬렌이다); 페닐; 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환된 페닐; 페닐(C1-3알킬); 페닐 고리가 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환되는 페닐(C1-3알킬); 사이클로헥실 또는 1 내지 3 개의 C1-4알킬 그룹으로 치환된 사이클로헥실이나, 단, R7및 R8에 함께 존재하는 총 탄소수는 8이상 이거나 또는 -NR7R8은이다.
  2. 제1항에 있어서, D가 하기 일반식의 라디칼(a2)인 화합물:
    상기식에서,
    R4b는 수소 또는 메틸이다.
  3. 제1항에 있어서 R2가 R2a로서, 수소, 메틸, 메톡시, -NHCOCH3, -NHCOOC1-2알킬 또는 -NHCONH2이고, R3가 R3a로서, 수소, 메틸 또는 메톡시인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, X가 하기 일반식의 라디칼(c2)인 화합물:
    상기식에서, R7b는 수소; 메틸; 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환된 C2-4알킬; 또는 페닐이고, R8b는 C8-14알킬; C8-14알킬 또는 페녹시로 일치환되거나 또는 3개의 C1-2알킬 그룹으로 치환된 페닐; 또는 1내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 사이클로헥실이다.
  5. 제1항에 있어서, R1이 수소인 화합물.
  6. 동몰량의 각 단일 성분, 즉, 하기 일반식(Ⅱc) 또는 (Ⅱd)의 화합물, 하기 일반식(Ⅲ)의 아민의 디아조늄염, 유리산 또는 염 형태의 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물 및 하기 일반식(Ⅴ)의 아민을 사용하여 임의의 원하는 순서로 중성 내지 약 알칼리성 반응 매질에서 커플링 및 상응하는 축합 반응에 의해 상기 성분들을 반응 시키고, 염소 이외의 다른 R5그룹을 도입하기 위해서는 반응 과정중 임의의 단계에서 염기 또는 시아나미드와 임의로 반응 시킴을 포함하는 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 혼합물의 제조 방법:
    상기 식에서, D는또는이고,
    R4는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시 또는 할로겐이고, R2는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시, -NHCOC1-4알킬, -NHCOOC1-4알킬 또는 -NHCONH2이고, R3는 수소, 할로겐, C1-4알킬 또는 C1-4알콕시이고, R1은 수소, C1-4알킬 또는 C2-4하이드록시알킬이고, X 는 하기 라디칼 (c) 또는 (d) 이고,
    R5는 염소, 하이드록시 또는 -NHCN 이고, R6은 수소, 염소 또는 시아노이고, R7은 수소; C1-12알킬; 하이드록시로 일치환되거나 이치환된 C2-8알킬; 페닐; 페닐(C1-4알킬) 또는 사이클로헥실이고, R8은 C4-20알킬; 하나 또는 2개의 하이드록시 그룹으로 치환되거나 또는 할로겐, 페닐, 카복시 또는 C1-12알콕시로 일치환된 C4-20알킬; -A-O-C1-12알킬(이때, A 는 C2-3알킬렌이다); 페닐; 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환된 페닐; 페닐(C1-3알킬); 페닐 고리가 할로겐, C1-16알킬, C2-6하이드록시알킬, C1-6알콕시, 페녹시 및 -NHCOCH3중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체로 치환되는 페닐(C1-3알킬); 사이클로헥실 또는 1 내지 3 개의 C1-4알킬 그룹으로 치환된 사이클로헥실이나, 단, R7및 R8에 함께 존재하는 총 탄소수는 8이상 이거나 또는 -NR7R8은이다.
  7. 제1항에 따른 화합물 또는 그의 혼합물을 기재에 적용함을 포함하는, 음이온에 의해 염색할 수 있는 유기 기재를 염색 또는 날염하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 기재가 천연 또는 합성 폴리아미드를 포함하는 섬유물질인 방법.
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