KR100191824B1 - 반도체용 스핀코터의 보울 - Google Patents
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Abstract
반도체 사진공정에서 포토레지스트 도포시 포토레지스트가 웨이퍼의 뒷면에 흡착되는 것을 방지할 수 있는 반도체용 스핀코터의 보울(bowl)이 개시되어 있다.
본 발명은 상부가 개방된 돔형의 몸체와, 상기 몸체의 내벽 상단부의 둘레에서 연결되고 상기 내벽의 하향 곡면을 따라 상기 내벽의 하단부까지 이격 배치된, 복수의 구멍을 가진, 상부가 개방된 돔형의 완충부재로 구성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명은 포토레지스트 도포시 웨이퍼의 뒷면을 깨끗하게 유지하여 후속의 노광공정시 촛점 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
Description
제1도는 종래의 스핀코터를 개략적으로 나타내는 단면구조도이다.
제2도는 본 발명에 따른 스핀코터를 개략적으로 나타내는 단면구조도이다.
제3도는 제2도의 A부 확대도이다.
제4도는 본 발명에 따른 스핀코터의 완충부재를 정면에서 본 부분확대도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 진공척 2 : 웨이퍼
3, 10 : 보울(Bowl) 11 : 몸체
12 : 완충부재 12a : 경사면
13 : 구멍
본 발명은 반도체용 스핀코터의 보울에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포토레지스트의 코팅시 포토레지스트가 웨이퍼쪽으로 되튀지 않도록 된 반도체용 스핀코터의 보울(Bowl)에 관한 것이다.
반도체 사진공정에서 웨이퍼 상에 포토레지스트를 도포하는 스핀코터는 제1도에 도시된 바와 같이 진공척(1) 위에 웨이퍼(2)를 적재하고 상기 웨이퍼(2)의 중심부에 일정량의 포토레지스트를 분사하면서 상기 웨이퍼(2)를 고속으로 회전시켜 웨이퍼(2) 상에 포토레지스트를 균일하게 도포하게 된다.
고속으로 회전하는 웨이퍼(2)의 중심부 상에 분사된 포토레지스트는 원심력에 의해 웨이퍼(2)의 가장자리로 퍼져 나가면서 웨이퍼(2) 전면에 도포되고 여분의 포토레지스트는 웨이퍼(2)를 벗어나 진공척(1)을 둘러싸고 있는 보울(3)의 내벽에 충돌하게 된다.
그러나 종래의 스핀코터의 보울(3)은 그 내벽이 곡면으로 되어 있기 때문에 상기 내벽에 충돌한 포토레지스트는 되튀겨 나와 웨이퍼(2)의 뒷면에 불규칙하게 흡착되어 후속의 노광공정시 웨이퍼(2)를 경사지게 한다.
이러한 상태에서 노광을 실시하면 국부적으로 촛점이 불량하게 되는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은 사진공정에서 포토레지스트 도포시 웨이퍼의 뒷면에 포토레지스트가 흡착되는 것을 방지할 수 있는 반도체용 스핀코터의 보울을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체용 스핀코터의 보울은, 상부가 개방된 돔형의 몸체와, 상기 몸체의 내벽 상단부의 둘레에서 연결되고 상기 내벽의 하향 곡면을 따라 상기 내벽의 하단부까지 이격 배치된, 복수의 구멍을 가진, 상부가 개방된 돔형의 완충부재로 구성됨을 특징으로 한다.
상기 보울의 몸체와 완충부재는 테프론 재질로 제작됨이 바람직하고, 상기 완충부재에 형성된 복수의 구멍은 상기 몸체의 내벽을 향하여 좁아지도록 경사지는 것이 바람직하며, 경사각은 45°내지 60°인 것이 가장 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제2도는 본 발명에 따른 스핀코터를 나타낸 것으로, 종래와 동일한 부분에 대하여는 상세한 설명을 생략하고 동일한 부호를 부여하였다. 도시된 바와 같이 본 발명의 반도체용 스핀코터의 보울(10)은 상부가 개방된 돔형의 몸체(11)와, 상기 몸체(11)의 내벽면에 설치된 완충부재(12)로 구성되어 있다.
상기 완충부재(12)는 상기 몸체(11)의 내벽 상단부의 둘레에 연결되어 있고, 상기 내벽의 하향 곡면을 따라 상기 내벽의 하단부까지 이격 배치되어 있으며, 상기 몸체(11)의 내벽을 향해 좁아지도록 소정의 경사각(θ)으로 경사진 복수의 구멍(13)이 전체 영역에 연속적인 셀(Cell)형상으로 형성되어 있다.
이때 상기 경사각은 20°~60°범위내로 설정할 수 있고, 완충부재는 테프론 재질로 제조하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 구조에 의하면, 고속으로 회전하는 웨이퍼(2)에서 원심력에 의해 떨어져 나온 포토레지스트가 상기 보울(10)의 완충부재(12)에 충돌할 때, 상기 구멍(13)의 경사면(12a)은 포토레지스트가 되튀는 것을 완충시키는 역할을 하기 때문에 포토레지스트가 되튀어 나올 수 있는 면적이 감소하게 되어 상대적으로 웨이퍼(2)의 뒷면에 흡착될 수 있는 포토레지스트의 양이 감소하게 된다.
따라서, 본 발명은 포토레지스트 도포시 웨이퍼의 뒷면을 깨끗하게 유지하여 후속의 노광공정시 촛점 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대하여만 상세히 설명되었지만, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구의 범위에 속함은 당연하다.
Claims (4)
- 상부가 개방된 돔형의 몸체와, 상기 몸체의 내벽 상단부의 둘레에서 연결되고 상기 내벽의 하향 곡면을 따라 상기 내벽의 하단부까지 이격배치된, 복수의 구멍을 가진, 상부가 개방된 돔형의 완충부재로 구성됨을 특징으로 하는 반도체용 스핀코터의 보울.
- 제1항에 있어서, 상기 완충장치에 형성된 복수의 구멍은 상기 몸체의 내벽을 향하여 좁아지도록 경사진 것을 특징으로 하는 상기 반도체용 스핀코터의 보울.
- 제2항에 있어서, 상기 구멍의 경사각은 20°~60°범위내인 것을 특징으로 하는 상기 반도체용 스핀코터의 보울.
- 제1항에 있어서, 상기 완충부재는 테프론 재질인 것을 특징으로 하는 상기 반도체용 스핀코터의 보울.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960022657A KR100191824B1 (ko) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 반도체용 스핀코터의 보울 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960022657A KR100191824B1 (ko) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 반도체용 스핀코터의 보울 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR980005301A KR980005301A (ko) | 1998-03-30 |
KR100191824B1 true KR100191824B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=19462717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960022657A KR100191824B1 (ko) | 1996-06-20 | 1996-06-20 | 반도체용 스핀코터의 보울 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100191824B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10811287B2 (en) | 2017-11-17 | 2020-10-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spin coater and substrate treating apparatus having the same |
-
1996
- 1996-06-20 KR KR1019960022657A patent/KR100191824B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10811287B2 (en) | 2017-11-17 | 2020-10-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spin coater and substrate treating apparatus having the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR980005301A (ko) | 1998-03-30 |
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