KR0185058B1 - 웨이퍼용 보트 구조 - Google Patents

웨이퍼용 보트 구조 Download PDF

Info

Publication number
KR0185058B1
KR0185058B1 KR1019960003616A KR19960003616A KR0185058B1 KR 0185058 B1 KR0185058 B1 KR 0185058B1 KR 1019960003616 A KR1019960003616 A KR 1019960003616A KR 19960003616 A KR19960003616 A KR 19960003616A KR 0185058 B1 KR0185058 B1 KR 0185058B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
boat
silicon wafer
ruler
pedestal
fork
Prior art date
Application number
KR1019960003616A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970063633A (ko
Inventor
양태구
Original Assignee
김광호
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019960003616A priority Critical patent/KR0185058B1/ko
Publication of KR970063633A publication Critical patent/KR970063633A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0185058B1 publication Critical patent/KR0185058B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은 실리콘 웨이퍼의 수율을 향상하기 위해 작업자의 손 또는 자에 의해 보트가 오염되는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.
이를 위해 본 발명은 슬롯과 보트 받침대로 구성된 웨이퍼용 보트에 있어서, 상기 보트 받침대에 포크와 상기 보트와의 정렬을 위해 눈금자를 새긴 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 구조의 보트를 사용함으로서 작업 능률의 향상과 실리콘 웨이퍼의 오염을 방지할 수 있으며, 작업 시간의 단축하는 효과를 얻을 수 있다.

Description

웨이퍼용 보트(Boat) 구조
제1도는 종래의 보트의 측면도.
제2도는 본 발명에 따른 보트의 측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 슬롯 2 : 보트 받침대
3 : 실리콘 웨이퍼 4 : 포크(Fork)
5 : 자 6 : 눈금자
본 발명은 웨이퍼용 보트(Boat) 구조에 관한 것으로, 더욱 상세히는 실리콘 웨이퍼 오염을 방지하기 위해 보트 받침대에 눈금을 새긴 웨이퍼용 보트구조에 관한 것이다.
반도체의 확산 공정은 열을 이용하여 실리콘 웨이퍼 표면에 필요한 불순물을 주입시키거나 산화막을 성장시키는 공정으로, 실리콘 웨이퍼 표면을 열처리하기 위해서는 실리콘 웨이퍼를 수정(Quartz)으로 이루어진 보트(Boat)에 로딩(Loading)하여 전기로 내부로 밀어 넣는다.
상기와 같이 수평 전기로에 사용되는 보트로는 확산 공정에 사용되는 롱 보트(Long Boat)와, CVD(Chemical Vapor Deposition)공정에 사용되는 HTO 보트 그리고 롱 보트와 HTO 보트보다 길이가 짧은 쇼트 보트(Short Boat)가 있다.
종래의 보트는 제1도에서 보는 바와 같이 실리콘 웨이퍼(3)를 로딩할 수 있도록 된 슬롯(1)과, 실리콘 웨이퍼(3)에 외부의 오염 물질이 묻지 않도록 한 보트 받침대(2)로 구성되었다.
상기와 같이 구성된 보트에 로딩된 실리콘 웨이퍼를 열처리하기 위해서는 먼저 보트의 슬롯(1)에 실리콘 웨이퍼(3)를 로딩하고, 포크(4)가 상기 실리콘 웨이퍼에 접촉되지 않도록 작업자가 협소한 장소에서 플라스틱 혹은 금속 자(5)를 이용하여 포크(4)를 보트 받침대(4) 중앙에 정렬시킨다.
이어서, 상기 보트를 수평 전기로(미도시) 내부로 밀어 넣어 실리콘 웨이퍼에 열처리를 실시한다.
그러나 상기와 같이 협소한 장소에서 작업자가 자(5)를 사용하여 보트를 포크(4)에 로딩함으로서 작업자의 손이나 자에 의해 보트가 오염되었다.
또한, 상기 이외에 수평 전기로(미도시)를 정기 점검시에도 작업자가 협소한 장소에서 포크(4)를 보트 받침대(2) 중앙에 정렬하여야 함으로 보트가 오염되었다.
이와 같이 오염된 보트를 수평 전기로(미도시) 내부로 밀어넣어 실리콘 웨이퍼(3)에 열처리를 실시함으로 보트에 묻은 오염 물질이 실리콘 웨이퍼(3)로 이동되어 실리콘 웨이퍼(3)를 오염시켰으며, 협소한 장소에서 정렬 작업을 반복해서 실시하여야 함으로 작업 능률 저하와 작업 시간의 손실의 문제점이 있었다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 작업자의 손 또는 자에 의해 보트가 오염되는 것을 방지하고 정확한 정렬에 의해 작업 능률과 생산수율을 향상시키는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 슬롯과 보트 받침대로 구성된 웨이퍼용 보트에 있어서, 상기 보트 받침대에 포크와 상기 보트와의 정렬을 위해 눈금자를 새긴 것을 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
제2도에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 보트는 종래의 보트와 거의 유사한 구조로 되었으며, 포크(4)가 접촉되는 보트 받침대(2)에는 1 미리 단위로 눈금자(6)가 새겨져 있다.
상기와 같이 보트 받침대(2)에 눈금자(6)가 새겨진 보트에 로딩된 실리콘 웨이퍼(3)를 열처리하기 위해서는 가장 먼저 보트의 슬롯(1)에 실리콘 웨이퍼(3)를 로딩하고, 포크(4)를 상기 실리콘 웨이퍼(3)에 접촉되지 않도록 보트 받침대(2) 중앙에 정렬시킨다.
이어서, 상기 보트를 수평 전기로(미도시) 내부로 밀어 넣어 실리콘 웨이퍼에 열처리를 실시한다.
이때, 작업자가 손을 사용하지 않고 보트 받침대(2)에 새겨진 눈금자(6)를 보면서 포크(4)를 보트 받침대(2) 중앙에 정렬시킴으로서 작업자의 손이나 자(5)와 같은 오염원에 의한 보트의 오염을 방지할 수 있다.
또한, 수평 전기로(미도시)를 정기 점검시, 작업자가 손을 사용하지 않고 보트 받침대(2)에 새겨진 눈금자(6)를 보면서 포크(4)를 정렬시킴으로서 정렬시간을 단축할 수 있으며 보트의 오염을 방지할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 보트 받침대에 눈금을 새김으로서 작업 능률의 향상과 실리콘 웨이퍼의 오염을 방지할 수 있으며, 작업 시간의 단축하는 효과를 얻을 수 있다.

Claims (2)

  1. 슬롯(1)과 보트 받침대(2)로 구성된 웨이퍼용 보트에 있어서, 상기 보트 받침대(2)에 포크(4)와 상기 보트와의 정렬을 위해 눈금자(6)를 새긴 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 보트 구조.
  2. 제1항에 있어서, 상기 눈금자(6)에 1미리 단위로 눈금을 형성한 것을 특징으로 하는 웨이퍼용 보트 구조.
KR1019960003616A 1996-02-14 1996-02-14 웨이퍼용 보트 구조 KR0185058B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960003616A KR0185058B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 웨이퍼용 보트 구조

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960003616A KR0185058B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 웨이퍼용 보트 구조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970063633A KR970063633A (ko) 1997-09-12
KR0185058B1 true KR0185058B1 (ko) 1999-04-15

Family

ID=19451260

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960003616A KR0185058B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 웨이퍼용 보트 구조

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0185058B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR970063633A (ko) 1997-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20110028005A1 (en) Vertical boat for heat treatment and method for heat treatment of silicon wafer using the same
KR0185058B1 (ko) 웨이퍼용 보트 구조
US20130140752A1 (en) Method and jig for holding silicon wafer
EP0713245A2 (en) A heat treatment jig for semiconductor wafers and a method for treating a surface of the same
KR100197339B1 (ko) 실리콘웨이퍼로부터 손상된 결정영역을 제거시키는방법
CN114613665A (zh) 一种用于清洁石英晶舟的方法及装置
EP0019272B1 (en) Method for diffusing p-type dopants into silicon wafers
US6455352B1 (en) Pin array assembly and method of manufacture
Stokes Effects of surface finishing on mechanical and other physical properties of ceramics
KR920006572B1 (ko) 웨이퍼 지지용치구 및 이 치구를 사용하는 감압기상 성장방법
JPH0817895A (ja) ウェーハ搬送プレート
JPS5890735A (ja) 薄板体の移しかえ方法
KR100268813B1 (ko) 반도체 웨이퍼 캐리어
KR20000018430A (ko) 웨이퍼 이송 도구
KR100196441B1 (ko) 웨이퍼 이송 프레이트
KR20030003779A (ko) 반도체 장치 제조용 로봇 블레이드
KR100423754B1 (ko) 실리콘 웨이퍼의 고온 열처리 방법
SU686556A1 (ru) Способ изготовлени @ - @ - @ - @ -структур
JPS6139544A (ja) ウエ−ハ保持具
CA1157576A (en) Open tube aluminum oxide disc diffusion
KR20230016383A (ko) 종형 열처리용 보트 및 이를 이용한 실리콘 웨이퍼의 열처리 방법
KR100567893B1 (ko) 웨이퍼 트랜스퍼
JP2533551Y2 (ja) 半導体ウエハ保持治具
JPS5832265Y2 (ja) 薄板体の整列具
JP3046880B2 (ja) シリコンウェハ保持用受台

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20051109

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee